JP2010089095A - 溶接リングの仮付け装置、及び溶接リングの仮付け方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】溶接リングの仮付け装置1は、負圧発生装置に接続されて負圧を発生する負圧発生孔104を有し、該負圧発生孔104により溶接リング30の一方の対辺を吸着保持する吸着ノズル100と、吸着ノズル100の両脇に配設され、吸着ノズル100によって保持される溶接リング30の他方の対辺に当接可能な一対の溶接ローラ122と、溶接ローラ122を吸着方向に移動させる電極側移動機構140と、吸着ノズル100を、溶接ローラ122よりも突出する状態まで吸着方向に移動させるノズル側移動機構160と、溶接ローラ122を吸着方向に付勢する溶接電極付勢装置170と、吸着ノズル100を吸着方向に付勢する吸着ノズル付勢装置180と、を備える溶接リングの仮付け装置とした。
【選択図】図1
Description
10 リッド
20 セラミック容器
30 溶接リング
100 吸着ノズル
101 第1ノズル構成板
102 第2ノズル構成板
103 先端面
104 負圧発生孔
106a、106b 吸着側溝
105 負圧供給開口
107a、107b 導入側溝
120 溶接ローラユニット
140 電極側移動機構
160 ノズル側移動機構
170 溶接電極付勢装置
180 吸着ノズル付勢装置
200 ヘッド可動装置
300 水平移動体
500、550 キャリア
Claims (23)
- 負圧発生装置に接続されて負圧を発生する負圧発生孔を有し、該負圧発生孔により溶接リングの一方の対辺を吸着保持する吸着ノズルと、
前記吸着ノズルの両脇に配設され、前記吸着ノズルによって保持される前記溶接リングの他方の対辺に当接可能な一対の溶接電極と、
前記溶接電極を前記吸着方向に移動させる電極側移動機構と、
前記吸着ノズルを、前記溶接電極よりも突出する状態まで前記吸着方向に移動させるノズル側移動機構と、
前記溶接電極を前記吸着方向に付勢する溶接電極付勢装置と、
前記吸着ノズルを吸着方向に付勢する吸着ノズル付勢装置と、
を備えることを特徴とする溶接リングの仮付け装置。 - 前記溶接電極における前記溶接リングに当接する当接面は、前記吸着ノズル側に向かって前記吸着方向に進む傾斜面であることを特徴とする、
請求項1に記載の溶接リングの仮付け装置。 - 前記溶接電極における前記溶接リングに当接する当接面は、前記溶接リングの溶接面に略平行な平面であり、前記当接面における前記吸着ノズルの反対側には、前記吸着ノズルと離反する方向に向かって前記吸着方向と反対方向に進む傾斜面が連続していることを特徴とする、
請求項1に記載の溶接リングの仮付け装置。 - 前記溶接電極は、前記吸着ノズルの両外側に回転自在に配置される一対の円形電極板であり、
前記円形電極板は、前記吸着ノズル側に向かって直径が大きくなることで、周縁に前記傾斜面が形成されることを特徴とする、
請求項2又は3に記載の溶接リングの仮付け装置。 - 前記電極側移動機構と前記ノズル側移動機構を同時に前記吸着方向に移動させるヘッド可動装置を備えることを特徴とする、
請求項1乃至4のいずれか1項に記載の溶接リングの仮付け装置。 - 前記電極側移動機構は、前記溶接電極を吸着方向と反対方向へ移動させて、前記吸着ノズルの両脇から退避させるとともに、
前記ノズル側移動機構は、前記溶接電極が退避している間に、前記吸着ノズルを水平方向に移動させることを特徴とする、
請求項1乃至5のいずれか1項に記載の溶接リングの仮付け装置。 - 前記吸着ノズルは、相互に重ね合わせて固定される複数のノズル構成板を備え、
前記複数のノズル構成板の中の少なくとも1つのノズル構成板には、他のノズル構成板に当接する面側に負圧発生溝が設けられ、
前記負圧発生溝は、前記他のノズル構成板に覆われることで負圧発生孔となり、
前記負圧発生孔に発生する負圧により前記溶接リングを吸着することを特徴とする、
請求項1乃至6のいずれか1項に記載の溶接リングの仮付け装置。 - 前記吸着ノズルは、前記負圧発生孔が複数形成されることを特徴とする、
請求項1乃至7のいずれか1項に記載の溶接リングの仮付け装置。 - 前記負圧発生溝は、吸着方向の先端側に位置する吸着側溝、及び前記吸着側溝に連通して設けられる導入側溝を備え、
前記導入側溝の溝幅は、前記吸着側溝の溝幅よりも広くなるように形成されていることを特徴とする、
請求項7に記載の溶接リングの仮付け装置。 - 前記吸着側溝における溝長さは、溝幅の5倍以下であることを特徴とする、
請求項9に記載の溶接リングの仮付け装置。 - 前記吸着側溝における溝幅は、前記導入側溝の溝幅の1/2以下であることを特徴とする、
請求項9又は10に記載の溶接リングの仮付け装置。 - 前記複数のノズル構成板は、少なくとも、第1ノズル構成板、及び前記第1ノズル構成板に当接する第2ノズル構成板を備え、
前記第1ノズル構成板は、前記第2ノズル構成板と当接する面側に第1負圧発生溝を備え、
前記第2ノズル構成板は、前記第1ノズル構成板と当接する面側に第2負圧発生溝を備え、
前記第1負圧発生溝と前記第2負圧発生溝を対向させることにより、前記負圧発生孔が形成されることを特徴とする、
請求項7乃至11のいずれか1項に記載の溶接リングの仮付け装置。 - 前記負圧発生孔の開口面積は、前記溶接リングの被吸着面の面積以下であることを特徴とする、
請求項7乃至12のいずれか1項に記載の溶接リングの仮付け装置。 - 前記吸着ノズルが前記溶接リングを吸着する場合、前記ノズル側移動機構は、前記吸着ノズルを前記溶接電極よりも前記溶接リングに近接させるようにし、
前記溶接電極が前記溶接リングを前記セラミック容器に溶接する場合、前記電極側移動機構は、前記溶接電極を前記吸着ノズルと同等以上に前記溶接リングに近接させることを特徴とする、
請求項1乃至13のいずれか1項に記載の溶接リングの仮付け装置。 - 前記負圧発生装置と前記吸着ノズルの間に配設された大気開放ポートを更に備え、
前記吸着ノズルが前記溶接リングを搬送する際は、負圧を一定にするように前記大気開放ポートを閉じて前記負圧発生装置を駆動し、
前記吸着ノズルが前記溶接リングを離反する際は、前記負圧を大気圧まで減圧するように前記負圧発生装置を停止し、前記大気開放ポートを開放することを特徴とする、
請求項1乃至14のいずれか1項に記載の溶接リングの仮付け装置。 - 前記円形電極板を回転させることで、新たな電極面を形成できることを特徴とする、
請求項4に記載の溶接リングの仮付け装置。 - 窒素環境を生成する窒素環境生成装置を更に備え、
前記溶接電極は、前記窒素環境生成装置により生成された窒素環境中で、前記溶接リングを前記セラミック容器に溶接することを特徴とする、
請求項1乃至16のいずれか1項に記載の溶接リングの仮付け装置。 - 前記窒素環境生成装置は、窒素供給装置と該窒素供給装置から供給された窒素を、前記溶接リング及び前記セラミック容器を入れたチャンバー内に充満させることで窒素環境を生成するチャンバー装置と、を有することを特徴とする、
請求項17に記載の溶接リングの仮付け装置。 - 前記窒素環境生成装置は、窒素供給装置と該窒素供給装置から供給された窒素を、前記溶接リングと前記セラミック容器の溶接部を覆うように吹きかけるブロー装置と、を有することを特徴とする、
請求項17に記載の溶接リングの仮付け装置。 - 前記溶接電極を保持する電極保持部材と、
前記電極保持部材を着脱可能に挟持する電極挟持手段と、
前記電極挟持手段による前記電極保持部材の挟持状態及び着脱状態を切り替える着脱切替手段と、
を更に有することを特徴とする、
請求項1乃至19のいずれか1項に記載の溶接リングの仮付け装置。 - 前記電極保持部材は、前記溶接電極を回転可能に保持することを特徴とする、
請求項20に記載の溶接リングの仮付け装置。 - 吸着ノズルを吸着方向に移動させて、溶接電極よりも前記溶接リング近傍に近づけるノズル前出工程と、
前記吸着ノズルにより前記溶接リングを吸着保持する吸着保持工程と、
前記溶接リングを吸着保持したまま搬送し、前記溶接リングをセラミック容器の開口部に載置する溶接リング載置工程と、
前記吸着ノズルにより前記溶接リングが前記セラミック容器の開口部に押しつけられた状態のまま、前記溶接電極が前記溶接リングと当接するように、前記溶接電極を吸着方向に移動させる電極移動工程と、
前記溶接電極により、前記溶接リングと前記セラミック容器とを仮付けする仮付け工程と、
を備えることを特徴とする溶接リングの仮付け方法。 - 前記仮付け工程は、前記溶接リングと前記セラミック容器を溶着する溶接工程であることを特徴とする、
請求項22に記載の溶接リングの仮付け方法。
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