JP2010109527A - 水晶振動片およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ATカット水晶振動片10は、ATカットされた水晶基材の両主面の相対向する位置に、平面視で矩形状を呈する凸部5A,5Bが形成された所謂メサ構造を有している。各凸部5A,5B上には励振電極15A,15Bがそれぞれ設けられ、水晶基材1の薄肉の外周部の外周面6A,6Bの一端側近傍には、電極間配線16A,16Bによりそれぞれ対応した励振電極15A,15Bに接続された外部接続電極17A,17Bが設けられている。凸部5A,5Bの外周には、外周面6A,6B上および凸部5A,5Bそれぞれの側壁に凸部5A,5Bよりも厚みを少なくして形成された段部25A,25Bが各凸部5A,5Bの外周を縁取るように設けられている。
【選択図】図1
Description
従来、断面コンベックス形状の振動片を形成するために、例えばバレル研磨機を用いたコンベックス加工が行われている。バレル研磨機は、水晶素板(水晶ウェハ)から断面矩形の短冊状に切り出した数百〜数千個もの多数の水晶素子片を、研磨剤と共にポットに入れ、このポットを一定の速度で所定時間回転させることにより、上向き凸状をなす断面コンベックス形状を形成するものである。しかし、このバレル研磨機による振動片のコンベックス加工は、長時間を要するために製造効率及び生産性が低いうえに、コンベックス形状の制御が困難で所望の加工精度が得難いという課題があった。
このようなバレル研磨機によるコンベックス加工に代わる方法として、例えば特許文献1に、水晶振動片の断面コンベックス形状を近似的に階段形状に置き換えて断面コンベックス形状と同様な振動の閉じ込め効果を得ること、および、その階段形状を有する振動片を、エッチングレジスト寸法を段階的に変えてエッチングするフォトリソグラフィにより製造する方法が開示されている。
また、このような断面階段形状の水晶振動片の製造方法では、ATカットされた水晶基板の両主面全体に、例えば耐酸性の金属膜からなる耐蝕膜をスパッタなどにより形成してからフォトレジストを塗布し、最も中央側の段差の形状を露光、現像してからエッチング液に浸し、感光したフォトレジストを除去した部分の耐蝕膜をエッチングして、この耐蝕膜からなる最も中央側の段差形成用のエッチングマスクを形成する。その後、その水晶基板を、例えばフッ化水素溶液およびフッ化アンモニウム溶液からなるエッチング液に浸漬してエッチングすることにより、水晶基板の最も中央側の段差を形成する。以降、必要な段差の数だけそのフォトリソグラフィによる工程を繰り返し、水晶基板を断面階段形状とする。そして、スパッタリングなどにより、励振電極などの必要な電極の形成を行う。
したがって、厚みすべり振動が中央部に集中され、さらに外周部への伝播が抑えられることにより、CI値の低下や他の振動モードとの結合が抑制されて、周波数特性の安定した水晶振動片を提供することができる。
まず、ATカット水晶振動片の一実施形態について説明する。
図1は、本実施形態にかかるATカット水晶振動片を模式的に説明するものであり、(a)は平面図、(b)は(a)のA−A線断面図、(c)は(a)のB−B線断面図、(d)は(b)のD部の部分拡大断面図である。なお、図1において、図中X,Y,Zは水晶の結晶軸方向を示しているものであり、X軸は電気軸、Y軸は機械軸、Z軸は光軸をそれぞれ示している。また、図1(a)において施している斜線のハッチングは、励振電極などの電極や配線を識別しやすくするためのものであり、断面を示すものではない。
このような水晶基材1のメサ構造を有する外形は、後述するように、フォトリソグラフィにより水晶基材1(水晶ウェハ)をフッ酸溶液などでウェットエッチングしたり、ドライエッチングすることにより精密に形成することができる。
このような電極や配線などの電極パターンは、水晶基材1(水晶ウェハ)をエッチングしてメサ構造を有するATカット水晶振動片10の外形を形成した後に、蒸着またはスパッタリングにより、例えばニッケル(Ni)またはクロム(Cr)を下地層として、その上に例えば金(Au)による金属膜を成膜し、その後フォトリソグラフィを用いてパターニングすることにより形成できる。
同様に、凸部5Bの外周には、外周面6B上および凸部5Bの側壁には、凸部5Bよりも厚みを少なくして形成された段部25Bが凸部5Bの外周を縁取るように設けられている(図1(b)、図1(c)を参照)。
これにより、ATカット水晶振動片(10)の凸部5A,5B形成面それぞれの一方のX軸(電気軸)側の辺には、平凸レンズ状のプラノコンベックス形状の一端側と近似される断面形状が形成される。
しかも、ATカット水晶振動片10がメサ構造を有することにより、パッケージなどと接合される支持部11の厚みが薄くなっているので、支持部11からの振動の漏洩が抑えられる。
したがって、厚みすべり振動が中央部に集中され、さらに外周部への伝播が抑えられることにより、CI値の低下や他の振動モードとの結合が抑制されて、周波数特性の安定したATカット水晶振動片10を提供することができる。
次に、ATカット水晶振動片10の製造方法について説明する。
図2は、本実施形態のATカット水晶振動片の製造工程を説明するフローチャートである。また、図3および図4は、本実施形態のATカット水晶振動片10の製造方法において、図2のフローチャートのうちステップS3の凸部形成工程とステップS4の電極および段差形成工程の製造過程を具体的に説明する水晶振動片の模式断面図である。
そして、露光した後、フォトレジストの感光した部分を現像して除去してからエッチング液に浸し、感光したフォトレジストを除去した部分の耐蝕膜をエッチングして、ウェハ上に、耐蝕膜からなるATカット水晶振動片10の外形形成用のエッチングマスクを形成する。
その後、ATカット水晶振動片10の外形形成用のエッチングマスクを形成したウェハを、例えばフッ化水素溶液およびフッ化アンモニウム溶液からなるエッチング液に浸漬して、ウェハのATカット水晶振動片10の外形に対応した部分が貫通するまでエッチングする。
なお、ATカット水晶振動片10の外形は、ウェハから完全に切り離されないようにミシン目状の折り取り部によりウェハにつなげるようにしている。これにより、以降の工程をウェハ状態にて効率的に流動してから、最後に折り取り部を折り取ることによって個片のATカット水晶振動片10を得ることができる。
詳述すると、図3(a)に示すように、両面に耐蝕膜95が設けられた外形形成後の水晶基材1を準備する。本実施形態では、上記のATカット水晶振動片10の外形形成工程(図2のステップS2)でエッチングマスクとして用いた耐蝕膜95を剥離せずに残しておいて利用する。
次に、図3(c)に示すように、フォトレジスト97を現像して凸部(5A)パターン97Aおよび凸部(5B)パターン97Bを得る。
次に、図3(e)に示すように、凸部(5A)パターン95Aおよび凸部(5B)パターン95Bをエッチングマスクとして、ウェハを、例えばフッ化水素溶液およびフッ化アンモニウム溶液からなるエッチング液に所定時間浸漬することにより凸部5A,5Bを形成する。
そして、図3(f)に示すように、耐蝕膜からなる凸部(5A)パターン95Aおよび凸部(5B)パターン95Bを剥離して、凸部5A,5Bが形成された水晶基材1を得る。
次に、図4(b)に示すように、金属膜105上にフォトレジスト98を塗布してから、そのフォトレジスト98に、ガラス板83上に励振電極(15A)パターン86Aおよび段部(25A)パターン87Aが設けられたフォトマスク82Aと、別のガラス板83上に励振電極(15B)パターン86Bおよび段部(25B)パターン87Bが設けられたフォトマスク82Bを用いて励振電極15A,15Bおよび段部25A,25Bのそれぞれの形状を露光する(図4(c)を参照)。
なお、図示は省略したが、上記の電極および段部形成工程では、励振電極15A,15Bや段部25A,25Bとともに、外部接続電極17A,17B、およびそれらを対応させて接続する電極間配線16A,16Bなどの他の電極や配線パターンも同時に形成される。
また、上記製造方法によれば、ATカット水晶振動片10の外形形成工程の後で、凸部5A,5Bの形成を行う工順とすることにより、ATカット水晶振動片10の外形形成工程で用いた耐蝕膜を利用して、凸部5A,5B用のエッチングレジストを形成することができるので効率がよい。
上記実施形態のATカット水晶振動片10では、水晶基材1をエッチング加工することにより形成した凸部5A,5Bからなる段部一つと、電極形成用の金属からなる段部25A,25Bとにより、三段の段部を有する断面階段形状を形成した。これに限らず、水晶基材をエッチング加工することにより形成する段部、および電極形成用の金属などを堆積させて形成する段部それぞれを複数設ける構成としてもよい。
図5は、水晶基材をエッチング加工することにより形成する段部、および電極形成用の金属などを堆積させて形成する段部それぞれを複数設けたATカット水晶振動片を模式的に説明する断面図である。また、図6は、本変形例のATカット水晶振動片の製造工程を説明するフローチャートである。
このような水晶基材41の多段メサ構造を有する外形は、フォトリソグラフィにより水晶基材41(水晶ウェハ)をエッチングすることにより精密に形成される。
なお、ATカット水晶振動片50の最も肉薄の外周部分の外周面47A,47Bには、上記実施形態のATカット水晶振動片10と同様に励振電極55A,55Bにそれぞれ対応した外部接続電極が設けられているが、図示を省略する。
同様に、他方の第2の凸部45Bの外周において、第1の凸部46B上および第2の凸部45Bの側壁には、電極形成用の金属材料からなり第2の凸部45Bよりも厚みを少なくして形成された段部65Bが第2の凸部45Bの外周を縁取るように設けられている。
同様に、他方の第1の凸部46Bの外周において、外周面47B上および第1の凸部46Bの側壁には、第1の凸部46Bよりも厚みを少なくして形成された電極形成用の金属材料からなる段部75Bが第1の凸部46Bの外周を縁取るように設けられている。
同様に、ATカット水晶振動片50の断面において、励振電極55Bが形成された側には、水晶基材41の第2の凸部45B、第1の凸部46B上に第2の凸部45Bよりも少ない厚みで形成された段部65B、および外周面47B上に第1の凸部46Bよりも少ない厚みで形成された段部75Bにより、五つの段差を有する断面階段形状が形成されている。
これにより、ATカット水晶振動片50は、上記実施形態のATカット水晶振動片10に比して、平凸レンズ状のプラノコンベックス形状とより近似される断面形状を呈している。
したがって、ATカット水晶振動片50の中央部から外周部に向かっての厚みすべり振動の伝播を減衰させることにより、振動の外周部への伝播をより効果的に抑制することが可能なATカット水晶振動片50を提供することができる。
Claims (8)
- ATカットされた水晶基材の両主面の少なくとも一方の主面に所定の形状の凸部が設けられ、前記凸部上に励振電極が形成され、前記凸部の外周部分の少なくともX軸(電気軸)側に、堆積物からなり前記凸部よりも厚みの少ない段部が設けられていることを特徴とする水晶振動片。
- 請求項1に記載の水晶振動片において、
前記段部が、前記水晶基材のZ軸(光軸)側にも設けられていることを特徴とする水晶振動片。 - 請求項1または2に記載の水晶振動片において、
前記段部が、前記励振電極と同一材料からなることを特徴とする水晶振動片。 - 請求項3に記載の水晶振動片において、
前記段部が、前記励振電極および該励振電極から引き出された電極間配線および外部接続電極が形成された領域とは異なる領域に形成されていることを特徴とする水晶振動片。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載の水晶振動片において、
外周部分に前記段部が設けられた前記凸部が、断面階段形状が形成されるように複数設けられていることを特徴とする水晶振動片。 - ATカットされた水晶基材の両主面の少なくとも一方の主面に所定の形状の凸部が設けられ、前記凸部上に励振電極が形成され、前記凸部の外周部分の少なくともX軸(電気軸)側に、堆積物からなり前記凸部よりも厚みの少ない段部が設けられている水晶振動片の製造方法であって、
フォトリソグラフィにより前記水晶振動片の外形を形成する工程と、
フォトリソグラフィにより前記ATカット水晶基材の一部をエッチングして前記凸部を形成する工程と、
前記凸部を形成する工程の後で、前記励振電極を含む電極を形成する工程、および薄膜堆積法により前記段部を形成する工程と、を含むことを特徴とする水晶振動片の製造方法。 - 請求項6に記載の水晶振動片の製造方法において、
前記外形を形成する工程の後で、前記凸部を形成する工程を実施することを特徴とする水晶振動片の製造方法。 - 請求項6または7に記載の水晶振動片の製造方法において、
前記電極を形成する工程が前記段部を形成する工程を含み、
前記電極と同一材料により前記段部を形成することを特徴とする水晶振動片の製造方法。
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