JP2010070785A - Mask-cleaning apparatus for organic el, apparatus for manufacturing organic el display, organic el display, and mask-cleaning method for organic el - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleaning apparatus for removing a vapor deposit which has deposited on a mask for an organic EL, in a completely noncontact state against a substrate. <P>SOLUTION: The mask-cleaning apparatus 1 for removing a vapor deposition substance 20 that has deposited on the mask 2 that has a plurality of apertures formed therein for the organic EL scans a laser beam which has been oscillated in and emitted from a laser beam source 15 onto the surface of the mask 2 for the organic EL in a Y-direction while using a galvano-mirror 16, and scans the whole surface of the mask sheet by moving the mask in an X-direction with a moving section 14. The mask-cleaning apparatus 1 also has a blower portion 17 and a suction portion 18 which forms an air flow in the upper part of the mask 2 for the organic EL, and cleans the mask by crushing the vapor deposition substance 20 by laser scanning, makes the liberated product scatter toward the upper part, and makes the air flow transport the liberated product to remove the product. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、レーザの照射により有機ＥＬ用マスクのクリーニングを行う有機ＥＬ用マスククリーニング装置、有機ＥＬディスプレイの製造装置、有機ＥＬディスプレイおよび有機ＥＬ用マスククリーニング方法に関するものである。   The present invention relates to an organic EL mask cleaning apparatus, an organic EL display manufacturing apparatus, an organic EL display, and an organic EL mask cleaning method for cleaning an organic EL mask by laser irradiation.

有機ＥＬ（Electro Luminescence）ディスプレイは、バックライトを必要としない低消費電力・軽量薄型の画像表示装置として多く利用されている。その構造としては、透明性のガラス基板上に有機ＥＬ薄膜層を積層しており、有機ＥＬ薄膜層は発光層を陽極層と陰極層とにより挟み込む構造を採用している。発光層はガラス基板上に有機材料を蒸着させて薄膜として形成するものが多く用いられており、ディスプレイを構成する各画素の領域を３分割してＲＧＢの３色の有機材料を蒸着させている。従って、各画素の３つの領域に異なる色の有機材料（有機色素材料）を蒸着させるために多数の開口部を形成した有機ＥＬ用マスク（シャドーマスク）を用いて蒸着を行う。この有機ＥＬ用マスクを画素ピッチ分ずつずらしながら、各色の蒸着物質を蒸着させていくことにより、発光層の蒸着プロセスが完了する。   2. Description of the Related Art Organic EL (Electro Luminescence) displays are widely used as low power consumption, lightweight, and thin image display devices that do not require a backlight. As the structure, an organic EL thin film layer is laminated on a transparent glass substrate, and the organic EL thin film layer adopts a structure in which a light emitting layer is sandwiched between an anode layer and a cathode layer. The light emitting layer is often formed as a thin film by vapor-depositing an organic material on a glass substrate, and each pixel region constituting the display is divided into three to deposit organic materials of three colors of RGB. . Therefore, vapor deposition is performed using an organic EL mask (shadow mask) in which a large number of openings are formed in order to deposit different color organic materials (organic dye materials) in the three regions of each pixel. The deposition process of the light emitting layer is completed by depositing each color deposition material while shifting the organic EL mask by the pixel pitch.

蒸着プロセスを行うときには、ガラス基板だけではなく有機ＥＬ用マスクにも有機材料が付着する。有機ＥＬ用マスクは１つの蒸着プロセスだけに使用されるのではなく繰り返し使用されることから、次の蒸着プロセスを行うときに有機ＥＬ用マスクに蒸着物質が付着していると、新たなガラス基板に蒸着物質が付着してしまうおそれがある。また、有機ＥＬ用マスクに多数形成した開口部のエッジ部分にも有機材料が蒸着して、開口部の面積を部分的にまたは全面的に閉塞させる。開口部の全部を塞いだ場合はもちろん、部分的に塞ぐことにより開口面積に変化が生じただけでも、当該有機ＥＬ用マスクを用いた場合の蒸着精度は著しく低下し、また使用に耐え得るものではなくなる。従って、有機ＥＬ用マスクを定期的に（好ましくは、１つの蒸着プロセスを完了した後に）クリーニングして、蒸着物質の除去を行っている。   When performing the vapor deposition process, the organic material adheres not only to the glass substrate but also to the organic EL mask. Since the mask for organic EL is not used only for one vapor deposition process but is used repeatedly, if a vapor deposition material adheres to the mask for organic EL when performing the next vapor deposition process, a new glass substrate will be used. There is a risk that the deposition material will adhere to the surface. In addition, an organic material is deposited on edge portions of the openings formed in the organic EL mask so that the area of the openings is partially or entirely blocked. Of course, if the entire area of the opening is blocked, or even if the area of the opening changes due to partial blocking, the deposition accuracy when using the organic EL mask is significantly reduced and it can be used. Is not. Therefore, the organic EL mask is periodically cleaned (preferably after completion of one vapor deposition process) to remove the vapor deposition material.

有機ＥＬ用マスクのクリーニングとしては、界面活性剤等を用いたウェットクリーニングが主に行われている。ウェットクリーニングは有機ＥＬ用マスクに対して液体を供給して行うクリーニングである。しかし、クリーニングされる有機ＥＬ用マスクはミクロンオーダー（数十ミクロン程度）の極薄の金属板であり、ウェットクリーニング時に液圧が作用することにより歪みや変形等の大きなダメージが有機ＥＬ用マスクに与えられる。また、界面活性剤等の薬液を用いてウェットクリーニングを行うと、薬液供給機構および使用済みの薬液（排液）を処理する排液処理機構を要するため機構が複雑化し、また排液による環境汚染の問題もある。   As cleaning of the organic EL mask, wet cleaning using a surfactant or the like is mainly performed. Wet cleaning is cleaning performed by supplying a liquid to the organic EL mask. However, the organic EL mask to be cleaned is an ultrathin metal plate on the order of microns (several tens of microns), and a large amount of damage such as distortion or deformation is caused to the organic EL mask by the action of liquid pressure during wet cleaning. Given. In addition, when wet cleaning is performed using chemicals such as surfactants, a chemical solution supply mechanism and a drainage treatment mechanism for processing used chemicals (drainage) are required, which complicates the mechanism and causes environmental pollution due to drainage. There is also a problem.

一方、ウェットクリーニングの薬液を用いないクリーニングとして、有機ＥＬ用マスクに対してレーザを照射して行うクリーニング（レーザクリーニング）に関する技術が特許文献１に開示されている。レーザを金属素材の有機ＥＬ用マスクに照射することにより、有機ＥＬ用マスクと有機材料との間に剥離力を作用させている。特許文献１の技術は、この剥離力により有機ＥＬ用マスクから有機材料を除去してクリーニングを行うものである。
特開２００６−１６９５７３号公報 On the other hand, Patent Document 1 discloses a technique relating to cleaning (laser cleaning) performed by irradiating a laser to an organic EL mask as cleaning without using a chemical solution for wet cleaning. By irradiating the organic EL mask made of metal with a laser, a peeling force is applied between the organic EL mask and the organic material. The technique of Patent Document 1 is to perform cleaning by removing the organic material from the organic EL mask by this peeling force.
JP 2006-169573 A

特許文献１の技術では、有機ＥＬ用マスクにレーザを照射して付着した有機材料を剥離させているが、クリーニングを行う槽内或いは大気の汚染を防止するために、剥離後の有機材料が有機ＥＬ用マスクから離間しないようにしている。このため、剥離後の有機材料を除去するために、粘着性のフィルムを用いている。このフィルムには、剥離した有機材料を転写するために粘着力を持たせており、フィルムを有機ＥＬ用マスクに貼り付けた状態でレーザを照射し、剥離した蒸着物質をフィルムに転写させている。そして、有機材料が転写したフィルムを有機ＥＬ用マスクから剥離することにより、クリーニングプロセスを完了する。   In the technique of Patent Document 1, the organic material attached to the organic EL mask by irradiating the laser is peeled off, but the organic material after peeling is organic in order to prevent contamination in the cleaning tank or the atmosphere. It is set so as not to be separated from the EL mask. For this reason, in order to remove the organic material after peeling, an adhesive film is used. This film has an adhesive force to transfer the peeled organic material, and the film is attached to an organic EL mask and irradiated with a laser to transfer the peeled vapor deposition material to the film. . And the cleaning process is completed by peeling the film which the organic material transcribe | transferred from the mask for organic EL.

前述したように、有機ＥＬ用マスクは極薄の金属板であり、極めて微小な力が作用しただけでも、歪みや変形等を生じてダメージが与えられる。しかも、近年の有機ＥＬディスプレイの大画面化に伴い、有機ＥＬ用マスクのサイズも大型になっており、大型且つ極薄の有機ＥＬ用マスクの取り扱いは極めてデリケートにしなければならない。特許文献１の技術では、有機ＥＬ用マスクからのフィルムの剥離は粘着力に抗して引き剥がすようにして行なっているため、有機ＥＬ用マスクに過剰な力が作用する。その結果、有機ＥＬ用マスクには甚大なダメージが与えられる。   As described above, the organic EL mask is an extremely thin metal plate, and even if a very small force is applied, the organic EL mask is distorted or deformed, and is damaged. Moreover, with the recent increase in the screen size of organic EL displays, the size of organic EL masks has also increased, and handling of large and extremely thin organic EL masks must be extremely delicate. In the technique of Patent Document 1, since peeling of the film from the organic EL mask is performed against the adhesive force, excessive force acts on the organic EL mask. As a result, the organic EL mask is seriously damaged.

つまり、特許文献１では、レーザにより有機ＥＬ用マスクから有機材料を剥離するものの、剥離した有機材料を除去するためにフィルムを有機ＥＬ用マスクに接触させており、結局は非接触でクリーニングが完了するものではない。また、フィルムとしてはレーザが透過する素材（ポリエチレンテレフタレート）を用いているが、透過性のフィルムを用いたとしてもレーザに減衰は生じる。このため、十分なエネルギーを有機ＥＬ用マスクに対して与えられず、高いクリーニング効果を発揮できなくなるおそれもある。そして、フィルムの貼り付けおよび剥離を行うための専用の機構を要するため、機構が複雑化し、また装置が大型化になるという問題もある。特に、有機ＥＬ用マスクが大型サイズになればフィルムのサイズも大型になり、機構の複雑化・装置の大型化といった問題はより顕著になる。   That is, in Patent Document 1, although the organic material is peeled off from the organic EL mask by a laser, the film is brought into contact with the organic EL mask in order to remove the peeled organic material. Not what you want. Moreover, although the material (polyethylene terephthalate) which a laser permeate | transmits is used as a film, even if it uses a transparent film, attenuation | damping will arise in a laser. For this reason, there is a possibility that sufficient energy cannot be given to the organic EL mask and a high cleaning effect cannot be exhibited. And since the mechanism for exclusive use for sticking and peeling of a film is required, there exists a problem that a mechanism becomes complicated and an apparatus becomes large. In particular, if the organic EL mask becomes a large size, the size of the film also increases, and problems such as a complicated mechanism and a large apparatus become more prominent.

そこで、本発明は、有機ＥＬ用マスクに付着した蒸着物を除去するクリーニングを行うときに、基板に対して完全に非接触状態で蒸着物を除去することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to remove the deposit in a completely non-contact state with respect to the substrate when performing cleaning for removing the deposit attached to the organic EL mask.

以上の課題を解決するため、本発明の請求項１の有機ＥＬ用マスククリーニング装置は、有機ＥＬ用マスクに付着した蒸着物質を除去する有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、前記有機ＥＬ用マスクの表面にレーザを照射して前記蒸着物質を破砕して生じる遊離生成物を上方に飛散させるレーザ手段と、飛散した前記遊離生成物を搬送して除去する空気流を形成する空気流形成手段と、を備えたことを特徴とする。   In order to solve the above problems, an organic EL mask cleaning apparatus according to claim 1 of the present invention is an organic EL mask cleaning apparatus for removing a vapor deposition material attached to an organic EL mask, and the organic EL mask. Laser means for irradiating a laser on the surface of the vapor deposition material to crush the vapor-deposited material and scatter the free product upward, and air flow forming means for forming an air flow for conveying and removing the scattered free product, , Provided.

この有機ＥＬ用マスククリーニング装置によれば、有機ＥＬ用マスクに付着した蒸着物質を破砕して遊離生成物として上方に飛散させ、空気流により搬送して遊離生成物を除去しているため、有機ＥＬ用マスクに対して固体や液体等を接触させることなくクリーニングを行うことができるようになる。このため、完全な非接触式のクリーニングとなり、有機ＥＬ用マスクにダメージを与えることがなくなる。   According to this organic EL mask cleaning apparatus, the vapor deposition material adhering to the organic EL mask is crushed and scattered upward as a free product, and is transported by an air stream to remove the free product. Cleaning can be performed without bringing a solid or liquid into contact with the EL mask. For this reason, complete non-contact type cleaning is performed, and the organic EL mask is not damaged.

本発明の請求項２の有機ＥＬ用マスククリーニング装置は、請求項１記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置において、前記空気流は、前記有機ＥＬ用マスクの表面から離間した位置に形成された層流状態の空気流であり、前記ＥＬ用マスクの表面に沿った流れを有していることを特徴とする。   The organic EL mask cleaning device according to claim 2 of the present invention is the organic EL mask cleaning device according to claim 1, wherein the air flow is a laminar flow formed at a position separated from the surface of the organic EL mask. The air flow is in a state and has a flow along the surface of the EL mask.

この有機ＥＬ用マスククリーニング装置によれば、空気流は有機ＥＬ用マスクの表面から離間した層流状態の空気流となっており、しかも有機ＥＬ用マスクの表面に対して沿った流れとなっている。有機ＥＬ用マスクの上方に層流状態の空気流が形成されていることにより飛散した遊離生成物は空気流により搬送され、しかも有機ＥＬ用マスクの表面から離間した位置に空気流を形成していることから、有機ＥＬ用マスクの直上の領域には乱流は発生しない。これにより、再び有機ＥＬ用マスクに舞い戻ることがなくなるため、有機ＥＬ用マスクに遊離生成物が再付着しなくなり、極めて高い洗浄効果が得られる。   According to this organic EL mask cleaning apparatus, the air flow is a laminar air flow separated from the surface of the organic EL mask, and flows along the surface of the organic EL mask. Yes. The free product scattered by the formation of a laminar air flow above the organic EL mask is transported by the air flow and forms an air flow at a position away from the surface of the organic EL mask. Therefore, no turbulent flow is generated in the region immediately above the organic EL mask. Thereby, since it does not return to the organic EL mask again, free products do not reattach to the organic EL mask, and an extremely high cleaning effect is obtained.

本発明の請求項３の有機ＥＬ用マスククリーニング装置は、請求項１または２記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置において、前記有機ＥＬ用マスクの表面を前記レーザに走査させるレーザ走査手段を備えたことを特徴とする。   The organic EL mask cleaning apparatus according to claim 3 of the present invention is the organic EL mask cleaning apparatus according to claim 1 or 2, further comprising laser scanning means for scanning the surface of the organic EL mask with the laser. It is characterized by.

この有機ＥＬ用マスククリーニング装置によれば、レーザを走査させることにより、有機ＥＬ用マスクの所定エリアをクリーニングすることができるようになる。レーザの捜査範囲としては、有機ＥＬ用マスクの全面であってもよいし、一部領域に絞ったものであってもよい。   According to the organic EL mask cleaning apparatus, a predetermined area of the organic EL mask can be cleaned by scanning the laser. The laser search range may be the entire surface of the organic EL mask or may be limited to a partial region.

本発明の請求項４の有機ＥＬ用マスククリーニング装置は、請求項１または２記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置において、前記有機ＥＬ用マスクと前記レーザ手段とを相対的に移動させるための相対移動手段を備えたことを特徴とする。   The organic EL mask cleaning apparatus according to claim 4 of the present invention is the organic EL mask cleaning apparatus according to claim 1 or 2, wherein the organic EL mask and the laser means are relatively moved. Means are provided.

この有機ＥＬ用マスククリーニング装置によれば、有機ＥＬ用マスクとレーザ手段とを相対移動させることで、有機ＥＬ用マスクの所定エリアをクリーニングすることができるようになる。相対移動手段は有機ＥＬ用マスクとレーザ手段とを相対移動させることができればよく、有機ＥＬ用マスクとレーザ手段とのうち何れか一方または両方を移動させるようにしてもよい。   According to this organic EL mask cleaning apparatus, a predetermined area of the organic EL mask can be cleaned by relatively moving the organic EL mask and the laser means. The relative movement means only needs to be able to relatively move the organic EL mask and the laser means, and either or both of the organic EL mask and the laser means may be moved.

本発明の請求項５の有機ＥＬ用マスククリーニング装置は、請求項３または４記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置において、前記有機ＥＬ用マスクの異なる領域にそれぞれレーザを照射するために、前記レーザ手段を複数備えたことを特徴とする。   The organic EL mask cleaning device according to claim 5 of the present invention is the organic EL mask cleaning device according to claim 3 or 4, wherein the laser means is used to irradiate different areas of the organic EL mask. It is characterized by having multiple.

この有機ＥＬ用マスククリーニング装置によれば、複数のレーザ手段によりエリアを分割して有機ＥＬ用マスクの洗浄を行うことができるため、高速にクリーニングを行うことができるようになる。   According to this organic EL mask cleaning device, the organic EL mask can be cleaned by dividing the area by a plurality of laser means, so that cleaning can be performed at high speed.

本発明の請求項６の有機ＥＬ用マスククリーニング装置は、請求項２記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置において、前記空気流形成手段は、層流状態の前記空気流を形成するために必要な間隔だけ前記有機ＥＬ用マスクから離間した位置に設けた吸引手段を備えていることを特徴とする。   The organic EL mask cleaning device according to a sixth aspect of the present invention is the organic EL mask cleaning device according to the second aspect, wherein the air flow forming means has an interval necessary for forming the air flow in a laminar flow state. Only a suction means provided at a position separated from the organic EL mask is provided.

この有機ＥＬ用マスククリーニング装置によれば、吸引手段は有機ＥＬ用マスクから離間した位置に、また有機ＥＬ用マスクの表面に沿うように吸引を行うようにしているため、有機ＥＬ用マスクの表面から離間した位置に層流状態の空気流を形成することができるようになる。   According to this organic EL mask cleaning apparatus, the suction means performs suction at a position separated from the organic EL mask and along the surface of the organic EL mask. A laminar air flow can be formed at a position away from the air.

本発明の請求項７の有機ＥＬ用マスククリーニング装置は、請求項６記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置において、前記空気流形成手段は、前記吸引手段に向けて送風する送風手段を備えていることを特徴とする。   The organic EL mask cleaning device according to claim 7 of the present invention is the organic EL mask cleaning device according to claim 6, wherein the air flow forming means includes air blowing means for blowing air toward the suction means. It is characterized by.

この有機ＥＬ用マスククリーニング装置によれば、吸引手段と送風手段とを組み合わせることにより、安定した層流状態の空気流を形成することができるようになる。   According to this organic EL mask cleaning apparatus, a stable laminar air flow can be formed by combining the suction means and the air blowing means.

本発明の請求項８の有機ＥＬディスプレイの製造装置は、請求項１乃至７の何れか１項に記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置によりクリーニングされた有機ＥＬ用マスクを用いて有機ＥＬディスプレイを製造することを特徴とする。また、本発明の請求項９の有機ＥＬディスプレイは、請求項８記載の有機ＥＬディスプレイの製造装置により製造されたことを特徴とする。   An organic EL display manufacturing apparatus according to an eighth aspect of the present invention manufactures an organic EL display using the organic EL mask cleaned by the organic EL mask cleaning apparatus according to any one of the first to seventh aspects. It is characterized by doing. An organic EL display according to a ninth aspect of the present invention is manufactured by the organic EL display manufacturing apparatus according to the eighth aspect.

前述してきた有機ＥＬ用マスククリーニング装置は有機ＥＬディスプレイの製造装置に適用することができる。   The organic EL mask cleaning apparatus described above can be applied to an organic EL display manufacturing apparatus.

本発明の請求項１０の有機ＥＬ用マスククリーニング方法は、有機ＥＬ用マスクに付着した蒸着物質を除去する有機ＥＬ用マスククリーニング方法であって、前記有機ＥＬ用マスクの表面にレーザを照射して前記蒸着物質を破砕して生じる遊離生成物を上方に飛散させ、飛散した前記遊離生成物を空気の空気流により除去することを特徴とする。   An organic EL mask cleaning method according to a tenth aspect of the present invention is an organic EL mask cleaning method for removing a vapor deposition material adhering to an organic EL mask, wherein the surface of the organic EL mask is irradiated with a laser. The free product generated by crushing the vapor deposition material is scattered upward, and the scattered free product is removed by an air flow of air.

本発明の請求項１１の有機ＥＬ用マスククリーニング方法は、請求項１０記載の有機ＥＬ用マスククリーニング方法において、前記空気流は、前記有機ＥＬ用マスクの表面から離間した位置に形成された層流状態の空気流であり、前記ＥＬ用マスクの表面に沿った流れを有していることを特徴とする。   An organic EL mask cleaning method according to an eleventh aspect of the present invention is the organic EL mask cleaning method according to the tenth aspect, wherein the air flow is a laminar flow formed at a position separated from the surface of the organic EL mask. The air flow is in a state and has a flow along the surface of the EL mask.

本発明は、レーザ手段によるレーザ照射により有機ＥＬ用マスクに付着した蒸着物質を破砕して遊離生成物として上方に飛散させ、空気流形成手段により形成された空気の空気流により飛散した遊離生成物を搬送させて除去しているため、完全に非接触で有機ＥＬ用マスクのクリーニングを完了することができる。このため、有機ＥＬ用マスクにダメージを与えることなくクリーニングを行うことができる。そして、空気流を層流状態とすることで、有機ＥＬ用マスクから飛散した遊離生成物は層流状態の空気流により捕捉させることで、再び有機ＥＬ用マスクに舞い戻ることはなく、遊離生成物の再付着を防止でき、高い洗浄度を得られる。また、フィルムの貼付け機構や剥離機構等を要することがないため、機構の簡略化・装置の小型化を図ることができる。   In the present invention, the vapor deposition material adhering to the organic EL mask by laser irradiation by the laser means is crushed and scattered upward as a free product, and the free product scattered by the air flow of the air formed by the air flow forming means Therefore, the cleaning of the organic EL mask can be completed in a completely non-contact manner. Therefore, cleaning can be performed without damaging the organic EL mask. And by making the air flow into a laminar flow state, the free product scattered from the organic EL mask is captured by the air flow in the laminar flow state, so that it does not return to the organic EL mask again. Can be prevented, and a high degree of cleaning can be obtained. In addition, since a film sticking mechanism or a peeling mechanism is not required, the mechanism can be simplified and the apparatus can be downsized.

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。図１および図２は本発明の有機ＥＬ用マスククリーニング装置１の概略構成図である。本発明の有機ＥＬ用マスククリーニング装置１は、有機ＥＬ用マスク２とベース１１と搭載ステージ１２とチャック部１３と移動部１４とレーザ光源１５とガルバノミラー１６と送風部１７と吸引部１８とを備えて概略構成している。有機ＥＬ用マスク２は有機ＥＬディスプレイを構成するガラス基板（図示せず）に発光層としての有機材料を限定的な領域に蒸着してパターンを形成するために用いられる極薄の金属板である。近年の有機ＥＬディスプレイの大画面化に伴い、有機ＥＬ用マスク２のサイズも非常に大型になっている。以下において使用される有機ＥＬ用マスク２は極薄且つ大型サイズであるものとする。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 and 2 are schematic configuration diagrams of an organic EL mask cleaning apparatus 1 according to the present invention. The organic EL mask cleaning apparatus 1 of the present invention includes an organic EL mask 2, a base 11, a mounting stage 12, a chuck part 13, a moving part 14, a laser light source 15, a galvano mirror 16, a blower part 17, and a suction part 18. It has a general configuration. The organic EL mask 2 is an extremely thin metal plate used for forming a pattern by depositing an organic material as a light emitting layer on a glass substrate (not shown) constituting an organic EL display in a limited area. . With the recent increase in the screen size of organic EL displays, the size of the organic EL mask 2 has become very large. It is assumed that the organic EL mask 2 used in the following is extremely thin and has a large size.

図３および図４（ａ）に示すように、有機ＥＬ用マスク２の外周には補強枠３を取り付けて構成している。有機ＥＬディスプレイを構成するガラス基板に高精度に蒸着物質を蒸着させるために、有機ＥＬ用マスク２の厚みはミクロンオーダーの極薄の金属板が用いられる。有機ＥＬ用マスク２の厚みを極薄にすることにより、有機ＥＬ用マスク２に蒸着する有機材料が大きな角度をもって飛散したとしても蒸着領域に影を生じることなく、膜厚の均一性を確保することができる。有機ＥＬ用マスク２は極薄且つ大型の金属板であるため、単体で平面状を維持することができず、その保形性を持たせるために補強枠３を取り付けている。なお、有機ＥＬ用マスク２の保形性を持たせることができれば、補強枠３以外の方法を用いるものであってもよい。   As shown in FIG. 3 and FIG. 4A, a reinforcing frame 3 is attached to the outer periphery of the organic EL mask 2. In order to deposit a vapor deposition material on a glass substrate constituting an organic EL display with high accuracy, an ultra-thin metal plate with a thickness of micron order is used for the organic EL mask 2. By making the thickness of the organic EL mask 2 extremely thin, even if the organic material deposited on the organic EL mask 2 scatters at a large angle, the uniformity of the film thickness is ensured without causing a shadow in the deposition region. be able to. Since the organic EL mask 2 is an extremely thin and large metal plate, the organic EL mask 2 cannot be kept flat as a single unit, and a reinforcing frame 3 is attached to provide the shape retention. Note that a method other than the reinforcing frame 3 may be used as long as the shape of the organic EL mask 2 can be maintained.

有機ＥＬ用マスク２は金属を素材とし、規則的に配列された多数の開口部４を形成したマスク板（シャドーマスク）である。有機ＥＬ用マスク２は種々の金属を用いることができるが、ここではコバルトとニッケルとの合金が適用されるものとする。有機ＥＬ用マスク２は、発光層の有機材料を蒸着する蒸着装置（図示せず）において、有機ＥＬディスプレイを構成するガラス基板に密着させた状態で、蒸着源から有機材料（以下、蒸着物質とする）を蒸着させるようにしている。発光層の蒸着物質としては種々のものを適用できるが、例えばアルミニウム錯体（トリスアルミニウム：Ａｌｑ）等の有機金属錯体を適用できる。なお、有機金属錯体以外の有機化合物（金属が含まれているものであっても、含まれていないものであってもよい）を蒸着物質として適用するものであってもよい。蒸着源から蒸発した蒸着物質は、有機ＥＬ用マスク２の開口部４が形成されている部分から前記のガラス基板上に蒸着する。これにより、ガラス基板上の画素に対応する領域に発光層としての蒸着物質を蒸着させることができるようになる。   The organic EL mask 2 is a mask plate (shadow mask) having a large number of regularly arranged openings 4 made of metal. Although various metals can be used for the organic EL mask 2, an alloy of cobalt and nickel is applied here. The organic EL mask 2 is a vapor deposition apparatus (not shown) for vapor-depositing the organic material of the light emitting layer, in a state of being in close contact with the glass substrate constituting the organic EL display. Evaporate). Various materials can be used as the evaporation material for the light emitting layer, and for example, an organometallic complex such as an aluminum complex (tris aluminum: Alq) can be used. Note that an organic compound other than the organometallic complex (which may or may not contain a metal) may be applied as a vapor deposition substance. The vapor deposition material evaporated from the vapor deposition source is deposited on the glass substrate from the portion where the opening 4 of the organic EL mask 2 is formed. Thereby, it becomes possible to deposit a deposition material as a light emitting layer in a region corresponding to the pixel on the glass substrate.

有機ＥＬ用マスク２を用いてガラス基板に所定パターンの蒸着物質を蒸着させることができるが、蒸着時に有機ＥＬ用マスク２にも蒸着物質が付着する。有機ＥＬ用マスク２に付着した蒸着物質が次の蒸着プロセスにおいてガラス基板に付着し、または開口部４の開口面積に変化を生じさせる等の理由があるために有機ＥＬ用マスク２のクリーニングを行って蒸着物質の除去を行う。   Although a predetermined pattern of vapor deposition material can be deposited on the glass substrate using the organic EL mask 2, the vapor deposition material also adheres to the organic EL mask 2 during vapor deposition. The organic EL mask 2 is cleaned because there is a reason that the vapor deposition material adhering to the organic EL mask 2 adheres to the glass substrate in the next vapor deposition process or changes the opening area of the opening 4. The vapor deposition material is removed.

有機ＥＬ用マスククリーニング装置１はベース１１に設置されており、有機ＥＬ用マスク２は搭載ステージ１２に搭載されており、チャック部１３が有機ＥＬ用マスク２の補強枠３を保持している。有機ＥＬ用マスク２は蒸着面（蒸着装置における蒸着源に向いている面、つまり蒸着物質が付着している面）が上向きになるように保持される。図２にも示しているように、搭載ステージ１２と有機ＥＬ用マスク２との間には微小間隔の隙間を設けるようにして、チャック部１３が補強枠３を保持する。チャック部１３は有機ＥＬ用マスク２の相対する２辺の補強枠３を保持する。なお、チャック部１３は補強枠３の３辺ないしは４辺を保持するものであってもよい。   The organic EL mask cleaning device 1 is installed on the base 11, the organic EL mask 2 is mounted on the mounting stage 12, and the chuck portion 13 holds the reinforcing frame 3 of the organic EL mask 2. The organic EL mask 2 is held so that the vapor deposition surface (the surface facing the vapor deposition source in the vapor deposition apparatus, that is, the surface to which the vapor deposition material is attached) faces upward. As shown also in FIG. 2, the chuck portion 13 holds the reinforcing frame 3 so as to provide a gap with a very small gap between the mounting stage 12 and the organic EL mask 2. The chuck portion 13 holds the reinforcing frames 3 on the two opposite sides of the organic EL mask 2. Note that the chuck portion 13 may hold three or four sides of the reinforcing frame 3.

また、搭載ステージ１２の下部には移動手段としての移動部１４を備えている。移動部１４は搭載ステージ１２を１方向に移動させるための移動手段であり、ボールネジ手段やリニアモータ手段等の任意の移動手段を適用することができる。ここでは、移動部１４の移動方向を図１のＸ方向とし、このＸ方向に直交する方向をＹ方向とする。ただし、移動部１４はＸ方向およびＹ方向の２方向に移動可能にしてもよい。   In addition, a moving unit 14 as a moving means is provided below the mounting stage 12. The moving unit 14 is a moving unit for moving the mounting stage 12 in one direction, and any moving unit such as a ball screw unit or a linear motor unit can be applied. Here, the moving direction of the moving unit 14 is the X direction in FIG. 1, and the direction orthogonal to the X direction is the Y direction. However, the moving unit 14 may be movable in two directions, the X direction and the Y direction.

ベース１１の上部には、所定波長のレーザを発振するレーザ光源１５を配置している。レーザ光源１５は、有機ＥＬ用マスク２の金属素材が反応するような波長のレーザを発振するようにする。有機ＥＬ用マスク２がコバルトとニッケルとの合金である場合には、当該合金が反応する波長域である５３２ｎｍ近傍のレーザを発振するようにする。有機ＥＬ用マスク２に他の素材を用いる場合には、当該素材が反応するレーザを発振するようにする。レーザ光源１５から発振したレーザはガルバノミラー１６に入射する。ガルバノミラー１６は入射したレーザを有機ＥＬ用マスク２に向けて反射させるミラーであり、レーザの反射角を高速に変化させるレーザ走査手段になる。このために、ガルバノミラー１６は自身を振動させる駆動部（図示せず）を備えており、駆動部の振動により入射したレーザの反射角が変化して、有機ＥＬ用マスク２における照射位置が変化する。レーザの反射角をＹ方向に変化させることにより、Ｙ方向にレーザが走査される。レーザ光源１５とガルバノミラー１６とによりレーザ手段が構成されるが、これ以外にも任意の光学部品を用いるものであってもよい。   A laser light source 15 that oscillates a laser having a predetermined wavelength is disposed on the base 11. The laser light source 15 oscillates a laser having such a wavelength that the metal material of the organic EL mask 2 reacts. When the organic EL mask 2 is an alloy of cobalt and nickel, a laser in the vicinity of 532 nm, which is a wavelength region in which the alloy reacts, is oscillated. When another material is used for the organic EL mask 2, a laser to which the material reacts is oscillated. The laser oscillated from the laser light source 15 enters the galvanometer mirror 16. The galvanometer mirror 16 is a mirror that reflects the incident laser toward the organic EL mask 2 and serves as a laser scanning unit that changes the reflection angle of the laser at high speed. For this purpose, the galvanometer mirror 16 includes a drive unit (not shown) that vibrates itself, and the reflection angle of the incident laser changes due to the vibration of the drive unit, and the irradiation position on the organic EL mask 2 changes. To do. The laser is scanned in the Y direction by changing the reflection angle of the laser in the Y direction. Laser means is constituted by the laser light source 15 and the galvanometer mirror 16, but any other optical component may be used.

送風部１７は送風手段であり、吸引部１８は吸引手段である。吸引部１８は回収部１８Ｂを備えており、吸引した空気に混在している不純物（後述する遊離生成物）が回収部１８Ｂに回収される。このため、例えばフィルタ（図示せず）等を用いて、空気と不純物とを分離するようにしている。送風部１７の送風スリット１７Ａと吸引部１８の吸引スリット１８Ａとは対向配設するように設けており、また送風スリット１７Ａと吸引スリット１８Ａとは同じ高さ位置に設けるようにしている。送風スリット１７Ａからの送風は有機ＥＬ用マスク２の表面と沿うようにし、また吸引スリット１８Ａからの吸引は有機ＥＬ用マスク２の表面と沿うようにしている。   The blowing unit 17 is a blowing unit, and the suction unit 18 is a suction unit. The suction unit 18 includes a recovery unit 18B, and impurities (free products described later) mixed in the sucked air are recovered by the recovery unit 18B. For this reason, for example, a filter (not shown) or the like is used to separate air and impurities. The blowing slit 17A of the blowing unit 17 and the suction slit 18A of the suction unit 18 are provided so as to face each other, and the blowing slit 17A and the suction slit 18A are provided at the same height position. The air blowing from the air blowing slit 17 </ b> A is along the surface of the organic EL mask 2, and the suction from the suction slit 18 </ b> A is along the surface of the organic EL mask 2.

以上の構成における動作について説明する。図示しない蒸着装置から取り出された有機ＥＬ用マスク２は搭載ステージ１２のチャック部１３により固定保持されて移動部１４によりＸ方向に移動される。有機ＥＬ用マスク２のＸ方向における先端位置がガルバノミラー１６の下部に位置したとき（またはその直前）に、レーザ光源１５からレーザを発振する。ガルバノミラー１６が高速振動することにより、有機ＥＬ用マスク２の表面をＹ方向にレーザが走査される。図１および図２の例では、有機ＥＬ用マスク２の全面のクリーニングを行うようにしているため、ガルバノミラー１６は有機ＥＬ用マスク２のＹ方向における端部間をライン上に走査されるようにレーザの反射角を変化させる。移動部１４はＸ方向に移動されるため、Ｘ方向およびＹ方向の２方向に面走査され、有機ＥＬ用マスク２の全面にレーザが走査される。なお、Ｙ方向におけるレーザの走査とＸ方向における移動とのタイミングを取るために、移動部１４による有機ＥＬ用マスク２の移動は間欠的であることが望ましい。   The operation in the above configuration will be described. The organic EL mask 2 taken out from the vapor deposition apparatus (not shown) is fixedly held by the chuck portion 13 of the mounting stage 12 and moved in the X direction by the moving portion 14. When the tip position of the organic EL mask 2 in the X direction is positioned below (or immediately before) the galvano mirror 16, a laser is oscillated from the laser light source 15. As the galvano mirror 16 vibrates at high speed, the surface of the organic EL mask 2 is scanned with a laser in the Y direction. In the example of FIGS. 1 and 2, since the entire surface of the organic EL mask 2 is cleaned, the galvanometer mirror 16 is scanned on the line between the end portions in the Y direction of the organic EL mask 2. The reflection angle of the laser is changed. Since the moving unit 14 is moved in the X direction, the surface is scanned in two directions, the X direction and the Y direction, and the laser is scanned over the entire surface of the organic EL mask 2. In addition, in order to take the timing of the laser scanning in the Y direction and the movement in the X direction, it is desirable that the movement of the organic EL mask 2 by the moving unit 14 is intermittent.

有機ＥＬ用マスク２は蒸着面が上向きになるように保持されており、蒸着面には蒸着物質２０が膜状となって付着している。レーザは有機ＥＬ用マスク２の表面が焦点となるように照射される。そして、レーザは有機ＥＬ用マスク２の金属素材（コバルトとニッケルとの合金）が反応する波長（５３２ｎｍ）を有しており、レーザが照射されることにより熱衝撃が与えられる。これにより、有機ＥＬ用マスク２に付着している蒸着物質には破砕力が作用して、遊離生成物となって上方に飛散する。ここで、レーザ照射により蒸着物質が破砕すると、有機ＥＬ用マスク２に付着していた蒸着物質は、微小な粒径を有する粉体に破砕されると同時に、ガスも発生する。従って、遊離生成物には、微小な粉体だけではなくガスも含まれる。   The organic EL mask 2 is held so that the vapor deposition surface faces upward, and the vapor deposition material 20 is attached to the vapor deposition surface as a film. The laser is irradiated so that the surface of the organic EL mask 2 is in focus. The laser has a wavelength (532 nm) with which the metal material (alloy of cobalt and nickel) of the organic EL mask 2 reacts, and a thermal shock is given when the laser is irradiated. Thereby, a crushing force acts on the vapor deposition material adhering to the organic EL mask 2 to be scattered as a free product. Here, when the vapor deposition material is crushed by the laser irradiation, the vapor deposition material adhering to the organic EL mask 2 is crushed into powder having a fine particle size and gas is also generated. Therefore, the free product contains not only fine powder but also gas.

破砕した遊離生成物は極めて比重の小さい粉体やガスであるため、レーザによる熱衝撃により勢い良く上方に向かって飛散する。ただし、レーザの強度を過剰に弱く設定すると蒸着物質は破砕せず、また上方に向かって飛散しないおそれがある。そこで、レーザの強度は、蒸着物質を破砕して遊離生成物を飛散させるための強度を設定するようにする。一方、レーザの強度を過剰に高く設定すると、有機ＥＬ用マスク２に過剰な熱衝撃が与えられてダメージが与えられるおそれがある。このため、蒸着物質２０を破砕および飛散させるために必要最低限の強度に設定することが望ましい。例えば、有機ＥＬ用マスク２の形状や蒸着物質２０の材料による付着強度等に基づいて、レーザ光源１５から発振するレーザの強度を最適に設定するようにする。   Since the crushed free product is a powder or gas having a very low specific gravity, it is scattered upwards vigorously by the thermal shock of the laser. However, if the intensity of the laser is set too weak, the vapor deposition material will not be crushed and may not be scattered upward. Therefore, the intensity of the laser is set to an intensity for crushing the deposited material and scattering the free product. On the other hand, if the laser intensity is set too high, the organic EL mask 2 may be damaged due to excessive thermal shock. For this reason, it is desirable to set the strength to the minimum necessary for crushing and scattering the vapor deposition material 20. For example, the intensity of the laser oscillated from the laser light source 15 is optimally set based on the shape of the organic EL mask 2 and the adhesion strength depending on the material of the vapor deposition substance 20.

図４（ｂ）は有機ＥＬ用マスク２の開口部４の拡大図を示している。この図に示すように、有機ＥＬ用マスク２の開口部４のエッジ部分４Ｅはテーパ形状を採用しているものが多い。前述したように、有機ＥＬ用マスク２の開口部４の開口面積が一部または全部閉塞されることにより、蒸着精度が著しく悪化ないしは使用不能になる。図４（ｂ）に示すように、開口部４のエッジ部分４Ｅはテーパ形状になっているため極薄の有機ＥＬ用マスク２の中でもさらに薄い部位になっており、熱衝撃によりさらに高い破砕力が作用する。従って、この部位の蒸着物質２０は非常に高い破砕力が作用して、また上方に向けて飛散しようとするエネルギーも強力になる。このため、エッジ部分４Ｅに絞った場合には、それほどレーザ光源１５から発振されるレーザの強度はそれほど高く設定する必要がなくなる。   FIG. 4B shows an enlarged view of the opening 4 of the organic EL mask 2. As shown in this figure, the edge portion 4E of the opening 4 of the organic EL mask 2 often has a tapered shape. As described above, when the opening area of the opening 4 of the organic EL mask 2 is partially or entirely blocked, the deposition accuracy is remarkably deteriorated or cannot be used. As shown in FIG. 4 (b), the edge portion 4E of the opening 4 has a tapered shape, so that it is a thinner portion in the ultra-thin organic EL mask 2 and has a higher crushing force due to thermal shock. Act. Therefore, a very high crushing force acts on the vapor deposition material 20 at this site, and the energy for scattering upward is also strong. For this reason, when focusing on the edge portion 4E, the intensity of the laser oscillated from the laser light source 15 does not need to be set so high.

図５に示すように、送風部１７と吸引部１８とにより形成される層流状態の空気流３０が形成され、この空気流３０は有機ＥＬ用マスク２から所定間隔離間した位置に有機ＥＬ用マスク２の表面に沿った流れとなるように形成されている。空気流３０を層流状態にするために、所定の風量および風速で送風スリット１７Ａから送風し、また吸引スリット１８Ａから吸引を行う。層流状態の空気流３０とするために、風量および風速は必要最小限に設定する。また、有機ＥＬ用マスク２に向けて或いは有機ＥＬ用マスク２に接するように空気流を形成するのではなく、有機ＥＬ用マスク２からある程度離間した位置に有機ＥＬ用マスク２の表面に沿うように空気流を形成している。有機ＥＬ用マスク２には多数の開口部４を形成しており、空気流が有機ＥＬ用マスク２に衝突或いは接触すると空気流は乱流状態になり、微粒化して飛散したダストが有機ＥＬ用マスク２に再付着する。このために、層流状態の空気流３０を形成している。   As shown in FIG. 5, a laminar air flow 30 formed by the blower unit 17 and the suction unit 18 is formed, and this air flow 30 is separated from the organic EL mask 2 by a predetermined distance. The flow is formed along the surface of the mask 2. In order to make the air flow 30 into a laminar flow state, air is blown from the blow slit 17A with a predetermined air volume and wind speed, and suction is performed from the suction slit 18A. In order to obtain a laminar air flow 30, the air volume and the air speed are set to the minimum necessary. In addition, an air flow is not formed toward the organic EL mask 2 or in contact with the organic EL mask 2, but along the surface of the organic EL mask 2 at a certain distance from the organic EL mask 2. An air flow is formed on the surface. A large number of openings 4 are formed in the organic EL mask 2, and when the air flow collides with or comes into contact with the organic EL mask 2, the air flow becomes a turbulent state, and the atomized and scattered dust is used for the organic EL. Reattaches to the mask 2. For this purpose, a laminar air flow 30 is formed.

空気流３０は有機ＥＬ用マスク２から離間した位置に形成しているため、空気流３０と有機ＥＬ用マスク２との間には無風領域３１が介在する。なお、無風領域３１とは実質的に無風状態の流れのない領域であり、流れを持つ層流状態の空気流３０とは異なる領域になる。つまり、空気流３０は流れを持つ領域を形成しており、無風領域３１は流れのない領域を形成している。微粒化して飛散した遊離生成物２１は無風領域３１を通過するが、この領域は流れがないため、遊離生成物２１の進行方向に影響を与えることがない。従って、遊離生成物２１は無風領域３１を通過して空気流３０に進入し、空気流３０の流れに捕捉されて搬送される。前述したように、遊離生成物２１は極めて微小な粉体やガスであることから、層流状態の空気流３０により確実に捕捉されて、吸引部１８に向けて回収されるようになる。換言すれば、空気流３０は遊離生成物２１を搬送する搬送流となる。   Since the air flow 30 is formed at a position separated from the organic EL mask 2, a windless region 31 is interposed between the air flow 30 and the organic EL mask 2. The no-wind region 31 is a region where there is substantially no wind and no flow, and is different from the laminar air flow 30 having a flow. That is, the air flow 30 forms a region having a flow, and the no-wind region 31 forms a region having no flow. The free product 21 that has been atomized and scattered passes through the windless region 31, but since this region has no flow, the traveling direction of the free product 21 is not affected. Accordingly, the free product 21 passes through the windless region 31 and enters the air flow 30, is captured by the flow of the air flow 30 and is conveyed. As described above, since the free product 21 is extremely fine powder or gas, it is reliably captured by the laminar air flow 30 and recovered toward the suction unit 18. In other words, the air flow 30 becomes a transport flow for transporting the free product 21.

そして、空気流３０を層流状態としており、その下部には無風領域３１を形成しているため、有機ＥＬ用マスク２の表面に密着した領域は乱流になることがない。従って、有機ＥＬ用マスク２から飛散した遊離生成物２１が有機ＥＬ用マスク２に舞い戻ることがなくなる。このとき、空気流３０と有機ＥＬ用マスク２との間は必要最小限の間隔となるようにする。当該間隔を過剰に離間させると、微粒化して上方に飛散するダストが空気流３０の高さ位置にまで届かず、回収することができなくなるためである。これにより、有機ＥＬ用マスク２から一度除去した遊離生成物２１が再度有機ＥＬ用マスク２に付着することがなく、極めて高いクリーニング効果を発揮する。空気流３０と有機ＥＬ用マスク２との間隔は、例えば有機ＥＬ用マスク２の開口部４の面積や開口部４の密度、有機ＥＬ用マスク２の材質等に基づいて決定することができる。   Since the air flow 30 is in a laminar flow state and a windless region 31 is formed below the air flow 30, the region in close contact with the surface of the organic EL mask 2 is not turbulent. Therefore, the free product 21 scattered from the organic EL mask 2 does not return to the organic EL mask 2. At this time, a necessary minimum gap is set between the air flow 30 and the organic EL mask 2. This is because if the interval is excessively separated, the dust that is atomized and scattered upward does not reach the height position of the air flow 30 and cannot be recovered. Thereby, the free product 21 once removed from the organic EL mask 2 does not adhere to the organic EL mask 2 again, and exhibits an extremely high cleaning effect. The distance between the air flow 30 and the organic EL mask 2 can be determined based on, for example, the area of the opening 4 of the organic EL mask 2, the density of the opening 4, the material of the organic EL mask 2, and the like.

ガルバノミラー１６は有機ＥＬ用マスク２のＹ方向にレーザを走査させているが、レーザの走査速度は非常に高速になる。このために、有機ＥＬ用マスク２の上方に予め層流状態の空気流３０を広範囲にわたって形成しておく。レーザの走査速度が非常に高速であるとしても、その上方位置には必ず空気流３０が形成されており、飛散した遊離生成物２１は確実に空気流３０の流れに捕捉されて搬送される。ここでは、有機ＥＬ用マスク２の全面に対してレーザ走査を行っており、空気流３０は有機ＥＬ用マスク２の全面以上の範囲にわたって形成されているものとしている。従って、送風部１７の送風スリット１７Ａと吸引部１８の吸引スリット１８Ａとは、それぞれスリット長を有機ＥＬ用マスク２のＹ方向の長さよりも長く構成している。これにより、飛散した遊離生成物２１を余すことなく回収することができるようになる。   The galvanometer mirror 16 scans the laser in the Y direction of the organic EL mask 2, but the scanning speed of the laser becomes very high. For this purpose, a laminar air flow 30 is previously formed over the organic EL mask 2 over a wide range. Even if the scanning speed of the laser is very high, an air flow 30 is always formed above the laser beam, and the scattered free product 21 is surely captured by the flow of the air flow 30 and conveyed. Here, laser scanning is performed on the entire surface of the organic EL mask 2, and the air flow 30 is formed over the entire surface of the organic EL mask 2. Accordingly, the blowing slit 17A of the blowing unit 17 and the suction slit 18A of the suction unit 18 are configured so that the slit length is longer than the length of the organic EL mask 2 in the Y direction. Thereby, it becomes possible to collect the scattered free product 21 without leaving it.

以上より、有機ＥＬ用マスク２の蒸着物質２０をレーザにより破砕して遊離生成物２１として上方に飛散させ、空気流３０により遊離生成物２１を搬送して除去しているため、完全に非接触によるクリーニングを実現できる。これにより、有機ＥＬ用マスク２に対してダメージが与えられることがなくクリーニング効果を得られる。また、空気流３０を有機ＥＬ用マスク２から離間した位置に層流状態としているため、遊離生成物２１が有機ＥＬ用マスク２に舞い戻ることがなくなり、再付着することなく吸引部１８に回収されるようになる。従って、有機ＥＬ用マスク２に対してダメージを与えることなく、確実にクリーニングを行うことができ、しかもフィルムの貼付け機構等を使用することがないため、機構の簡略化および装置の小型化を図ることができるようになる。この有機ＥＬ用マスククリーニング装置１は極めて高い洗浄効果を発揮し、９９％以上の洗浄度でほぼ完全に有機ＥＬ用マスク２をクリーニングすることが可能になる。   As described above, the vapor deposition material 20 of the organic EL mask 2 is crushed by the laser and scattered upward as the free product 21, and the free product 21 is conveyed and removed by the air flow 30, so that it is completely non-contact Cleaning by can be realized. Thus, the organic EL mask 2 is not damaged and a cleaning effect can be obtained. Further, since the air flow 30 is in a laminar flow state at a position away from the organic EL mask 2, the free product 21 does not return to the organic EL mask 2 and is collected by the suction unit 18 without reattaching. Become so. Accordingly, the organic EL mask 2 can be reliably cleaned without damaging the film, and a film sticking mechanism or the like is not used. Therefore, the mechanism is simplified and the apparatus is downsized. Will be able to. The organic EL mask cleaning apparatus 1 exhibits an extremely high cleaning effect, and can almost completely clean the organic EL mask 2 with a cleaning degree of 99% or more.

前述した実施形態では、有機ＥＬ用マスク２の表面に沿った層流状態の空気流３０を形成することで遊離生成物２１を除去して、有機ＥＬ用マスク２への再付着を防止しているが、有機ＥＬ用マスク２の表面に向けて形成するものであってもよい。例えば、有機ＥＬ用マスク２から離間する方向に向けて吸引力を作用させて、レーザの走査により飛散した遊離生成物２１を直交方向の吸引力により吸引させることもできる。ただし、この場合には、有機ＥＬ用マスク２に対しても吸引力が作用するため、有機ＥＬ用マスク２に歪みや変形が生じるようになる。このため、有機ＥＬ用マスク２が吸引力によってもダメージが与えられないようなある程度の厚みを有している場合には、有機ＥＬ用マスク２から離間する方向に向けて吸引力を作用させるものであってもよい。この点、空気流３０を有機ＥＬ用マスク２の表面に沿った層流状態とすれば、有機ＥＬ用マスク２には空気流３０による影響は全く与えられないため、極薄の有機ＥＬ用マスク２にも適用できる点で、沿った層流状態とすることが望ましい。   In the above-described embodiment, the free product 21 is removed by forming a laminar air flow 30 along the surface of the organic EL mask 2 to prevent reattachment to the organic EL mask 2. However, it may be formed toward the surface of the organic EL mask 2. For example, by applying a suction force in a direction away from the organic EL mask 2, the free product 21 scattered by laser scanning can be sucked by the suction force in the orthogonal direction. However, in this case, since an attractive force acts on the organic EL mask 2, the organic EL mask 2 is distorted or deformed. For this reason, when the organic EL mask 2 has a certain thickness so as not to be damaged by the suction force, the suction force is applied in a direction away from the organic EL mask 2. It may be. In this regard, if the air flow 30 is in a laminar flow state along the surface of the organic EL mask 2, the organic EL mask 2 is not affected by the air flow 30 at all. It is desirable to make it a laminar flow state in that it can also be applied to 2.

また、前述した本実施形態では、有機ＥＬ用マスク２の全面に対してレーザを照射することによりクリーニングを行っていたが、有機ＥＬ用マスク２の所定エリアをクリーニングすればよい場合（エリア洗浄の場合）には、当該エリアに絞ってレーザを走査するようにする。このときには、移動部１４による移動範囲とガルバノミラー１６による反射角の範囲との何れか一方または両方を一部に絞りこむようにする。また、エリア洗浄を行う場合には、空気流３０の範囲もクリーニングの対象となるエリアをカバーできればよく、有機ＥＬ用マスク２の全面をカバーするエリアに空気流３０を形成する必要はない。   In the above-described embodiment, cleaning is performed by irradiating the entire surface of the organic EL mask 2 with laser. However, when a predetermined area of the organic EL mask 2 may be cleaned (area cleaning). In the case), the laser is scanned in the area concerned. At this time, either one or both of the moving range by the moving unit 14 and the reflection angle range by the galvanometer mirror 16 are narrowed down to a part. When performing area cleaning, the range of the air flow 30 only needs to cover the area to be cleaned, and it is not necessary to form the air flow 30 in the area covering the entire surface of the organic EL mask 2.

前述した実施形態では、移動部１４が有機ＥＬ用マスク２をＸ方向に移動し、ガルバノミラー１６がレーザをＹ方向に走査することによりエリア洗浄を行っている。移動部１４およびガルバノミラー１６は自動制御可能であり、この手法により自動的に有機ＥＬ用マスク２のクリーニングが可能になる。また、他の手法によっても自動的にクリーニングを行うことができる。例えば、有機ＥＬ用マスク２を固定した状態にしておき、ガルバノミラー１６を２方向に振動させて、レーザをＸ方向およびＹ方向の２方向に走査させるようにしてもよい。   In the above-described embodiment, the moving unit 14 moves the organic EL mask 2 in the X direction, and the galvano mirror 16 scans the laser in the Y direction to perform area cleaning. The moving unit 14 and the galvanometer mirror 16 can be automatically controlled, and the organic EL mask 2 can be automatically cleaned by this method. Also, cleaning can be automatically performed by other methods. For example, the organic EL mask 2 may be fixed, and the galvano mirror 16 may be vibrated in two directions to scan the laser in two directions, the X direction and the Y direction.

ただし、ガルバノミラー１６によりレーザを走査させる手法による場合には、有機ＥＬ用マスク２の中心はともかく、端部においては大きな角度をもってレーザが有機ＥＬ用マスク２に入射する。このとき、有機ＥＬ用マスク２の中心と端部とでは洗浄度に若干ではあるが差異を生じる。また、有機ＥＬ用マスク２は大型の金属板であるため、Ｙ方向のレーザ走査にもある程度の時間を要するようになる。そこで、レーザの走査ではなく、有機ＥＬ用マスク２とレーザ光源１５とを相対移動させるようにしてエリア洗浄を行うこともできる。   However, when the laser is scanned by the galvanometer mirror 16, the laser is incident on the organic EL mask 2 at a large angle at the end portion, regardless of the center of the organic EL mask 2. At this time, there is a slight difference in the degree of cleaning between the center and the end of the organic EL mask 2. Further, since the organic EL mask 2 is a large metal plate, a certain amount of time is required for laser scanning in the Y direction. Therefore, instead of laser scanning, the area cleaning can be performed by relatively moving the organic EL mask 2 and the laser light source 15.

例えば、ガルバノミラー１６を固定した反射ミラーとして用いるようにし、移動部１４をＸ方向およびＹ方向の２方向に移動させる。レーザの照射位置に変化はないが、移動部１４の移動により有機ＥＬ用マスク２は２方向に変位するため、反射ミラーで反射したレーザと有機ＥＬ用マスク２とが相対的に移動されることになる。反射ミラーで反射したレーザは有機ＥＬ用マスク２の何れの部位においても直交する方向に入射する。従って、入射角が異なることに基づく洗浄度の差異といった問題は生じなくなる。この場合には、レーザ手段はレーザ光源１５と反射ミラーとにより構成されるが、反射ミラーを用いずにレーザ光源１５の発振方向を有機ＥＬ用マスク２の直交方向とすることで、レーザ手段はレーザ光源１５により構成されることになる。また、この場合には、相対移動手段は移動部１４により構成されることになる。   For example, the galvanometer mirror 16 is used as a fixed reflection mirror, and the moving unit 14 is moved in two directions, the X direction and the Y direction. Although there is no change in the laser irradiation position, the organic EL mask 2 is displaced in two directions by the movement of the moving unit 14, so that the laser reflected by the reflection mirror and the organic EL mask 2 are relatively moved. become. The laser beam reflected by the reflection mirror is incident in a direction orthogonal to any part of the organic EL mask 2. Therefore, the problem of the difference in the degree of cleaning based on the different incident angles does not occur. In this case, the laser means is constituted by the laser light source 15 and the reflection mirror. However, the laser means can be obtained by setting the oscillation direction of the laser light source 15 to the orthogonal direction of the organic EL mask 2 without using the reflection mirror. The laser light source 15 is used. In this case, the relative moving means is constituted by the moving unit 14.

相対移動によるエリア洗浄の場合は、移動部１４が有機ＥＬ用マスク２を移動させることにより行っており、高速に照射位置を変化させることできるレーザ走査と比べてクリーニング速度は低速になる。このため、相対移動によるエリア洗浄においては、レーザのスポットはできる限り大きいものを用いることが望ましい。   In the case of area cleaning by relative movement, the moving unit 14 moves the organic EL mask 2 and the cleaning speed is lower than that of laser scanning that can change the irradiation position at high speed. For this reason, in area cleaning by relative movement, it is desirable to use a laser spot that is as large as possible.

また、相対移動によるエリア洗浄において、有機ＥＬ用マスク２を搭載する搭載ステージ１２を固定して（つまり、移動部１４を設けないようにして）、前記の反射ミラーを２方向に移動するようにしてもよい。これによっても、エリア洗浄を行うことができる。また、前記の反射ミラーとレーザ光源１５とを一体のユニットとして構成して、このユニットを２方向に移動するようにしてもよい。   In area cleaning by relative movement, the mounting stage 12 on which the organic EL mask 2 is mounted is fixed (that is, the moving unit 14 is not provided), and the reflection mirror is moved in two directions. May be. This also enables area cleaning. Further, the reflection mirror and the laser light source 15 may be configured as an integral unit, and the unit may be moved in two directions.

次に、有機ＥＬ用マスク２を複数のエリアに分けてクリーニングを行う場合について、図６乃至図８を用いて説明する。図６においては、レーザ光源１５を２箇所に配置しており（第１のレーザ光源１５ａ、第２のレーザ光源１５ｂとする）、ガルバノミラー１６も２箇所に配置している（第１のガルバノミラー１６ａ、第２のガルバノミラー１６ｂとする）。有機ＥＬ用マスク２は２つのエリアに分割されており（第１のエリア２ａと第２のエリア２ｂとに分割されているものとする）、第１のエリア２ａは第１のレーザ光源１５ａから発振したレーザが第１のガルバノミラー１６ａにより走査されてクリーニングが行われ、第２のエリア２ｂは第２のレーザ光源１５ｂから発振したレーザが第２のガルバノミラー１６ｂにより走査されてクリーニングが行われるものとする。第１のエリア２ａも第２のエリア２ｂも同じ蒸着物質２０が付着しているため、第１のレーザ光源１５ａと第２のレーザ光源１５ｂとは同じ波長のレーザが発振される。   Next, the case where the organic EL mask 2 is divided into a plurality of areas for cleaning will be described with reference to FIGS. In FIG. 6, the laser light sources 15 are arranged at two locations (referred to as the first laser light source 15a and the second laser light source 15b), and the galvanometer mirror 16 is also arranged at two locations (the first galvanometer). A mirror 16a and a second galvanometer mirror 16b). The organic EL mask 2 is divided into two areas (assumed to be divided into a first area 2a and a second area 2b), and the first area 2a is separated from the first laser light source 15a. The oscillated laser is scanned by the first galvanometer mirror 16a for cleaning, and the second area 2b is cleaned by the laser oscillated from the second laser light source 15b by the second galvanometer mirror 16b. Shall. Since the same vapor deposition material 20 is adhered to both the first area 2a and the second area 2b, the first laser light source 15a and the second laser light source 15b oscillate lasers having the same wavelength.

図６のように、有機ＥＬ用マスク２を２つのエリアに分割してそれぞれを第１のレーザ光源１５ａのレーザと第２のレーザ光源１５ｂのレーザとにより分担してクリーニングを行っていくことで、２つのエリアを同時にクリーニングでき、しかも各エリアは有機ＥＬ用マスク２の半分の領域となるため、クリーニング時間を大幅に短縮（約半分に短縮）できるようになる。これにより、有機ＥＬディスプレイの生産効率を大きく向上させることができるようになる。レーザ光源１５とガルバノミラー１６との配置台数を多くすることで、さらにクリーニング時間を短縮できるようになる。   As shown in FIG. 6, the organic EL mask 2 is divided into two areas, and each of them is divided by the laser of the first laser light source 15a and the laser of the second laser light source 15b to perform cleaning. Since two areas can be cleaned at the same time, and each area is half the area of the organic EL mask 2, the cleaning time can be greatly shortened (about half). Thereby, the production efficiency of the organic EL display can be greatly improved. The cleaning time can be further shortened by increasing the number of laser light sources 15 and galvanometer mirrors 16 disposed.

また、図６では有機ＥＬ用マスク２をＸ方向において２つの領域に分割するものを例示したが、図７のようにＹ方向において２つの領域に分割するようにすることもできる。この場合は、第１のレーザ光源１５ａと第２のレーザ光源１５ｂとをＹ方向に並行に配置し、また第１のガルバノミラー１６ａと第２のガルバノミラー１６ｂとをＹ方向に並行に配置する。第１のレーザ光源１５ａから発振したレーザは第１のエリア２ａの走査を行い、第２のレーザ光源１５ｂから発振したレーザは第２のエリア２ｂの走査を行う。前述したように、レーザの走査によるクリーニングは、洗浄度や走査速度等といった観点から、その走査幅はできる限り短い方が望ましい。図７の例では、Ｙ方向に２つの領域に分割しているため、走査幅も図２の例に比べて半分になる。このため、各エリアのＹ方向における端部にレーザが入射するときの入射角も小さくすることができるため、洗浄度の差異を低減させることができるようになる。また、走査時間も大幅に少なくすることができる。このため、高速に且つ洗浄度の高いクリーニングを行うことができるようになる。   6 illustrates the organic EL mask 2 divided into two regions in the X direction. However, the organic EL mask 2 may be divided into two regions in the Y direction as shown in FIG. In this case, the first laser light source 15a and the second laser light source 15b are arranged in parallel in the Y direction, and the first galvano mirror 16a and the second galvano mirror 16b are arranged in parallel in the Y direction. . The laser oscillated from the first laser light source 15a scans the first area 2a, and the laser oscillated from the second laser light source 15b scans the second area 2b. As described above, the cleaning by laser scanning is preferably as short as possible in terms of the degree of cleaning and the scanning speed. In the example of FIG. 7, since the area is divided into two regions in the Y direction, the scanning width is also halved compared to the example of FIG. For this reason, since the incident angle when the laser is incident on the end in the Y direction of each area can also be reduced, the difference in the cleaning degree can be reduced. Also, the scanning time can be greatly reduced. For this reason, it becomes possible to perform cleaning at a high speed and a high cleaning degree.

図６および図７の例ではレーザ光源１５を２つ配置しているが、図８に示すようにプリズム１９を用いて、１つのレーザ光源１５から発振したレーザをプリズム１９により分割させるようにしてもよい。プリズム１９は入射光の一部を反射し、一部を透過するビームスプリッタであり、当該機能を発揮する機能膜が入射角に対して４５度の角度で形成されている光学素子である。このプリズム１９を用いた場合には、レーザの走査を行うことができないため、移動部１４をＸ方向およびＹ方向に移動させるようにして、エリア洗浄を行う。図８の例では、有機ＥＬ用マスク２を２つの領域に分割して、プリズム１９により分岐させた２つのレーザを用いてクリーニングを行っているため、クリーニング時間をおおよそ半分に短縮することができる。   6 and 7, two laser light sources 15 are arranged. However, as shown in FIG. 8, a prism 19 is used to divide the laser emitted from one laser light source 15 by the prism 19. Also good. The prism 19 is a beam splitter that reflects part of incident light and transmits part of it, and is an optical element in which a functional film that exhibits this function is formed at an angle of 45 degrees with respect to the incident angle. When this prism 19 is used, since laser scanning cannot be performed, the area cleaning is performed by moving the moving unit 14 in the X direction and the Y direction. In the example of FIG. 8, since the organic EL mask 2 is divided into two regions and cleaning is performed using two lasers branched by the prism 19, the cleaning time can be shortened to approximately half. .

前述したように、移動部１４による相対移動によるクリーニングでは、クリーニング速度の面ではレーザ走査によるクリーニングよりは低速であるものの、有機ＥＬ用マスク２に対して直交方向にレーザを入射させることができ、洗浄度の面では有利である。そこで、プリズム１９を複数配置して、有機ＥＬ用マスク２に対して直交する複数のレーザを設けることにより、短時間で且つ洗浄度の高いクリーニングを行うことができるようになる。このときには、レーザ光源１５からのレーザのスポット径は大きくすることが望ましい。なお、プリズム１９を用いなくても、例えば複数のレーザ光源１５を配置して、有機ＥＬ用マスク２に対して直交方向に複数のレーザを照射させるようにしてもよい。   As described above, the cleaning by the relative movement by the moving unit 14 allows the laser to be incident on the organic EL mask 2 in the orthogonal direction, although the cleaning speed is slower than the cleaning by the laser scanning. This is advantageous in terms of cleanliness. Accordingly, by arranging a plurality of prisms 19 and providing a plurality of lasers orthogonal to the organic EL mask 2, cleaning can be performed in a short time and with a high degree of cleaning. At this time, it is desirable to increase the laser spot diameter from the laser light source 15. Even if the prism 19 is not used, for example, a plurality of laser light sources 15 may be arranged to irradiate the organic EL mask 2 with a plurality of lasers in the orthogonal direction.

クリーニング装置の概略構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows schematic structure of a cleaning apparatus. クリーニング装置の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of a cleaning apparatus. 有機ＥＬ用マスクの平面図である。It is a top view of the mask for organic EL. 有機ＥＬ用マスクの断面図および拡大図である。It is sectional drawing and an enlarged view of the mask for organic EL. ダストを空気流が捕捉する状態を説明する図である。It is a figure explaining the state which an air flow captures dust. クリーニング装置の変形例の概略構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows schematic structure of the modification of a cleaning apparatus. 図６とは異なるクリーニング装置の変形例の概略構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows schematic structure of the modification of the cleaning apparatus different from FIG. 図６および図７とは異なるクリーニング装置の変形例の概略構成を示す斜視図である。FIG. 8 is a perspective view showing a schematic configuration of a modified example of the cleaning device different from FIGS. 6 and 7.

符号の説明Explanation of symbols

１ クリーニング装置 ２ 有機ＥＬ用マスク
４ 開口部 １５ レーザ光源
１６ ガルバノミラー １７ 送風部
１７Ａ 送風スリット １８ 吸引部
１８Ａ 吸引スリット １９ プリズム
２０ 蒸着物質 ２１ 遊離生成物
３０ 空気流 ３１ 無風領域 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cleaning apparatus 2 Organic EL mask 4 Opening part 15 Laser light source 16 Galvano mirror 17 Blower part 17A Blower slit 18 Suction part 18A Suction slit 19 Prism 20 Deposition substance 21 Free product 30 Air flow 31 No wind area

Claims (11)

有機ＥＬ用マスクに付着した蒸着物質を除去する有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、
前記有機ＥＬ用マスクの表面にレーザを照射して前記蒸着物質を破砕して生じる遊離生成物を上方に飛散させるレーザ手段と、
飛散した前記遊離生成物を搬送して除去する空気流を形成する空気流形成手段と、
を備えたことを特徴とする有機ＥＬ用マスククリーニング装置。 An organic EL mask cleaning device for removing a vapor deposition material attached to an organic EL mask,
Laser means for irradiating the surface of the organic EL mask with a laser to scatter the free product generated by crushing the vapor deposition material;
An air flow forming means for forming an air flow for conveying and removing the scattered free products;
An organic EL mask cleaning device comprising: 前記空気流は、前記有機ＥＬ用マスクの表面から離間した位置に形成された層流状態の空気流であり、前記ＥＬ用マスクの表面に沿った流れを有していることを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置。   The air flow is a laminar air flow formed at a position separated from the surface of the organic EL mask, and has a flow along the surface of the EL mask. Item 2. An organic EL mask cleaning device according to Item 1. 前記有機ＥＬ用マスクの表面を前記レーザに走査させるレーザ走査手段を備えたことを特徴とする請求項１または２記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置。   3. The organic EL mask cleaning apparatus according to claim 1, further comprising a laser scanning unit that causes the laser to scan the surface of the organic EL mask. 前記有機ＥＬ用マスクと前記レーザ手段とを相対的に移動させるための相対移動手段を備えたことを特徴とする請求項１または２記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置。   3. The organic EL mask cleaning apparatus according to claim 1, further comprising a relative moving means for relatively moving the organic EL mask and the laser means. 前記有機ＥＬ用マスクの異なる領域にそれぞれレーザを照射するために、前記レーザ手段を複数備えたことを特徴とする請求項３または４記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置。   5. The organic EL mask cleaning apparatus according to claim 3, wherein a plurality of the laser means are provided to irradiate different areas of the organic EL mask with lasers. 前記空気流形成手段は、層流状態の前記空気流を形成するために必要な間隔だけ前記有機ＥＬ用マスクから離間した位置に設けた吸引手段を備えていることを特徴とする請求項２記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置。   The said air flow formation means is provided with the suction means provided in the position spaced apart from the said mask for organic EL only by the space | interval required in order to form the said air flow of a laminar flow state. Organic EL mask cleaning device. 前記空気流形成手段は、前記吸引手段に向けて送風する送風手段を備えていることを特徴とする請求項６記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置。   The organic EL mask cleaning apparatus according to claim 6, wherein the air flow forming unit includes a blowing unit that blows air toward the suction unit. 請求項１乃至７の何れか１項に記載の有機ＥＬ用マスククリーニング装置によりクリーニングされた有機ＥＬ用マスクを用いて有機ＥＬディスプレイを製造する有機ＥＬディスプレイの製造装置。   An organic EL display manufacturing apparatus that manufactures an organic EL display using the organic EL mask cleaned by the organic EL mask cleaning apparatus according to claim 1. 請求項８記載の有機ＥＬディスプレイの製造装置により製造された有機ＥＬディスプレイ。   An organic EL display manufactured by the organic EL display manufacturing apparatus according to claim 8. 有機ＥＬ用マスクに付着した蒸着物質を除去する有機ＥＬ用マスククリーニング方法であって、
前記有機ＥＬ用マスクの表面にレーザを照射して前記蒸着物質を破砕して生じる遊離生成物を上方に飛散させ、
飛散した前記遊離生成物を空気の空気流により除去すること
を特徴とする有機ＥＬ用マスククリーニング方法。 An organic EL mask cleaning method for removing a vapor deposition material attached to an organic EL mask,
The surface of the organic EL mask is irradiated with a laser to scatter the free product generated by crushing the vapor deposition material,
An organic EL mask cleaning method, characterized in that the scattered free product is removed by an air flow of air. 前記空気流は、前記有機ＥＬ用マスクの表面から離間した位置に形成された層流状態の空気流であり、前記ＥＬ用マスクの表面に沿った流れを有していることを特徴とする請求項１０記載の有機ＥＬ用マスククリーニング方法。   The air flow is a laminar air flow formed at a position separated from the surface of the organic EL mask, and has a flow along the surface of the EL mask. Item 11. A method for cleaning an organic EL mask according to Item 10.
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