JP2010080268A - Organic el device and electronic equipment - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL device and electronic equipment in which there is no variation in transmissivity in pixels, and which is superior in optical characteristics. <P>SOLUTION: The organic EL device has a plurality of light-emitting regions 16, and includes a substrate 32, barrier ribs formed at least at one part of regions except the plurality of light-emitting regions 16 out of one face of the substrate 32 and formed so as to surround the plurality of respective light-emitting regions 16, functional layers 48 which are arranged at openings 29 surrounded by the barrier ribs and in which at least one part of a surface is formed to be inclined toward a flat face in parallel with the substrate 32, and light-emitting layers 42 which are arranged on the functional layers 48 and have surfaces nearly in parallel with the surfaces of the functional layers 48. The barrier ribs have a first part 54a and a second part 54b, and the first part 54a has a plurality of different film thicknesses in the substrate 32 faces. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機ＥＬ装置及び電子機器に関するものである。   The present invention relates to an organic EL device and an electronic apparatus.

従来から、有機材料で構成された発光層が一対の電極間に介在し、一対の電極間に電圧を印加することによって発光層を発光させることができる有機ＥＬ（Electro Luminescence）素子が知られている。そして、複数の有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ装置が、画像を表示する表示装置として利用されてきている。
このような有機ＥＬ装置では、発光層の形成材料を含む液状体を液滴吐出法で基板上に配置してから、液状体に乾燥処理を施すことによって、各有機ＥＬ素子の発光層を形成する方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。 Conventionally, there has been known an organic EL (Electro Luminescence) element in which a light emitting layer made of an organic material is interposed between a pair of electrodes, and the light emitting layer can emit light by applying a voltage between the pair of electrodes. Yes. An organic EL device having a plurality of organic EL elements has been used as a display device for displaying an image.
In such an organic EL device, a liquid material containing a light emitting layer forming material is placed on a substrate by a droplet discharge method, and then the liquid material is dried to form a light emitting layer of each organic EL element. There is a known method (see, for example, Patent Document 1).

特開２００６−１２７６２号公報JP 2006-12762 A

ところで、有機ＥＬ素子において、液滴吐出法等の塗布法で形成した発光層では、断面の形状が、基板側に向かって凹となる凹状や、基板とは反対側に向かって凸となる凸状になることがある。断面の形状が凹状や凸状になっていると、発光層には、厚みが厚い部分と薄い部分とを有する膜厚分布が生じることがある。発光層に厚みが厚い部分と薄い部分とがあると、厚い部分と薄い部分との間で輝度に差異が生じやすい。   By the way, in the organic EL element, in the light emitting layer formed by a coating method such as a droplet discharge method, the cross-sectional shape is a concave shape that is concave toward the substrate side, or a convex shape that is convex toward the opposite side of the substrate. May form. When the cross-sectional shape is concave or convex, the light emitting layer may have a film thickness distribution having a thick part and a thin part. If the light emitting layer has a thick portion and a thin portion, a difference in luminance tends to occur between the thick portion and the thin portion.

つまり、従来の有機ＥＬ素子では、輝度ムラを軽減することが困難であるという未解決の問題がある。図１３（Ａ）〜（Ｃ）はこの様子を示す有機ＥＬ素子の断面図である。液滴吐出法においては、ガラス基板３２及び隔壁５４が形作る凹部に発光材料を含む機能液を吐出し、これを乾燥させて発光層４２を形成するが、この際の隔壁５４の高さ、機能液の体積、乾燥の速さ等のパラメータによっては、発光層４２の表面が凸状（図１３（Ａ））、凹状（図１３（Ｂ））、若しくは凹凸状（図１３（Ｃ））を呈して形成される。こうした場合には、発光層の厚さのばらつきに起因して光学特性が低下してしまうという問題点があった。
先の特許文献１では、第１の隔壁の第２の隔壁からの突き出し幅を変えることにより、インクの性質の違いの違いによる膜形状の変化に対応するとする内容となっているが、様々なインクに対応するには問題がある。 That is, the conventional organic EL element has an unsolved problem that it is difficult to reduce luminance unevenness. 13A to 13C are cross-sectional views of the organic EL element showing this state. In the droplet discharge method, a functional liquid containing a light emitting material is discharged into a recess formed by the glass substrate 32 and the partition wall 54 and dried to form the light emitting layer 42. The height and function of the partition wall 54 at this time Depending on parameters such as the volume of the liquid and the speed of drying, the surface of the light emitting layer 42 may be convex (FIG. 13A), concave (FIG. 13B), or uneven (FIG. 13C). Presented and formed. In such a case, there is a problem that the optical characteristics are deteriorated due to variations in the thickness of the light emitting layer.
In the above-mentioned Patent Document 1, the protrusion width of the first partition wall from the second partition wall is changed to cope with the change in the film shape due to the difference in ink properties. There is a problem with dealing with ink.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

［適用例１］複数の発光領域を有する有機ＥＬ装置であって、基板と、前記基板の一方の面のうち前記複数の発光領域を除いた領域の少なくとも一部に形成されると共に、前記複数の発光領域のそれぞれを取り囲むように形成される隔壁と、前記隔壁に囲まれた開口部に配置され、表面の少なくとも一部が前記基板に並行な平面に対して傾斜して形成される機能層と、前記機能層上に配置され、前記機能層の表面に略並行な表面を有する発光層と、を含み、前記隔壁は、第１部分と第２部分とを有し、前記第１部分は、前記基板面内において、複数の異なる膜厚を有することを特徴とする有機ＥＬ装置。   Application Example 1 An organic EL device having a plurality of light emitting regions, which is formed on at least a part of a substrate and one of the surfaces of the substrate excluding the plurality of light emitting regions. Barrier ribs formed so as to surround each of the light emitting regions, and a functional layer that is disposed in an opening surrounded by the barrier ribs and at least a part of the surface is inclined with respect to a plane parallel to the substrate And a light emitting layer disposed on the functional layer and having a surface substantially parallel to the surface of the functional layer, wherein the partition wall has a first portion and a second portion, and the first portion is An organic EL device having a plurality of different film thicknesses in the substrate surface.

これによれば、発光層の表面が表面エネルギーのバランスによって凸状や凹状、或いは凹凸状を呈していたとしても、当該発光層の基板側に形成された機能層もこれと同様の表面形状を有している結果、発光層の表面は平坦化或いは発光層の厚さは各発光領域内で略均一となる。このため、発光領域内における透過率にばらつきのない、良好な光学特性の有機ＥＬ装置が得られる。ここで「基板上」とは、基板の表面のみを指す概念ではなく、例えば基板と機能層との間に他の薄膜等の構成要素が形成されていてもよい。又、本稿において「基板に並行な平面」とは、「基板の面を巨視的に見たときの平面に並行な平面」の意であり、基板表面に細かな凹凸等が施されていたとしてもこれらは勘案しない。   According to this, even if the surface of the light emitting layer has a convex shape, a concave shape, or an uneven shape due to the balance of surface energy, the functional layer formed on the substrate side of the light emitting layer has the same surface shape as this. As a result, the surface of the light emitting layer is flattened or the thickness of the light emitting layer is substantially uniform in each light emitting region. For this reason, an organic EL device having good optical characteristics with no variation in transmittance in the light emitting region can be obtained. Here, “on the substrate” is not a concept indicating only the surface of the substrate, and other components such as other thin films may be formed between the substrate and the functional layer, for example. In addition, in this paper, “a plane parallel to the substrate” means “a plane parallel to the plane when the surface of the substrate is viewed macroscopically”, and it is assumed that fine irregularities are provided on the substrate surface. But these are not taken into account.

［適用例２］上記有機ＥＬ装置であって、前記第１部分は、特性の異なる複数層で構成され、前記基板面内において、複数の異なる層数を有することを特徴とする有機ＥＬ装置。   Application Example 2 In the above organic EL device, the first portion is composed of a plurality of layers having different characteristics, and has a plurality of different numbers of layers in the substrate surface.

これによれば、発光層の表面が表面エネルギーのバランスによって凸状や凹状、或いは凹凸状を呈していたとしても、当該発光層が形成される機能層表面もこれと同様の形状を有するように制御し易くなる結果、発光層の厚さは各発光領域内で略均一となる。このため、発光領域内における透過率にばらつきのない、良好な光学特性の有機ＥＬ装置が得られる。   According to this, even if the surface of the light emitting layer has a convex shape, a concave shape, or an uneven shape due to the balance of the surface energy, the functional layer surface on which the light emitting layer is formed has the same shape as this. As a result of being easily controlled, the thickness of the light emitting layer is substantially uniform within each light emitting region. For this reason, an organic EL device having good optical characteristics with no variation in transmittance in the light emitting region can be obtained.

［適用例３］上記有機ＥＬ装置であって、前記機能層は、前記基板面内において、複数の異なる前記傾斜面を有することを特徴とする有機ＥＬ装置。   Application Example 3 In the organic EL device, the functional layer includes a plurality of different inclined surfaces in the substrate surface.

これによれば、発光層の表面が表面エネルギーのバランスによって凸状や凹状、或いは凹凸状を呈していたとしても、当該発光層が形成される基板表面もこれと同様の形状を有している結果、発光層の膜厚は各発光領域内で略均一となる。このため、発光領域内における透過率にばらつきのない、良好な光学特性の有機ＥＬ装置が得られる。   According to this, even if the surface of the light emitting layer has a convex shape, a concave shape, or an uneven shape due to the balance of surface energy, the substrate surface on which the light emitting layer is formed has the same shape as this. As a result, the film thickness of the light emitting layer is substantially uniform within each light emitting region. For this reason, an organic EL device having good optical characteristics with no variation in transmittance in the light emitting region can be obtained.

［適用例４］上記有機ＥＬ装置であって、前記傾斜面は、前記発光領域の中央部近傍を頂点とする凸状に湾曲して形成されていることを特徴とする有機ＥＬ装置。   Application Example 4 In the above organic EL device, the inclined surface is formed to be curved in a convex shape having a vertex near the center of the light emitting region.

これによれば、発光層の表面が凸状となりやすい条件において製造された有機ＥＬ装置であっても、当該発光層の膜厚を各発光領域内で略均一にすることができる。上記条件は、隔壁の高さ、発光層の体積、発光層形成時の乾燥の速さ等のパラメータに依存する条件である。   According to this, even if the organic EL device is manufactured under conditions where the surface of the light emitting layer tends to be convex, the film thickness of the light emitting layer can be made substantially uniform in each light emitting region. The above conditions depend on parameters such as the height of the partition walls, the volume of the light emitting layer, and the drying speed when forming the light emitting layer.

［適用例５］上記有機ＥＬ装置であって、前記傾斜面は、前記発光領域の中央部近傍を底部とする凹状に湾曲して形成されていることを特徴とする有機ＥＬ装置。   Application Example 5 In the organic EL device described above, the inclined surface is formed in a concave shape with the vicinity of the central portion of the light emitting region as a bottom.

これによれば、発光層の表面が凹状となりやすい条件において製造された有機ＥＬ装置であっても、予め機能層によって凹部の底部が凹状となっているため、当該発光層の膜厚を各発光領域内で略均一にすることができる。上記条件は、隔壁の高さ、発光層の体積、発光層形成時の乾燥の速さ等のパラメータに依存する条件である。   According to this, even in the organic EL device manufactured under the condition that the surface of the light emitting layer tends to be concave, the bottom of the concave portion is concaved by the functional layer in advance, so that the thickness of the light emitting layer is set to each light emitting layer. It can be made substantially uniform within the region. The above conditions depend on parameters such as the height of the partition walls, the volume of the light emitting layer, and the drying speed when forming the light emitting layer.

［適用例６］上記有機ＥＬ装置であって、前記傾斜面は、平坦に形成されていることを特徴とする有機ＥＬ装置。   Application Example 6 In the organic EL device, the inclined surface is formed flat.

これによれば、発光層の表面が平坦となりやすい条件において製造された有機ＥＬ装置であっても、予め機能層によって凹部の底部が平坦となっているため、当該発光層の膜厚を各画素内で略均一にすることができる。上記条件は、隔壁の高さ、発光層の体積、発光層形成時の乾燥の速さ等のパラメータに依存する条件である。   According to this, even in the organic EL device manufactured under the condition that the surface of the light emitting layer is likely to be flat, the bottom of the concave portion is flattened by the functional layer in advance, so that the film thickness of the light emitting layer is set to each pixel. Can be made substantially uniform. The above conditions depend on parameters such as the height of the partition walls, the volume of the light emitting layer, and the drying speed when forming the light emitting layer.

［適用例７］上記有機ＥＬ装置であって、前記傾斜面は、前記発光層の分子量により異なることを特徴とする有機ＥＬ装置。   Application Example 7 In the organic EL device described above, the inclined surface is different depending on the molecular weight of the light emitting layer.

これによれば、発光層の表面が表面エネルギーのバランスによって凸状や凹状、或いは凹凸状を呈していたとしても、当該発光層が形成される基板表面もこれと同様の形状を有している結果、発光層の膜厚は各発光領域内で略均一となる。このため、発光領域内における透過率にばらつきのない、良好な光学特性の有機ＥＬ装置が得られる。   According to this, even if the surface of the light emitting layer has a convex shape, a concave shape, or an uneven shape due to the balance of surface energy, the substrate surface on which the light emitting layer is formed has the same shape as this. As a result, the film thickness of the light emitting layer is substantially uniform within each light emitting region. For this reason, an organic EL device having good optical characteristics with no variation in transmittance in the light emitting region can be obtained.

［適用例８］上記有機ＥＬ装置であって、前記傾斜面は、前記基板の中央部近傍と周辺部近傍とで異なることを特徴とする有機ＥＬ装置。   Application Example 8 In the organic EL device, the inclined surface is different between the vicinity of the central portion and the vicinity of the peripheral portion of the substrate.

これによれば、発光層の表面が表面エネルギーのバランスによって凸状や凹状、或いは凹凸状を呈していたとしても、当該発光層が形成される基板表面もこれと同様の形状を有している結果、発光層の膜厚は各発光領域内で略均一となる。このため、発光領域内における透過率にばらつきのない、良好な光学特性の有機ＥＬ装置が得られる。   According to this, even if the surface of the light emitting layer has a convex shape, a concave shape, or an uneven shape due to the balance of surface energy, the substrate surface on which the light emitting layer is formed has the same shape as this. As a result, the film thickness of the light emitting layer is substantially uniform within each light emitting region. For this reason, an organic EL device having good optical characteristics with no variation in transmittance in the light emitting region can be obtained.

［適用例９］上記有機ＥＬ装置であって、各前記発光領域及び該発光領域に配置される前記発光層は、３種又は４種以上の異なる色のいずれかに対応することを特徴とする有機ＥＬ装置。   Application Example 9 In the organic EL device, each of the light emitting regions and the light emitting layer disposed in the light emitting region corresponds to one of three or four or more different colors. Organic EL device.

これによれば、発光層の表面が表面エネルギーのバランスによって凸状や凹状、或いは凹凸状を呈していたとしても、当該発光層が形成される基板表面もこれと同様の形状を有している結果、発光層の膜厚は各発光領域内で略均一となる。このため、発光領域内における透過率にばらつきのない、良好な光学特性の有機ＥＬ装置が得られる。   According to this, even if the surface of the light emitting layer has a convex shape, a concave shape, or an uneven shape due to the balance of surface energy, the substrate surface on which the light emitting layer is formed has the same shape as this. As a result, the film thickness of the light emitting layer is substantially uniform within each light emitting region. For this reason, an organic EL device having good optical characteristics with no variation in transmittance in the light emitting region can be obtained.

［適用例１０］上記のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置を備えることを特徴とする電子機器。   Application Example 10 An electronic apparatus comprising the organic EL device according to any one of the above.

これによれば、上記有機ＥＬ装置を表示部に備えることにより、当該表示部において高品位な表示を行うことができる。   According to this, by providing the display unit with the organic EL device, high-quality display can be performed on the display unit.

以下、図面を参照し、有機ＥＬ装置の実施形態について説明する。尚、各実施形態で参照する図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせて表示している。   Hereinafter, an embodiment of an organic EL device will be described with reference to the drawings. In the drawings referred to in each embodiment, each layer and each member are displayed in different scales so that each layer and each member have a size that can be recognized on the drawing.

（第１の実施形態）
（有機ＥＬ装置の構成）
以下、有機ＥＬ素子を含む、有機ＥＬ装置の構成について、図面を参照して説明する。
図１は、本実施形態に係る有機ＥＬ装置２の配線構造を示す模式図である。本実施形態に係る有機ＥＬ装置２は、スイッチング素子として薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor、以下ＴＦＴと称する）を用いたアクティブマトリクス方式のものである。有機ＥＬ装置２は、複数の走査線１０と、各走査線１０に対して直角に交差する方向に延びる複数の信号線１２と、各信号線１２に並列に延びる複数の電源線１４とからなる配線構成を有すると共に、走査線１０及び信号線１２の各交点付近に、発光領域としての画素１６が設けられている。 (First embodiment)
(Configuration of organic EL device)
Hereinafter, the configuration of an organic EL device including an organic EL element will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic diagram showing a wiring structure of an organic EL device 2 according to this embodiment. The organic EL device 2 according to this embodiment is of an active matrix type using a thin film transistor (hereinafter referred to as TFT) as a switching element. The organic EL device 2 includes a plurality of scanning lines 10, a plurality of signal lines 12 extending in a direction perpendicular to each scanning line 10, and a plurality of power supply lines 14 extending in parallel to each signal line 12. A pixel 16 as a light emitting region is provided in the vicinity of each intersection of the scanning line 10 and the signal line 12 while having a wiring configuration.

信号線１２には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを備えるデータ線駆動回路１８が接続されている。又、走査線１０には、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査線駆動回路２０が接続されている。   A data line driving circuit 18 including a shift register, a level shifter, a video line, and an analog switch is connected to the signal line 12. Further, a scanning line driving circuit 20 including a shift register and a level shifter is connected to the scanning line 10.

画素１６の各々には、走査線１０を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用のＴＦＴ２２と、このスイッチング用のＴＦＴ２２を介して信号線１２とを共有してなる、画素信号を保持する保持容量２４が設けられている。   Each of the pixels 16 holds a pixel signal that is formed by sharing the switching TFT 22 to which the scanning signal is supplied to the gate electrode via the scanning line 10 and the signal line 12 via the switching TFT 22. A holding capacitor 24 is provided.

そして、保持容量２４によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用のＴＦＴ２６と、ＴＦＴ２６を介して電源線１４に電気的に接続した際に当該電源線１４から駆動電流が与えられる陽極２８と向き合う位置にある陰極３０と、を含む有機ＥＬ素子６が設けられている。   A driving TFT 26 to which the pixel signal held by the holding capacitor 24 is supplied to the gate electrode, and an anode to which a driving current is given from the power line 14 when the pixel signal is electrically connected to the power line 14 through the TFT 26. An organic EL element 6 including a cathode 30 located at a position facing 28 is provided.

走査線１０が駆動されてスイッチング用のＴＦＴ２２がオンになると、そのときの信号線１２の電位が保持容量２４に保持され、該保持容量２４の状態に応じて駆動用のＴＦＴ２６のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用のＴＦＴ２６のチャネルを介して、電源線１４から陽極２８に電流が流れ、更に有機ＥＬ素子６を介して陰極３０に電流が流れる。有機ＥＬ素子６では、流れる電流量に応じて発光が生じる。   When the scanning line 10 is driven to turn on the switching TFT 22, the potential of the signal line 12 at that time is held in the holding capacitor 24, and the driving TFT 26 is turned on / off according to the state of the holding capacitor 24. Is decided. A current flows from the power supply line 14 to the anode 28 via the channel of the driving TFT 26, and further a current flows to the cathode 30 via the organic EL element 6. The organic EL element 6 emits light according to the amount of current flowing.

図２は、本実施形態に係る有機発光層を有する有機ＥＬ素子６を集積した有機ＥＬ装置２の平面図である。基板３２の実表示領域３４には、有機ＥＬ素子６がデルタ配列でマトリクス状に配置されている。デルタ配列を用いることで単位面積当りの実装密度を向上させることが可能となる。尚、ストライプ配列でマトリクス状に配置されていてもよい。基板３２は、例えばガラス等の透明基板である。有機ＥＬ素子６は、所謂ボトムエミッション型の構造を有している。ここで、基板３２は、例えばＴＦＴ２２，２６（図１参照）を含んでいる。有機ＥＬ装置２はインターフェース３６を介して外部回路（図示せず）と接続される。   FIG. 2 is a plan view of the organic EL device 2 in which the organic EL elements 6 having the organic light emitting layers according to the present embodiment are integrated. In the actual display area 34 of the substrate 32, the organic EL elements 6 are arranged in a matrix with a delta arrangement. By using the delta arrangement, the mounting density per unit area can be improved. In addition, it may be arranged in a matrix with a stripe arrangement. The substrate 32 is a transparent substrate such as glass. The organic EL element 6 has a so-called bottom emission type structure. Here, the substrate 32 includes, for example, TFTs 22 and 26 (see FIG. 1). The organic EL device 2 is connected to an external circuit (not shown) via the interface 36.

尚、本実施形態において画素部１６は、中央部分の実表示領域３４（図中二点鎖線枠内）と、実表示領域３４の周囲に配置されたダミー領域３８（一点鎖線及び二点鎖線の間の領域）とに区画されている。そして、実表示領域３４の図２中両側には、走査線駆動回路２０が配置されている。この走査線駆動回路２０は、ダミー領域３８の下層側に位置して設けられている。   In the present embodiment, the pixel unit 16 includes a center real display area 34 (within a two-dot chain line in the drawing) and a dummy area 38 (one-dot chain line and two-dot chain line) arranged around the real display area 34. Between the two areas). The scanning line driving circuit 20 is disposed on both sides of the actual display area 34 in FIG. The scanning line driving circuit 20 is provided on the lower layer side of the dummy region 38.

又、実表示領域３４の図２中上方側には検査回路４０が配置されている。この検査回路４０は、有機ＥＬ装置２の作動状況を検査するための回路であって、例えば検査結果を外部に出力する検査情報出力手段（図示せず）を備え、製造途中や出荷時における有機ＥＬパネルの品質、欠陥の検査を行うことができるように構成されている。   An inspection circuit 40 is disposed above the actual display area 34 in FIG. This inspection circuit 40 is a circuit for inspecting the operating state of the organic EL device 2 and includes, for example, inspection information output means (not shown) for outputting the inspection result to the outside, and is organic during production or at the time of shipment. It is configured so that the quality and defect inspection of the EL panel can be performed.

（有機ＥＬ素子の構成）
以下、有機ＥＬ素子の構成について説明する。
図９（Ｃ）は、図２における有機ＥＬ素子６のIX−IX’線断面図で、発光層としての有機発光層４２Ｒ，４２Ｇ，４２Ｂを含む平面で切断したときの断面図である。有機ＥＬ素子６は、基板としてのガラス基板３２、層間絶縁層４４、陽極２８、正孔注入層４８、正孔輸送層５０、有機発光層４２、電子注入層５２、陰極３０、隔壁５４と、を含む。各有機発光層４２は、ガラス基板３２と隔壁５４とが形作る凹部に配置されている。 (Configuration of organic EL element)
Hereinafter, the configuration of the organic EL element will be described.
9C is a cross-sectional view taken along the line IX-IX ′ of the organic EL element 6 in FIG. 2, and is a cross-sectional view taken along a plane including the organic light emitting layers 42R, 42G, and 42B as light emitting layers. The organic EL element 6 includes a glass substrate 32 as a substrate, an interlayer insulating layer 44, an anode 28, a hole injection layer 48, a hole transport layer 50, an organic light emitting layer 42, an electron injection layer 52, a cathode 30, a partition wall 54, including. Each organic light emitting layer 42 is disposed in a recess formed by the glass substrate 32 and the partition wall 54.

層間絶縁層４４は、ＴＦＴ等（図示せず）が形成されたガラス基板３２を覆うように配置され、ガラス基板３２と電気的に絶縁を保つよう配置されている。構成材としては、例えば窒化珪素や酸化珪素、窒化酸化珪素により構成され、例えば２００ｎｍ程度の厚さを有している。   The interlayer insulating layer 44 is disposed so as to cover the glass substrate 32 on which a TFT or the like (not shown) is formed, and is disposed so as to be electrically insulated from the glass substrate 32. The constituent material is made of, for example, silicon nitride, silicon oxide, or silicon nitride oxide, and has a thickness of about 200 nm, for example.

陽極２８は、ＩＴＯ（インジウム・錫・酸化物）により構成され、５０ｎｍ程度の厚さで形成されている。陽極２８は、電流を供給し、光を透過させる透明電極として機能している。   The anode 28 is made of ITO (indium / tin / oxide) and has a thickness of about 50 nm. The anode 28 functions as a transparent electrode that supplies current and transmits light.

正孔注入層４８は、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを用いて形成されている。膜厚は４０ｎｍ程度であり、正孔注入層４８を通過する電流成分を、正孔が支配的となるよう変換している。正孔注入層４８の表面の形状は、隔壁５４の第１部分５４ａの突出部５４ｃの膜厚により、凹状、凸状或いは平坦に形成されている。
正孔注入層４８は、隔壁５４によって区画された画素１６の中央部近傍を頂点とする凸状に湾曲して形成されている表面を有している。換言すれば、正孔注入層４８の膜厚は、画素１６の中央部近傍においてもっとも厚く、隔壁５４に近付くにつれて薄くなっている。又、正孔注入層４８は、隔壁５４によって区画された平坦に形成されている表面を有する。更に、正孔注入層４８は、隔壁５４によって区画された画素１６の中央部近傍を底部とする凹状に湾曲して形成されている表面を有する。換言すれば、正孔注入層４８の膜厚は、画素１６の中央部近傍においてもっとも薄く、隔壁５４に近付くにつれて厚くなっている。 The hole injection layer 48 is formed using PEDOT / PSS. The film thickness is about 40 nm, and the current component passing through the hole injection layer 48 is converted so that holes are dominant. The shape of the surface of the hole injection layer 48 is formed in a concave shape, a convex shape, or a flat shape depending on the film thickness of the protruding portion 54 c of the first portion 54 a of the partition wall 54.
The hole injection layer 48 has a surface that is curved in a convex shape with the vicinity of the center of the pixel 16 partitioned by the partition wall 54 as a vertex. In other words, the film thickness of the hole injection layer 48 is the thickest in the vicinity of the central portion of the pixel 16 and becomes thinner as the partition wall 54 is approached. The hole injection layer 48 has a flat surface defined by the partition walls 54. Furthermore, the hole injection layer 48 has a surface that is curved in a concave shape with the vicinity of the center of the pixel 16 defined by the partition wall 54 as the bottom. In other words, the thickness of the hole injection layer 48 is the thinnest in the vicinity of the central portion of the pixel 16 and increases as it approaches the partition wall 54.

正孔輸送層５０は、注入された正孔を有機発光層４２に伝達すべく配置されている。正孔輸送層５０は、芳香族アミン系ポリマーを用いて構成され、１０ｎｍ程度の厚さを有している。正孔輸送層５０の表面の形状は、正孔注入層４８の表面の形状により、凹状、凸状或いは平坦に形成されている。   The hole transport layer 50 is arranged to transmit the injected holes to the organic light emitting layer 42. The hole transport layer 50 is configured using an aromatic amine polymer and has a thickness of about 10 nm. The shape of the surface of the hole transport layer 50 is formed in a concave shape, a convex shape or a flat shape depending on the shape of the surface of the hole injection layer 48.

有機発光層４２は、正孔注入層４８により輸送された正孔と、後述する電子注入層５２より注入された電子とを再結合させることで発光させる機能を有している。有機発光層４２は、ＲＧＢ各色に対応するポリオレフィン系ポリマーを用いて構成され、１００ｎｍ程度の厚さを有している。有機発光層４２は、赤色有機発光層４２Ｒ、緑色有機発光層４２Ｇ、及び青色有機発光層４２Ｂの３種類を有し、図２に示すように、各有機発光層４２がデルタ配置されている。   The organic light emitting layer 42 has a function of emitting light by recombining holes transported by the hole injection layer 48 and electrons injected from the electron injection layer 52 described later. The organic light emitting layer 42 is configured using a polyolefin-based polymer corresponding to each color of RGB and has a thickness of about 100 nm. The organic light emitting layer 42 has three types of a red organic light emitting layer 42R, a green organic light emitting layer 42G, and a blue organic light emitting layer 42B, and each organic light emitting layer 42 is delta-arranged as shown in FIG.

赤色有機発光層４２Ｒは、正孔輸送層５０の凹状の表面に略並行な凹状に湾曲して形成されている表面を有している。又、緑色有機発光層４２Ｇは、正孔輸送層５０の平坦な表面に略並行な平坦に形成されている表面を有している。又、青色有機発光層４２Ｂでは、正孔輸送層５０の凸状の表面に略並行な凸状に湾曲して形成されている表面を有している。   The red organic light emitting layer 42 </ b> R has a surface that is formed by curving into a concave shape substantially parallel to the concave surface of the hole transport layer 50. The green organic light emitting layer 42 </ b> G has a flat surface that is substantially parallel to the flat surface of the hole transport layer 50. Further, the blue organic light emitting layer 42B has a surface that is curved in a convex shape substantially parallel to the convex surface of the hole transport layer 50.

一方、有機発光層４２の表面は、正孔注入層４８の表面と略並行となっている。つまり、有機発光層４２の表面形状は、正孔注入層４８の表面形状と略同一であり、隔壁５４によって区画された画素１６の中央部近傍を底部とする凹状、凸状及び平坦な表面を有する。このため、有機発光層４２の膜厚は、画素１６内のどの地点においても略均一となっている。   On the other hand, the surface of the organic light emitting layer 42 is substantially parallel to the surface of the hole injection layer 48. That is, the surface shape of the organic light emitting layer 42 is substantially the same as the surface shape of the hole injection layer 48, and has a concave, convex, and flat surface with the vicinity of the center of the pixel 16 partitioned by the partition wall 54 as the bottom. Have. For this reason, the film thickness of the organic light emitting layer 42 is substantially uniform at any point in the pixel 16.

ここで、有機ＥＬ素子６は、基板３２上に膜厚の均一な有機発光層４２が直接形成された有機ＥＬ素子と同等の光学特性を有することとなる。即ち、上記構成の有機ＥＬ素子６によれば、画素１６内における透過率にばらつきがないため、光抜けや色濃度のばらつきが生じず、良好な光学特性が実現される。   Here, the organic EL element 6 has optical characteristics equivalent to those of the organic EL element in which the organic light emitting layer 42 having a uniform film thickness is directly formed on the substrate 32. That is, according to the organic EL element 6 having the above-described configuration, there is no variation in the transmittance within the pixel 16, so that no light leakage or color density variation occurs, and good optical characteristics are realized.

電子注入層５２は、例えばカルシウムを用いて構成されており、膜厚は５ｎｍ程度である。電子注入層５２は、電子注入層５２を通過する電流を、電子電流が支配的になるよう変換し、上記した有機発光層４２に電子を供給する機能を有している。   The electron injection layer 52 is made of, for example, calcium and has a thickness of about 5 nm. The electron injection layer 52 has a function of converting a current passing through the electron injection layer 52 so that the electron current becomes dominant and supplying electrons to the organic light emitting layer 42 described above.

陰極３０は膜厚３００ｎｍ程度のアルミニウム層により形成され、陽極２８と協働して、有機発光層４２に電流を供給している。   The cathode 30 is formed of an aluminum layer having a thickness of about 300 nm, and supplies current to the organic light emitting layer 42 in cooperation with the anode 28.

次に、隔壁５４構造について説明する。
図３は、本実施形態に係る有機ＥＬ装置の隔壁を示す断面図である。尚、有機発光層４２より上層は省略してある。隔壁５４は、図３に示すように、ガラス基板３２側に位置する第１部分５４ａと、ガラス基板３２から離れて位置する第２部分５４ｂとが積層された構成を備えている。第１部分５４ａは、無機材料として酸化珪素、窒化珪素、又は窒化酸化珪素のいずれか、又はこれらの積層構造を含む材質を用いてもよい。この場合、プロセス温度を上げることが可能となり、４００〜５００℃程度の加熱プロセスを用いることが可能となる。加えて、これらの材質は半導体プロセスでの使用実績があるため、予期せぬ汚染の発生を予め避けることが可能となる。尚、汚染等の可能性が確認できている場合、他の無機材料（例えばアルミナ等）を用いることも可能である。
又、第２部分５４ｂは、有機材料としてポリアクリルやポリイミドを用いてもよい。この場合、無機材料（例えば酸化珪素）と比べヤング率は１０倍程度小さくなるため、有機発光層４２等に与える応力を抑え、より高い信頼性を得ることが可能となる。 Next, the structure of the partition wall 54 will be described.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a partition wall of the organic EL device according to this embodiment. Note that layers above the organic light emitting layer 42 are omitted. As shown in FIG. 3, the partition wall 54 has a configuration in which a first portion 54 a located on the glass substrate 32 side and a second portion 54 b located away from the glass substrate 32 are laminated. For the first portion 54a, any one of silicon oxide, silicon nitride, silicon nitride oxide, or a material including a stacked structure thereof may be used as the inorganic material. In this case, the process temperature can be increased, and a heating process of about 400 to 500 ° C. can be used. In addition, since these materials have been used in semiconductor processes, the occurrence of unexpected contamination can be avoided in advance. In addition, when the possibility of contamination etc. has been confirmed, other inorganic materials (for example, alumina etc.) can also be used.
The second portion 54b may use polyacryl or polyimide as an organic material. In this case, since the Young's modulus is about 10 times smaller than that of an inorganic material (for example, silicon oxide), the stress applied to the organic light emitting layer 42 and the like can be suppressed, and higher reliability can be obtained.

第１及び第２部分５４ａ，５４ｂは、陽極２８の周縁部上に乗上げるように形成されている。突出部５４ｃは、陽極２８の周囲と第１部分５４ａとが部分的に重なるように形成されている。平面的には、陽極２８の周囲と第１部分５４ａとが部分的に重なるように配置された構造となっている。又、第２部分５４ｂも同様であり、陽極２８の一部と平面的に重なるように配置されている。又、第１部分５４ａは、第２部分５４ｂの縁端よりも陽極２８の中央側に更に突出するように形成されている。   The first and second portions 54 a and 54 b are formed so as to ride on the peripheral edge of the anode 28. The protrusion 54c is formed such that the periphery of the anode 28 and the first portion 54a partially overlap. In plan view, the periphery of the anode 28 and the first portion 54a are arranged so as to partially overlap. The second portion 54b is also the same, and is arranged so as to overlap with a part of the anode 28 in a plane. The first portion 54a is formed so as to protrude further toward the center of the anode 28 than the edge of the second portion 54b.

本実施形態では、第１部分５４ａの突出部５４ｃは、ガラス基板３２内で、画素１６毎に、正孔注入層４８の凹み具合や突き出し具合に違いを与える程度の複数の異なる膜厚を有している。例えば、各画素１６における正孔注入層４８の表面の形状は、各画素１６の有機発光層４２を構成する材料の分子量の違いにより異ならせている。例えば、赤色（Ｒ）に発光する赤色有機発光層４２Ｒを構成する材料の分子量を８０Ｋ（８０×１０3）とした場合、正孔注入層４８は有機発光層４２の画素１６部分を凹状にするような形状に形成されている。この場合、突出部５４ｃの膜厚の値をＬ１としている（図３（Ａ））。又、緑色（Ｇ）に発光する緑色有機発光層４２Ｇを構成する材料の分子量を２００Ｋ（２００×１０3）とした場合、正孔注入層４８は有機発光層４２の画素１６部分を平らにするような形状に形成されている。この場合、突出部５４ｃの膜厚の値をＬ２としている（図３（Ｂ））。又、青色（Ｂ）に発光する青色有機発光層４２Ｂを構成する材料の分子量を４００Ｋ（４００×１０3）とした場合、正孔注入層４８は有機発光層４２の画素１６部分を凸状にするような形状に形成されている。この場合、突出部５４ｃの膜厚の値をＬ３としている（図３（Ｃ））。本実施形態において、突出部５４ｃの膜厚の値Ｌ１、Ｌ２、及びＬ３の大小関係は、Ｌ１＞Ｌ２＞Ｌ３である。 In the present embodiment, the protrusion 54c of the first portion 54a has a plurality of different film thicknesses so as to give a difference in the dent and protrusion of the hole injection layer 48 for each pixel 16 in the glass substrate 32. is doing. For example, the shape of the surface of the hole injection layer 48 in each pixel 16 is varied depending on the molecular weight of the material constituting the organic light emitting layer 42 of each pixel 16. For example, when the molecular weight of the material constituting the red organic light emitting layer 42R that emits red (R) is 80K (80 × 10 3 ), the hole injection layer 48 makes the pixel 16 portion of the organic light emitting layer 42 concave. It is formed in such a shape. In this case, the value of the film thickness of the protrusion 54c is L1 (FIG. 3A). When the molecular weight of the material constituting the green organic light emitting layer 42G that emits green (G) is 200K (200 × 10 3 ), the hole injection layer 48 flattens the pixel 16 portion of the organic light emitting layer 42. It is formed in such a shape. In this case, the value of the film thickness of the protrusion 54c is L2 (FIG. 3B). Further, when the molecular weight of the material constituting the blue organic light emitting layer 42B emitting blue (B) is 400K (400 × 10 3 ), the hole injection layer 48 makes the pixel 16 portion of the organic light emitting layer 42 convex. It is formed in such a shape. In this case, the value of the film thickness of the protrusion 54c is L3 (FIG. 3C). In the present embodiment, the magnitude relationship between the film thickness values L1, L2, and L3 of the protrusion 54c is L1>L2> L3.

（有機ＥＬ装置の製造方法）
続いて、上記有機ＥＬ装置２の製造方法について説明する。
（液滴吐出装置の全体構成）
先ず、有機ＥＬ素子６の製造に用いる液滴吐出装置１００の全体構成について図４を用いて説明する。図４に示す液滴吐出装置１００は、基本的には液状の材料１０２（正孔注入層４８の材料を含む機能液４８Ａ：図８（Ｄ）参照）を吐出するためのインクジェット装置である。より具体的には、液滴吐出装置１００は、液状の材料１０２を保持するタンク１０４と、チューブ１０６と、グランドステージＧＳと、吐出ヘッド部１０８と、ステージ１１０と、第１位置制御装置１１２と、第２位置制御装置１１４と、制御部１１６と、支持部１１８とを備えている。尚、正孔輸送層５０の材料を含む機能液５０Ａ（図８（Ｅ）参照）及び有機発光層４２Ｒ，４２Ｇ，４２Ｂの各発光材料を含む機能液４２ＲＡ（図９（Ａ）参照）、４２ＧＡ、４２ＢＡ（図９（Ｂ）参照）を吐出するための液滴吐出装置（不図示）は、吐出する材料が異なることを除けば液滴吐出装置１００の構造及び機能と基本的に同じであるので、説明は省略する。 (Method for manufacturing organic EL device)
Next, a method for manufacturing the organic EL device 2 will be described.
(Overall configuration of droplet discharge device)
First, the whole structure of the droplet discharge apparatus 100 used for manufacturing the organic EL element 6 will be described with reference to FIG. A droplet discharge device 100 shown in FIG. 4 is basically an ink jet device for discharging a liquid material 102 (a functional liquid 48A including the material of the hole injection layer 48: see FIG. 8D). More specifically, the droplet discharge device 100 includes a tank 104 that holds a liquid material 102, a tube 106, a ground stage GS, a discharge head unit 108, a stage 110, and a first position control device 112. , A second position control device 114, a control unit 116, and a support unit 118. In addition, functional liquid 50A (see FIG. 8E) containing the material of the hole transport layer 50, functional liquid 42RA (see FIG. 9A) containing each light emitting material of the organic light emitting layers 42R, 42G, and 42B, 42GA , 42BA (see FIG. 9B) is basically the same as the structure and function of the droplet discharge device 100 except that the material to be discharged is different. Therefore, explanation is omitted.

吐出ヘッド部１０８は、ヘッド１２０（図５参照）を保持している。このヘッド１２０は、制御部１１６からの信号に応じて、液状の材料１０２の液滴を吐出する。尚、吐出ヘッド部１０８におけるヘッド１２０は、チューブ１０６によってタンク１０４に連結されており、このため、タンク１０４からヘッド１２０に液状の材料１０２が供給される。   The discharge head unit 108 holds a head 120 (see FIG. 5). The head 120 ejects droplets of the liquid material 102 in response to a signal from the control unit 116. The head 120 in the ejection head unit 108 is connected to the tank 104 by the tube 106, and thus the liquid material 102 is supplied from the tank 104 to the head 120.

ステージ１１０はガラス基板３２を固定するための平面を提供している。更にステージ１１０は、吸引力を用いてガラス基板３２の位置を固定する機能も有する。   The stage 110 provides a plane for fixing the glass substrate 32. Furthermore, the stage 110 also has a function of fixing the position of the glass substrate 32 using a suction force.

第１位置制御装置１１２は、支持部１１８によって、グランドステージＧＳから所定の高さの位置に固定されている。この第１位置制御装置１１２は、制御部１１６からの信号に応じて、吐出ヘッド部１０８をＸ軸方向と、Ｘ軸方向に直交するＺ軸方向と、に沿って移動させる機能を有する。更に、第１位置制御装置１１２は、Ｚ軸に並行な軸の回りで吐出ヘッド部１０８を回転させる機能も有する。ここで、本実施形態では、Ｚ軸方向は、鉛直方向（つまり重力加速度の方向）に並行な方向である。   The first position control device 112 is fixed to a position at a predetermined height from the ground stage GS by the support portion 118. The first position control device 112 has a function of moving the ejection head unit 108 along the X-axis direction and the Z-axis direction orthogonal to the X-axis direction in response to a signal from the control unit 116. Furthermore, the first position control device 112 also has a function of rotating the ejection head unit 108 around an axis parallel to the Z axis. Here, in the present embodiment, the Z-axis direction is a direction parallel to the vertical direction (that is, the direction of gravitational acceleration).

第２位置制御装置１１４は、制御部１１６からの信号に応じて、ステージ１１０をグランドステージＧＳ上でＹ軸方向に移動させる。ここで、Ｙ軸方向は、Ｘ軸方向及びＺ軸方向の双方と直交する方向である。   The second position control device 114 moves the stage 110 on the ground stage GS in the Y-axis direction according to a signal from the control unit 116. Here, the Y-axis direction is a direction orthogonal to both the X-axis direction and the Z-axis direction.

上記のような機能を有する第１位置制御装置１１２の構成と第２位置制御装置１１４の構成とは、リニアモータ又はサーボモータを利用した公知のＸＹロボットを用いて実現できる。このため、ここでは、それらの詳細な構成の説明を省略する。   The configuration of the first position control device 112 and the configuration of the second position control device 114 having the above functions can be realized by using a known XY robot using a linear motor or a servo motor. For this reason, description of those detailed structures is abbreviate | omitted here.

さて上述のように、第１位置制御装置１１２によって、吐出ヘッド部１０８はＸ軸方向に移動する。そして、第２位置制御装置１１４によって、ガラス基板３２はステージ１１０と共にＹ軸方向に移動する。これらの結果、ガラス基板３２に対するヘッド１２０の相対位置が変わる。より具体的には、これらの動作によって、吐出ヘッド部１０８、ヘッド１２０、又はノズル１２２（図５参照）は、ステージ１１０に固定されたガラス基板３２に対して、Ｚ軸方向に所定の距離を保ちながら、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に相対的に移動、即ち相対的に走査する。「相対移動」又は「相対走査」とは、液状の材料１０２を吐出する側と、そこからの吐出物が着弾する側（被吐出部）の少なくとも一方を他方に対して相対移動することを意味する。   As described above, the ejection head unit 108 is moved in the X-axis direction by the first position control device 112. Then, the glass substrate 32 is moved in the Y-axis direction together with the stage 110 by the second position control device 114. As a result, the relative position of the head 120 with respect to the glass substrate 32 changes. More specifically, by these operations, the ejection head unit 108, the head 120, or the nozzle 122 (see FIG. 5) sets a predetermined distance in the Z-axis direction with respect to the glass substrate 32 fixed to the stage 110. While maintaining, relatively move in the X-axis direction and the Y-axis direction, that is, relatively scan. “Relative movement” or “relative scanning” means that at least one of the side from which the liquid material 102 is discharged and the side from which the discharged material lands (discharged part) moves relative to the other. To do.

制御部１１６は、液状の材料１０２の液滴を吐出すべき相対位置を表す吐出データを外部情報処理装置から受け取るように構成されている。制御部１１６は、受け取った吐出データを内部の記憶装置に格納すると共に、格納された吐出データに応じて、第１位置制御装置１１２と、第２位置制御装置１１４と、ヘッド１２０と、を制御する。尚、吐出データとは、ガラス基板３２上に、液状の材料１０２を所定パターンで付与するためのデータである。本実施形態では、吐出データはビットマップデータの形態を有している。   The control unit 116 is configured to receive ejection data representing a relative position at which droplets of the liquid material 102 are to be ejected from an external information processing apparatus. The control unit 116 stores the received discharge data in an internal storage device, and controls the first position control device 112, the second position control device 114, and the head 120 according to the stored discharge data. To do. The ejection data is data for applying the liquid material 102 in a predetermined pattern on the glass substrate 32. In the present embodiment, the ejection data has the form of bitmap data.

上記構成を有する液滴吐出装置１００は、吐出データに応じて、ヘッド１２０のノズル１２２をガラス基板３２に対して相対移動させると共に、被吐出部に向けてノズル１２２から液状の材料１０２を吐出する。   The droplet discharge device 100 having the above configuration moves the nozzle 122 of the head 120 relative to the glass substrate 32 according to the discharge data, and discharges the liquid material 102 from the nozzle 122 toward the discharge target portion. .

（液滴吐出装置のヘッド）
図５（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、液滴吐出装置１００におけるヘッド１２０は、複数のノズル１２２を有するインクジェットヘッドである。具体的には、ヘッド１２０は、振動板１２４と、ノズル１２２の開口を規定するノズルプレート１２６と、を備えている。そして、振動板１２４と、ノズルプレート１２６と、の間には、液たまり１２８が位置しており、この液たまり１２８には、図示しない外部タンクから孔１３０を介して供給される液状の材料１０２が常に充填される。 (Droplet ejection device head)
As shown in FIGS. 5A and 5B, the head 120 in the droplet discharge device 100 is an inkjet head having a plurality of nozzles 122. Specifically, the head 120 includes a vibration plate 124 and a nozzle plate 126 that defines the opening of the nozzle 122. A liquid pool 128 is located between the vibration plate 124 and the nozzle plate 126, and the liquid material 102 supplied to the liquid pool 128 from an external tank (not shown) through the hole 130. Is always filled.

又、振動板１２４とノズルプレート１２６との間には、複数の隔壁部１３２が位置している。そして、振動板１２４と、ノズルプレート１２６と、一対の隔壁部１３２と、によって囲まれた部分がキャビティ１３４である。キャビティ１３４はノズル１２２に対応して設けられているため、キャビティ１３４の数とノズル１２２の数とは同じである。キャビティ１３４には、一対の隔壁部１３２間に位置する供給口１３６を介して、液たまり１２８から液状の材料１０２が供給される。尚、本実施形態では、ノズル１２２の直径は、約２７μｍである。   In addition, a plurality of partition walls 132 are located between the diaphragm 124 and the nozzle plate 126. A portion surrounded by the diaphragm 124, the nozzle plate 126, and the pair of partition walls 132 is a cavity 134. Since the cavities 134 are provided corresponding to the nozzles 122, the number of the cavities 134 and the number of the nozzles 122 are the same. The liquid material 102 is supplied from the liquid pool 128 to the cavity 134 through the supply port 136 positioned between the pair of partition walls 132. In the present embodiment, the nozzle 122 has a diameter of about 27 μm.

さて、振動板１２４上には、それぞれのキャビティ１３４に対応して、それぞれの振動子１３８が位置する。振動子１３８のそれぞれは、ピエゾ素子１４０Ｃと、ピエゾ素子１４０Ｃを挟む一対の電極１４０Ａ，１４０Ｂとを含む。制御部１１６が、この一対の電極１４２Ａ，１４２Ｂの間に駆動電圧を与えることで、対応するノズル１２２から液状の材料１０２の液滴Ｄが吐出される。ここで、ノズル１２２から吐出される材料の体積は、０ｐｌ以上４２ｐｌ（ピコリットル）以下の間で可変である。尚、ノズル１２２からＺ軸方向に液状の材料１０２の液滴Ｄが吐出されるように、ノズル１２２の形状が調整されている。   Now, each vibrator 138 is positioned on the vibration plate 124 corresponding to each cavity 134. Each of the vibrators 138 includes a piezo element 140C and a pair of electrodes 140A and 140B that sandwich the piezo element 140C. The control unit 116 applies a driving voltage between the pair of electrodes 142A and 142B, whereby the droplet D of the liquid material 102 is ejected from the corresponding nozzle 122. Here, the volume of the material discharged from the nozzle 122 is variable between 0 pl and 42 pl (picoliter). The shape of the nozzle 122 is adjusted so that the droplet D of the liquid material 102 is ejected from the nozzle 122 in the Z-axis direction.

本実施形態では、１つのノズル１２２と、ノズル１２２に対応するキャビティ１３４と、キャビティ１３４に対応する振動子１３８と、を含んだ部分を「吐出部１４４」と表記することもある。この表記によれば、１つのヘッド１２０は、ノズル１２２の数と同じ数の吐出部１４４を有する。吐出部１４４は、ピエゾ素子の代わりに電気熱変換素子を有してもよい。つまり、吐出部１４４は、電気熱変換素子による材料の熱膨張を利用して材料を吐出する構成を有していてもよい。   In the present embodiment, a portion including one nozzle 122, a cavity 134 corresponding to the nozzle 122, and a vibrator 138 corresponding to the cavity 134 may be referred to as “ejection unit 144”. According to this notation, one head 120 has the same number of ejection units 144 as the number of nozzles 122. The discharge unit 144 may include an electrothermal conversion element instead of the piezo element. That is, the discharge unit 144 may have a configuration for discharging a material by utilizing thermal expansion of the material by the electrothermal conversion element.

（液滴吐出装置の制御部）
次に、制御部１１６の構成を説明する。図６に示すように、制御部１１６は、入力バッファメモリ１４６と、記憶装置１４８と、処理部１５０と、走査駆動部１５２と、ヘッド駆動部１５４とを備えている。入力バッファメモリ１４６と処理部１５０とは相互に通信可能に接続されている。処理部１５０と、記憶装置１４８と、走査駆動部１５２と、ヘッド駆動部１５４とは、図示しないバスによって相互に通信可能に接続されている。 (Control unit of droplet discharge device)
Next, the configuration of the control unit 116 will be described. As shown in FIG. 6, the control unit 116 includes an input buffer memory 146, a storage device 148, a processing unit 150, a scan driving unit 152, and a head driving unit 154. The input buffer memory 146 and the processing unit 150 are connected to be communicable with each other. The processing unit 150, the storage device 148, the scan driving unit 152, and the head driving unit 154 are connected to each other via a bus (not shown) so as to communicate with each other.

走査駆動部１５２は、第１位置制御装置１１２及び第２位置制御装置１１４と相互に通信可能に接続されている。同様にヘッド駆動部１５４は、ヘッド１２０と相互に通信可能に接続されている。   The scanning drive unit 152 is connected to the first position control device 112 and the second position control device 114 so as to communicate with each other. Similarly, the head drive unit 154 is connected to the head 120 so as to communicate with each other.

入力バッファメモリ１４６は、液滴吐出装置１００の外部に位置する外部情報処理装置（不図示）から、液状の材料１０２の液滴を吐出するための吐出データを受け取る。入力バッファメモリ１４６は、吐出データを処理部１５０に供給し、処理部１５０は吐出データを記憶装置１４８に格納する。図６では、記憶装置１４８はＲＡＭである。   The input buffer memory 146 receives ejection data for ejecting droplets of the liquid material 102 from an external information processing apparatus (not shown) located outside the droplet ejection apparatus 100. The input buffer memory 146 supplies the discharge data to the processing unit 150, and the processing unit 150 stores the discharge data in the storage device 148. In FIG. 6, the storage device 148 is a RAM.

処理部１５０は、記憶装置１４８内の吐出データに基づいて、被吐出部に対するノズル１２２の相対位置を示すデータを走査駆動部１５２に与える。走査駆動部１５２はこのデータと、吐出周期と、に応じたステージ駆動信号を第１位置制御装置１１２及び第２位置制御装置１１４に与える。この結果、被吐出部に対する吐出ヘッド部１０８の相対位置が変わる。一方、処理部１５０は、記憶装置１４８に記憶された吐出データに基づいて、液状の材料１０２の吐出に必要な吐出信号をヘッド１２０に与える。この結果、ヘッド１２０における対応するノズル１２２から、液状の材料１０２の液滴Ｄが吐出される。   The processing unit 150 provides the scan driving unit 152 with data indicating the relative position of the nozzle 122 with respect to the discharge target portion based on the discharge data in the storage device 148. The scanning drive unit 152 provides the first position control device 112 and the second position control device 114 with a stage drive signal corresponding to the data and the ejection cycle. As a result, the relative position of the ejection head unit 108 with respect to the ejected part changes. On the other hand, the processing unit 150 gives the head 120 a discharge signal necessary for discharging the liquid material 102 based on the discharge data stored in the storage device 148. As a result, the droplet D of the liquid material 102 is ejected from the corresponding nozzle 122 in the head 120.

制御部１１６は、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、バスを含んだコンピュータである。従って、制御部１１６の上記機能は、コンピュータによって実行されるソフトウェアプログラムによって実現される。もちろん、制御部１１６は、専用の回路（ハードウェア）によって実現されてもよい。   The control unit 116 is a computer including a CPU, a ROM, a RAM, and a bus. Therefore, the function of the control unit 116 is realized by a software program executed by a computer. Of course, the control unit 116 may be realized by a dedicated circuit (hardware).

（液滴吐出装置の液状の材料）
上述の「液状の材料１０２」とは、ヘッド１２０のノズル１２２から液滴Ｄとして吐出されうる粘度を有する材料をいう。ここで、液状の材料１０２が水性であると油性であるとを問わない。ノズル１２２から吐出可能な流動性（粘度）を備えていれば十分で、固体物質が混入していても全体として流動体であればよい。ここで、液状の材料１０２の粘度は１ｍＰａ・ｓ以上５０ｍＰａ・ｓ以下であるのが好ましい。粘度が１ｍＰａ・ｓ以上である場合には、液状の材料１０２の液滴Ｄを吐出する際にノズル１２２の周辺部が液状の材料１０２で汚染されにくい。一方、粘度が５０ｍＰａ・ｓ以下である場合は、ノズル１２２における目詰まり頻度が小さく、このため円滑な液滴Ｄの吐出を実現できる。尚、「液状の材料１０２」は、被吐出部に付与された後に固有の機能を果たすことから、「機能液」とも呼ぶ。 (Liquid material of droplet discharge device)
The above-mentioned “liquid material 102” refers to a material having a viscosity that can be ejected as a droplet D from the nozzle 122 of the head 120. Here, it does not matter whether the liquid material 102 is aqueous or oily. It is sufficient if the fluidity (viscosity) that can be discharged from the nozzle 122 is provided, and even if a solid substance is mixed, the fluid may be used as a whole. Here, the viscosity of the liquid material 102 is preferably 1 mPa · s or more and 50 mPa · s or less. When the viscosity is 1 mPa · s or more, the periphery of the nozzle 122 is less likely to be contaminated with the liquid material 102 when the droplet D of the liquid material 102 is ejected. On the other hand, when the viscosity is 50 mPa · s or less, the clogging frequency in the nozzle 122 is small, and thus smooth discharge of the droplet D can be realized. The “liquid material 102” is also referred to as “functional liquid” because it has a unique function after being applied to the discharge target portion.

本実施形態で用いる機能液４８Ａ、機能液５０Ａ、及び機能液４２ＲＡ，４２ＧＡ，４２ＢＡは、上述の条件を満たす液状の材料１０２（機能液）である。具体的には、機能液４８Ａは、正孔注入層４８の材料となるＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを溶質とし、ジエチレングリコールを溶媒とした液体である。機能液５０Ａは、正孔輸送層５０の材料となる芳香族アミン系ポリマーを溶質とし、シクロヘキシルベンゼンを溶媒とした液体である。又機能液４２ＲＡ，４２ＧＡ，４２ＢＡは、それぞれＲＧＢ各色に対応したポリオレフィン系ポリマーを溶質とし、シクロヘキシルベンゼンを溶媒とした液体である。機能液４２ＲＡの分子量は８０Ｋ（８０×１０3）、機能液４２ＧＡの分子量は２００Ｋ（２００×１０3）、機能液４２ＢＡの分子量は４００Ｋ（４００×１０3）である。 The functional liquid 48A, the functional liquid 50A, and the functional liquids 42RA, 42GA, and 42BA used in the present embodiment are liquid materials 102 (functional liquids) that satisfy the above-described conditions. Specifically, the functional liquid 48A is a liquid using PEDOT / PSS as a material for the hole injection layer 48 as a solute and diethylene glycol as a solvent. The functional liquid 50A is a liquid in which an aromatic amine-based polymer that is a material of the hole transport layer 50 is used as a solute and cyclohexylbenzene is used as a solvent. The functional liquids 42RA, 42GA, and 42BA are liquids that use polyolefin polymers corresponding to RGB colors as solutes and cyclohexylbenzene as a solvent. The molecular weight of the functional liquid 42RA is 80K (80 × 10 3 ), the molecular weight of the functional liquid 42GA is 200K (200 × 10 3 ), and the molecular weight of the functional liquid 42BA is 400K (400 × 10 3 ).

（製造方法）
続いて、図７、図８及び図９を参照しながら、上述の液滴吐出装置１００を用いた有機ＥＬ素子６の製造方法について説明する。
図７は、本実施形態に係る有機ＥＬ装置２の製造方法を示す工程図であり、図８及び図９は、有機ＥＬ装置２の製造工程における有機ＥＬ素子６の断面図である。以下本実施形態では、図面上側を「上」と呼称する。 (Production method)
Next, a method for manufacturing the organic EL element 6 using the above-described droplet discharge device 100 will be described with reference to FIGS. 7, 8, and 9.
FIG. 7 is a process diagram illustrating a method for manufacturing the organic EL device 2 according to the present embodiment, and FIGS. 8 and 9 are cross-sectional views of the organic EL element 6 in the manufacturing process of the organic EL device 2. Hereinafter, in the present embodiment, the upper side of the drawing is referred to as “upper”.

先ず、ステップＳ１００として、ＴＦＴ等が形成されたガラス基板３２上に層間絶縁層４４を形成する（図８（Ａ））。層間絶縁層４４の形成は、窒化珪素、酸化珪素、窒化酸化珪素をＣＶＤ法（化学気相堆積法）等を用いて２００ｎｍ程度堆積する手法を用いることが好適である。   First, as step S100, an interlayer insulating layer 44 is formed on the glass substrate 32 on which TFTs and the like are formed (FIG. 8A). The interlayer insulating layer 44 is preferably formed using a method of depositing silicon nitride, silicon oxide, silicon nitride oxide with a thickness of about 200 nm using a CVD method (chemical vapor deposition method) or the like.

続いて、層間絶縁層４４上に陽極２８を形成する。より詳しくは、蒸着マスクを用いたイオンプレーティング法を用いてＩＴＯを積層し、膜厚５０ｎｍ程度の、光透過性を有する陽極２８を形成する。   Subsequently, the anode 28 is formed on the interlayer insulating layer 44. In more detail, ITO is laminated | stacked using the ion plating method using a vapor deposition mask, and the light-transmitting anode 28 with a film thickness of about 50 nm is formed.

次に、ステップＳ１１０では、ガラス基板３２の所定位置に隔壁５４を形成する。隔壁５４は、第１部分５４ａが形成され、第２部分５４ｂが形成された構造を有している。
先ず、図８（Ｂ）に示すように、ガラス基板３２上の所定位置に第１部分５４ａを形成する。第１部分５４ａが形成される位置は、層間絶縁層４４及び陽極２８上である。第１部分５４ａは、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機物材料にて構成することができる。これらの材料は、例えばＣＶＤ法、コート法、スパッタ法、蒸着法等によって形成される。 Next, in step S <b> 110, the partition wall 54 is formed at a predetermined position on the glass substrate 32. The partition wall 54 has a structure in which a first portion 54a is formed and a second portion 54b is formed.
First, as shown in FIG. 8B, a first portion 54 a is formed at a predetermined position on the glass substrate 32. The position where the first portion 54 a is formed is on the interlayer insulating layer 44 and the anode 28. The first portion 54a can be made of an inorganic material such as SiN, SiO 2 or TiO 2 , for example. These materials are formed by, for example, a CVD method, a coating method, a sputtering method, a vapor deposition method, or the like.

第１部分５４ａは、層間絶縁層４４及び陽極２８の全面に無機物膜を形成し、その後無機物膜をフォトリソグラフィ法等によりパターニングすることにより、開口部２９ａを有する形にて形成される。この開口部２９ａは、陽極２８の電極面の形成位置に対応するものである。尚、このとき、第１部分５４ａは陽極２８の周縁部と一部重なるように形成され、これにより有機発光層４２の平面的な画素１６が制御される。具体的には、例えばＳｉＮの膜厚を３００ｎｍに成膜後、レジストマスクを用い、ドライエッチングにより以下のように形成する。赤色有機発光層に相当する画素の第１部分５４ａでは、突出部５４ｃの膜厚を３００ｎｍとする。緑色有機発光層に相当する画素の第１部分５４ａでは、突出部５４ｃの膜厚を１００ｎｍとする。青色有機発光層に相当する画素の第１部分５４ａでは、突出部５４ｃの膜厚を３０ｎｍとする。   The first portion 54a is formed in a form having an opening 29a by forming an inorganic film on the entire surface of the interlayer insulating layer 44 and the anode 28 and then patterning the inorganic film by a photolithography method or the like. The opening 29a corresponds to the position where the electrode surface of the anode 28 is formed. At this time, the first portion 54a is formed so as to partially overlap with the peripheral portion of the anode 28, whereby the planar pixel 16 of the organic light emitting layer 42 is controlled. Specifically, for example, after the SiN film is formed to a thickness of 300 nm, it is formed as follows by dry etching using a resist mask. In the first portion 54a of the pixel corresponding to the red organic light emitting layer, the film thickness of the protrusion 54c is 300 nm. In the first portion 54a of the pixel corresponding to the green organic light emitting layer, the film thickness of the protrusion 54c is 100 nm. In the first portion 54a of the pixel corresponding to the blue organic light emitting layer, the film thickness of the protrusion 54c is 30 nm.

続いて、図８（Ｃ）に示すように、第２部分５４ｂを形成する。具体的には、第１部分５４ａ上に第２部分５４ｂを形成する。第２部分５４ｂを構成する材料として、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶剤性を有する材料を用いる。これらの材料を用い、第２部分５４ｂをフォトリソグラフィ法等によりパターニングして形成される。尚、パターニングする際、第２部分５４ｂに開口部２９ｂを形成する。このステップＳ１１０を経ることにより、ガラス基板３２上に、隔壁５４及び陽極２８によって形作られる凹部が形成される。   Subsequently, as shown in FIG. 8C, a second portion 54b is formed. Specifically, the second portion 54b is formed on the first portion 54a. As the material constituting the second portion 54b, a material having heat resistance and solvent resistance such as acrylic resin and polyimide resin is used. Using these materials, the second portion 54b is formed by patterning using a photolithography method or the like. When patterning, the opening 29b is formed in the second portion 54b. Through this step S <b> 110, a recess formed by the partition wall 54 and the anode 28 is formed on the glass substrate 32.

続いて、酸素プラズマ処理、四弗化炭素ガスでのプラズマ処理等を行い、陽極２８と、隔壁５４とに親液性を与える。ここまでの工程を終えた状態を図８（Ｃ）に示す。   Subsequently, oxygen plasma treatment, plasma treatment with carbon tetrafluoride gas, or the like is performed to impart lyophilicity to the anode 28 and the partition wall 54. FIG. 8C shows the state after the steps so far.

次に、ステップＳ１２０では、上記凹部の陽極２８上に、液滴吐出装置１００によって機能液４８Ａを吐出する（図８（Ｄ））。より詳しくは、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ用インク（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ重量比＝１：５０ 固形分濃度０．５％、溶媒：ジエチレングリコール ５０％ 残量 純水）を、液滴吐出法を用いて隔壁５４中に吐出し、真空乾燥、熱処理を行うことで正孔注入層４８を形成する。正孔注入層４８の中央膜厚は５０ｎｍ程度の厚みを有している。具体的には、先ず、陽極２８が形成されたガラス基板３２が、機能液４８Ａを吐出するための液滴吐出装置のステージ１１０に運ばれる。そして、当該液滴吐出装置１００は、上記陽極２８上に、ヘッド１２０の吐出部１４４から機能液４８Ａを吐出する。吐出された機能液４８Ａは、その表面張力により、凹部全体に濡れ広がらずに凸状の形状をもって配置される。尚、各バンク開口のインク吐出重量は共通となるようにインクを吐出する。この後に真空乾燥を行い、脱溶媒がされる。   Next, in step S120, the functional liquid 48A is discharged onto the anode 28 in the recess by the droplet discharge device 100 (FIG. 8D). More specifically, an ink for PEDOT / PSS (PEDOT: PSS weight ratio = 1: 50 solid content concentration 0.5%, solvent: diethylene glycol 50% remaining amount pure water) is put into the partition wall 54 using a droplet discharge method. The hole injection layer 48 is formed by discharging, vacuum drying, and heat treatment. The central film thickness of the hole injection layer 48 has a thickness of about 50 nm. Specifically, first, the glass substrate 32 on which the anode 28 is formed is carried to the stage 110 of the droplet discharge device for discharging the functional liquid 48A. Then, the droplet discharge device 100 discharges the functional liquid 48 </ b> A from the discharge unit 144 of the head 120 onto the anode 28. The discharged functional liquid 48A is arranged in a convex shape without being wetted and spread over the entire concave portion due to its surface tension. Note that ink is ejected so that the ink ejection weight of each bank opening is common. This is followed by vacuum drying to remove the solvent.

続くステップＳ１３０では、機能液４８Ａが吐出されたガラス基板３２を高温環境下に放置して焼成を行う。又、熱処理は、窒素中、好ましくは真空中で２００℃で１０分間程度加熱する。当該焼成工程を経た後は、機能液４８Ａ中の溶媒が蒸発し、当該機能液４８Ａが吐出された領域に凹状、凸状及び平坦な表面を有する正孔注入層４８が形成される。   In subsequent step S130, the glass substrate 32 on which the functional liquid 48A has been discharged is left in a high temperature environment for baking. The heat treatment is performed in nitrogen, preferably in vacuum, at 200 ° C. for about 10 minutes. After the firing step, the solvent in the functional liquid 48A evaporates, and a hole injection layer 48 having a concave, convex, and flat surface is formed in the region where the functional liquid 48A is discharged.

ここで、第１部分５４ａのうち第２部分５４ｂの開口内面から突出する突出部５４ｃの膜厚により、形成される正孔注入層４８の形状が異なる場合がある。具体的には、第１部分５４ａの突出部５４ｃの膜厚が大きいと、形成される層の膜厚が周縁部（隔壁に近い側）において大きくなる傾向があり、一方、第１部分５４ａの突出部５４ｃの膜厚が小さいと、形成される層の膜厚が中心部において大きくなる傾向がある。   Here, the shape of the hole injection layer 48 to be formed may be different depending on the film thickness of the protruding portion 54c protruding from the inner surface of the opening of the second portion 54b in the first portion 54a. Specifically, when the film thickness of the protruding portion 54c of the first portion 54a is large, the film thickness of the formed layer tends to increase at the peripheral edge (side closer to the partition wall), while the first portion 54a When the film thickness of the protrusion 54c is small, the film thickness of the formed layer tends to increase at the center.

そこで、本実施形態では、各色の有機発光層４２Ｒ，４２Ｇ，４２Ｂ毎に吐出する液状組成物を構成する材料の分子量が異なるため、予め第１部分５４ａの突出部５４ｃの膜厚を各有機発光層４２Ｒ，４２Ｇ，４２Ｂ毎（つまり各色の画素毎）に異ならせておき、所定の形状の正孔注入層４８が形成されるようにしている。具体的には、相対的に高い分子量を有する液状組成物を吐出する画素においては突出部５４ｃの膜厚を薄くして、相対的に低い分子量を有する液状組成物を吐出する画素においては突出部５４ｃの膜厚を厚くした。   Therefore, in this embodiment, since the molecular weight of the material constituting the liquid composition to be discharged is different for each color of the organic light emitting layers 42R, 42G, and 42B, the film thickness of the protrusion 54c of the first portion 54a is set in advance for each organic light emission. The layers 42R, 42G, and 42B (that is, the pixels of each color) are made different so that the hole injection layer 48 having a predetermined shape is formed. Specifically, in the pixel that discharges a liquid composition having a relatively high molecular weight, the film thickness of the protrusion 54c is reduced, and in the pixel that discharges a liquid composition having a relatively low molecular weight, the protrusion The film thickness of 54c was increased.

次に、ステップＳ１４０では、上記凹部の正孔注入層４８上に、液滴吐出装置１００によって機能液５０Ａを吐出する（図８（Ｅ））。より詳しくは、芳香族アミン系ポリマーを溶質とし、シクロヘキシルベンゼンを溶媒とした液体を、液滴吐出法を用いて隔壁５４中に吐出し、真空乾燥、熱処理を行うことで正孔輸送層５０を形成する。正孔輸送層５０の膜厚は１０ｎｍ程度の厚みを有している。具体的には、先ず、正孔注入層４８が形成されたガラス基板３２が、機能液５０Ａを吐出するための液滴吐出装置のステージ１１０に運ばれる。そして、当該液滴吐出装置１００は、上記正孔注入層４８上に、ヘッド１２０の吐出部１４４から機能液５０Ａを吐出する。吐出された機能液５０Ａは、その表面張力により、凹部全体に濡れ広がらずに凸状の形状をもって配置される。尚、各バンク開口のインク吐出重量は共通となるようにインクを吐出する。この後に真空乾燥を行い、脱溶媒がされる。   Next, in step S140, the functional liquid 50A is discharged onto the hole injection layer 48 in the recess by the droplet discharge device 100 (FIG. 8E). More specifically, the hole transport layer 50 is formed by discharging a liquid containing an aromatic amine-based polymer as a solute and cyclohexylbenzene as a solvent into the partition wall 54 using a droplet discharge method, and performing vacuum drying and heat treatment. Form. The thickness of the hole transport layer 50 is about 10 nm. Specifically, first, the glass substrate 32 on which the hole injection layer 48 is formed is carried to the stage 110 of the droplet discharge device for discharging the functional liquid 50A. Then, the droplet discharge device 100 discharges the functional liquid 50 </ b> A from the discharge unit 144 of the head 120 onto the hole injection layer 48. The discharged functional liquid 50A is arranged in a convex shape without being wetted and spread over the entire concave portion due to the surface tension. Note that ink is ejected so that the ink ejection weight of each bank opening is common. This is followed by vacuum drying to remove the solvent.

続くステップＳ１５０では、機能液５０Ａが吐出されたガラス基板３２を高温環境下に放置して焼成を行う。又、熱処理は、窒素中、好ましくは真空中で１３０℃で１時間程度加熱する。当該焼成工程を経た後は、機能液５０Ａ中の溶媒が蒸発し、当該機能液５０Ａが吐出された領域に凹状、凸状及び平坦な表面を有する正孔輸送層５０が形成される。   In subsequent step S150, the glass substrate 32 on which the functional liquid 50A has been discharged is left in a high temperature environment for baking. The heat treatment is performed in nitrogen, preferably in vacuum, at 130 ° C. for about 1 hour. After the firing step, the solvent in the functional liquid 50A evaporates, and the hole transport layer 50 having a concave, convex, and flat surface is formed in the region where the functional liquid 50A is discharged.

次に、ステップＳ１６０として、上記凹部の正孔輸送層５０上に、液滴吐出装置１００によって機能液４２ＲＡを吐出する（図９（Ａ））。より詳しくは、ＲＧＢ各色に対応したポリオレフィン系ポリマーを溶質とし、シクロヘキシルベンゼンを溶媒とした液体を、液滴吐出法を用いて各有機ＥＬ素子６毎に塗り分けるように隔壁５４中に吐出し、真空乾燥、熱処理を行うことでＲＧＢ各色を発光する有機発光層４２を形成する。有機発光層４２は１００ｎｍ程度の厚みを有している。   Next, as step S160, the functional liquid 42RA is discharged onto the hole transport layer 50 in the concave portion by the droplet discharge device 100 (FIG. 9A). More specifically, a liquid having a polyolefin polymer corresponding to each color of RGB as a solute and cyclohexylbenzene as a solvent is discharged into the partition wall 54 so as to be separately applied to each organic EL element 6 using a droplet discharge method. By performing vacuum drying and heat treatment, the organic light emitting layer 42 that emits each color of RGB is formed. The organic light emitting layer 42 has a thickness of about 100 nm.

赤色有機発光層４２Ｒは、正孔輸送層５０の凹状の表面に略並行な凹状に湾曲して形成される。又、緑色有機発光層４２Ｇは、正孔輸送層５０の平坦な表面に略並行な平坦に形成される。又、青色有機発光層４２Ｂでは、正孔輸送層５０の凸状の表面に略並行な凸状に湾曲して形成される。具体的には、先ず、正孔輸送層５０が形成されたガラス基板３２が、機能液４２ＲＡを吐出するための液滴吐出装置のステージ１１０に運ばれる。そして、当該液滴吐出装置１００は、上記正孔輸送層５０上に、ヘッド１２０の吐出部１４４から機能液４２ＲＡを吐出する。吐出された機能液４２ＲＡは、その表面張力により、凹部全体に濡れ広がらずに凸状の形状をもって配置される。この後に真空乾燥を行い、脱溶媒がされる。   The red organic light emitting layer 42 </ b> R is formed in a concave shape substantially parallel to the concave surface of the hole transport layer 50. The green organic light emitting layer 42G is formed on the flat surface of the hole transport layer 50 so as to be substantially parallel to the flat surface. Further, the blue organic light emitting layer 42 </ b> B is formed to be curved in a substantially parallel convex shape on the convex surface of the hole transport layer 50. Specifically, first, the glass substrate 32 on which the hole transport layer 50 is formed is carried to the stage 110 of the droplet discharge device for discharging the functional liquid 42RA. The droplet discharge device 100 discharges the functional liquid 42RA from the discharge unit 144 of the head 120 onto the hole transport layer 50. The discharged functional liquid 42RA is arranged with a convex shape without being wetted and spread over the entire concave portion due to the surface tension. This is followed by vacuum drying to remove the solvent.

同様にして、ステップＳ１７０では機能液４２ＧＡが、又ステップＳ１８０では機能液４２ＢＡが、それぞれ異なる凹部に吐出される。ここまでの工程を終えた状態を図９（Ｂ）に示す。それぞれの吐出工程後には、機能液４２ＲＡの場合と同様、真空乾燥が行われる。   Similarly, in step S170, the functional liquid 42GA is discharged into different recesses in step S180, and in step S180, the functional liquid 42BA is discharged. FIG. 9B shows a state after the steps so far are completed. After each discharging step, vacuum drying is performed as in the case of the functional liquid 42RA.

続くステップＳ１９０では、機能液４２ＲＡ，４２ＧＡ，４２ＢＡ（以下ではこれらをまとめて「機能液４２Ａ」とも呼ぶ）が吐出されたガラス基板３２を高温環境下に放置して焼成を行う。尚、熱処理は、窒素中、好ましくは真空中で１３０℃で１時間程度加熱する。当該焼成工程を経た後は、機能液４２Ａ中の溶媒が蒸発し、当該機能液４２Ａが吐出された領域に有機発光層４２がそれぞれ形成される。このとき、赤色有機発光層４２Ｒは、凹状の表面形状をもって形成される。緑色有機発光層４２Ｇは、平坦な表面形状をもって形成される。青色有機発光層４２Ｂは、凸状の表面形状をもって形成される。   In the subsequent step S190, the glass substrate 32 on which the functional liquids 42RA, 42GA, and 42BA (hereinafter collectively referred to as “functional liquid 42A”) are discharged is left to stand in a high temperature environment for baking. The heat treatment is performed in nitrogen, preferably in vacuum, at 130 ° C. for about 1 hour. After the firing step, the solvent in the functional liquid 42A evaporates, and the organic light emitting layer 42 is formed in the region where the functional liquid 42A is discharged. At this time, the red organic light emitting layer 42R is formed with a concave surface shape. The green organic light emitting layer 42G is formed with a flat surface shape. The blue organic light emitting layer 42B is formed with a convex surface shape.

続いて、蒸着マスクを用いてカルシウムを全面に蒸着することで、電子注入層５２を形成する。電子注入層５２の膜厚は、５ｎｍ程度の厚みを有している。ここで、蒸着マスクの寸法は、隔壁５４側の径に合わせた寸法のマスクを用いている。   Subsequently, the electron injection layer 52 is formed by vapor-depositing calcium on the entire surface using a vapor deposition mask. The electron injection layer 52 has a thickness of about 5 nm. Here, as the dimension of the vapor deposition mask, a mask having a dimension matching the diameter on the partition wall 54 side is used.

続いて、アルミニウムを全面に蒸着することで、陰極３０を形成する。陰極３０の膜厚は、３００ｎｍ程度の厚みを有している。ここまでの工程を実行することで、図９（Ｃ）に示す有機ＥＬ素子６を形成することができる。   Subsequently, the cathode 30 is formed by evaporating aluminum over the entire surface. The film thickness of the cathode 30 has a thickness of about 300 nm. By performing the steps so far, the organic EL element 6 shown in FIG. 9C can be formed.

最後に、有機ＥＬ素子６が形成されたガラス基板３２と、別途用意した封止基板とを封止樹脂を介して封止する。例えば、熱硬化樹脂又は紫外線硬化樹脂からなる封止樹脂をガラス基板３２の周縁部に塗布し、封止樹脂上に封止基板を配置する。封止工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。大気中で行うと、陰極３０にピンホール等の欠陥が生じていた場合にこの欠陥部分から水や酸素等が陰極３０に侵入して陰極３０が酸化されるおそれがあるので好ましくない。   Finally, the glass substrate 32 on which the organic EL element 6 is formed and a separately prepared sealing substrate are sealed through a sealing resin. For example, a sealing resin made of a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin is applied to the peripheral portion of the glass substrate 32, and the sealing substrate is disposed on the sealing resin. The sealing step is preferably performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen, argon, or helium. If it is carried out in the atmosphere, when a defect such as a pinhole has occurred in the cathode 30, water or oxygen may enter the cathode 30 from the defective portion and the cathode 30 may be oxidized, which is not preferable.

この後、ガラス基板３２の配線に陰極３０を接続すると共に、ガラス基板３２上或いは外部に設けられる駆動ＩＣ（駆動回路）に回路素子部（図示せず）の配線を接続することにより、本実施形態の有機ＥＬ装置２が完成する。   Thereafter, the cathode 30 is connected to the wiring of the glass substrate 32, and the wiring of the circuit element portion (not shown) is connected to a driving IC (driving circuit) provided on the glass substrate 32 or outside. The organic EL device 2 of the form is completed.

本実施形態によれば、有機発光層４２の表面が表面エネルギーのバランスによって凹凸状の表面形状をもったとしても、上記構成の有機ＥＬ素子６によれば、有機発光層４２のガラス基板３２側に形成された正孔注入層４８もこれと同様の表面形状を有している結果、膜厚が凸状の正孔注入層４８では、機能液４２Ａを周辺部へ移動し易くし、膜厚が凸状の正孔注入層４８では、機能液４２Ａを中央部へ移動し易くする。更に、膜厚が平坦状の正孔注入層４８では、機能液４２Ａの移動を少なくする。これにより、有機発光層４２は、平坦な表面或いは正孔注入層４８の表面に略並行な表面を有するので、有機発光層４２の膜厚は各画素１６内で略均一となる。このため、画素１６内における透過率にばらつきがないため、光抜けや色濃度のばらつきが生じず、良好な光学特性が実現される。   According to the present embodiment, even if the surface of the organic light emitting layer 42 has an uneven surface shape due to the balance of surface energy, according to the organic EL element 6 having the above configuration, the organic light emitting layer 42 side of the glass substrate 32 side. As a result, the hole injection layer 48 formed on the surface of the hole injection layer 48 has the same surface shape. As a result, in the hole injection layer 48 having a convex film thickness, the functional liquid 42A can be easily moved to the peripheral portion. However, the convex hole injection layer 48 makes it easy to move the functional liquid 42A to the center. Further, in the hole injection layer 48 having a flat film thickness, the movement of the functional liquid 42A is reduced. Thereby, the organic light emitting layer 42 has a flat surface or a surface substantially parallel to the surface of the hole injection layer 48, so that the film thickness of the organic light emitting layer 42 is substantially uniform in each pixel 16. For this reason, since there is no variation in the transmittance within the pixel 16, no light leakage or color density variation occurs, and good optical characteristics are realized.

ここで、上記製造工程において隔壁５４内に形成する各層の膜形状（特に表面形状）と、該膜の形成に用いる液状組成物を構成する材料の分子量及び第１部分５４ａの突出部５４ｃの膜厚との関係について詳述する。   Here, the film shape (particularly the surface shape) of each layer formed in the partition wall 54 in the manufacturing process, the molecular weight of the material constituting the liquid composition used for forming the film, and the film of the protrusion 54c of the first portion 54a The relationship with the thickness will be described in detail.

先ず、同一構成の隔壁５４を備えた基板上、つまり第１部分５４ａの突出部５４ｃの膜厚がそれぞれ同一（ここでは１００ｎｍ）の基板上に、分子量の異なる液状組成物を吐出した場合の、得られる膜の形状の違いについて説明する。このように異なる分子量の液状組成物を吐出して成膜すると、該分子量の違いにより、得られる膜の表面形状が変化することとなる。つまり、低分子量の場合は、膜が凹状となって、その断面形状がＵ字状となるのに対して、高分子量の場合は、膜が凸状となって、その断面形状が逆Ｕ字状となるのである。具体的には、分子量８０Ｋの液状組成物の膜形状が凹となり、中央付近のみが光る発光プロファイルとなり、発光ムラが増大、且つ輝度寿命が本実施形態の半分となった。又、分子量４００Ｋの液状組成物の膜形状が凸になり、隔壁付近の周囲のみが光る発光プロファイルとなり、発光ムラが増大、且つ輝度寿命が本実施形態の２／３となった。   First, when a liquid composition having a different molecular weight is discharged onto a substrate having the partition wall 54 having the same configuration, that is, a substrate having the same film thickness (in this case, 100 nm) of the protrusion 54c of the first portion 54a, The difference in the shape of the obtained film will be described. When the liquid compositions having different molecular weights are ejected in this way to form a film, the surface shape of the resulting film changes due to the difference in the molecular weight. That is, in the case of low molecular weight, the membrane is concave and the cross-sectional shape is U-shaped, whereas in the case of high molecular weight, the membrane is convex and the cross-sectional shape is inverted U-shaped. It becomes a shape. Specifically, the film shape of the liquid composition having a molecular weight of 80K is concave, and a light emission profile in which only the center is shining is obtained, light emission unevenness is increased, and the luminance life is half that of the present embodiment. In addition, the film shape of the liquid composition having a molecular weight of 400K became convex, a light emission profile in which only the vicinity of the partition wall shines, light emission unevenness increased, and the luminance life became 2/3 of this embodiment.

このような変化に基づいて考察すると、液状組成物の分子量と、突出部５４ｃの膜厚とによって、膜の形状を種々制御できることが分かる。つまり、同一分子量の液状組成物を用い、突出部５４ｃの膜厚を１００ｎｍとした場合に、表面形状が平坦な膜を形成できるが、膜厚を相対的に小さく（３０ｎｍ）することで、表面形状が凸状な膜を形成することができる。一方、膜厚を相対的に大きく（３００ｎｍ）することで、表面形状が凹状な膜を形成することができる。   Considering based on such changes, it can be seen that the shape of the film can be variously controlled by the molecular weight of the liquid composition and the film thickness of the protrusion 54c. That is, when a liquid composition having the same molecular weight is used and the film thickness of the protruding portion 54c is 100 nm, a film having a flat surface shape can be formed, but by reducing the film thickness relatively (30 nm), the surface A film having a convex shape can be formed. On the other hand, a film having a concave surface shape can be formed by relatively increasing the film thickness (300 nm).

（第２の実施形態）
上記実施形態では、各画素１６における正孔注入層４８の表面の形状は、各画素１６の有機発光層４２を構成する材料の分子量の違いにより異ならせている場合の実施形態であるが、本実施形態はこれ以外の場合にも適用可能である。 (Second Embodiment)
In the above-described embodiment, the shape of the surface of the hole injection layer 48 in each pixel 16 is an embodiment in which the shape differs depending on the molecular weight of the material constituting the organic light emitting layer 42 of each pixel 16. The embodiment can be applied to other cases.

以下では、各画素１６のガラス基板３２内での配置位置の違いにより異ならせている場合の有機ＥＬ装置４について説明する。
図１０は、本実施形態に係る有機ＥＬ装置４の平面図である。図１１は、本実施形態に係る有機ＥＬ装置４の有機ＥＬ素子８の断面図である。本実施形態に係る有機ＥＬ素子８の各画素１６における正孔注入層４８の表面の形状は、ガラス基板３２の中央部Ａ領域の正孔注入層４８（図１１（Ａ）参照）を凸状として、周辺部Ｂ領域の正孔注入層４８（図１１（Ｂ）参照）を凹状としている。つまり、中央部Ａ領域に液状組成物を吐出する画素においては突出部５４ｃの膜厚を薄くして、周辺部Ｂ領域に液状組成物を吐出する画素においては突出部５４ｃの膜厚を厚くした。例えば、ガラス基板３２の中央部Ａ領域の突出部５４ｃの膜厚を３０ｎｍとして、正孔注入層４８の膜厚を凸状とした。又、周縁部Ｂ領域の突出部５４ｃの膜厚を３００ｎｍとして、正孔注入層４８の膜厚を凹状とした。 Hereinafter, the organic EL device 4 in the case where the pixels 16 are different depending on the arrangement position in the glass substrate 32 will be described.
FIG. 10 is a plan view of the organic EL device 4 according to this embodiment. FIG. 11 is a cross-sectional view of the organic EL element 8 of the organic EL device 4 according to this embodiment. The shape of the surface of the hole injection layer 48 in each pixel 16 of the organic EL element 8 according to this embodiment is such that the hole injection layer 48 in the central region A region of the glass substrate 32 (see FIG. 11A) is convex. As shown, the hole injection layer 48 (see FIG. 11B) in the peripheral portion B region is concave. That is, the thickness of the protrusion 54c is reduced in the pixel that discharges the liquid composition to the central portion A region, and the thickness of the protrusion 54c is increased in the pixel that discharges the liquid composition to the peripheral portion B region. . For example, the film thickness of the protrusion 54c in the central part A region of the glass substrate 32 is 30 nm, and the film thickness of the hole injection layer 48 is convex. In addition, the film thickness of the protrusion 54c in the peripheral area B region was 300 nm, and the film thickness of the hole injection layer 48 was concave.

本実施形態によれば、有機発光層４２の表面が表面エネルギーのバランスによって中央部Ａ領域より周辺部Ｂ領域の方が凹の凹みが大きくなったとしても、上記構成の有機ＥＬ素子８によれば、中央部Ａ領域では、正孔注入層４８の膜厚を凸状として、機能液４２Ａを周辺部へ移動し易くし、周辺部Ｂ領域では、正孔注入層４８の膜厚形状を凹状として、機能液４２Ａを中央部へ移動し易くする。これにより、有機発光層４２は、平坦化或いは正孔注入層４８の表面に略並行な表面を有するので、有機発光層４２の膜厚は各画素１６内で略均一となる。このため、画素１６内における透過率にばらつきがないため、光抜けや色濃度のばらつきが生じず、良好な光学特性が実現される。   According to this embodiment, even if the surface of the organic light emitting layer 42 has a concave dent larger in the peripheral portion B region than in the central portion A region due to the balance of surface energy, the organic EL element 8 of the above configuration is used. For example, in the central part A region, the film thickness of the hole injection layer 48 is convex to facilitate the movement of the functional liquid 42A to the peripheral part, and in the peripheral part B area, the film thickness shape of the hole injection layer 48 is concave. As a result, the functional liquid 42A is easily moved to the central portion. Thereby, the organic light emitting layer 42 has a surface substantially parallel to the surface of the flattened or hole injection layer 48, so that the film thickness of the organic light emitting layer 42 is substantially uniform in each pixel 16. For this reason, since there is no variation in the transmittance within the pixel 16, no light leakage or color density variation occurs, and good optical characteristics are realized.

（電子機器）
次に、上記した有機ＥＬ素子６（８）を含む有機ＥＬ装置２（４）を備える電子機器について説明する。
図１２（Ａ）〜（Ｃ）は、上記した有機ＥＬ素子６（８）を含む有機ＥＬ装置２（４）を備える電子機器の斜視図である。図１２（Ａ）に、有機ＥＬ装置２（４）を備えたモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す。パーソナルコンピュータ２００は、有機ＥＬ装置２（４）と本体部２０２を備える。本体部２０２には、電源スイッチ２０４及びキーボード２０６が設けられている。 (Electronics)
Next, an electronic apparatus including the organic EL device 2 (4) including the organic EL element 6 (8) described above will be described.
12A to 12C are perspective views of an electronic apparatus including the organic EL device 2 (4) including the organic EL element 6 (8) described above. FIG. 12A shows the configuration of a mobile personal computer provided with the organic EL device 2 (4). The personal computer 200 includes an organic EL device 2 (4) and a main body 202. The main body unit 202 is provided with a power switch 204 and a keyboard 206.

図１２（Ｂ）には、有機ＥＬ装置２（４）を備えた携帯電話機の構成を示す。携帯電話機２１０は、複数の操作ボタン２１２及びスクロールボタン２１４、並びに表示ユニットとしての有機ＥＬ装置２（４）を備える。スクロールボタン２１４を操作することによって、有機ＥＬ装置２（４）に表示される画面がスクロールされる。   FIG. 12B shows a configuration of a mobile phone provided with the organic EL device 2 (4). The cellular phone 210 includes a plurality of operation buttons 212, scroll buttons 214, and an organic EL device 2 (4) as a display unit. By operating the scroll button 214, the screen displayed on the organic EL device 2 (4) is scrolled.

図１２（Ｃ）に、有機ＥＬ装置２（４）を適用した情報携帯端末ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）の構成を示す。情報携帯端末２２０は、複数の操作ボタン２２２及び電源スイッチ２２４、並びに表示ユニットとしての有機ＥＬ装置２（４）を備える。電源スイッチ２２４を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が有機ＥＬ装置２（４）に表示される。   FIG. 12C shows the configuration of an information portable terminal PDA (Personal Digital Assistants) to which the organic EL device 2 (4) is applied. The information portable terminal 220 includes a plurality of operation buttons 222, a power switch 224, and an organic EL device 2 (4) as a display unit. When the power switch 224 is operated, various kinds of information such as an address book and a schedule book are displayed on the organic EL device 2 (4).

尚、有機ＥＬ装置２（４）が搭載される電子機器としては、図１２（Ａ）〜（Ｃ）に示すものの他、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、前述した有機ＥＬ装置２（４）が適用可能である。
本実施形態によれば、有機ＥＬ装置２（４）を表示部に備えることにより、当該表示部において高品位な表示を行うことができる。 In addition, as an electronic device on which the organic EL device 2 (4) is mounted, in addition to those shown in FIGS. 12A to 12C, a digital still camera, a liquid crystal television, a viewfinder type, a monitor direct view type video tape recorder. , A car navigation device, a pager, an electronic notebook, a calculator, a word processor, a workstation, a video phone, a POS terminal, a device equipped with a touch panel, and the like. The organic EL device 2 (4) described above can be applied as a display unit of these various electronic devices.
According to this embodiment, by providing the organic EL device 2 (4) in the display unit, high-quality display can be performed on the display unit.

以上、実施形態について説明したが、変形例としては、例えば以下のようなものが考えられる。   The embodiment has been described above. As a modification, for example, the following can be considered.

（変形例１）
上記実施形態において、有機発光層４２の形成は一度の機能液４２Ａの吐出及び焼成によって行われるが、これに代えて、機能液４２Ａの吐出及び焼成を複数回繰り返すことによって形成してもよい。このとき、正孔注入層４８は、その表面形状が、有機発光層４２が最終的に有する表面形状と略並行となるように形成する。 (Modification 1)
In the above embodiment, the organic light emitting layer 42 is formed by discharging and firing the functional liquid 42A once. Alternatively, the organic light emitting layer 42 may be formed by repeating discharge and firing of the functional liquid 42A a plurality of times. At this time, the hole injection layer 48 is formed so that its surface shape is substantially parallel to the surface shape that the organic light emitting layer 42 finally has.

（変形例２）
上記実施形態の有機ＥＬ素子６（８）は、赤、緑、青の３色の有機発光層４２及び画素１６を有するが、これに代えて、４色以上の発光層及び画素を有する構成であってもよい。例えば、赤、緑、青、シアンの４色による構成とすることができる。 (Modification 2)
The organic EL element 6 (8) of the above embodiment has the organic light emitting layer 42 and the pixel 16 of three colors of red, green, and blue, but instead of this, the light emitting layer and the pixel of four or more colors are included. There may be. For example, it can be configured by four colors of red, green, blue, and cyan.

（変形例３）
上記実施形態では、平面視にて円形形状を持つ有機ＥＬ素子６（８）について説明したが、これは長方形や、長方形の角を丸めた形状や、楕円その他任意の形状を用いてもよい。この場合には、有機ＥＬ素子６（８）に対する形状の自由度を向上させることが可能となり、有機ＥＬ素子６（８）の形状設計に関して自由度を向上させることができる。又、有機ＥＬ素子６（８）の配置はデルタ配列に限られるものではなく、例えばマトリクス状の配列を用いてもよい。特に、マトリクス状の配列を用いた場合、テレビ等に用いられる画像信号を直接入力することが可能となるため、好適である。 (Modification 3)
In the above embodiment, the organic EL element 6 (8) having a circular shape in plan view has been described. However, a rectangular shape, a shape obtained by rounding corners of the rectangle, an ellipse, or any other shape may be used. In this case, the degree of freedom of shape with respect to the organic EL element 6 (8) can be improved, and the degree of freedom regarding the shape design of the organic EL element 6 (8) can be improved. Further, the arrangement of the organic EL elements 6 (8) is not limited to the delta arrangement, and for example, a matrix arrangement may be used. In particular, when a matrix arrangement is used, an image signal used for a television or the like can be directly input, which is preferable.

（変形例４）
上記実施形態では、有機発光層４２と電子注入層５２を直接接触させているが、有機発光層４２と電子注入層５２との間に正孔ブロック層を形成してもよい。この場合、有機発光層４２から正孔がオーバーフローする現象を抑制することが可能となり、有機発光層４２の発光効率を向上させることが可能となる。 (Modification 4)
In the above embodiment, the organic light emitting layer 42 and the electron injection layer 52 are in direct contact, but a hole blocking layer may be formed between the organic light emitting layer 42 and the electron injection layer 52. In this case, the phenomenon that holes overflow from the organic light emitting layer 42 can be suppressed, and the light emission efficiency of the organic light emitting layer 42 can be improved.

（変形例５）
上記実施形態では、有機ＥＬ素子６（８）としてボトムエミッション型の構造を有するものについて説明したが、これはトップエミッション型に容易に変更が可能である。例えば、陰極３０をＭｇＡｇ等の透光性を有する層に代え、層間絶縁層４４とガラス基板３２との間にアルミニウム等を用いた反射層を配置することで構成することが可能である。 (Modification 5)
In the above embodiment, the organic EL element 6 (8) has been described as having a bottom emission type structure, but this can be easily changed to the top emission type. For example, the cathode 30 can be configured by replacing the light-transmitting layer such as MgAg with a reflective layer using aluminum or the like between the interlayer insulating layer 44 and the glass substrate 32.

（変形例６）
上記実施形態では、画素１６に機能液を充填させる方法として液滴吐出法に限定されず、例えば、ディスペンサ塗布法を用いるようにしてもよい。 (Modification 6)
In the above embodiment, the method for filling the pixels 16 with the functional liquid is not limited to the droplet discharge method, and for example, a dispenser coating method may be used.

（変形例７）
本実施の形態では、有機ＥＬ装置に限定されず、製造する際、バンクに液体を充填させる工程を有するものであればよく、例えば、カラーフィルタを有する液晶装置、プラズマディスプレイ、電子ペーパー等に適用することができる。 (Modification 7)
In the present embodiment, the present invention is not limited to an organic EL device, and any device that has a step of filling a bank with a liquid when manufacturing may be used. can do.

第１の実施形態に係る有機ＥＬ装置の配線構造を示す模式図。The schematic diagram which shows the wiring structure of the organic electroluminescent apparatus which concerns on 1st Embodiment. 第１の実施形態に係る有機ＥＬ装置の平面図。1 is a plan view of an organic EL device according to a first embodiment. 第１の実施形態に係る有機ＥＬ装置の隔壁を示す断面図。Sectional drawing which shows the partition of the organic electroluminescent apparatus which concerns on 1st Embodiment. 液滴吐出装置を示す模式斜視図。The model perspective view which shows a droplet discharge device. 液滴吐出装置におけるヘッドの一部を示し、（Ａ）は模式斜視図、（Ｂ）は断面図。A part of head in a droplet discharge device is shown, (A) is a typical perspective view, and (B) is a sectional view. 液滴吐出装置における制御部の機能ブロック図。The functional block diagram of the control part in a droplet discharge apparatus. 第１の実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法を示す工程図。Process drawing which shows the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus which concerns on 1st Embodiment. 第１の実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造工程における有機ＥＬ素子の断面図。Sectional drawing of the organic EL element in the manufacturing process of the organic EL apparatus which concerns on 1st Embodiment. 第１の実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造工程における有機ＥＬ素子の断面図。Sectional drawing of the organic EL element in the manufacturing process of the organic EL apparatus which concerns on 1st Embodiment. 第２の実施形態に係る有機ＥＬ装置の平面図。The top view of the organic electroluminescent apparatus which concerns on 2nd Embodiment. 第２の実施形態に係る有機ＥＬ装置の有機ＥＬ素子の断面図。Sectional drawing of the organic EL element of the organic EL apparatus which concerns on 2nd Embodiment. 本実施形態に係る有機ＥＬ装置を備える電子機器の斜視図。The perspective view of an electronic device provided with the organic electroluminescent apparatus concerning this embodiment. 液滴吐出法を用いて製造された従来の有機ＥＬ素子の断面図。Sectional drawing of the conventional organic EL element manufactured using the droplet discharge method.

符号の説明Explanation of symbols

２，４…有機ＥＬ装置 ６，８…有機ＥＬ素子 １０…走査線 １２…信号線 １４…電源線 １６…画素（画素部）（発光領域） １８…データ線駆動回路 ２０…走査線駆動回路 ２２…ＴＦＴ ２４…保持容量 ２６…ＴＦＴ ２８…陽極 ２９…開口部 ３０…陰極 ３２…基板（ガラス基板） ３４…実表示領域 ３６…インターフェース ３８…ダミー領域 ４０…検査回路 ４２…有機発光層（発光層） ４４…層間絶縁層 ４８…正孔注入層（機能層） ５０…正孔輸送層 ５２…電子注入層 ５４…隔壁 １００…液滴吐出装置 １０２…液状の材料 １０４…タンク １０６…チューブ １０８…吐出ヘッド部 １１０…ステージ １１２…第１位置制御装置 １１４…第２位置制御装置 １１６…制御部 １１８…支持部 １２０…ヘッド １２２…ノズル １２４…振動板 １２６…ノズルプレート １２８…液たまり １３０…孔 １３２…隔壁部 １３４…キャビティ １３６…供給口 １３８…振動子 １４０…ピエゾ素子 １４４…吐出部 １４６…入力バッファメモリ １４８…記憶装置 １５０…処理部 １５２…走査駆動部 １５４…ヘッド駆動部 ２００…パーソナルコンピュータ ２０２…本体部 ２０４…電源スイッチ ２０６…キーボード ２１０…携帯電話機 ２１２…操作ボタン ２１４…スクロールボタン ２２０…情報携帯端末 ２２２…操作ボタン ２２４…電源スイッチ。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 2,4 ... Organic EL apparatus 6,8 ... Organic EL element 10 ... Scanning line 12 ... Signal line 14 ... Power supply line 16 ... Pixel (pixel part) (light emission area) 18 ... Data line drive circuit 20 ... Scanning line drive circuit 22 ... TFT 24 ... Retention capacitor 26 ... TFT 28 ... Anode 29 ... Aperture 30 ... Cathode 32 ... Substrate (glass substrate) 34 ... Real display area 36 ... Interface 38 ... Dummy area 40 ... Inspection circuit 42 ... Organic light emitting layer (light emitting layer) 44 ... Interlayer insulating layer 48 ... Hole injection layer (functional layer) 50 ... Hole transport layer 52 ... Electron injection layer 54 ... Partition 100 ... Droplet discharge device 102 ... Liquid material 104 ... Tank 106 ... Tube 108 ... Discharge Head unit 110 ... Stage 112 ... First position control device 114 ... Second position control device 116 ... Control unit 118 ... Support unit 120 ... Head 1 DESCRIPTION OF SYMBOLS 2 ... Nozzle 124 ... Diaphragm 126 ... Nozzle plate 128 ... Liquid pool 130 ... Hole 132 ... Partition part 134 ... Cavity 136 ... Supply port 138 ... Vibrator 140 ... Piezo element 144 ... Discharge part 146 ... Input buffer memory 148 ... Memory | storage device DESCRIPTION OF SYMBOLS 150 ... Processing part 152 ... Scanning drive part 154 ... Head drive part 200 ... Personal computer 202 ... Main-body part 204 ... Power switch 206 ... Keyboard 210 ... Mobile phone 212 ... Operation button 214 ... Scroll button 220 ... Information portable terminal 222 ... Operation button 224 ... Power switch.

Claims (10)

複数の発光領域を有する有機ＥＬ装置であって、
基板と、
前記基板の一方の面のうち前記複数の発光領域を除いた領域の少なくとも一部に形成されると共に、前記複数の発光領域のそれぞれを取り囲むように形成される隔壁と、
前記隔壁に囲まれた開口部に配置され、表面の少なくとも一部が前記基板に並行な平面に対して傾斜して形成される機能層と、
前記機能層上に配置され、前記機能層の表面に略並行な表面を有する発光層と、
を含み、
前記隔壁は、第１部分と第２部分とを有し、
前記第１部分は、前記基板面内において、複数の異なる膜厚を有することを特徴とする有機ＥＬ装置。 An organic EL device having a plurality of light emitting regions,
A substrate,
A partition formed on at least a part of a region of the one surface of the substrate excluding the plurality of light emitting regions and formed so as to surround each of the plurality of light emitting regions;
A functional layer disposed in an opening surrounded by the partition wall, wherein at least a part of the surface is inclined with respect to a plane parallel to the substrate;
A light emitting layer disposed on the functional layer and having a surface substantially parallel to the surface of the functional layer;
Including
The partition has a first portion and a second portion,
The organic EL device according to claim 1, wherein the first portion has a plurality of different film thicknesses within the substrate surface. 請求項１に記載の有機ＥＬ装置において、
前記第１部分は、特性の異なる複数層で構成され、前記基板面内において、複数の異なる層数を有することを特徴とする有機ＥＬ装置。 The organic EL device according to claim 1,
The first portion is composed of a plurality of layers having different characteristics, and has a plurality of different layers in the substrate surface. 請求項１又は２に記載の有機ＥＬ装置において、
前記機能層は、前記基板面内において、複数の異なる前記傾斜面を有することを特徴とする有機ＥＬ装置。 The organic EL device according to claim 1 or 2,
The organic EL device according to claim 1, wherein the functional layer has a plurality of different inclined surfaces in the substrate surface. 請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置において、
前記傾斜面は、前記発光領域の中央部近傍を頂点とする凸状に湾曲して形成されていることを特徴とする有機ＥＬ装置。 In the organic EL device according to any one of claims 1 to 3,
The organic EL device according to claim 1, wherein the inclined surface is formed in a convex shape having a vertex near the center of the light emitting region. 請求項１〜４のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置において、
前記傾斜面は、前記発光領域の中央部近傍を底部とする凹状に湾曲して形成されていることを特徴とする有機ＥＬ装置。 In the organic EL device according to any one of claims 1 to 4,
2. The organic EL device according to claim 1, wherein the inclined surface is formed in a concave shape having a bottom near the center of the light emitting region. 請求項１〜５のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置において、
前記傾斜面は、平坦に形成されていることを特徴とする有機ＥＬ装置。 In the organic EL device according to any one of claims 1 to 5,
The organic EL device, wherein the inclined surface is formed flat. 請求項１〜６のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置において、
前記傾斜面は、前記発光層の分子量により異なることを特徴とする有機ＥＬ装置。 In the organic EL device according to any one of claims 1 to 6,
The organic EL device according to claim 1, wherein the inclined surface varies depending on a molecular weight of the light emitting layer. 請求項１〜７のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置において、
前記傾斜面は、前記基板の中央部近傍と周辺部近傍とで異なることを特徴とする有機ＥＬ装置。 In the organic EL device according to any one of claims 1 to 7,
The organic EL device according to claim 1, wherein the inclined surface is different between a vicinity of a central portion and a vicinity of a peripheral portion of the substrate. 請求項１〜８のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置において、
各前記発光領域及び該発光領域に配置される前記発光層は、３種又は４種以上の異なる色のいずれかに対応することを特徴とする有機ＥＬ装置。 In the organic EL device according to any one of claims 1 to 8,
Each of the light emitting regions and the light emitting layer disposed in the light emitting region corresponds to any of three or four or more different colors. 請求項１〜９のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置を備えることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the organic EL device according to claim 1.
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