JP2007129056A - 露光方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウエハグリッドの非線形成分のうち、ステージグリッドに起因する所定次数以上の非線形成分を、予めその所定次数を複数の異なる次数にそれぞれ設定したうえで行い、補正マップの形式で、記憶しておく。そして、実際の露光処理では、ステップ313のウエハアライメントにおいて、ウエハが経たプロセスに起因のウエハグリッドを検出する。そして、ステップ322では、プロセスに起因のウエハグリッドと、そのプロセスに起因するウエハグリッドの次数と対応付けされて記憶され補正マップとに基づいて、レチクル上のパターンの像とウエハとの2次元平面内の相対位置を補正しつつ、重ね合わせ露光を行う。
【選択図】図3
Description
本発明の第1の実施形態について説明する。図1には、本発明の第1の実施形態に係る露光方法を好適に実施可能な露光装置100の概略構成が示されている。露光装置100は、照明系10、レチクルステージRST、投影光学系PL、ウエハステージWST及び装置全体を統括制御する主制御装置20等を備えている。なお、露光装置100は、走査型露光装置である。
このウエハアライメントとしては、例えば、いわゆるEGA(エンハンスト・グローバル・アライメント)方式が採用されている。このEGA方式のウエハアライメントでは、次式が、ショット領域の位置座標の設計値からの補正量の算出に用いられる。
(1)dxのX軸方向に関する変動成分
X軸方向の倍率の変化
(2)dxのY軸方向に関する変動成分
Y軸に対する回転
(3)dyのX軸方向に関する変動成分
Y軸方向の倍率の変化
(4)dyのY軸方向に関する変動成分
X軸に対する回転
(A)上記式(1)をX、Yについて偏微分した値に従ってショット領域を変形する。
(B)ウエハグリッドを、1次のモデル式に近似して、そのモデル式の係数に従って、ショット領域を変形する。
以下では、(A)の推定方法によってショット領域の形状を補正する方法を、高次偏微分補正といい、(B)の推定方法によってショット領域の形状を補正する方法を、1次近似補正と呼ぶ。同じウエハグリッドであっても、(A)の方法を用いた場合と(B)の方法を用いた場合とでは、ショット領域の変形状態が異なったものとなる。
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。本実施形態における露光装置の構成等は、第1の実施形態と同じであり、補正マップの作成処理、及び露光処理が上記第1の実施形態と相違するのみである。以下、これらの相違点を中心として、説明する。
Emission Display)、プラズマディスプレイ(PDP:Plasma Display Panel)や、複数の発光点を有する固体光源チップ、チップを複数個アレイ状に配列した固体光源チップアレイ、または複数の発光点を1枚の基板に作り込んだ固体光源アレイ(例えばLED(Light Emitting Diode)ディスプレイ、OLED(Organic Light Emitting Diode)ディスプレイ、LD(Laser Diode)ディスプレイ等)等が含まれる。なお、周知のプラズマディスプレイ(PDP)の各画素に設けられている蛍光物質を取り除くと、紫外域の光を発光する自発光型画像表示素子となる。
Claims (8)
- 所定の装置により2次元配列状に転写形成された感光物体上の複数の区画領域各々に対し、前記パターンの像と前記感光物体との相対位置の補正を行いつつ、前記所定の装置とは別の装置でパターンの像の重ね合わせ露光を行う露光方法であって、
前記複数の区画領域の2次元配列の形状の非線形成分のうち、前記装置に起因する所定次数以上の非線形成分に関する情報の検出を、前記所定次数を複数の異なる次数にそれぞれ設定したうえで行う第1検出工程と;
前記検出された非線形成分に関する情報を、前記所定次数と対応付けして記憶する記憶工程と;
前記複数の区画領域の2次元配列の形状の成分のうち、その感光物体が経たプロセスに起因する成分に関する情報を検出する第2検出工程と;
前記第2検出工程において検出されたプロセスに起因する成分に関する情報と、前記記憶工程においてそのプロセスに起因する成分の次数と対応付けされて記憶された非線形成分に関する情報とに基づいて、前記パターンの像と前記感光物体との2次元平面内の相対位置を補正しつつ、重ね合わせ露光を行う露光工程と;を含む露光方法。 - 所定の装置により2次元配列状に転写形成された感光物体上の複数の区画領域各々に対し、前記パターンの像と前記感光物体との相対位置の補正を行いつつ、前記所定の装置とは別の装置でパターンの像の重ね合わせ露光を行う露光方法であって、
前記装置間のずれに起因する前記複数の区画領域の2次元配列の形状の成分のうち、第1の次数以下の成分に関する情報を、パラメトリックな情報として検出する第1検出工程と;
前記装置間のずれに起因する前記複数の区画領域の2次元配列の形状の成分のうち、前記第1の次数を超える成分に関する情報を、ノンパラメトリックな情報として検出する第2検出工程と;
前記各感光物体に対する重ね合わせ露光を行う際に、前記複数の区画領域の配列の形状の成分のうち、その感光物体が経たプロセスに起因する第2の次数までの成分に関する情報を検出する第3検出工程と;
前記ノンパラメトリックな情報及び前記パラメトリックな情報の両方と、前記第2の次数までの成分に関する情報とに基づいて、前記パターンの像と前記感光物体との2次元平面内の相対位置の補正を行いつつ、重ね合わせ露光を行う露光工程と;を含む露光方法。 - 前記露光工程に先立って、
前記ノンパラメトリックな情報から、前記第2の次数以下の成分を除去する除去工程をさらに含み、
前記露光工程では、
前記第2の次数以下の成分が除去されたノンパラメトリックな情報と、前記パラメトリックな情報と、前記第2の次数の非線形成分に関する情報とに基づいて、前記パターンの像と前記感光物体との前記2次元平面内の相対位置の補正を行うことを特徴とする請求項2に記載の露光方法。 - 前記第3検出工程では、
前記ノンパラメトリックな情報及び前記パラメトリックな情報の両方を考慮して、前記複数の区画領域の配列の形状の成分のうち、その感光物体が経たプロセスに起因する第2の次数までの成分に関する情報を検出することを特徴とする請求項2に記載の露光方法。 - 前記露光工程に先立って、
前記ノンパラメトリックな情報を、前記相対位置の補正対象となる2次元位置座標を独立変数とし、前記パターンの像と前記感光物体との前記2次元平面内の相対位置の補正量を従属変数とする多項式にフィッティングする算出工程をさらに含み、
前記露光工程では、
前記複数の区画領域各々の2次元位置座標を、前記多項式に代入したときに得られる補正量に基づいて、前記パターンの像と前記感光物体との前記2次元平面内の相対位置の補正を行うことを特徴とする請求項2に記載の露光方法。 - 前記露光工程に先立って、
前記ノンパラメトリックな情報を用いた所定の補間方法により、前記各区画領域に対する重ね合わせ露光を行う際の前記パターンの像と前記感光物体との前記2次元平面内の相対位置の補正量を算出する算出工程をさらに含むことを特徴とする請求項2に記載の露光方法。 - 前記補間方法は、
ガウシアン補間及びSINC補間のいずれか一方であり、
前記ガウシアン補間では、前記2次元平面内の座標軸ごとに、ノンパラメトリックな情報に付与される重みが異なっていることを特徴とする請求項6に記載の露光方法。 - 感光物体上の複数の区画領域の2次元配列の形状を考慮して、前記パターンの像と前記感光物体との相対位置を補正するとともに、前記パターンの像形状をも補正しつつ、前記各区画領域に対しパターンの像の重ね合わせ露光を行う露光方法であって、
前記複数の区画領域の2次元配列の形状の成分に相当する多項式を求める工程と;
前記多項式の1次の項の係数と、前記複数の区画領域の2次元配列の形状を1次のモデル式でモデル化したときのその1次の項の係数とのいずれか一方に基づいて、前記パターンの像の形状を補正する工程と;を含む露光方法。
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