JP2010036514A - ナノインプリント用スタンパ及び該スタンパを使用する微細構造転写装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ナノインプリント用スタンパ1であって、光透過性硬質基板7と、光透過性弾性体プレート9と、光透過性で可撓性の硬質スタンパベース11と、光透過性スタンパ緩衝層13と、光透過性スタンプパターン層15とから構成されており、前記スタンパ緩衝層のヤング率が前記スタンプパターン層のヤング率よりも低いことを特徴とするナノインプリント用スタンパ。
【選択図】図1
Description
また、本発明のナノインプリント用スタンパはスタンパ緩衝層も薄いので、従来の多層構造弾性体を使用するナノインプリント用スタンパに比べて、緩衝層内での平面方向変形が小さく抑えられる。その結果、スタンパ押し付け時のスタンプパターン層の微細構造の位置ずれや寸法変形が少なく、転写の高精度化が図れるばりか、スタンプパターン層の微細構造の寿命も長くなる。
比較例として、図13に示す従来技術のナノインスタンパ100を用いて同じ基板にナノインプリント処理を施した。ナノインスタンパ100において、部材102は厚さ20mmのガラス板であり、110は厚さ1mmのガラス板であり、中間層の部材108はは厚さ1mmのポリウレタンゴムとポリエステル樹脂からなる多層構造体であり、部材106は本発明のナノインスタンパ1で使用したスタンプパターン層15と同じものを使用した。ナノインスタンパ100をサファイア基板112に0.6MPaの押し付け力で圧接させた。その後、露光装置44からUV光を照射し、光透過性のナノインスタンパ100を通してサファイア基板112上の光硬化性アクリレート樹脂54を硬化させた。露光時間は40秒間であった。前記樹脂が硬化した後、昇降機構42を上昇させ、ナノインスタンパ100からサファイア基板112を分離させた。サファイア基板112の表面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、幅100nm、ピッチ200nm、深さ150nmのナノインプリントパターン層56が平行に形成されていたが、スタンパ100の基板上の突起への追従性(L/h)は15〜30であり、押し付け力と基板の反りに追従する中間層108の変形によりパターン層56の寸法変化は10〜30ppmであった。
3 第1の部材
5 第2の部材
7 光透過性硬質基板
9 弾性体プレート
11 スタンパベース
13 スタンパ緩衝層
15 スタンプパターン層
17 吸着手段
19 排気管
21 下部平面台
25 原盤(マスター)
27 位置決め板
29 光硬化型樹脂
33 上部平面板
35 離型処理膜
42 昇降機構
44 露光装置
46 紫外線照射板
48 照射レンズ
50 紫外光導光手段
52 ステージ
54 光硬化型樹脂
56 ナノインプリントパターン層
100 従来技術のハードバックアップ型ナノインスタンパ
102 バックアッププレート
104 パターン層
106 重合体スタンプ
108 多層構造弾性体層
110 スタンパベース
112 被転写基板
114 基板載置台
116 突起
Claims (5)
- ナノインプリント用スタンパであって、
光透過性硬質基板と、光透過性弾性体プレートと、光透過性で可撓性の硬質スタンパベースと、光透過性スタンパ緩衝層と、光透過性スタンプパターン層とから構成されており、
前記スタンパ緩衝層のヤング率が前記スタンプパターン層のヤング率よりも低いことを特徴とするナノインプリント用スタンパ。 - 前記光透過性硬質基板はガラス板、石英板及びプラスチック板からなる群から選択される材料からなり、
前記光透過性弾性体プレートはウレタンゴム及びシリコンゴムからなる群から選択される材料からなり、
前記光透過性で可撓性の硬質スタンパベースはガラス、石英、サファイア、アクリル樹脂及び硬質塩化ビニールからなる群から選択される材料からなり、厚さが0.1mm〜1.0mmの範囲内であり、
前記光透過性スタンパ緩衝層はアクリル系樹脂、ポリウレタンゴム及びシリコンゴムからなる群から選択される材料からなり、厚さは10μm〜150μmの範囲内であり、ヤング率は1MPa〜100MPaの範囲内であり、
前記光透過性スタンプパターン層は前記光透過性スタンプパターン層は、ポリエステル系樹脂及びアクリル樹脂からなる群から選択される材料からなり、ヤング率は1GPa〜5GPaの範囲内であり、厚さは0.1μm〜10μmの範囲内であることを特徴とする請求項1記載のナノインプリント用スタンパ。 - 前記光透過性硬質基板と、光透過性弾性体プレートとからなる第1の部材と、前記光透過性で可撓性の硬質スタンパベースと、光透過性スタンパ緩衝層と、光透過性スタンプパターン層とからなる第2の部材とに分離可能に構成され、前記第2の部材は前記第1の部材に対して着脱可能に設けられることを特徴とする請求項1記載のナノインプリント用スタンパ。
- 真空吸着手段により前記第2の部材を前記前記第1の部材に対して着脱可能に設けることを特徴とする請求項3記載のナノインプリント用スタンパ。
- モールドとして請求項1〜4の何れかに記載のナノインプリント用スタンパを使用することを特徴とする微細構造転写装置。
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