JP2010103216A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】グローバルアライメントにおいて、各サンプルショットSSのアライメントマークScの位置を算出し、基板Wの変形を近似し、各ショットSの補正量を算出する際に、基板全体の変形を表す第1項と、ショット配列の歪みを表す第2項及びショット形状の第3項の少なくとも一方と、の足し合わせからなる近似式で基板Wの変形を近似する。
【選択図】図1
Description
22 原板ステージ
26 投影光学系
28 基板ステージ
40 制御部
44 表示部
48 入力部
60 露光装置
Claims (8)
- 原板のパターンの像を基板の複数の転写領域である複数のショットの各々に露光する露光装置であって、
前記基板を支持及び駆動する基板ステージと、
前記複数のショットに割り当てられた複数のサンプルショットの各々に設けられたアライメントマークを検出するアライメント検出部と、
前記アライメント検出部によって検出された前記アライメントマークの位置を算出し、基板全体の変形を表す第1項と、ショット配列の歪みを表す第2項及びショット形状の第3項の少なくとも一方と、の足し合わせからなる近似式で前記基板の変形を近似し、前記複数のショットの各々の補正量を算出し、前記算出された補正量に基づいて各ショットを露光する際に前記基板ステージの駆動を制御する制御部と、
を有することを特徴とする露光装置。 - 前記近似式はn次多項式であることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記第1項と前記第2項と第3項のそれぞれの次数を設定する操作画面を表示する表示部と、
前記操作画面において前記第1項と前記第2項と第3項のそれぞれの次数を入力可能な入力部と、
を更に有することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記制御部は、前記複数のサンプルショットを前記基板の外周周辺のショットに設定していることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記アライメント検出部は、前記サンプルショットの前記アライメントマークを計測できない場合に前記アライメントマークが計測できない前記サンプルショットに隣接するショットのアライメントマークを検出することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前回、前記基板に露光した露光装置の露光方式に基づいて前記基板の変形を近似する近似式を変更することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 請求項1〜6のうちいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。 - 原板のパターンの像を基板の複数の転写領域である複数のショットの各々に露光する露光方法であって、
アライメント検出部を利用して前記複数のショットに割り当てられた複数のサンプルショットの各々に設けられたアライメントマークを検出することによって前記アライメントマークの位置を算出するステップと、
基板全体の変形を表す第1項と、ショット配列の歪みを表す第2項及びショット形状の第3項の少なくとも一方と、の足し合わせからなる近似式で前記基板の変形を近似するステップと、
前記近似ステップの結果に基づいて前記複数のショットの各々の補正量を算出するステップと、
露光時に前記算出ステップが算出した補正量に基づいて補正を行うステップと、
を有する露光方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013258284A (ja) * | 2012-06-12 | 2013-12-26 | Canon Inc | 走査露光装置、物品の製造方法、アライメント方法および走査露光方法 |
JP2015056449A (ja) * | 2013-09-10 | 2015-03-23 | キヤノン株式会社 | 位置を求める方法、露光方法および物品の製造方法 |
JP2016096228A (ja) * | 2014-11-13 | 2016-05-26 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置、リソグラフィ方法、および物品製造方法 |
JP2017049456A (ja) * | 2015-09-02 | 2017-03-09 | キヤノン株式会社 | ディストーション検出方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI749514B (zh) | 2015-02-23 | 2021-12-11 | 日商尼康股份有限公司 | 測量裝置、微影系統、以及元件製造方法 |
KR20230130161A (ko) | 2015-02-23 | 2023-09-11 | 가부시키가이샤 니콘 | 계측 장치, 리소그래피 시스템 및 노광 장치, 그리고 관리 방법, 중첩 계측 방법 및 디바이스 제조 방법 |
CN111948913B (zh) | 2015-02-23 | 2023-09-01 | 株式会社尼康 | 基板处理***及基板处理方法 |
JP2017090817A (ja) * | 2015-11-16 | 2017-05-25 | キヤノン株式会社 | 露光装置、及び物品の製造方法 |
JP6688273B2 (ja) * | 2017-11-13 | 2020-04-28 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置、リソグラフィ方法、決定方法及び物品の製造方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000133579A (ja) * | 1998-10-23 | 2000-05-12 | Canon Inc | 露光装置および露光方法 |
JP2003324055A (ja) * | 2002-04-30 | 2003-11-14 | Canon Inc | 管理システム及び装置及び方法並びに露光装置及びその制御方法 |
JP2006294854A (ja) * | 2005-04-11 | 2006-10-26 | Nikon Corp | マーク検出方法、位置合わせ方法、露光方法、プログラム及びマーク計測装置 |
JP2007012673A (ja) * | 2005-06-28 | 2007-01-18 | Nikon Corp | 推定方法、露光方法、デバイス製造方法及びデバイス、検査方法、デバイス製造装置、並びにプログラム |
JP2007129056A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-05-24 | Nikon Corp | 露光方法 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5543921A (en) * | 1989-05-08 | 1996-08-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Aligning method utilizing reliability weighting coefficients |
US5561606A (en) * | 1991-08-30 | 1996-10-01 | Nikon Corporation | Method for aligning shot areas on a substrate |
DE69329611T2 (de) * | 1992-08-19 | 2001-05-03 | Canon Kk | Verfahren zur Registrierung mittels eines projizierenden optischen System, Belichtungsapparat zu dessen Durchführung und sowie Halbleiter-Herstellungsverfahren das diesen Belichtungsapparat verwendet |
US6278957B1 (en) * | 1993-01-21 | 2001-08-21 | Nikon Corporation | Alignment method and apparatus therefor |
JPH06302496A (ja) * | 1993-04-13 | 1994-10-28 | Nikon Corp | 位置合わせ方法 |
KR0158132B1 (ko) * | 1993-09-22 | 1998-12-15 | 전성원 | 전자 제어장치의 자기 진단 시스템 및 그 진단방법 |
US5798195A (en) * | 1993-09-24 | 1998-08-25 | Nikon Corporation | Stepping accuracy measuring method |
KR100377887B1 (ko) * | 1994-02-10 | 2003-06-18 | 가부시키가이샤 니콘 | 정렬방법 |
JPH07335524A (ja) * | 1994-06-06 | 1995-12-22 | Canon Inc | 位置合わせ方法 |
JP3244633B2 (ja) * | 1996-09-05 | 2002-01-07 | 株式会社日立製作所 | 電子線描画方法及び電子線描画装置 |
JP3548428B2 (ja) * | 1998-07-03 | 2004-07-28 | キヤノン株式会社 | 位置計測装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
WO2000019497A1 (fr) * | 1998-09-30 | 2000-04-06 | Nikon Corporation | Procede d'alignement et procede pour l'obtention d'un dispositif au moyen du procede d'alignement |
TW511146B (en) * | 2000-05-31 | 2002-11-21 | Nikon Corp | Evaluation method, position detection method, exposure method and device manufacturing method, and exposure apparatus |
US6699630B2 (en) * | 2000-07-07 | 2004-03-02 | Nikon Corporation | Method and apparatus for exposure, and device manufacturing method |
JP2003017386A (ja) * | 2001-06-29 | 2003-01-17 | Canon Inc | 位置合わせ方法、露光方法、露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP2003151887A (ja) * | 2001-11-15 | 2003-05-23 | Canon Inc | 位置合わせ方法および装置ならびにそれらを用いた露光装置 |
JP2004265957A (ja) * | 2003-02-26 | 2004-09-24 | Nikon Corp | 最適位置検出式の検出方法、位置合わせ方法、露光方法、デバイス製造方法及びデバイス |
US7817242B2 (en) * | 2003-11-28 | 2010-10-19 | Nikon Corporation | Exposure method and device manufacturing method, exposure apparatus, and program |
US7728953B2 (en) * | 2004-03-01 | 2010-06-01 | Nikon Corporation | Exposure method, exposure system, and substrate processing apparatus |
EP1804278A4 (en) * | 2004-09-14 | 2011-03-02 | Nikon Corp | CORRECTION METHOD AND EXPOSURE DEVICE |
JP4890846B2 (ja) * | 2005-12-08 | 2012-03-07 | キヤノン株式会社 | 計測装置、計測方法、露光装置、及びデバイス製造方法 |
-
2008
- 2008-10-22 JP JP2008271783A patent/JP5264406B2/ja active Active
-
2009
- 2009-10-21 US US12/582,979 patent/US8384900B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000133579A (ja) * | 1998-10-23 | 2000-05-12 | Canon Inc | 露光装置および露光方法 |
JP2003324055A (ja) * | 2002-04-30 | 2003-11-14 | Canon Inc | 管理システム及び装置及び方法並びに露光装置及びその制御方法 |
JP2006294854A (ja) * | 2005-04-11 | 2006-10-26 | Nikon Corp | マーク検出方法、位置合わせ方法、露光方法、プログラム及びマーク計測装置 |
JP2007012673A (ja) * | 2005-06-28 | 2007-01-18 | Nikon Corp | 推定方法、露光方法、デバイス製造方法及びデバイス、検査方法、デバイス製造装置、並びにプログラム |
JP2007129056A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-05-24 | Nikon Corp | 露光方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013258284A (ja) * | 2012-06-12 | 2013-12-26 | Canon Inc | 走査露光装置、物品の製造方法、アライメント方法および走査露光方法 |
JP2015056449A (ja) * | 2013-09-10 | 2015-03-23 | キヤノン株式会社 | 位置を求める方法、露光方法および物品の製造方法 |
JP2016096228A (ja) * | 2014-11-13 | 2016-05-26 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置、リソグラフィ方法、および物品製造方法 |
JP2017049456A (ja) * | 2015-09-02 | 2017-03-09 | キヤノン株式会社 | ディストーション検出方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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