JP2010040523A - 有機ｅｌ表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 １つの画素を２つのサブピクセルで形成し、同一色の発光層を含むＥＬ層を２つのサブピクセルに連続して形成した簡易な有機ＥＬ表示装置において、２つのサブピクセルにおける発光による色度の違いを低減させることである。
【解決手段】 基板上に電極によって挟持された発光層を含む有機層が積層された複数の有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ表示装置において、基板の１画素分の発光領域には、基板上に夫々電極間距離の異なる第１有機ＥＬ素子と第２有機ＥＬ素子とが並置されている。更に、第３有機層は、同一膜厚であって、第１の有機層及び第２の有機層上の中間電極を介して連続して積層されている。
ここで、第３有機ＥＬ層の発光スペクトルのピーク波長は、第１有機ＥＬ層及び／又は第２有機ＥＬ層の発光スペクトルのピーク波長よりも長い構成となっている。
【選択図】 図２

Description

有機ＥＬ表示装置に関するものであって、特に有機ＥＬ素子を積層する場合における、発光スペクトルに関するものである。

有機ＥＬ表示装置において素子の寿命を伸ばすために、有機ＥＬ素子を積層する構成が提案されている。なお、有機ＥＬ素子は一般的に、発光層を含む有機層と、この有機層を挟持する電極とからなる。

特許文献１（特開２００５−１７４６３９号公報）では１画素を２つのサブピクセルで構成し、１つのサブピクセルには異なる発光色を示す２つのＥＬ層を、電極を挟んで積層している。そして、上層のＥＬ層には、青色の発光層が設けられており、各ＥＬ素子において、別途に設けられている。

特開２００５−１７４６３９号公報 （第図１−第図２）

一般的に、有機ＥＬ素子は波長同等の厚さであるため、光の干渉効果を強く受ける。各有機ＥＬ層の発光層で発光が生じた場合、その光は、構成する各層の屈折率及び吸収係数の違いにより、反射、屈折、透過、吸収等を繰り返して外部に取り出されることになる。その取り出される光量は様々な経路を通ってきた光が互いに干渉し、強め合うことで増大する。

そして、特許文献１の構成に対して、光の干渉効果を考慮した場合の影響を考えてみる。まず、図１で示されたように、サブピクセル毎に並置された緑色の発光色である第１有機ＥＬ層１３と赤色の発光色である第２有機ＥＬ層１４の上部に、青色の発光色である第３有機ＥＬ層１６及び青色の発光色である第４有機ＥＬ層１７を塗分けして積層した場合の概略図がある。なお、１は基板、２ａ、２bは第１電極（反射電極）、５は第２電極（中間電極）、７は第３電極である。ここで、干渉の影響を考えた場合には、発光位置から直接光取り出し方向に向かう光と反射電極で反射して取り出し方向へ向かう光との干渉効果が最も大きくなる。

この時、以下の関係式（１）を満たすことで、干渉による取り出し効率の向上が見込まれることとなる。
２Ｌ／λ＋δ／２π＝ｍ （１）
（式中、Ｌは発光層の発光領域と反射電極の反射面との間の光学的距離、λは発光層からの発光スペクトルのピーク波長、δは、反射電極における位相シフト量δ、ｍは自然数である。）
前記式（１）は、文献Ｄｅｐｐｅ Ｊ．Ｍｏｄｅｒｎ．Ｏｐｔｉｃｓ Ｖｏｌ ４１，Ｎｏ２，ｐ３２５（１９９４）
において、共振構造での有機ＥＬの発光スペクトルの干渉強め合いの条件より導出されている。

上記干渉条件式（１）に則り、ｍ＝２の場合の、第１有機ＥＬ層１３及び第２有機ＥＬ層１４の発光に関して、最適な光路長を求めたものが表１である。
λ１は、第１有機ＥＬ層１３からの発光に関して強めたい波長である。Ｌ１は、その第１有機ＥＬ層１３における発光領域から反射電極の反射面との間の光学的距離である。
λ２は、第２有機ＥＬ層１４からの発光に関して強めたい波長である。Ｌ２は、その第２有機ＥＬ層１４における発光領域から反射電極の反射面との間の光学的距離である。
λ３は、第３有機ＥＬ層１６からの発光に関して強めたい波長である。Ｌ３及びＬ４は、同一発光色である第３有機ＥＬ層１６と第４有機ＥＬ層１７に対応した夫々のサブピクセルにおける発光領域から反射電極の反射面との間の光学的距離である。

また、反射金属膜での位相シフトはほぼπのため、δをπとして計算している。強めたい波長をＰＬピーク波長に合わせると発光効率が上がるため好適である。なお、ＰＬ（フォトルミネッセンス）とは、発光を光励起した時に発せられる発光スペクトルのことである。
λ１は、第１有機ＥＬ層１３からの緑色発光のＰＬピーク波長５３０ｎｍとし、λ２は第２有機ＥＬ層１４からの赤色発光のＰＬピーク波長６３０ｎｍとした。λ３は第３有機ＥＬ層１６及び第４有機ＥＬ層１７からの青色発光のＰＬピーク波長４５０ｎｍとした。

表１は各波長における適切な干渉距離を式（１）より導いたものである。表１に従って図１にあるＬ１〜Ｌ４の設定光学距離を考える。Ｌ１，Ｌ２は表１の最適干渉距離に合わせればよいのでそれぞれ３９８ｎｍ、４７３ｎｍになる。

ここで、第３有機ＥＬ層１６及び第４有機ＥＬ層１７に関する干渉効果を考える。

図１から分かる通り、第３有機ＥＬ層１６と第４有機ＥＬ層１７は、２つのサブピクセルである第１有機ＥＬ層１３及び第２有機ＥＬ層１４の上部に、夫々別途に積層されている。このため、第３有機ＥＬ層１６の発光領域から反射電極の反射面までの間の光学的距離は、第４有機ＥＬ層１７の発光領域から反射電極の反射面までの間の光学的距離とで異なる。例えば、Ｌ３を最適干渉距離である５６３ｎｍに設定すると、Ｌ１とＬ２の差である７５ｎｍだけＬ４は青色の最適干渉距離より厚くなる。

このように光学距離の違いから、光学干渉条件が変わってしまう。そこで、第３有機ＥＬ層１６と第４有機ＥＬ層１７において光学干渉条件を等しくすると、第３有機ＥＬ層１６と第４有機ＥＬ層１７の膜厚を変える必要が生じてしまい、成膜工程が複雑になってしまうといった課題が生じてしまう。

また、成膜工程を簡略化させるために、第３有機ＥＬ層１６と第４有機ＥＬ層１７の膜厚を同一にしようとすると、干渉効果の違いから、第３有機ＥＬ層１６からの発光色と第４有機ＥＬ層からの発光色とで色度が異なることになるという問題がある。

そこで、本発明の目的は、１画素分を２つのサブピクセルで形成し、同一色の発光層を含むＥＬ層を２つのサブピクセルに連続して形成することにより簡略な有機ＥＬ表示装置を提供すると共に、２つのサブピクセルにおける発光による色度の違いを低減させることである。

上記課題を解決するために、以下を提供する。
基板上に、電極によって挟持された発光層を含む有機層からなる有機ＥＬ素子が積層された有機ＥＬ表示装置において、１つの画素の発光領域には、前記基板の上に第１有機層を含む第１有機ＥＬ素子と、第２有機層を含む第２有機ＥＬ素子とが並置されていると共に、前記第１有機層を挟持する電極間の距離と前記第２有機層を挟持する電極間の距離とは異なり、第３有機ＥＬ素子に含まれる第３有機層は、前記第１有機層及び前記第２有機層の上の中間電極を介して連続して、同一膜厚で積層されており、前記第３有機層の発光スペクトルのピーク波長は、前記第１有機層及び／又は前記第２有機層からの発光スペクトルのピーク波長よりも長い。

本発明により、有機ＥＬ表示装置において、２つのサブピクセルにわたって連続して形成されている有機発光層を含む有機ＥＬ層からの発光色が、サブピクセル間において色度差が低減された高画質の映像が表示である。そして、このように表示可能な有機ＥＬ表示装置を簡単な構成で実現することができる。

従来技術における課題を説明する有機ＥＬ表示装置を示す概略断面図である。 本発明による実施形態１における有機ＥＬ表示装置の概略断面図である。 本発明による実施形態１における回路図である。 本発明による実施形態２における有機ＥＬ表示装置を示す概略断面図である。

以下、本発明に係る表示装置の実施の形態について図面を参照して説明する。
なお、本明細書で特に図示または記載されない部分に関しては、当該技術分野の周知または公知技術を適用する。また以下に説明する実施形態は、発明の一つの実施形態であって、これらに限定されるものではない。

（実施形態１）
本実施形態での有機ＥＬ表示装置は、図２にあるように１つの画素を２つのサブピクセル（副画素）で構成されており、１つのサブピクセルには異なる発光色を示す２つの有機ＥＬ層の夫々を、電極を挟んで積層している。
電極で挟まれた発光層を含む有機ＥＬ層は、有機ＥＬ素子であり、複数の有機ＥＬ素子が有機ＥＬ表示装置に配置されている。

さらにプロセスの簡便性を考え、第３有機ＥＬ層６を２つのサブピクセルに連続して形成している。
なお、有機ＥＬ層（有機層）とは、発光層を含む有機材料からなり、単層型（発光層）、２層型（発光層／正孔注入層）のいずれを使用しても良い。更に、３層型（電子輸送層／発光層／正孔輸送層）、４層型（電子注入層／発光層／正孔輸送層／正孔注入層）、５層型（電子注入層／電子輸送層／発光層／正孔輸送層／正孔注入層）のいずれを使用してもよい。

有機ＥＬ表示装置は、基板上に、反射電極として反射性を有する第１電極２ａ、２ｂがある。そして第１電極２ａ、２ｂの上に、第１有機ＥＬ層（第１有機層）３及び第２有機ＥＬ層（第２有機層）４が並置されている。そして、第１有機層３及び第２有機層４の上に第２電極５、第３有機ＥＬ層（第３有機層）６、第３電極７を順次設けた構成になっている。なお、第３有機ＥＬ層は、少なくとも一部が第１有機ＥＬ層３及び第２有機ＥＬ層４の上方に積層されている。

上記の第１電極２ａ、２ｂは、絶縁性の基板１上に形成され陽極としての機能も有する。
第１電極２ａ、２ｂの電極材料としては、光反射性の部材であることが好ましく、例えばＣｒ、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ等の材料からなることが好ましい。反射率が高い部材であるほど、光取り出し効率を向上できるからである。
また、反射機能を上記の光反射性部材によって確保し、電極としての機能を、前記光反射性部材上に形成したＩＴＯ膜等の透明導電膜によって確保するような構成も第１電極２ａ、２ｂに含まれる。例えばＡｇ反射膜にＩＴＯ電極を積層した構成である。

第１のサブピクセル（図２中右側の領域）には、青色の発光色を示す第１有機ＥＬ層３と赤色の発光色を示す第３有機ＥＬ層６とが、中間電極である第２電極５を挟んで積層されている。

そして、第２のサブピクセル（図２中左側の領域）には、緑色の発光色を示す第２有機ＥＬ層４と第３ＥＬ層６とが、中間電極である第２電極５を挟んで積層されている。
第２電極５に使用する材料としてはＩＴＯ、ＩＺＯといった透明導電膜やＡｌ、Ａｇ、Ｍｇといった金属導電膜、もしくはそれらを積層したものが挙げられる。
なお、第２電極５に金属導電膜を１０−２０ｎｍ程度にした金属薄膜を利用した場合、第２電極５が半透過膜になるため、第１電極２ａ、２ｂと第２電極５に挟持された第１有機ＥＬ層３及び第２有機ＥＬ層４の共振効果が高まり好適である。更に、式（１）を満たすように、下側の第１有機ＥＬ層３を含む有機ＥＬ素子と第２有機ＥＬ層４を含む有機ＥＬ素子を構成させれば、共振効果が高まり好適である。すなわち、式で表すと式（２）、式（３）となる。
２Ｌ１／λ１＋δ／２π＝ｍ （２）
（式中、Ｌは第１有機ＥＬ層３における発光層の発光領域と第１有機ＥＬ層３と基板１との間にある電極の反射面との間の光学的距離。λ１は第１有機層３における発光層からの発光スペクトルのピーク波長。δは有機ＥＬ層と基板１との間にある電極における位相シフト量δ、ｍは自然数である。）
２Ｌ２／λ２＋δ／２π＝ｍ （２）
（式中、Ｌ２は第２有機ＥＬ層４における発光層の発光領域と、第２有機ＥＬ層４と基板１との間にある電極の反射面との間の光学的距離。λ２は第２有機ＥＬ層４における発光層からの発光スペクトルのピーク波長。δは、反射電極における位相シフト量δ。ｍは自然数である。）ここで、式（２）、（３）を満たすことにより、第１電極２ａと第２電極５の電極間距離と、第１電極２ｂと第２電極５との電極間距離は異なることになる。

第２電極５上には、第１有機ＥＬ層３及び第２有機ＥＬ層４上に積層するように、第３有機ＥＬ層６が両サブピクセルにわたって同一膜厚で形成されている。すなわち、第１有機層３及び第２有機層４と、第３有機層６との間に配置される中間電極である第２電極５は、第１有機ＥＬ素子及び第２有機ＥＬ素子における上部電極であると共に、第３有機ＥＬ素子の下部電極でもある。

そして、第３有機ＥＬ層６の上方には、陰極として第３電極７が形成されている。
なお、電極、有機ＥＬ層の形成方法は従来公知の手段が使用できる。例えば有機ＥＬ層は蒸着や転写法等を使用することができ、電極は蒸着やスパッタ法等が使用できる。

このようにして形成された有機ＥＬ表示装置を駆動させると上述した通り、第３有機ＥＬ層６の発光色度がサブピクセル間において異なるという課題が生じる。
特に、２つのサブピクセルに共通に形成された第３有機ＥＬ層６が、第１有機ＥＬ層３及び第２有機ＥＬ層４よりも光取り出し側に形成されると、サブピクセル間における色度差は大きくなる。

これは、図２にあるように、第３有機ＥＬ層６から反射性を有する第１電極側２までの光学距離がサブピクセル毎で異なるためである。

このように、光学距離が異なるために生じる発光色度の変化という課題を解決するために、本発明では第３有機ＥＬ層６からのＰＬピーク波長を、第１有機ＥＬ層３及び／又は第２有機ＥＬ層４のＰＬピーク波長よりも長くしている。

このような構成としている理由は、次の通りである。

まず、第１サブピクセルと第２サブピクセルとにおいて光学距離が違うことにより各サブピクセルの干渉効果が異なってくる。そこで、仮に、第３有機ＥＬ層６の発光色が青色である場合と、赤色である場合とで、有機ＥＬ表示装置から発光された各発光色のスペクトルが１０ｎｍだけ長波化した場合を考える。

このときの、各発光色のスペクトルのピーク波長の変化を考えると、青色の発光スペクトルのピーク波長が、４５０ｎｍから４６０ｎｍに変化するのに対して、赤色の発光スペクトルのピーク波長が、６２０ｎｍから６３０ｎｍに変化する。このことから、赤色の発光スペクトルのピーク波長の大きさに対する変化の割合が、青色の発光スペクトルのピーク波長の大きさに対する変化の割合に対して相対的に小さくなることが分かる。

したがって、各発光スペクトルのピーク波長の大きさに対する変化の割合が小さいほど、光学距離の違いによる色度変化の影響が受けにくくなるのである。

そのため、上記のように第３有機ＥＬ層６からのＰＬピーク波長を、第１有機ＥＬ層３及び／又は第２有機ＥＬ層４のＰＬピーク波長よりも長くしているのである。

一般的には青色のＰＬピーク波長は４４０−４７０ｎｍ程度であり、緑色は５１０−５４０ｎｍ程度、赤色は６００−６３０ｎｍ程度である。したがってＲＧＢの３色で画素が形成されている場合、本実施形態のように２つのサブピクセルに共通に形成してある第３有機ＥＬ層６を波長の最も長い赤色の発光層で形成すると非常に好適である。

また、色度が異なっていても、人の目には同じ色と感じられやすい緑色の発光層を第３有機ＥＬ層６に利用することも好適である。特に緑色の発光層を利用した場合、最も波長の短い青色の発光層を利用した場合よりも色度差が小さくなるため望ましい。

なお、本実施形態における各色のＥＬ層の発光色度を示したのが表２である。

第３有機ＥＬ層６は２つのサブピクセルに共通に形成されており、上述した先の理由によりサブピクセル間で発光色度が異なる。

表２から、本実施形態における第３有機ＥＬ層６のサブピクセル間における発光色度差は、ＣＩＥｘｙ上の幾何学距離Δｘｙで表すと０．０２１となる。

また、実際に人が感じる色の感覚差と幾何学距離がほぼ比例するよう設定されたｕ’ｖ’色度上での幾何学距離は０．０３８となる。

＜有機ＥＬ表示装置の各画素の回路＞
なお、このようにして形成された有機ＥＬ表示装置の各画素の回路を図３に示す。

各サブピクセルは、スイッチング用ＴＦＴ８ａ，８ｂ，８ｃと、駆動用ＴＦＴ９ａ，９ｂ，９ｃと積層された有機ＥＬ素子と、コンデンサ１０ａ，１０ｂ，１０ｃで構成されている。

ここで、スイッチング用ＴＦＴ８ａ，８ｂ，８ｃのゲート電極は、ゲート信号線１１に接続されている。また、スイッチング用ＴＦＴ８ａ，８ｂ，８ｃのソース領域はソース信号線１２ａ，１２ｂ，１２ｃに、ドレイン領域は駆動用ＴＦＴ９ａ，９ｂ，９ｃのゲート電極に接続されている。
また、駆動用ＴＦＴ９ａ，９ｂ，９ｃのソース領域は電源供給線１３に接続される。駆動用ＴＦＴ９ａ，９ｂ，９ｃのドレイン領域は発光素子の一端の電極に接続される。例えば、図２における第１電極２ａ、２ｂ、第３電極７に接続される。
またコンデンサ１０ａ，１０ｂ，１０ｃは電極のそれぞれが、駆動用ＴＦＴ９ａ，９ｂ，９ｃのゲート電極とＧＮＤとに接続されるように形成されている。

このように、駆動用ＴＦＴ９ａ，９ｂ，９ｃと有機ＥＬ素子が直列に接続されており、発光素子に流れる電流をソース信号線１２ａ，１２ｂ，１２ｃから供給されるデータ信号に応じて駆動用ＴＦＴ９ａ，９ｂ，９ｃで制御することにより発光制御される。

（比較例１）
比較例として、緑色（表中ではＧと記す。ＧはＧｒｅｅｎの略である。）と赤色（表中ではＲと記す。ＲはＲｅｄの略である。）の発光からなる有機ＥＬ層の上部に、電極を隔てて青色（表中ではＢと記す。ＢはＢｌｕｅの略である。）の有機ＥＬ層を２つのサブピクセルに共通に形成した場合を挙げる。
比較例１は、実施形態１の赤色と青色の有機ＥＬ層の配置を入れ替えたものである。
比較例１における各色有機ＥＬ層の発光色度を示したのが表３である。
比較例１も実施形態１同様、２つのサブピクセルに共通に形成した青色の有機ＥＬ層の発光色度がサブピクセル間で異なる。具体的には、サブピクセル間での発光色度差はΔｘｙで０．１２３、Δｕ’ｖ’で０．２８２となる。

したがって、表２と表３とから、実施形態１のように、波長の最も長い赤色の発光を示す有機ＥＬ層を２つのサブピクセル間で共通に形成した方がサブピクセル間における色度差が小さいことが分かる。

以上により、実施形態１により、２つのサブピクセルにわたって共通に形成されているＥＬ層において、サブピクセル間での発光層の色度差が小さく、簡易なプロセスを用いて形成した有機ＥＬ表示装置で、高画質の映像を表示できる。

（実施形態２）
本実施形態での有機ＥＬ表示装置では、図４に記載されているように１つの画素を２つのサブピクセルで構成されており、１つのサブピクセルには異なる発光色を示す２つのＥＬ層が中間電極を挟んで積層されている。

更にプロセスの簡便性を考え、第３有機ＥＬ層６を２つのサブピクセルに共通に形成している。

基板１の上方に、反射性を有する第１電極２、第３有機ＥＬ層６、中間電極である第２電極５、第１有機ＥＬ層３及び第２有機ＥＬ層４、第３電極７を順次設けた構成になっている。

光学干渉効果で効果が大きいのは、各発光領域からの発光された光が光取り出し方向（この場合、図４中第３電極７側）と、各発光領域から発光された光が第１電極２で一旦反射して、光取り出し方向へ向かう光との干渉効果である。また、光取り出し面側でおこる反射光との干渉も重要であるため、実施形態２では、これについて述べる。

特に実施形態２では、第３電極７において、Ａｇを少なくとも含む金属半透過膜とするため、第３有機ＥＬ層の発光領域から第３電極７までの反射面までの光学距離によって、２つのサブピクセル間で干渉効果が変わることになる。

第１有機ＥＬ層３と第２有機ＥＬ層４は異なる発光色を示すため、光学干渉効果を考えると、第１有機ＥＬ層３と第２有機ＥＬ層４の膜厚が異なる。上記２つの有機ＥＬ層の膜厚が異なるため、図４にあるように、第３有機ＥＬ層の発光領域から光取り出し側の反射面までの光学的距離はサブピクセル間でＬ５、Ｌ６のように異なることになる。なお、第１有機ＥＬ層３を挟む電極間距離と、第２有機ＥＬ層４を挟む電極間距離とは異なることにもなる。

したがって第３有機ＥＬ層６の光学干渉効果は、第１有機ＥＬ層３に積層されている箇所と、第２有機ＥＬ層４に積層されている箇所とで光学干渉効果が異なる。その結果、第３有機ＥＬ層６の発光色度がサブピクセル間において異なるという課題が生じる。

上記課題を解決するために、本願発明では、第３有機ＥＬ層６のＰＬピーク波長は、第１有機ＥＬ層３及び／又は第２有機ＥＬ層４のＰＬピーク波長より長くしている。

このような構成としている理由は、次の通りである。

まず、第１サブピクセルと第２サブピクセルとにおいて、光学距離が異なることにより、各サブピクセルの干渉効果が異なってくる。そこで、仮に第３有機ＥＬ層６の発光色が青色である場合と、赤色である場合とで、有機ＥＬ表示装置から発光された各光束のスペクトルが１０ｎｍだけ長波化した場合を考える。

このときの、各発光色のスペクトルのピーク波長の変化を考えると、青色の発光スペクトルのピーク波長が、４５０ｎｍから４６０ｎｍに変化するのに対して、赤色の発光スペクトルのピーク波長が、６２０ｎｍから６３０ｎｍに変化する。このことから、赤色の発光スペクトルのピーク波長の大きさに対する変化の割合が、青色の発光スペクトルのピーク波長の大きさに対する変化の割合に対して相対的に小さくなることが分かる。

したがって、各発光スペクトルのピーク波長の大きさに対する変化の割合が小さいほど、光学距離の違いによる色度変化の影響が受けにくくなるのである。

そのため、上記のように第３有機ＥＬ層６からのＰＬピーク波長を、第１有機ＥＬ層３及び／又は第２有機ＥＬ層４のＰＬピーク波長よりも長くしているのである。

実施形態２における各色ＥＬ層の発光色度を示したのが表４である。

第３有機ＥＬ層６は２つのサブピクセルに共通に形成されており、上述した先の理由によりサブピクセル間で発光色度が異なる。

表４から、実施形態２における第３有機ＥＬ層６のサブピクセル間における発光色度差は、ＣＩＥｘｙ上の幾何学距離Δｘｙで表すと０．００７となる。また、実際に人が感じる色の感覚差と幾何学距離がほぼ比例するよう設定されたｕ’ｖ’色度上での幾何学距離は０．０５０となる。

このように実施形態２により、２つのサブピクセルにわたって共通に形成されているＥＬ層において、サブピクセル間での発光層の色度差が小さく、簡易なプロセスを用いて形成した有機ＥＬ表示装置で、高画質の映像を表示できる。

なお、駆動方法は実施形態１と同様にしてもよいし、公知の駆動方法を使用しても良いため割愛する。

また、第１の有機ＥＬ層３及び第２の有機ＥＬ層４と、前記第３の有機ＥＬ層６を分離している中間電極（図２の第２電極５）は、前記３つの有機層で共有されていてもいし、別々に電極を設けても良い。

さらに、実施形態１及び実施形態２ではトップエミッション方式で説明をしてきたが、ボトムエミッション方式でも本発明は当然有効である。なお、ボトムエミッション方式の場合には、光取り出し側は基板１側となる。

（比較例２）
比較例として、緑色（表中ではＧと記す。ＧはＧｒｅｅｎの略である。）と赤色（表中ではＲと記す。ＲはＲｅｄの略である。）の発光からなる有機ＥＬ層の下部に電極を隔てて青色（表中ではＢと記す。ＢはＢｌｕｅの略である。）の有機ＥＬ層を２つのサブピクセルに共通に形成した場合を挙げる。
比較例２は本実施形態の赤色と青色の有機ＥＬ層の配置を入れ替えたものである。
比較例２における各色有機ＥＬ層の発光色度を示したのが表５である。２つのサブピクセルに共通に形成した青色の有機ＥＬ層の発光色度がサブピクセル間で異なる。具体的には、サブピクセル間での発光色度差はΔｘｙで０．０１７、Δｕ’ｖ’で０．１６８となる。

したがって、以上の表４と表５とから、実施形態２のように、波長の最も長い赤色の発光を示す有機ＥＬ層を２つのサブピクセル間で共通に形成した方が、サブピクセル間における色度差が小さくなることが分かる。

１ 基板
２、２ａ、２ｂ 第１電極（反射電極）
３ 第１有機ＥＬ層
４ 第２有機ＥＬ層
５ 第２電極
６ 第３有機ＥＬ層
７ 第３電極
８ スイッチング用ＴＦＴ
９ 駆動用ＴＦＴ
１０ コンデンサ
１１ ゲート信号
１２ ソース信号線
１３ 電源供給線

Claims (7)

1. 基板上に、電極によって挟持された少なくとも発光層を含む有機層からなる有機ＥＬ素子が積層された有機ＥＬ表示装置において、
   １つの画素の発光領域には、前記基板の上に第１有機層を含む第１有機ＥＬ素子と、第２有機層を含む第２有機ＥＬ素子とが並置されていると共に、前記第１有機層を挟持する電極間の距離と前記第２有機層を挟持する電極間の距離とは異なり、
   第３有機ＥＬ素子に含まれる第３有機層は、前記第１有機層及び前記第２有機層の上の中間電極を介して連続して、同一膜厚で積層されており、
   前記第３有機層の発光スペクトルのピーク波長は、前記第１有機層及び／又は前記第２有機層からの発光スペクトルのピーク波長よりも長い。
2. 前記第１有機層及び第２有機層と、前記第３有機層との間に配置される前記中間電極は、前記第１有機ＥＬ素子及び前記第２有機ＥＬ素子における上部電極であると共に、前記第３有機ＥＬ素子の下部電極でもあり、金属薄膜であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
3. 前記第３有機層の発光色は、赤色であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
4. 前記第３有機層の発光色は、緑色であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
5. 請求項１において、以下を満たすことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
   前記第１有機ＥＬ素子において、式（１）を満たす。
   ２Ｌ１／λ１＋δ／２π＝ｍ （１）
   （式中、Ｌ１は前記第１有機層における発光層の発光領域と前記第１有機層と前記基板との間にある前記電極の反射面との間の光学的距離、λ１は前記第１有機層における発光層からの発光スペクトルのピーク波長、δは前記第１有機層と前記基板との間にある前記電極における位相シフト量δ、ｍは自然数である。）
   前記第２有機ＥＬ素子において、式（２）を満たす。
   ２Ｌ２／λ２＋δ／２π＝ｍ （２）
   （式中、Ｌ２は前記第２有機層における発光層の発光領域と、前記第２有機層と前記基板との間にある前記電極の反射面との間の光学的距離、λ２は前記第２有機層における発光層からの発光スペクトルのピーク波長、δは、前記第２有機層と前記基板との間にある前記電極における位相シフト量δ、ｍは自然数である。）
6. 基板上に、電極によって挟持された少なくとも発光層を含む有機層からなる有機ＥＬ素子が積層された有機ＥＬ表示装置において、
   少なくとも１つの画素の発光領域において、前記基板の上に、連続して、かつ同一膜厚で第１有機ＥＬ素子を構成する第１有機層が形成されており、
   前記第１有機層の上に中間電極を介して第２有機層を含む第２有機ＥＬ素子と、第３有機層を含む第３有機ＥＬ素子とが並置されており、
   前記第２有機ＥＬ素子の電極間距離と前記第３有機ＥＬ素子の電極間距離は異なり、
   前記第１有機層の発光スペクトルのピーク波長は、前記第２有機層及び／又は前記第３有機層からの発光スペクトルのピーク波長よりも短い。
7. 前記第１有機ＥＬ素子及び前記第２有機ＥＬ素子における上部電極は、銀を含むことを特徴とする有機ＥＬ表示装置である。

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