JP2010135787A - リソグラフィ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ターゲット及び/又はセンサを含むテーブルと、局所化されたガスフローを用いてターゲット及び/又はセンサから液体を変位させる液体変位デバイスとを有するリソグラフィ装置が開示される。液体変位デバイスは、様々な位置に配置することができる。例えば、液体変位デバイスは、露光ステーションの液体ハンドリングデバイスに搭載することができ、露光ステーションと測定ステーションとの間の移送経路に隣接して、又は移送経路内に、ロード/アンロードステーションに、又はセンサに隣接して配置することができる。
【選択図】図6
Description
基板、センサ、又は基板とセンサの両方を支持するように構成され、表面及びセンサ、表面上のセンサのターゲット、又はセンサとターゲットの両方を有するテーブルと、
液体を基板及び/又はテーブルに隣接する空間に供給する液体ハンドリング構造と、
センサ及び/又はターゲットから液体を変位させるように局所化されたガスフローをセンサ及び/又はターゲットの方へ誘導するガス出口を備える液体変位デバイスと、
を備えるリソグラフィ装置が提供される。
ターゲット、センサ、又はターゲットとセンサの両方を有する基板テーブルによって保持された第1の基板上に液浸液を通してパターンの画像を投影することと、
基板テーブルから第1の基板をアンロードすることと、
基板テーブル上に第2の基板をロードすることと、
第2の基板が基板テーブルによって保持されている間に、の特性又はセンサの使用を測定することと、
局所化されたガスフローを用いてターゲット及び/又はセンサから液体を変位させることと、
を含むデバイス製造方法が提供される。
基板テーブルによって保持された第1の基板上に液浸液を通してパターンの画像を投影するステップであって、液浸液が液体閉じ込め構造によって投影システムと基板との間に閉じ込められることと、
ターゲット、センサ、又はターゲットとセンサの両方を有する測定テーブルまで液体閉じ込め構造を変位させるか、又は液体閉じ込め構造まで測定テーブルを変位させることと、
基板テーブルから第1の基板をアンロードすることと、
基板テーブル上に第2の基板をロードすることと、
ターゲットの特性又はセンサの使用を測定することと、
局所化されたガスフローを用いてターゲット及び/又はセンサから液体を変位させることと、
を含むデバイス製造方法が提供される。
− 放射ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板Wを正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを含む。
Claims (15)
- 基板、センサ、又は該基板と該センサの両方を支持するテーブルであって、表面及びセンサ、該表面上のセンサのターゲット、又は該センサと該ターゲットの両方を有するテーブルと、
液体を前記基板及び/又はテーブルに隣接する空間に供給する液体ハンドリング構造と、
前記センサ及び/又はターゲットから液体を変位させるように、局所化されたガスフローを前記センサ及び/又はターゲットの方へ誘導するガス出口を備える液体変位デバイスと、
を備えるリソグラフィ装置。 - アライメントセンサをさらに備え、前記ターゲットが該アライメントセンサによって検出可能なマークを含む、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 高さセンサをさらに備え、前記ターゲットが該高さセンサの基準面を含む、請求項1又は2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記高さセンサがガスゲージである、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ターゲットが、前記テーブルの表面に設けられた格子を含み、前記装置が、該格子と協働して前記テーブルの変位を測定するエンコーダをさらに備える、前記請求項のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記液体変位デバイスに対して前記テーブルを変位させるポジショナをさらに備える、前記請求項のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ガスフローがガスナイフである、前記請求項のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記液体変位デバイスが、液体を除去する開口をさらに備え、該開口が任意選択で加圧源に接続される、前記請求項のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記テーブルの特性を測定するセンサを有する測定ステーションと、
前記テーブルによって支持された基板上に画像を投影する投影システムを有する露光ステーションと、
移送経路に沿って前記測定ステーションと露光ステーションの間で前記テーブルを移送するテーブル移送デバイスと、
をさらに備え、
前記液体変位デバイスが前記移送経路に隣接して位置する、前記請求項のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記テーブルの特性を測定するセンサを有する測定ステーションをさらに備え、前記液体変位デバイスが該測定ステーション内に位置する、前記請求項のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記テーブル上に基板をロードするローディングデバイスをさらに備え、前記液体変位デバイスが該ローディングデバイスに隣接して位置する、前記請求項のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- ターゲット、センサ、又は該ターゲットと該センサの両方を有する基板テーブルによって保持された第1の基板上に液浸液を通してパターンの画像を投影すること、
前記基板テーブルから前記第1の基板をアンロードすること、
前記基板テーブル上に第2の基板をロードすること、
前記第2の基板が、前記基板テーブルによって保持されている間に前記ターゲットの特性又は前記センサの使用を測定すること、
局所化されたガスフローを用いて前記ターゲット及び/又は前記センサから液体を変位させること、
を含むデバイス製造方法。 - 前記変位が、
前記アンロードの後及び前記ロードの前、
前記アンロードと並行、
前記ロードと並行、
前記ロードの後及び前記アンロードの前、
前記投影の後及び前記アンロードの前、
の各時点の1つ以上で実行される、請求項12に記載の方法。 - 前記変位が、前記投影の後及び前記アンロードの後に実行され、前記方法が、前記投影の後及びアンロードの前に露光ステーションからロードステーションまで前記基板テーブルを移送するステップをさらに含み、前記変位が前記移送と並行して、又は前記移送の前に、あるいはその両方で実行される、請求項13に記載の方法。
- 基板テーブルによって保持された第1の基板上に、液体閉じ込め構造によって投影システムと前記基板との間に閉じ込められた液浸液を通して、パターンの画像を投影すること、
ターゲット、センサ、又は該ターゲットと該センサの両方を有する測定テーブルまで前記液体閉じ込め構造を移動させるか、又は前記液体閉じ込め構造まで前記測定テーブルを移動させること、
前記基板テーブルから前記第1の基板をアンロードすること、
前記基板テーブル上に第2の基板をロードすること、
前記ターゲットの特性又は前記センサの使用を測定すること、
局所化されたガスフローを用いて前記ターゲット及び/又はセンサから液体を変位させること、
を含むデバイス製造方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US19357608P | 2008-12-08 | 2008-12-08 | |
US61/193,576 | 2008-12-08 | ||
US16704709P | 2009-04-06 | 2009-04-06 | |
US61/167,047 | 2009-04-06 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010135787A true JP2010135787A (ja) | 2010-06-17 |
JP5199982B2 JP5199982B2 (ja) | 2013-05-15 |
Family
ID=42265557
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009268224A Expired - Fee Related JP5199982B2 (ja) | 2008-12-08 | 2009-11-26 | リソグラフィ装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8780321B2 (ja) |
JP (1) | JP5199982B2 (ja) |
KR (1) | KR101107030B1 (ja) |
CN (1) | CN101794079A (ja) |
NL (1) | NL2003914A (ja) |
TW (1) | TWI438577B (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL2005528A (en) * | 2009-12-02 | 2011-06-07 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
NL2005717A (en) * | 2009-12-18 | 2011-06-21 | Asml Netherlands Bv | A lithographic apparatus and a device manufacturing method. |
NL2008199A (en) | 2011-02-28 | 2012-08-29 | Asml Netherlands Bv | A fluid handling structure, a lithographic apparatus and a device manufacturing method. |
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US4509852A (en) | 1980-10-06 | 1985-04-09 | Werner Tabarelli | Apparatus for the photolithographic manufacture of integrated circuit elements |
AU2747999A (en) | 1998-03-26 | 1999-10-18 | Nikon Corporation | Projection exposure method and system |
SG121822A1 (en) | 2002-11-12 | 2006-05-26 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP1420300B1 (en) | 2002-11-12 | 2015-07-29 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
TWI232357B (en) | 2002-11-12 | 2005-05-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP1571694A4 (en) | 2002-12-10 | 2008-10-15 | Nikon Corp | EXPOSURE APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING THE DEVICE |
WO2004102646A1 (ja) | 2003-05-15 | 2004-11-25 | Nikon Corporation | 露光装置及びデバイス製造方法 |
TWI518742B (zh) * | 2003-05-23 | 2016-01-21 | 尼康股份有限公司 | A method of manufacturing an exposure apparatus and an element |
US7213963B2 (en) | 2003-06-09 | 2007-05-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7394521B2 (en) | 2003-12-23 | 2008-07-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US6955074B2 (en) | 2003-12-29 | 2005-10-18 | Asml Netherlands, B.V. | Lithographic apparatus, method of calibration, calibration plate, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
US7616383B2 (en) | 2004-05-18 | 2009-11-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
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US7701550B2 (en) | 2004-08-19 | 2010-04-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2006080143A (ja) | 2004-09-07 | 2006-03-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 露光装置及びパターン形成方法 |
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- 2009-11-26 TW TW098140408A patent/TWI438577B/zh not_active IP Right Cessation
- 2009-11-26 JP JP2009268224A patent/JP5199982B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-12-04 US US12/631,113 patent/US8780321B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-12-07 NL NL2003914A patent/NL2003914A/en not_active Application Discontinuation
- 2009-12-08 KR KR1020090121424A patent/KR101107030B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2009-12-08 CN CN200910253825A patent/CN101794079A/zh active Pending
-
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- 2011-07-20 US US13/187,086 patent/US20110273679A1/en not_active Abandoned
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Also Published As
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---|---|
TW201027275A (en) | 2010-07-16 |
US8780321B2 (en) | 2014-07-15 |
JP5199982B2 (ja) | 2013-05-15 |
CN101794079A (zh) | 2010-08-04 |
KR101107030B1 (ko) | 2012-01-25 |
NL2003914A (en) | 2010-06-09 |
TWI438577B (zh) | 2014-05-21 |
US20100157260A1 (en) | 2010-06-24 |
US20110273679A1 (en) | 2011-11-10 |
KR20100066406A (ko) | 2010-06-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111109 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111122 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120221 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120224 |
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A521 | Written amendment |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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