JP2010086846A - Method for manufacturing organic el display device - Google Patents

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Ichiro Kataoka
一郎 片岡
Nobuyuki Ishikawa
信行 石川
Shingo Nakano
真吾 中野
Naoto Fukuda
直人 福田
Nobuhiko Sato
信彦 佐藤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing an organic EL display device, which can prevent the occurrence of foreign bodies such as debris at the time of removal of an organic compound layer and has a high yield at good luminous efficiency. <P>SOLUTION: In the method for manufacturing the organic EL display device formed of a substrate 1 and pixels 11 arranged on the substrate 1, the pixels 11 are composed of a plurality of sub-pixels 12, 13, and 14, and each sub-pixel has at least: a lower electrode 2; a first intermediate electrode layer 4; an upper electrode 8; and either a first organic compound layer 3 arranged between the lower electrode 2 and the first intermediate electrode layer 4, or a second organic compound layer 5 arranged between the first intermediate electrode layer 4 and the upper electrode 8. The method for manufacturing the organic EL display device comprises a step A of forming the lower electrode, a step B of forming the first organic compound layer, a step C of partially removing the first organic compound layer per a sub-pixel unit by using a laser beam, a step D of forming the first intermediate electrode layer, and a step E of forming the second organic compound layer. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機エレクトロスミネッセンス（以下、有機ＥＬと記述する。）表示装置の製造方法に関するものであり、詳しくは低分子有機発光物質あるいは電子発光ポリマーを用いて多色表示が可能な表示装置を製造する方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an organic electroluminescence (hereinafter, referred to as organic EL) display device, and more specifically, a display device capable of multicolor display using a low molecular organic light emitting material or an electroluminescent polymer. It relates to a method of manufacturing.

近年、フラットパネルディスプレイとして、自発光型デバイスである有機ＥＬ表示装置が注目されている。有機ＥＬ表示装置の表示部には、上部電極と、下部電極と、上部電極と下部電極との間に狭持される有機化合物層を備える有機ＥＬ素子が複数配列されている。またこの有機ＥＬ素子は複数集合することにより画素を形成する。そして有機ＥＬ表示装置は、画素を形成する有機ＥＬ素子が発光することにより画像を表示する。ここで多色表示させる方法としては、各画素を複数の副画素より構成し、各副画素にそれぞれ異なる色で発光する発光層を有する有機化合物層を設ける方法が一般的である。   In recent years, organic EL display devices, which are self-luminous devices, have attracted attention as flat panel displays. In the display unit of the organic EL display device, a plurality of organic EL elements each including an upper electrode, a lower electrode, and an organic compound layer sandwiched between the upper electrode and the lower electrode are arranged. Further, a plurality of organic EL elements are assembled to form a pixel. The organic EL display device displays an image when the organic EL element forming the pixel emits light. Here, as a method for multi-color display, a method in which each pixel is composed of a plurality of sub-pixels and an organic compound layer having a light-emitting layer that emits light of a different color is provided in each sub-pixel is common.

ここで各副画素にそれぞれ異なる色で発光するように有機化合物層を設ける方法は、発光層を構成する発光材料によって適宜選択される。具体的には、発光材料が低分子有機発光物質であればシャドーマスク法等が選択される。一方、発光材料が電子発光ポリマーであれば印刷法等が選択される。   Here, the method of providing the organic compound layer so that each subpixel emits light with a different color is appropriately selected depending on the light emitting material constituting the light emitting layer. Specifically, if the light emitting material is a low molecular organic light emitting material, a shadow mask method or the like is selected. On the other hand, if the luminescent material is an electroluminescent polymer, a printing method or the like is selected.

ここでシャドーマスク法は、蒸着によって有機化合物層を形成する際には便利な方法である。しかし異なる色で発光するように有機化合物層を設ける際には、各発光色それぞれについて個別のシャドーマスクを用意する必要があり、必然的に製造コスト上昇の一因となる。また、蒸着物質によるシャドーマスクの汚染等のために定期的にシャドーマスクを交換する必要があることも製造コスト上昇の原因となる。さらに、画素パターンが高精細になればなるほど微小な位置のずれが問題となり、大きいサイズの表示素子への対応も難しくなる。   Here, the shadow mask method is a convenient method when an organic compound layer is formed by vapor deposition. However, when the organic compound layer is provided so as to emit light in different colors, it is necessary to prepare individual shadow masks for the respective emission colors, which inevitably contributes to an increase in manufacturing cost. In addition, it is necessary to periodically replace the shadow mask due to contamination of the shadow mask by the vapor deposition material, which causes an increase in manufacturing cost. Furthermore, as the pixel pattern becomes higher definition, a minute positional shift becomes a problem, and it becomes difficult to cope with a display element having a large size.

一方、印刷法は副画素ごとに異なる色で発光するように、電子発光ポリマーを各副画素に塗り分ける方法として従来より用いられている方法である。中でもインクジェットプリント法は微細な副画素を１単位としてポリマー液滴を滴下・塗布できるので近年検討が進んでいる。しかしながら、インクジェットプリント法で塗布・形成された有機化合物層の発光効率はスピンコーティングで塗布・形成された有機化合物層のそれよりも低い。また、インクジェットプリント法に最適化したなポリマー溶液の調製には技術的な課題が多い。さらに、インクジェットプリント法では微細なポリマー液滴を滴下・塗布できるとはいえ微細化には限界があり、高精細になればなるほど対応が難しくなる。   On the other hand, the printing method is a method conventionally used as a method of coating the electroluminescent polymer on each subpixel so that light is emitted in a different color for each subpixel. In particular, the inkjet printing method has been studied in recent years because polymer droplets can be dropped and applied with a fine subpixel as one unit. However, the luminous efficiency of the organic compound layer applied and formed by the inkjet printing method is lower than that of the organic compound layer applied and formed by spin coating. Moreover, there are many technical problems in preparing a polymer solution optimized for the inkjet printing method. Furthermore, although fine polymer droplets can be dropped and applied by the ink jet printing method, there is a limit to miniaturization, and the higher the definition, the more difficult the response.

このような問題に対して、レーザー除去法を利用した有機ＥＬ表示装置の製造方法が特許文献１に開示されている。特許文献１によると、以下の工程で有機ＥＬ表示装置を製造している。   For such a problem, Patent Document 1 discloses a method for manufacturing an organic EL display device using a laser removal method. According to Patent Document 1, an organic EL display device is manufactured by the following steps.

（１）絶縁基板上の表面上に第一電極層と、各副画素を分離するセパレータと、を設ける工程
（２）第一電極層とセパレータとを含む絶縁基板全面に有機化合物層と第二電極層とを順次形成する工程
（３）当該有機化合物層が不要な副画素において、レーザー光を用いたレーザー除去法によって第二電極層と有機化合物層とを除去する。 (1) A step of providing a first electrode layer and a separator for separating each subpixel on the surface of the insulating substrate. (2) An organic compound layer and a second layer on the entire surface of the insulating substrate including the first electrode layer and the separator. Step of sequentially forming electrode layers (3) In a sub-pixel that does not require the organic compound layer, the second electrode layer and the organic compound layer are removed by a laser removal method using laser light.

この方法によれば、シャドーマスク法やインクジェットプリント法等を利用する場合と比べて、簡単な方法で高いピクセル解像度を有する有機ＥＬ表示装置を製造することが可能となる。   According to this method, it is possible to manufacture an organic EL display device having a high pixel resolution by a simple method as compared with a case where a shadow mask method, an ink jet printing method, or the like is used.

特開２００２−３２４６７２号公報JP 2002-324672 A

ところで特許文献１では、レーザー光による除去工程（上記工程（３））を行う際に、有機化合物層とその上方にある電極層とを共に除去している。しかし、通常、電極層は金属や金属酸化物からなっており、下方にある有機化合物層を傷めないようにその電極層を選択的に除去することは困難である。なぜなら、下方にある有機化合物層にもレーザー光が届くとそのレーザー光によって当該有機化合物層の方が優先的に分解する場合があるからである。その結果、レーザー照射部の電極層の一部が捲れ破片となって周辺に飛散することになる。そして、この捲れ破片が他の有機化合物層や電極層を形成する際に電極層間短絡等の欠陥の原因となったり、歩留が大きく低下したり、経時変化により電極間短絡が発生したりする場合がある。   By the way, in patent document 1, when performing the removal process (the said process (3)) by a laser beam, both the organic compound layer and the electrode layer on it are removed. However, the electrode layer is usually made of metal or metal oxide, and it is difficult to selectively remove the electrode layer so as not to damage the organic compound layer below. This is because when the laser light reaches the lower organic compound layer, the organic compound layer may be preferentially decomposed by the laser light. As a result, a part of the electrode layer of the laser irradiation part is turned and broken and scattered around. And when this broken piece forms another organic compound layer or electrode layer, it causes a defect such as a short circuit between electrode layers, a yield greatly decreases, or a short circuit between electrodes occurs due to a change over time. There is a case.

また、有機化合物層を除去した後、表面に除去しきれなかった有機化合物層の残渣が僅かに存在しただけで、その上に別の有機化合物層を形成しても所望の発光効率を得ることができない。   In addition, after removing the organic compound layer, only a slight residue of the organic compound layer that could not be removed was present on the surface, and even if another organic compound layer was formed thereon, the desired luminous efficiency was obtained. I can't.

さらに、特許文献１では有機化合物層を除去する際に正孔輸送層を残し、その上の発光層までを除去するとしているが、その際にレーザー光照射による正孔輸送層へのダメージが無視できず、このため発光効率が低下する。   Further, in Patent Document 1, when removing the organic compound layer, the hole transport layer is left and the light emitting layer is removed, but the damage to the hole transport layer due to laser light irradiation is ignored at that time. As a result, the luminous efficiency decreases.

本発明は、上述した課題に鑑み提案されたものである。本発明の目的は、有機化合物層を除去する際に、破片等の異物の発生を抑制すると共に、歩留の高く発光効率が良好な有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been proposed in view of the above-described problems. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an organic EL display device that suppresses the generation of foreign matters such as debris when removing an organic compound layer and has a high yield and good light emission efficiency. .

有機ＥＬ表示装置の製造方法は、基板と、
該基板上に設けられる画素と、から構成され、
該画素が複数の副画素からなり、
該副画素が、少なくとも下部電極と、
第一中間電極層と、
上部電極と、
該下部電極と該第一中間電極層との間に設けられる第一有機化合物層及び該第一中間電極層と該上部電極との間に設けられる第二有機化合物層のいずれかと、を備える有機ＥＬ表示装置の製造方法において、
以下に示す工程（Ａ）〜（Ｅ）が含まれることを特徴とする。 A manufacturing method of an organic EL display device includes a substrate,
A pixel provided on the substrate,
The pixel comprises a plurality of sub-pixels;
The subpixel comprises at least a lower electrode;
A first intermediate electrode layer;
An upper electrode;
One of a first organic compound layer provided between the lower electrode and the first intermediate electrode layer and a second organic compound layer provided between the first intermediate electrode layer and the upper electrode. In a method for manufacturing an EL display device,
The following steps (A) to (E) are included.

（Ａ）下部電極の形成工程
（Ｂ）第一有機化合物層の形成工程
（Ｃ）レーザー光を使用して第一有機化合物層を副画素単位で部分的に除去する工程
（Ｄ）第一中間電極層の形成工程
（Ｅ）第二有機化合物層の形成工程 (A) Lower electrode forming step (B) First organic compound layer forming step (C) Step of partially removing the first organic compound layer in sub-pixel units using laser light (D) First intermediate Step of forming electrode layer (E) Step of forming second organic compound layer

本発明によれば、有機化合物層を除去する際に、破片等の異物の発生を抑制すると共に、歩留の高く発光効率が良好な有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供することができる。即ち、有機化合物層を除去する際に、破片等の異物の発生を抑制して歩留の高い有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供することができる。また有機化合物層を除去した後で生じる残渣の影響を抑制するので、発光効率の高い有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供することができる。さらに有機化合物層を除去する際に、除去対象となる有機化合物層よりも下層にある有機化合物層へのダメージがないので、発光効率の高い有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when removing an organic compound layer, while suppressing generation | occurrence | production of foreign materials, such as a fragment, the manufacturing method of an organic electroluminescence display with a high yield and favorable luminous efficiency can be provided. That is, when the organic compound layer is removed, it is possible to provide a method for manufacturing an organic EL display device with a high yield by suppressing generation of foreign matters such as debris. Moreover, since the influence of the residue which arises after removing an organic compound layer is suppressed, the manufacturing method of an organic electroluminescence display with high luminous efficiency can be provided. Furthermore, when the organic compound layer is removed, there is no damage to the organic compound layer that is lower than the organic compound layer to be removed, so that a method for manufacturing an organic EL display device with high luminous efficiency can be provided.

本発明は、基板と、該基板上に設けられる画素と、から構成される有機ＥＬ表示装置の製造方法に関するものである。ここで有機ＥＬ表示装置を構成する画素は複数の副画素からなる。   The present invention relates to a method for manufacturing an organic EL display device including a substrate and pixels provided on the substrate. Here, the pixels constituting the organic EL display device are composed of a plurality of sub-pixels.

そしてこの副画素は、少なくとも下部電極と、第一中間電極層と、上部電極と、第一有機化合物層及び第二有機化合物層のいずれかと、からなるものである。ここで第一有機化合物層は、下部電極と該第一中間電極層との間に設けられ発光層を含む単層膜又は積層体である。また第二有機化合物層は、第一中間電極層と上部電極との間に設けられ発光層を含む単層膜又は積層体である。   The subpixel includes at least a lower electrode, a first intermediate electrode layer, an upper electrode, and any one of a first organic compound layer and a second organic compound layer. Here, the first organic compound layer is a single layer film or a laminate provided between the lower electrode and the first intermediate electrode layer and including a light emitting layer. The second organic compound layer is a single-layer film or a laminated body that is provided between the first intermediate electrode layer and the upper electrode and includes a light emitting layer.

副画素は、好ましくは、さらに第二有機化合物層と上部電極との間に第二中間電極層と第三有機化合物層とがこの順に設けられる部材である。   The subpixel is preferably a member in which a second intermediate electrode layer and a third organic compound layer are further provided in this order between the second organic compound layer and the upper electrode.

また本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、以下に示す工程（Ａ）〜（Ｅ）が含まれることを特徴とする。
（Ａ）下部電極の形成工程
（Ｂ）第一有機化合物層の形成工程
（Ｃ）レーザー光を使用して第一有機化合物層を副画素単位で部分的に除去する工程
（Ｄ）第一中間電極層の形成工程
（Ｅ）第二有機化合物層の形成工程 Moreover, the manufacturing method of the organic EL display device of the present invention includes the following steps (A) to (E).
(A) Lower electrode forming step (B) First organic compound layer forming step (C) Step of partially removing the first organic compound layer in sub-pixel units using laser light (D) First intermediate Step of forming electrode layer (E) Step of forming second organic compound layer

本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法において、好ましくは、工程（Ｅ）の後の工程として以下に示す工程（Ｆ）〜（Ｈ）が含まれる。
（Ｆ）レーザー光を使用して第二有機化合物層を副画素単位で部分的に除去する工程
（Ｇ）第二中間電極層の形成工程
（Ｈ）第三有機化合物層の形成工程 In the manufacturing method of the organic EL display device of the present invention, preferably, the following steps (F) to (H) are included as steps after the step (E).
(F) The process of removing a 2nd organic compound layer partially in a subpixel unit using a laser beam (G) The formation process of a 2nd intermediate electrode layer (H) The formation process of a 3rd organic compound layer

以下、図面を参照ながら本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法について詳細に説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the organic EL display device of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

［下部電極の形成工程］
図１は、下部電極が形成された基板を示す断面概略図である。図１に示すように、本発明においては、まず基板１上に下部電極２を形成する。 [Lower electrode formation process]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a substrate on which a lower electrode is formed. As shown in FIG. 1, in the present invention, first, a lower electrode 2 is formed on a substrate 1.

基板１は、主にガラス等の絶縁性基板が挙げられるが、必要に応じてＴＦＴ等のスイッチング素子を当該絶縁性基板上に形成したものを基板１としてもよい。   The substrate 1 is mainly an insulating substrate such as glass. However, the substrate 1 may be formed by forming a switching element such as a TFT on the insulating substrate as necessary.

下部電極２の構成材料としては、Ｃｒ、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ等の金属単体、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ等の金属酸化物等といった有機ＥＬ表示装置の電極材料として公知の無機材料を使用することができる。また、下部電極２は、一層で構成されていてもよいし、複数の層で構成されていてもよい。ここで下部電極２が複数の層で構成される場合は、具体的な層構成として、金属単体の層と金属酸化物の層とからなる積層体が挙げられる。   As a constituent material of the lower electrode 2, a known inorganic material is used as an electrode material of an organic EL display device such as a simple metal such as Cr, Al, Ag, Au, or Pt, or a metal oxide such as ITO, IZO, or ZnO. be able to. The lower electrode 2 may be composed of one layer or a plurality of layers. Here, when the lower electrode 2 is composed of a plurality of layers, a specific layer structure may be a laminate composed of a single metal layer and a metal oxide layer.

下部電極２を設けた後、図１に示すように、必要に応じて画素１１を構成する各副画素（第一副画素１２、第二副画素１３、第三副画素１４）を副画素単位で区画する画素分離膜９を形成する。画素分離膜の構成材料として絶縁性の材料が好適に使用され、具体的には、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の樹脂材料が好適に使用される。尚、画素分離膜９は、後の工程で形成される有機化合物層、並びに中間電極層及び上部電極を副画素ごとに分断し、各副画素を確実に分離するためにその形状が逆テーパー形状とするのが好ましい。   After providing the lower electrode 2, as shown in FIG. 1, each sub-pixel (the first sub-pixel 12, the second sub-pixel 13, and the third sub-pixel 14) constituting the pixel 11 is subpixel-united as necessary. A pixel separation film 9 partitioned by An insulating material is preferably used as the constituent material of the pixel separation film, and specifically, a resin material such as an acrylic resin or a polyimide resin is preferably used. The pixel separation film 9 has an inverse tapered shape in order to divide the organic compound layer, intermediate electrode layer, and upper electrode, which will be formed in a later step, into sub-pixels and to separate each sub-pixel reliably. Is preferable.

［第一有機化合物層の形成工程］
図２は、第一有機化合物層が形成された基板を示す断面概略図である。画素分離膜９を形成した後、図２に示すように、下部電極２及び画素分離膜９を含む基板１の全面に第一発光層を含む第一有機化合物層３を形成する。第一有機化合物層３は、発光層を含んでいればその層構成は特に限定されない。例えば、発光層の他に正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層等の機能を持つ層が含まれていてもよい。 [Formation process of first organic compound layer]
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the substrate on which the first organic compound layer is formed. After the pixel isolation film 9 is formed, as shown in FIG. 2, the first organic compound layer 3 including the first light emitting layer is formed on the entire surface of the substrate 1 including the lower electrode 2 and the pixel isolation film 9. If the 1st organic compound layer 3 contains the light emitting layer, the layer structure will not be specifically limited. For example, a layer having a function such as a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, or an electron injection layer may be included in addition to the light emitting layer.

第一発光層を構成する有機発光物質としては、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、ポリアリーレン、芳香族縮合多環化合物、芳香族複素環化合物、芳香族複素縮合環化合物、金属錯体化合物等及びこれらの単独オリゴ体あるいは複合オリゴ体が使用できるが、本発明の構成として例示の材料に限定されるものではない。   Examples of organic light-emitting substances constituting the first light-emitting layer include triarylamine derivatives, stilbene derivatives, polyarylenes, aromatic condensed polycyclic compounds, aromatic heterocyclic compounds, aromatic heterocyclic condensed ring compounds, metal complex compounds, and the like. These single oligos or composite oligos can be used, but the present invention is not limited to the exemplified materials.

第一有機化合物層３に正孔注入層及び正孔輸送層のいずれかが含まれる場合、これらの層の構成材料である正孔輸送物質として、フタロシアニン化合物、トリアリールアミン化合物、導電性高分子、ペリレン系化合物、Ｅｕ錯体等が使用できる。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。   When the first organic compound layer 3 includes either a hole injection layer or a hole transport layer, a phthalocyanine compound, a triarylamine compound, a conductive polymer can be used as a hole transport material that is a constituent material of these layers. Perylene compounds, Eu complexes and the like can be used. However, the present invention is not limited to this.

第一有機化合物層３に電子注入層及び電子輸送層のいずれかが含まれる場合、これらの層の構成材料である電子輸送物質として、アルミに８−ヒドロキシキノリンの３量体が配位したＡｌｑ3、アゾメチン亜鉛錯体、ジスチリルビフェニル誘導体系等が使用できる。 When the first organic compound layer 3 includes either an electron injection layer or an electron transport layer, Alq in which a trimer of 8-hydroxyquinoline is coordinated to aluminum as an electron transport material as a constituent material of these layers. 3. Azomethine zinc complex, distyryl biphenyl derivative system, etc. can be used.

第一有機化合物層３を構成する各層の形成方法は、低分子有機発光物質であれば蒸着法、電子発光ポリマーであればスピンコーティング法が好ましい。   The formation method of each layer constituting the first organic compound layer 3 is preferably a vapor deposition method if it is a low molecular organic light emitting substance, and a spin coating method if it is an electroluminescent polymer.

［第一有機化合物層の部分的な除去工程］
図３は、第一有機化合物層が部分的に除去された基板を示す断面概略図である。本発明では第一有機化合物層３を形成した後、所定の副画素に形成された第一有機化合物層３を選択的に除去する工程を行う。例えば、図３に示すように、第一副画素１２として指定した副画素以外の副画素（第二副画素１３及び第三副画素１４）に形成されている第一有機化合物層３を除去する。 [Partial removal step of first organic compound layer]
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the substrate from which the first organic compound layer has been partially removed. In the present invention, after the first organic compound layer 3 is formed, a step of selectively removing the first organic compound layer 3 formed in a predetermined subpixel is performed. For example, as shown in FIG. 3, the first organic compound layer 3 formed in subpixels (second subpixel 13 and third subpixel 14) other than the subpixel designated as the first subpixel 12 is removed. .

本工程を行う際には、レーザー光を使用したレーザー除去法を用いるのが好ましい。このとき、下部電極２は無機化合物よりなる層であるので、第一有機化合物層３よりもレーザー光によって分解されにくい。このため照射するレーザー光の強度（レーザーパワー）を適宜調整することにより第一有機化合物層３のみを選択的に除去することができる。   In carrying out this step, it is preferable to use a laser removal method using laser light. At this time, since the lower electrode 2 is a layer made of an inorganic compound, it is less likely to be decomposed by laser light than the first organic compound layer 3. For this reason, only the first organic compound layer 3 can be selectively removed by appropriately adjusting the intensity (laser power) of the irradiated laser beam.

本工程で使用されるレーザー光は、好ましくは、波長１９０ｎｍ〜３００ｎｍのエキシマレーザーである。またレーザー光の強度は、好ましくは、１０ｍＪ／ｃｍ2〜２００ｍＪ／ｃｍ2である。また、必要に応じてレーザー光を複数回照射してもよい。 The laser beam used in this step is preferably an excimer laser having a wavelength of 190 nm to 300 nm. The intensity of the addition the laser beam is preferably, 10mJ / cm 2 ~200mJ / cm 2. Moreover, you may irradiate a laser beam in multiple times as needed.

［第一中間電極層の形成工程］
図４は、第一中間電極層が形成された基板を示す断面概略図である。第一有機化合物層の部分的な除去工程を行った後、図４に示すように、基板１の全面に第一中間電極層４が形成される。 [Formation process of first intermediate electrode layer]
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing the substrate on which the first intermediate electrode layer is formed. After performing the partial removal process of the first organic compound layer, the first intermediate electrode layer 4 is formed on the entire surface of the substrate 1 as shown in FIG.

第一中間電極層４は下部電極２と同様にＣｒ、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ等の金属単体、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ等の酸化物等といった有機ＥＬ表示装置の電極材料として公知の無機化合物を使用することができる。また、第一中間電極層４は、一層で構成されていてもよいし、複数の層で構成されていてもよい。ここで第一中間電極層４が複数の層で構成される場合は、具体的な層構成として、金属単体の層と酸化物の層とからなる積層体が挙げられる。   The first intermediate electrode layer 4 is an inorganic compound known as an electrode material of an organic EL display device such as a single metal such as Cr, Al, Ag, Au, and Pt, and an oxide such as ITO, IZO, and ZnO as in the lower electrode 2. Can be used. Moreover, the 1st intermediate electrode layer 4 may be comprised by one layer, and may be comprised by the some layer. Here, in the case where the first intermediate electrode layer 4 is composed of a plurality of layers, a specific layer configuration may be a laminate including a single metal layer and an oxide layer.

第一中間電極層４は、好ましくは、上述した無機化合物よりなる層である。またこの無機化合物よりなる層は、好ましくは、少なくとも金属単体よりなる層（金属層）を有する層である。ここで第一副画素１１に設けられている第一中間電極層４が有する金属層は、下方にある第一有機化合物層３にレーザー光が到達しないように膜厚を調整するのが好ましい。具体的には、５ｎｍ〜１００ｎｍに調整する。   The first intermediate electrode layer 4 is preferably a layer made of the above-described inorganic compound. Moreover, the layer made of this inorganic compound is preferably a layer having at least a layer (metal layer) made of a simple metal. Here, the thickness of the metal layer of the first intermediate electrode layer 4 provided in the first subpixel 11 is preferably adjusted so that the laser light does not reach the first organic compound layer 3 below. Specifically, it is adjusted to 5 nm to 100 nm.

ところで、前工程（第一有機化合物層の部分的な除去工程）において、第一有機化合物層３を除去処理したことにより露出される下部電極２の表面には、僅かに第一有機化合物層３の構成材料の残渣が存在する。このため本工程において、第一中間電極層４は、その残渣を覆うように形成することが望ましい。また、第一中間電極層４の仕事関数が次の工程で形成される第二有機化合物層５に正孔又は電子を注入しやすいように最適化することが可能となるように、第一中間電極層４の構成材料を適宜選択するのが望ましい。これによって第二有機化合物層５の発光効率が改善される。   By the way, the first organic compound layer 3 is slightly formed on the surface of the lower electrode 2 exposed by removing the first organic compound layer 3 in the previous step (partial removal step of the first organic compound layer). There are residues of the constituent materials. For this reason, in this process, it is desirable to form the first intermediate electrode layer 4 so as to cover the residue. Further, the first intermediate electrode layer 4 can be optimized so that the work function of the first intermediate electrode layer 4 can be easily injected into the second organic compound layer 5 formed in the next step. It is desirable to appropriately select the constituent material of the electrode layer 4. Thereby, the luminous efficiency of the second organic compound layer 5 is improved.

第一中間電極層４は、蒸着法、スパッタリング法等によって形成される。   The first intermediate electrode layer 4 is formed by a vapor deposition method, a sputtering method, or the like.

［第二有機化合物層の形成工程］
図５は、第二有機化合物層が形成された基板を示す断面概略図である。第一中間電極層４を形成した後、図５に示すように、第二発光層を含む第二有機化合物層５が基板１の全面に形成される。第二有機化合物層５は、第一有機化合物層３と同様に発光層を含んでいればその層構成は特に限定されない。例えば、発光層の他に正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層等の機能を持つ層が含まれていてもよい。 [Step of forming second organic compound layer]
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing the substrate on which the second organic compound layer is formed. After forming the first intermediate electrode layer 4, the second organic compound layer 5 including the second light emitting layer is formed on the entire surface of the substrate 1 as shown in FIG. 5. If the 2nd organic compound layer 5 contains the light emitting layer similarly to the 1st organic compound layer 3, the layer structure will not be specifically limited. For example, a layer having a function such as a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, or an electron injection layer may be included in addition to the light emitting layer.

ここで第二有機化合物層５の構成材料として、第一有機化合物層３の構成材料と同様の材料を使用することができる。また第二有機化合物層５は、第一有機化合物層３と同様の方法により形成することができる。   Here, as the constituent material of the second organic compound layer 5, the same material as the constituent material of the first organic compound layer 3 can be used. The second organic compound layer 5 can be formed by the same method as the first organic compound layer 3.

［第二有機化合物層の部分的な除去工程］
図６は、第二有機化合物層が部分的に除去された基板を示す断面概略図である。本発明では第二有機化合物層５を形成した後、所定の副画素に形成された第二有機化合物層５を選択的に除去する工程を行う。例えば、図６に示すように、第三副画素１４に形成されている第二有機化合物層５を除去する。 [Partial removal step of second organic compound layer]
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing the substrate from which the second organic compound layer has been partially removed. In this invention, after forming the 2nd organic compound layer 5, the process of selectively removing the 2nd organic compound layer 5 formed in the predetermined subpixel is performed. For example, as shown in FIG. 6, the second organic compound layer 5 formed in the third subpixel 14 is removed.

本工程を行う際には、レーザー光を使用したレーザー除去法を用いるのが好ましい。このとき、第一中間電極層４は無機材料より構成されているので、第二有機化合物層５よりもレーザー光によって分解されにくい。このため照射するレーザー光の強度（レーザーパワー）を適宜調整することにより第二有機化合物層５のみを選択的に除去することができる。   In carrying out this step, it is preferable to use a laser removal method using laser light. At this time, since the first intermediate electrode layer 4 is made of an inorganic material, it is less likely to be decomposed by laser light than the second organic compound layer 5. For this reason, only the second organic compound layer 5 can be selectively removed by appropriately adjusting the intensity (laser power) of the irradiated laser beam.

また本工程において、使用されるレーザーは、第一有機化合物層３の部分的な除去工程で使用されるレーザーと同様のものを使用することができる。   In this step, the same laser as that used in the partial removal step of the first organic compound layer 3 can be used.

［第二中間電極層の形成工程］
図７は、第二中間電極層が形成された基板を示す断面概略図である。第二有機化合物層の部分的な除去工程の後、図７に示すように、基板１の全面に第二中間電極層６が形成される。 [Second Intermediate Electrode Layer Formation Step]
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing the substrate on which the second intermediate electrode layer is formed. After the partial removal process of the second organic compound layer, the second intermediate electrode layer 6 is formed on the entire surface of the substrate 1 as shown in FIG.

第二中間電極層６は下部電極２及び第一中間電極層４と同様にＣｒ、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ等の金属単体、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ等の酸化物等といった有機ＥＬ表示装置の電極材料として公知の無機材料を使用することができる。また、第二中間電極層６は、一層で構成されていてもよいし、複数の層で構成されていてもよい。ここで第二中間電極層６が複数の層で構成される場合は、具体的な層構成として、金属単体の層と酸化物の層とからなる積層体が挙げられる。   Similar to the lower electrode 2 and the first intermediate electrode layer 4, the second intermediate electrode layer 6 is an organic EL display device such as a single metal such as Cr, Al, Ag, Au, or Pt, an oxide such as ITO, IZO, or ZnO. A known inorganic material can be used as the electrode material. The second intermediate electrode layer 6 may be composed of a single layer or a plurality of layers. Here, when the second intermediate electrode layer 6 is composed of a plurality of layers, a specific layer structure may be a laminate composed of a single metal layer and an oxide layer.

第二中間電極層６は、好ましくは、上述した無機化合物よりなる層である。またこの無機化合物よりなる層は、好ましくは、少なくとも金属単体よりなる層（金属層）を有する層である。ここで第一副画素１１及び第二副画素１２に設けられている第一中間電極層４が有する金属層は、下方にある第二有機化合物層５にレーザー光が到達しないように膜厚を調整するのが好ましい。具体的には、５ｎｍ〜１００ｎｍに調整する。   The second intermediate electrode layer 6 is preferably a layer made of the above-described inorganic compound. Moreover, the layer made of this inorganic compound is preferably a layer having at least a layer (metal layer) made of a simple metal. Here, the metal layer of the first intermediate electrode layer 4 provided in the first subpixel 11 and the second subpixel 12 has a thickness so that the laser light does not reach the second organic compound layer 5 below. It is preferable to adjust. Specifically, it is adjusted to 5 nm to 100 nm.

ところで、前工程（第二有機化合物層の部分的な除去工程）において、第二有機化合物層５を除去処理したことにより露出される第一中間電極層４の表面には、僅かに第二有機化合物層５の構成材料の残渣が存在する。このため本工程において、第二中間電極層６は、その残渣を覆うように形成することが望ましい。また、第二中間電極層６の仕事関数が次の工程で形成される第三有機化合物層７に正孔又は電子を注入しやすいように最適化することが可能となるように、第二中間電極層６の構成材料を適宜選択するのが望ましい。これによって第三有機化合物層７の発光効率が改善される。   By the way, in the previous step (partial removal step of the second organic compound layer), the surface of the first intermediate electrode layer 4 exposed by removing the second organic compound layer 5 is slightly exposed to the second organic compound layer 5. There is a residue of the constituent material of the compound layer 5. For this reason, in this process, it is desirable to form the second intermediate electrode layer 6 so as to cover the residue. Further, the second intermediate electrode layer 6 can be optimized so that the work function of the second intermediate electrode layer 6 can easily inject holes or electrons into the third organic compound layer 7 formed in the next step. It is desirable to appropriately select the constituent material of the electrode layer 6. Thereby, the luminous efficiency of the third organic compound layer 7 is improved.

第二中間電極層６は、第一中間電極層４と同様に、蒸着法、スパッタリング法等によって形成される。   Similar to the first intermediate electrode layer 4, the second intermediate electrode layer 6 is formed by a vapor deposition method, a sputtering method, or the like.

［第三有機化合物層の形成工程］
図８は、第三有機化合物層が形成された基板を示す断面概略図である。第二中間電極層６を形成した後、図８に示すように、第三発光層を含む第三有機化合物層７が基板１の全面に形成される。第三有機化合物層７は、第二有機化合物層５と同様に発光層を含んでいればその層構成は特に限定されない。例えば、発光層の他に正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層等の機能を持つ層が含まれていてもよい。 [Third organic compound layer forming step]
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing a substrate on which a third organic compound layer is formed. After the second intermediate electrode layer 6 is formed, a third organic compound layer 7 including a third light emitting layer is formed on the entire surface of the substrate 1 as shown in FIG. If the 3rd organic compound layer 7 contains the light emitting layer similarly to the 2nd organic compound layer 5, the layer structure will not be specifically limited. For example, a layer having a function such as a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, or an electron injection layer may be included in addition to the light emitting layer.

ここで第三有機化合物層７の構成材料として、第一有機化合物層３及び第二有機化合物層５の構成材料と同様の材料を使用することができる。また第三有機化合物層７は、第一有機化合物層３及び第二有機化合物層５と同様の方法により形成することができる。   Here, as the constituent material of the third organic compound layer 7, the same material as that of the first organic compound layer 3 and the second organic compound layer 5 can be used. The third organic compound layer 7 can be formed by the same method as the first organic compound layer 3 and the second organic compound layer 5.

［上部電極の形成工程］
第三有機化合物層を形成した後、基板１の全面に上部電極が形成される。 [Upper electrode formation process]
After forming the third organic compound layer, the upper electrode is formed on the entire surface of the substrate 1.

上部電極は下部電極２、第一中間電極層４及び第二中間電極層６と同様にＣｒ、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ等の金属単体、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ等の酸化物等といった有機ＥＬ表示装置の電極材料として公知の無機材料を使用することができる。また、上部電極は、一層で構成されていてもよいし、複数の層で構成されていてもよい。ここで上部電極が複数の層で構成される場合は、具体的な層構成として、金属単体の層と酸化物の層とからなる積層体が挙げられる。   As with the lower electrode 2, the first intermediate electrode layer 4 and the second intermediate electrode layer 6, the upper electrode is an organic EL such as a single metal such as Cr, Al, Ag, Au and Pt, an oxide such as ITO, IZO and ZnO. A known inorganic material can be used as the electrode material of the display device. Further, the upper electrode may be composed of a single layer or a plurality of layers. Here, when the upper electrode is composed of a plurality of layers, a specific layer structure may be a laminate including a single metal layer and an oxide layer.

上部電極を設けることにより、図９に示される有機ＥＬ表示装置を得ることができる。   By providing the upper electrode, the organic EL display device shown in FIG. 9 can be obtained.

以上に述べた工程のうち、画素分離膜の形成工程は省略してもよい。ただし、画素分離膜の形成工程を省略する場合は、上部電極８を形成した後、レーザー光を用いたレーザー除去法等により、副画素間の有機化合物層及び電極層を一括して取り除くことにより有機化合物層及び電極層を副画素ごとに区画するのが望ましい。   Of the steps described above, the pixel isolation film forming step may be omitted. However, in the case where the pixel separation film forming step is omitted, after the upper electrode 8 is formed, the organic compound layer and the electrode layer between the sub-pixels are collectively removed by a laser removal method using laser light or the like. It is desirable to partition the organic compound layer and the electrode layer for each subpixel.

本発明の製造方法により製造される有機ＥＬ表示装置は、例えば、コンタクトホール等を用いてそれぞれの副画素を駆動回路に電気接続することによって各有機化合物層が発光する。具体的には、画素を形成する領域の外側まで下部電極２以外の電極層（第一中間電極層４、第二中間電極層６、上部電極８）をそれぞれ形成し、画素を形成する領域の外側に設けられたコンタクトホールを介して駆動回路に接続する方法が挙げられる。また、各副画素にコンタクトホールを設けておいて下部電極２以外の電極層をコンタクトホールで駆動回路に接続してもよい。   In the organic EL display device manufactured by the manufacturing method of the present invention, each organic compound layer emits light by electrically connecting each subpixel to a drive circuit using, for example, a contact hole. Specifically, electrode layers other than the lower electrode 2 (first intermediate electrode layer 4, second intermediate electrode layer 6, and upper electrode 8) are formed to the outside of the pixel formation region, respectively, and the pixel formation region There is a method of connecting to a drive circuit through a contact hole provided on the outside. Alternatively, a contact hole may be provided in each subpixel, and an electrode layer other than the lower electrode 2 may be connected to the drive circuit through the contact hole.

尚、各副画素にそれぞれ形成された有機化合物層（３，５，７）に含まれる発光層がそれぞれ異なる光の色を発する場合は、製造される有機ＥＬ表示装置は多色表示が可能となる。   In addition, when the light emitting layers included in the organic compound layers (3, 5, 7) formed in the respective sub-pixels emit different light colors, the manufactured organic EL display device can perform multicolor display. Become.

ところで、本発明の製造方法で製造される有機ＥＬ表示装置の態様は図９で示される態様に限定されるものではない。例えば、図１０に示されるように、各副画素に有機化合物層が一層ずつ設けられる態様も含まれる。この態様の場合、好ましくは、上記工程（Ｆ）（第二有機化合物層の部分的な除去工程）において少なくとも第一副画素１２に設けられている第二有機化合物層５を除去する。尚、図１０に示される有機ＥＬ表示装置の製造方法については後述する実施例において詳細に説明する。   By the way, the aspect of the organic EL display device manufactured by the manufacturing method of the present invention is not limited to the aspect shown in FIG. For example, as shown in FIG. 10, a mode in which one organic compound layer is provided for each subpixel is also included. In the case of this embodiment, preferably, at least the second organic compound layer 5 provided in the first subpixel 12 is removed in the step (F) (partial removal step of the second organic compound layer). Note that a method for manufacturing the organic EL display device shown in FIG. 10 will be described in detail in an embodiment described later.

以下、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法を実施例に基づき詳細に説明する。ただし、本発明は後述する実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内であれば種々の変更を行うことが可能である。   Hereinafter, the manufacturing method of the organic EL display device of the present invention will be described in detail based on examples. However, this invention is not limited to the Example mentioned later, A various change is possible if it is in the range of the summary of this invention.

＜実施例１＞
図９に示される有機ＥＬ表示装置を以下に示す方法で作製した。 <Example 1>
The organic EL display device shown in FIG. 9 was produced by the following method.

まず、ガラス基板上に、ｐ−ＳｉからなるＴＦＴを備える駆動回路と、コンタクトホールを備える平坦化膜と、を順次形成した。このように平坦化膜まで形成されたガラス基板を基板１として次の工程で使用した。   First, a driving circuit including a TFT made of p-Si and a planarizing film including a contact hole were sequentially formed on a glass substrate. The glass substrate thus formed up to the planarization film was used as the substrate 1 in the next step.

次に、スパッタリング法により、平坦化膜上に、ＡｇとＩＺＯとを順次積層・成膜して下部電極２となる積層薄膜を形成した。このとき当該積層薄膜の膜厚を１５０ｎｍ（Ａｇ層１００ｎｍ、ＩＺＯ層５０ｎｍ）とした。次に、この積層薄膜について、フォトリソグラフィにより、画素回路に対応した副画素の形状にパターン形成した。尚、このようにパターン形成された下部電極２は、平坦化膜内に設けられているコンタクトホール（不図示）を介して対応する画素回路にそれぞれ電気接続されている。また図９に示されるように、１つの画素は３つの副画素（第一副画素１２、第二副画素１３、第三副画素１４）を備えている。   Next, Ag and IZO were sequentially laminated and formed on the planarizing film by sputtering to form a laminated thin film to be the lower electrode 2. At this time, the film thickness of the laminated thin film was 150 nm (Ag layer 100 nm, IZO layer 50 nm). Next, this laminated thin film was patterned in the shape of a sub-pixel corresponding to the pixel circuit by photolithography. The lower electrodes 2 thus patterned are electrically connected to corresponding pixel circuits via contact holes (not shown) provided in the planarization film. As shown in FIG. 9, one pixel includes three subpixels (first subpixel 12, second subpixel 13, and third subpixel 14).

次に、基板１及び下部電極２の上面をポリイミド樹脂でコーティングし、フォトリソグラフィによるパターニングを行うことで各副画素を区画する高さ２μｍの素子分離膜９を形成した。   Next, the upper surfaces of the substrate 1 and the lower electrode 2 were coated with a polyimide resin, and patterning by photolithography was performed to form an element isolation film 9 having a height of 2 μm that partitions each subpixel.

次に、基板１を真空加熱した後、抵抗加熱蒸着法により、下部電極２上に、第一有機物化合物層３を形成した。この第一有機化合物層３は、正孔輸送層、発光層、電子輸送層及び電子注入層がこの順に形成されている積層体であり、また第一有機化合物層３に含まれる発光層は赤色を発する発光層である。また第一有機化合物層３を構成する層はいずれも公知の有機材料からなる層である。   Next, after the substrate 1 was vacuum heated, the first organic compound layer 3 was formed on the lower electrode 2 by resistance heating vapor deposition. The first organic compound layer 3 is a laminate in which a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer are formed in this order, and the light emitting layer included in the first organic compound layer 3 is red. It is a light emitting layer which emits. Moreover, all the layers which comprise the 1st organic compound layer 3 are layers which consist of well-known organic materials.

次に、第二副画素１３及び第三副画素１４に相当する領域にレーザー光を部分的に照射することにより、第二副画素１３及び第三副画素１４にて形成されていた第一有機化合物層３を除去した。レーザー光の照射をする際には、波長２４８ｎｍのエキシマレーザー及びフォトマスクを用いた。このときレーザーパワー及び照射回数を調整することにより、下部電極２にダメージを与えないようにした。   Next, the first organic formed in the second subpixel 13 and the third subpixel 14 by partially irradiating a laser beam to a region corresponding to the second subpixel 13 and the third subpixel 14. Compound layer 3 was removed. When irradiating the laser beam, an excimer laser having a wavelength of 248 nm and a photomask were used. At this time, the lower electrode 2 was not damaged by adjusting the laser power and the number of times of irradiation.

次に、真空蒸着法により、ＡｇとＩＺＯとを順次積層・成膜して第一中間電極層４を形成した。このとき第一中間電極層４の膜厚を６５ｎｍ（Ａｇ層１５ｎｍ、ＩＺＯ層５０ｎｍ）とした。   Next, Ag and IZO were sequentially laminated and formed by vacuum deposition to form the first intermediate electrode layer 4. At this time, the film thickness of the first intermediate electrode layer 4 was set to 65 nm (Ag layer 15 nm, IZO layer 50 nm).

次に、抵抗加熱蒸着法により、第一中間電極層４上に、第二有機物化合物層５を形成した。この第二有機化合物層５は、正孔輸送層、発光層、電子輸送層及び電子注入層がこの順に形成されている積層体であり、また第二有機化合物層５に含まれる発光層は緑色を発する発光層である。また第二有機化合物層５を構成する層はいずれも公知の有機材料からなる層である。   Next, the second organic compound layer 5 was formed on the first intermediate electrode layer 4 by resistance heating vapor deposition. The second organic compound layer 5 is a laminate in which a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer are formed in this order, and the light emitting layer included in the second organic compound layer 5 is green. It is a light emitting layer which emits. The layers constituting the second organic compound layer 5 are all layers made of known organic materials.

次に、第三副画素１４に相当する領域にレーザー光を部分的に照射することにより、第三副画素１４にて形成されていた第二有機化合物層５を除去した。尚、レーザー光の照射条件は第一有機化合物層３の部分的除去のときと同様の条件にし、レーザーパワーを調整することにより、第一中間電極層４にダメージを与えないようにした。   Next, the second organic compound layer 5 formed in the third subpixel 14 was removed by partially irradiating the region corresponding to the third subpixel 14 with laser light. The laser light irradiation conditions were the same as those for partial removal of the first organic compound layer 3, and the laser power was adjusted so that the first intermediate electrode layer 4 was not damaged.

次に、真空蒸着法により、ＡｇとＩＺＯとを順次積層・成膜して第二中間電極層６を形成した。このとき第二中間電極層６の膜厚を６５ｎｍ（Ａｇ層１５ｎｍ、ＩＺＯ層５０ｎｍ）とした。   Next, Ag and IZO were sequentially laminated and formed by vacuum deposition to form the second intermediate electrode layer 6. At this time, the film thickness of the second intermediate electrode layer 6 was set to 65 nm (Ag layer 15 nm, IZO layer 50 nm).

次に、抵抗加熱蒸着法により、第二中間電極層６上に、第三有機物化合物層７を形成した。この第三有機化合物層７は、正孔輸送層、発光層、電子輸送層及び電子注入層がこの順に形成されている積層体であり、また第三有機化合物層７に含まれる発光層は青色を発する発光層である。また第三有機化合物層７を構成する層はいずれも公知の有機材料からなる層である。   Next, a third organic compound layer 7 was formed on the second intermediate electrode layer 6 by resistance heating vapor deposition. The third organic compound layer 7 is a laminate in which a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer are formed in this order, and the light emitting layer included in the third organic compound layer 7 is blue. It is a light emitting layer which emits. All the layers constituting the third organic compound layer 7 are layers made of a known organic material.

次に、真空蒸着法により、ＡｇとＩＺＯとを順次積層・成膜して上部電極８を形成した。このとき上部電極８の膜厚を６５ｎｍ（Ａｇ層１５ｎｍ、ＩＺＯ層５０ｎｍ）とした。   Next, Ag and IZO were sequentially laminated and formed by vacuum deposition to form the upper electrode 8. At this time, the film thickness of the upper electrode 8 was set to 65 nm (Ag layer 15 nm, IZO layer 50 nm).

以上により有機ＥＬ表示装置を得た。尚、本実施例で得られた有機ＥＬ表示装置は、画素領域の外側に設けられたコンタクトホールを介して、第一中間電極層４、第二中間電極層６及び上部電極８がそれぞれ個別に駆動回路に接続されている。これによってフルカラー表示が可能となる。   Thus, an organic EL display device was obtained. In the organic EL display device obtained in this example, the first intermediate electrode layer 4, the second intermediate electrode layer 6, and the upper electrode 8 are individually provided via contact holes provided outside the pixel region. Connected to the drive circuit. This enables full color display.

また本実施例により有機ＥＬ表示装置を製造する際に、特に、第一有機化合物層３及び第二有機化合物層５の除去工程において異物の発生が抑制されていることが確認されたため、電極層の表面にて発生する残渣の影響を抑制することができた。これによって、高い歩留で発光効率の高い有機ＥＬ表示装置を作製できることが確認された。   In addition, when manufacturing the organic EL display device according to this example, it was confirmed that the generation of foreign matters was suppressed particularly in the step of removing the first organic compound layer 3 and the second organic compound layer 5, so that the electrode layer It was possible to suppress the influence of the residue generated on the surface. As a result, it was confirmed that an organic EL display device with high yield and high luminous efficiency could be produced.

＜実施例２＞
図１０に示される有機ＥＬ表示装置を以下に示す方法で作製した。 <Example 2>
The organic EL display device shown in FIG. 10 was produced by the following method.

まず実施例１と同様の方法により、基板１上に第二有機化合物層５までの部材を順次形成した。   First, members up to the second organic compound layer 5 were sequentially formed on the substrate 1 by the same method as in Example 1.

次に、第一副画素１２及び第三副画素１４に相当する領域にレーザー光を部分的に照射することにより、第一副画素１２及び第三副画素１４にて形成されていた第二有機化合物層５を除去した。レーザー光の照射をする際には、波長２４８ｎｍのエキシマレーザー及びフォトマスクを用いた。このときレーザーパワーを調整することにより、第一中間電極層４にダメージを与えないようにした。また、第一中間電極層４を構成するＡｇ層の膜厚を調整してレーザー光の透過を抑制することにより、第一副画素１２に相当する領域に設けられている第一有機化合物層３にレーザー光によるダメージが及ばないようにした。   Next, the second organic material formed in the first subpixel 12 and the third subpixel 14 by partially irradiating a laser beam to a region corresponding to the first subpixel 12 and the third subpixel 14. The compound layer 5 was removed. When irradiating the laser beam, an excimer laser having a wavelength of 248 nm and a photomask were used. At this time, the first intermediate electrode layer 4 was not damaged by adjusting the laser power. Further, the first organic compound layer 3 provided in the region corresponding to the first sub-pixel 12 by adjusting the film thickness of the Ag layer constituting the first intermediate electrode layer 4 to suppress the transmission of laser light. The laser beam was not damaged.

次に、真空蒸着法により、ＡｇとＩＺＯとを順次積層・成膜して第二中間電極層６を形成した。このとき第二中間電極層６の膜厚を６５ｎｍ（Ａｇ層１５ｎｍ、ＩＺＯ層５０ｎｍ）とした。   Next, Ag and IZO were sequentially laminated and formed by vacuum deposition to form the second intermediate electrode layer 6. At this time, the film thickness of the second intermediate electrode layer 6 was set to 65 nm (Ag layer 15 nm, IZO layer 50 nm).

次に、抵抗加熱蒸着法により、第二中間電極層６上に、第三有機物化合物層７を形成した。この第三有機化合物層７は、正孔輸送層、発光層、電子輸送層及び電子注入層がこの順に形成されている積層体であり、また第三有機化合物層７に含まれる発光層は青色を発する発光層である。また第三有機化合物層７を構成する層はいずれも公知の有機材料からなる層である。   Next, a third organic compound layer 7 was formed on the second intermediate electrode layer 6 by resistance heating vapor deposition. The third organic compound layer 7 is a laminate in which a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer are formed in this order, and the light emitting layer included in the third organic compound layer 7 is blue. It is a light emitting layer which emits. All the layers constituting the third organic compound layer 7 are layers made of a known organic material.

次に、第一副画素１２及び第二副画素１３に相当する領域にレーザー光を部分的に照射することにより、第一副画素１２及び第二副画素１３にて形成されていた第三有機化合物層７を除去した。レーザー光の照射をする際には、波長２４８ｎｍのエキシマレーザー及びフォトマスクを用いた。このときレーザーパワーを調整することにより、第二中間電極層６にダメージを与えないようにした。また、第二中間電極層６を構成するＡｇ層の膜厚を調整してレーザー光の透過を抑制した。これにより、第一副画素１２に相当する領域に設けられている第一有機化合物層３及び第二副画素１３に相当する領域に設けられている第二有機化合物層５にレーザー光によるダメージが及ばないようにした。   Next, the third organic formed in the first subpixel 12 and the second subpixel 13 by partially irradiating a laser beam to the region corresponding to the first subpixel 12 and the second subpixel 13. The compound layer 7 was removed. When irradiating the laser beam, an excimer laser having a wavelength of 248 nm and a photomask were used. At this time, the second intermediate electrode layer 6 was not damaged by adjusting the laser power. Further, the transmission of the laser beam was suppressed by adjusting the film thickness of the Ag layer constituting the second intermediate electrode layer 6. Thereby, the first organic compound layer 3 provided in the region corresponding to the first subpixel 12 and the second organic compound layer 5 provided in the region corresponding to the second subpixel 13 are damaged by the laser beam. I tried not to reach.

次に、真空蒸着法により、ＡｇとＩＺＯとを順次積層・成膜して上部電極８を形成した。このとき上部電極８の膜厚を６５ｎｍ（Ａｇ層１５ｎｍ、ＩＺＯ層５０ｎｍ）とした。   Next, Ag and IZO were sequentially laminated and formed by vacuum deposition to form the upper electrode 8. At this time, the film thickness of the upper electrode 8 was set to 65 nm (Ag layer 15 nm, IZO layer 50 nm).

以上により有機ＥＬ表示装置を得た。ここで本実施例により有機ＥＬ表示装置を製造する際に、特に、有機化合物層（３，５，７）の除去工程において異物の発生が抑制されていることが確認されたため、電極層の表面にて発生する残渣の影響を抑制することができた。これによって、高い歩留で発光効率の高い有機ＥＬ表示装置を作製できることが確認された。   Thus, an organic EL display device was obtained. Here, when manufacturing the organic EL display device according to the present example, it was confirmed that the generation of foreign matters was suppressed particularly in the step of removing the organic compound layers (3, 5, 7). It was possible to suppress the influence of residues generated in As a result, it was confirmed that an organic EL display device with high yield and high luminous efficiency could be produced.

また本実施例では、電極層を構成し光反射性のＡｇ層の膜厚を調整することによって、レーザー光の透過を抑制した構成となっている。これによりレーザー光による有機化合物層の除去工程を行う際に、電極層の下方に設けられている有機化合物層へのダメージを抑制している点に特徴がある。これによって、本実施例によって作製される有機ＥＬ表示装置は、各副画素に各色の有機化合物層のみが形成されることとなる。   In this embodiment, the electrode layer is formed and the thickness of the light-reflective Ag layer is adjusted to suppress the transmission of laser light. Thereby, when performing the removal process of the organic compound layer by a laser beam, the characteristic is that the damage to the organic compound layer provided under the electrode layer is suppressed. Thus, in the organic EL display device manufactured according to the present embodiment, only the organic compound layer of each color is formed in each subpixel.

一方、実施例１によって作製される有機ＥＬ表示装置は、第一副画素１２及び第二副画素１３において複数の有機化合物が積層されている構造であるため、トップエミッションタイプの有機ＥＬ表示装置に適用すると光取り出し効率が低下する。他方、実施例２によって作製される有機ＥＬ表示装置は、このような問題がないため、トップエミッション構造ではより望ましい構造である。   On the other hand, the organic EL display device manufactured according to Example 1 has a structure in which a plurality of organic compounds are stacked in the first subpixel 12 and the second subpixel 13, and thus is a top emission type organic EL display device. When applied, the light extraction efficiency decreases. On the other hand, the organic EL display device manufactured according to Example 2 does not have such a problem, and is a more desirable structure in the top emission structure.

下部電極が形成された基板を示す断面概略図である。It is the cross-sectional schematic which shows the board | substrate with which the lower electrode was formed. 第一有機化合物層が形成された基板を示す断面概略図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the board | substrate with which the 1st organic compound layer was formed. 第一有機化合物層が部分的に除去された基板を示す断面概略図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the board | substrate from which the 1st organic compound layer was partially removed. 第一中間電極層が形成された基板を示す断面概略図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the board | substrate with which the 1st intermediate electrode layer was formed. 第二有機化合物層が形成された基板を示す断面概略図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the board | substrate with which the 2nd organic compound layer was formed. 第二有機化合物層が部分的に除去された基板を示す断面概略図である。It is the cross-sectional schematic which shows the board | substrate from which the 2nd organic compound layer was removed partially. 第二中間電極層が形成された基板を示す断面概略図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the board | substrate with which the 2nd intermediate electrode layer was formed. 第三有機化合物層が形成された基板を示す断面概略図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the board | substrate with which the 3rd organic compound layer was formed. 実施例１において作製された有機ＥＬ表示装置を示す断面概略図である。1 is a schematic cross-sectional view showing an organic EL display device manufactured in Example 1. FIG. 実施例２において作製された有機ＥＬ表示装置を示す断面概略図である。6 is a schematic cross-sectional view showing an organic EL display device fabricated in Example 2. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

１ 基板
２ 下部電極
３ 第一有機化合物層
４ 第一中間電極層
５ 第二有機化合物層
６ 第二中間電極層
７ 第三有機化合物層
８ 上部電極
９ 画素分離膜
１１ 画素
１２ 第一副画素
１３ 第二副画素
１４ 第三副画素 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Lower electrode 3 First organic compound layer 4 First intermediate electrode layer 5 Second organic compound layer 6 Second intermediate electrode layer 7 Third organic compound layer 8 Upper electrode 9 Pixel separation film 11 Pixel 12 First subpixel 13 Second subpixel 14 Third subpixel

Claims (6)

基板と、
該基板上に設けられる画素と、から構成され、
該画素が複数の副画素からなり、
該副画素が、少なくとも下部電極と、
第一中間電極層と、
上部電極と、
該下部電極と該第一中間電極層との間に設けられる第一有機化合物層及び該第一中間電極層と該上部電極との間に設けられる第二有機化合物層のいずれかと、を備える有機ＥＬ表示装置の製造方法において、
以下に示す工程（Ａ）〜（Ｅ）が含まれることを特徴とする、有機ＥＬ表示装置の製造方法。
（Ａ）下部電極の形成工程
（Ｂ）第一有機化合物層の形成工程
（Ｃ）レーザー光を使用して第一有機化合物層を副画素単位で部分的に除去する工程
（Ｄ）第一中間電極層の形成工程
（Ｅ）第二有機化合物層の形成工程 A substrate,
A pixel provided on the substrate,
The pixel comprises a plurality of sub-pixels;
The subpixel comprises at least a lower electrode;
A first intermediate electrode layer;
An upper electrode;
One of a first organic compound layer provided between the lower electrode and the first intermediate electrode layer and a second organic compound layer provided between the first intermediate electrode layer and the upper electrode. In a method for manufacturing an EL display device,
The manufacturing method of the organic electroluminescence display characterized by including the process (A)-(E) shown below.
(A) Lower electrode forming step (B) First organic compound layer forming step (C) Step of partially removing the first organic compound layer in sub-pixel units using laser light (D) First intermediate Step of forming electrode layer (E) Step of forming second organic compound layer さらに前記第二有機化合物層と前記上部電極との間に第二中間電極層と第三有機化合物層とがこの順に設けられ、前記工程（Ｅ）の後の工程として以下に示す工程（Ｆ）〜（Ｈ）が含まれることを特徴とする、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
（Ｆ）レーザー光を使用して第二有機化合物層を副画素単位で部分的に除去する工程
（Ｇ）第二中間電極層の形成工程
（Ｈ）第三有機化合物層の形成工程 Furthermore, a second intermediate electrode layer and a third organic compound layer are provided in this order between the second organic compound layer and the upper electrode, and the step (F) shown below as a step after the step (E) (H) is contained, The manufacturing method of the organic electroluminescent display apparatus of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
(F) The process of removing a 2nd organic compound layer partially in a subpixel unit using a laser beam (G) The formation process of a 2nd intermediate electrode layer (H) The formation process of a 3rd organic compound layer 前記下部電極が副画素単位で区画されており、
前記工程（Ｃ）において第一副画素として指定した副画素以外の副画素に設けられている前記第一有機化合物層を除去することを特徴とする、請求項１又は２に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。 The lower electrode is partitioned in sub-pixel units;
The organic EL display according to claim 1, wherein the first organic compound layer provided in a subpixel other than the subpixel designated as the first subpixel in the step (C) is removed. Device manufacturing method. 前記工程（Ｆ）において少なくとも前記第一副画素に設けられている前記第二有機化合物層を除去することを特徴とする、請求項３に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。   4. The method of manufacturing an organic EL display device according to claim 3, wherein at least the second organic compound layer provided in the first subpixel is removed in the step (F). 前記第一有機化合物層に含まれる第一発光層と、前記第二有機化合物層に含まれる第二発光層と、前記第三有機化合物層に含まれる第三発光層と、からそれぞれ発する光の色が異なることを特徴とする、請求項１乃至４に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。   Light emitted from the first light-emitting layer included in the first organic compound layer, the second light-emitting layer included in the second organic compound layer, and the third light-emitting layer included in the third organic compound layer, respectively. The method of manufacturing an organic EL display device according to claim 1, wherein the colors are different. 前記第一中間電極層及び前記第二中間電極層のうちいずれかが少なくとも金属層を有する層であることを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。   6. The organic EL display device according to claim 1, wherein one of the first intermediate electrode layer and the second intermediate electrode layer is a layer having at least a metal layer. Production method.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2014523106A (en) * 2011-08-08 2014-09-08 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド Thin film structures and devices with integrated light and heat shielding layers for laser patterning
CN111883633A (en) * 2020-07-03 2020-11-03 深圳市思坦科技有限公司 Manufacturing method of display module and display screen

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014523106A (en) * 2011-08-08 2014-09-08 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド Thin film structures and devices with integrated light and heat shielding layers for laser patterning
JP2018073839A (en) * 2011-08-08 2018-05-10 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ Thin film structures and devices with integrated light and heat blocking layers for laser patterning
CN111883633A (en) * 2020-07-03 2020-11-03 深圳市思坦科技有限公司 Manufacturing method of display module and display screen
CN111883633B (en) * 2020-07-03 2021-10-01 深圳市思坦科技有限公司 Manufacturing method of display module and display screen

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