JP2010073289A - 磁気ディスク用基板および磁気ディスク - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板の外周端面13付近の***部の頂点と沈降部の頂点との位置関係を所定の範囲に管理すると共に、その***部の頂点と沈降部の頂点との位置関係の基板の面内におけるばらつきを所定の範囲内に管理することで、ヘッドクラッシュを防止できる磁気ディスク用基板を提供する。
【選択図】図1
Description
しかしながら、上記のように管理された磁気ディスク用基板を用いて、磁気ディスクを生産し、ハードディスクを製造した結果、ヘッドクラッシュが多発するという問題が生じた。
また、本発明にかかる磁気ディスクは、上記磁気ディスク用基板と、前記磁気ディスク用基板上に形成された磁気記録層とを具備することを特徴とする。
また、第一極点23を通り基準線25と平行な線と、第二極点24を通り基準線25と平行な線との距離(図2にhで示す)が1nm以上40nm以下であり、かつ、主表面12上の全周における当該距離のばらつきが20nm以下となっている。
磁気ディスク用基板の製造においては、(1)形状加工工程及び第1ラッピング工程、(2)端部形状工程(穴部を形成するコアリング工程、端部(外周端部及び内周端部)に面取り面を形成するチャンファリング工程(面取り面形成工程))、(3)端面研磨工程(外周端部及び内周端部)、(4)第2ラッピング工程、(5)主表面研磨工程(第1及び第2研磨工程)を備えている。なお、磁気ディスク用基板がガラス基板である場合においては、主表面研磨工程の後に必要に応じて化学強化工程がある。また、端部研磨工程と第2ラッピング工程とは前後する場合もある。
以下に、本発明を適用した磁気ディスク用基板及び磁気ディスクの製造方法について実施例を説明する。この磁気ディスク用基板及び磁気ディスクは、3.5インチ型ディスク(φ89mm)、2.5インチ型ディスク(φ65mm)などの所定の形状を有する磁気ディスクとして製造される。
本実施例に係る磁気ディスク用基板の製造方法においては、まず、板状ガラスの表面をラッピング(研削)加工してガラス母材とし、このガラス母材を切断してガラスディスクを切り出す。板状ガラスとしては、様々な板状ガラスを用いることができる。この板状ガラスは、例えば、溶融ガラスを材料として、プレス法やフロート法、ダウンドロー法、リドロー法、フュージョン法など、公知の製造方法を用いて製造することができる。これらのうち、プレス法を用いれば、板状ガラスを廉価に製造することができる。
次に、ダイヤモンドカッタを用いてガラス母材を切断し、このガラス母材から円盤状のガラス基板を切り出した。次に、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板とした(コアリング)。そして内周端面および外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施した(フォーミング、チャンファリング)。
次に、得られたガラス基板の両主表面について、第1ラッピング工程と同様に、第2ラッピング加工を行った。この第2ラッピング工程を行うことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
次に、ガラス基板の外周端面および内周端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行った。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー(遊離砥粒)を用いた。そして、端面研磨工程を終えたガラス基板を水洗浄した。この端面研磨工程により、ガラス基板の端面は、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止できる鏡面状態に加工された。
主表面研磨工程として、まず第1研磨工程を施した。この第1研磨工程は、前述のラッピング工程において主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。この第1研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面の研磨を行った。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いた。
次に、前述のラッピング工程および研磨工程を終えたガラス基板に、化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を400℃に加熱しておくとともに、洗浄済みのガラス基板を300℃に予熱し、化学強化溶液中に約3時間浸漬することによって行った。この浸漬の際には、ガラス基板の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるように、ホルダに収納した状態で行った。
次に、最終研磨工程として、第2研磨工程を施した。この第2研磨工程は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。この第2研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、主表面の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第1研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒(平均粒子径0.8μm)を用いた。この第2研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、IPAの各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には、超音波を印加した。
上述した工程を経て得られたガラス基板の両面に、ガラス基板の表面にCr合金からなる付着層、CoTaZr基合金からなる軟磁性層、Ruからなる下地層、グラニュラー構造を有する非磁性下地層、CoCrPt系合金からなるグラニュラー構造を有する垂直磁気記録層、炭化水素からなる保護層、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造した。より具体的には、インライン型スパッタリング装置を用いて、ガラス基板の上に、CrTiの付着層、CoTaZr/Ru/CoTaZrの軟磁性層、Ruの中間層、CoCrSiO2の非磁性グラニュラー下地層、CoCrPt-SiO2・TiO2のグラニュラー磁性層、水素化カーボン保護膜を順次成膜し、さらに、ディップ法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層を成膜して磁気ディスクを得た。
また、上記磁気ディスクを装置に組み込むことにより磁気ディスク装置を製造した。なお、磁気ディスク装置の構成については、公知であるのでここでは詳細な説明は省略する。
それぞれの磁気ディスク用基板について、主表面の外周端面付近の形状を触針式の測定器(ミツトヨ製SV3000)を用いて測定した。具体的には、所定の半径上における***部のうち最も高い位置である第一極点と沈降部のうち最も低い位置である第二極点の位置をそれぞれ測定した。それら第一極点と第二極点の位置から、第一極点と第二極点の垂直方向の距離(すなわち、第一極点を通り基板の基準線と平行な線と第二極点を通り基板の基準線と平行な線との距離)を高さとして計算した(図2にhで示す)。なお、基準線とは、基板の中心から端面までの長さをdとした場合の、基板の中心から0.4dの位置の主表面上の点と、基板の中心から0.6dの位置の主表面上の点とを結ぶ直線とした。同様に、上記第一極点と第二極点の位置から、第一極点と第二極点を結ぶ直線と基準線とのなす角αを計算した。
同様の測定を、半径の方向を30度ずつ回転させながら合計12か所で測定し、それぞれのばらつき(各測定値の平均値と、各測定値との差の絶対値)を測定した。また、極点位置のばらつきとして、第1極点及び第2極点の半径方向の位置のばらつきも同様に計算した。
上記したように、実施例1、実施例2及び比較例1にかかる磁気ディスク用基板上に磁性層を形成した磁気ディスクをそれぞれ製造した後、磁気ディスク装置を製造し、ロードアンロード試験を行った。なお、この試験は、磁気ディスクにした状態で試験を行っている。具体的には、記録ヘッドの浮上量を8nmに設定し、ディスクの回転数を5400rpmと7200rpmとの2つの場合において試験を行った。
実施例1、実施例2および比較例1で得られた磁気ディスクに対してモジュレーション試験を行った。具体的には、2.5インチ(外径65mmφ)におけるガラス基板の中心からの距離が29.9mm(R1)から31.5mmの点(R2)までの間の領域におけるモジュレーションを測定した。
(1)電磁変換特性測定機(グーシック テクニカル エンタープライズ社)に磁気ディスクをセットし、磁気ヘッド(DFH(dynamic flying height)ヘッド)を磁気ディスク上にロード後、MFパターン(ハードディスクで使用する高周波数の半分の周波数)を書き込む。
(2)読出し信号をオシロスコープに入力する。
(3)そして、上記範囲内の任意の半径位置におけるセクタごとの、モジュレーションを求める。
12 主表面
13 外周端面
14 内周端面
15 面取面
21 ***部
22 沈降部
23 第一極点
24 第二極点
Claims (3)
- 円環状の基板であって、二つの主表面と、端面と、前記主表面と端面との間に形成された面取面と、前記主表面上の周縁に形成された、前記周縁以外の前記主表面上の平坦面に対して***した***部と、前記主表面上の周縁に形成された、前記平坦面に対して沈降した沈降部とを有し、
基板断面から見たとき、前記基板の一つの主表面の、前記***部の***が最大となる点を第一極点とし、前記沈降部の沈降が最大となる点を第二極点とし、基板の中心から端面までの長さをdとし、基板の中心から0.4dの位置の前記主表面上の点と、基板の中心から0.6dの位置の前記主表面上の点とを結ぶ直線を基準線とし、
前記第一極点と前記第二極点とを結ぶ直線と、前記基準線とがなす角の角度が0.003度以下であり、前記主表面上の全周における前記角度のばらつきは0.003未満であり、
前記第一極点を通り前記基準線と平行な線と、前記第二極点を通り前記基準線と平行な線との距離が1nm以上40nm以下であり、前記主表面上の全周における前記距離のばらつきは20nm以下である磁気ディスク用基板。 - 前記磁気ディスク用基板が、アルミノシリケートガラスで構成されている請求項1記載の磁気ディスク用基板。
- 請求項1又は2記載の磁気ディスク用基板と、前記磁気ディスク用基板上に形成された磁気記録層とを具備する磁気ディスク。
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