JP2010018869A - 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金およびスパッタリングターゲット材並びにその製造方法 - Google Patents
垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金およびスパッタリングターゲット材並びにその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010018869A JP2010018869A JP2008182645A JP2008182645A JP2010018869A JP 2010018869 A JP2010018869 A JP 2010018869A JP 2008182645 A JP2008182645 A JP 2008182645A JP 2008182645 A JP2008182645 A JP 2008182645A JP 2010018869 A JP2010018869 A JP 2010018869A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- target material
- sputtering target
- alloy
- powder
- flux density
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000013077 target material Substances 0.000 title claims abstract description 59
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 title claims abstract description 53
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 31
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims abstract description 31
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 56
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 12
- 238000007711 solidification Methods 0.000 claims description 4
- 230000008023 solidification Effects 0.000 claims description 4
- -1 and in atomic ratio Substances 0.000 claims description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 abstract description 17
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 abstract description 10
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 39
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 34
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 29
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 29
- 239000010408 film Substances 0.000 description 18
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 12
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 230000005307 ferromagnetism Effects 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 4
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910001362 Ta alloys Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 2
- 238000009689 gas atomisation Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 101000993059 Homo sapiens Hereditary hemochromatosis protein Proteins 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000010587 phase diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/65—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition
- G11B5/657—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition containing inorganic, non-oxide compound of Si, N, P, B, H or C, e.g. in metal alloy or compound
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/851—Coating a support with a magnetic layer by sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C1/00—Making non-ferrous alloys
- C22C1/04—Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
- C22C1/0433—Nickel- or cobalt-based alloys
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C19/00—Alloys based on nickel or cobalt
- C22C19/07—Alloys based on nickel or cobalt based on cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C30/00—Alloys containing less than 50% by weight of each constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C33/00—Making ferrous alloys
- C22C33/02—Making ferrous alloys by powder metallurgy
- C22C33/0257—Making ferrous alloys by powder metallurgy characterised by the range of the alloying elements
- C22C33/0278—Making ferrous alloys by powder metallurgy characterised by the range of the alloying elements with at least one alloying element having a minimum content above 5%
- C22C33/0285—Making ferrous alloys by powder metallurgy characterised by the range of the alloying elements with at least one alloying element having a minimum content above 5% with Cr, Co, or Ni having a minimum content higher than 5%
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C45/00—Amorphous alloys
- C22C45/02—Amorphous alloys with iron as the major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C45/00—Amorphous alloys
- C22C45/04—Amorphous alloys with nickel or cobalt as the major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2998/00—Supplementary information concerning processes or compositions relating to powder metallurgy
- B22F2998/10—Processes characterised by the sequence of their steps
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C2202/00—Physical properties
- C22C2202/02—Magnetic
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
Abstract
【解決手段】 原子%で、Fe:10〜45%、Ni:1〜25%、Zr,Hf,Nb,Ta,Bの1種または2種以上が、Zr+Hf+Nb+Ta+B/2:5〜10%、(ただし、Bは0%以上7%以下)、Al,Crの1種または2種が、Al+Cr:0〜5%、残部37%以上のCoおよび不可避的不純物よりなり、かつ原子比で、Fe/(Co+Fe+Ni):0.10〜0.50、Ni/(Co+Fe+Ni):0.01〜0.25を満たすことを特徴とする垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金およびこれを成膜するためのスパッタリングターゲット材並びにその製造方法。
【選択図】 なし
Description
(1)原子%で、Fe:10〜45%、Ni:1〜25%、Zr,Hf,Nb,Ta,Bの1種または2種以上が、Zr+Hf+Nb+Ta+B/2:5〜10%、(ただし、Bは0%以上7%以下)、Al,Crの1種または2種が、Al+Cr:0〜5%、残部37%以上のCoおよび不可避的不純物よりなり、かつ原子比で、
Fe/(Co+Fe+Ni):0.10〜0.50、
Ni/(Co+Fe+Ni):0.01〜0.25
を満たすことを特徴とする垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金。
(3)アップセット法により固化成形することを特徴とした前記(2)に記載のスパッタリングターゲット材の製造方法にある。
Fe:10〜45%
Feは、Co、Niと共に強磁性を有する元素である。一方、Co、Niと比較し、耐食性を劣化させる元素である。しかし、Feが10%未満では飽和磁束密度が小さく、45%を超えると耐食性が劣化することから、その範囲を10〜45%とした。好ましくは20〜40%とする。
Niは、Co、Feと共に強磁性を有する元素であるが、Co、Feと比較すると、飽和磁束密度が低い。一方、耐食性はFeより極めて高く、Coよりも若干優れる。しかし、1%未満では耐食性が劣り、25%を超えると飽和磁束密度が低くなることから、その範囲を1〜25%とした。好ましくは10〜22%とする。
Zr、Hf、Nb、Ta,Bは、Co、Feに対していずれも共晶系の状態図を持ち、アモルファス相を形成させる元素である。また、共晶組成におけるこれらの元素の濃度はBを除いて8〜13%であり、Bは20%弱である。これはNiに対してもほぼ類似している。したがって、Zr、Hf、Nb、Ta、B/2の合計量で扱うことができる。しかし、Zr+Hf+Nb+Ta+B/2が5%未満では非晶質性が充分でなく、10%を超えると非晶質性が飽和し、飽和磁束密度が低下する。したがって、その範囲を5〜10%とした。好ましくは、7.0〜9.5とする。また、Bが7%を超えると耐食性が劣化することから、7%以下とした。
Al、Crは、いずれも耐食性を改善する元素であるため、5%以下の範囲で添加する。しかし、5%を超えると飽和磁束密度の低下が大きくなることから、その上限を5%とした。
Fe/(Co+Fe+Ni)は、上述したように、Feは、Co、Niと共に強磁性を有する元素である。一方、Co、Niと比較し、耐食性を劣化させる元素である。しかし、Fe/(Co+Fe+Ni)が0.10%未満では飽和磁束密度が小さく、0.50%を超えると耐食性が劣化することから、その範囲を0.10〜0.50%とした。好ましくは0.23〜0.43%とする。
Ni/(Co+Fe+Ni)は、上述したように、Niは、Co、Feと共に強磁性を有する元素であるが、Co、Feと比較すると、飽和磁束密度が低い。一方、耐食性はFeより極めて高く、Coよりも若干優れる。しかし、0.01%未満では耐食性が劣り、0.25を超えると飽和磁束密度が低くなる。したがって、その範囲を0.01〜0.25、好ましくは0.11〜0.17とする。しかし、残部Coが37%以上必要で、37%未満では耐食性の劣化が見られる。
請求項1に記載の合金は高い飽和磁束密度と高い非晶質性および高い耐食性を有する優れた合金である。ただし、高い飽和磁束密度を有していることから、これをスパッタリングターゲット材としてマグネトロンスパッタにて成膜すると、PTF値が低くなるため、成膜速度が低くなり、成膜の安定性も低くなってしまう。
NiおよびNi/(Fe+Ni)が上記の範囲に入る合金粉末は、飽和磁束密度が極めて低くなり、この合金粉末を原料粉末の少なくとも一部として用い、固化成形し、スパッタリングターゲット材を得ることにより、同組成の均一なスパッタリングターゲット材と比較し、著しくPTF値を改善することが可能である。逆に、NiおよびNi/(Fe+Ni)が上記範囲を外れると、その合金粉末の飽和磁束密度が高くなってしまい、PTF値改善の効果が少なくなる。したがって、その範囲を0.27〜0.35とした。
Coを6%超える添加をすると合金粉末の飽和磁束密度が高くなり、PTF値改善の効果が小さくなることから、その上限を6%とした。
Zr+Hf+Nb+Ta+B/2:3〜12%
Zr+Hf+Nb+Ta+B/2が3%未満または12%を超える原料粉末を用いると、パーティクルの発生が多くなることから、その範囲を3〜12%とした。
請求項2の製法によると、Ni:20〜34%、Ni/(Fe+Ni):0.27〜0.35、Co:0〜6%、Zr+Hf+Nb+Ta+B/2:3〜12%を有する粉末は、残部Feであり、残組成はCoリッチな原料粉末となってしまう。そのため、残部Feの原料粉末(低耐食性)とCoリッチな原料粉末(高耐食性)を混合し固化成形するため、両粉末間で一種の局部電池が成立し、スパッタリングターゲット材としては比較的発銹しやすい材料となってしまう。
通常、垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層は、その成分と同じ成分のスパッタリングターゲット材をスパッタし、ガラス基板などの上に成膜し得られる。ここでスパッタにより成膜された薄膜は急冷されている。これに対し、本発明では実施例、比較例の供試材として、単ロール式の液体急冷装置にて作製した急冷薄帯を用いている。これは実際にスパッタにより急冷され成膜された薄膜の、成分による諸特性への影響を、簡易的に液体急冷薄帯により評価したものである。
表1に示す成分組成に秤量した原料30gをφ10×40mm程度の水冷銅ハースにて減圧Ar中でアーク溶解し、急冷薄帯の溶解母材とした。急冷薄帯の作製条件は、単ロール方式で、φ15mmの石英管中にこの溶解母材にセットし、出湯ノズル径を1mmとし、雰囲気圧61kPa、噴霧差圧69kPa、銅ロール(φ300mm)の回転数3000rpm、銅ロールと出湯ノズルのギャップ0.3mmにて出湯した。出湯温度は各溶解母材の溶け落ち直後とした。このようにして作製した急冷薄帯を供試材とし、以下の項目を評価した。
次に、スパッタリングターゲット材のPTF値に及ぼす原料粉末の影響に関する実施例
について述べる。先ず、原料として使用する合金粉末をガスアトマイズ法にて作製し、飽和磁束密度を測定することで、飽和磁束密度の低い原料粉末組成を検討した。その結果を表3に示す。次にそれらの原料粉末と表4に示す残組成の原料粉末を表5のターゲット材の組成となるように混合し、固化成形し機械加工にて作製したスパッタリングターゲット材のPTF値を測定し、PTF値におよぼす原料粉末組成の影響を検討した。その結果を表5に示す。また、同時にスパッタリングターゲット材の耐食性を評価した。
ガス種:Ar、ノズル径:φ6mm、ガス圧:5MPa
(2)分級:−500μm
(3)真空封入
封入缶材質:SC、缶の内寸法:φ200×100L、到達真空度:>1.3×10-1Pa(10-3torr)
アップセット、加熱温度:950℃、圧力:540MPa、加工時間:5秒
アップセット法とは、金属製の外筒缶に原料粉末を充填、脱気、封入したビレットを所定の温度に加熱し、コンテナー内に装入し、パンチにより加圧成形する方法であり、HIP法やホットプレス法と比較し、成形圧が高くでき、短時間の加圧により成形できることに特徴がある。
ワイヤーカット・旋盤加工・平面研磨により最終形状:φ180×7mmtに加工
原料粉末の飽和磁束密度評価としては、VSM装置(振動試料型磁力計)にて、印加磁場15kOeで測定した。そのときの供試材の重量は200mgとした。また、スパッタリングターゲット材のPTF値評価としては、ASTM F1761−00にしたがってPTF値を測定した。比較として、同組成のスパッタリングターゲット材を単一成分粉末から、同条件で固化成形したものを作製し、PTF値を測定した。その際に、混合粉末によるスパッタリングターゲット材のPTF(単位:%)から単一粉末によるスパッタリングターゲット材のPTF値(単位:%)を差し引いたPTFの差でもって評価した。
○:発銹なし △:スパッタリングターゲット材の一部に発銹 ×:スパッタリングターゲット材の全面に発銹
特許出願人 山陽特殊製鋼株式会社
代理人 弁理士 椎 名 彊
Claims (3)
- 原子%で、
Fe:10〜45%、
Ni:1〜25%、
Zr,Hf,Nb,Ta,Bの1種または2種以上が、Zr+Hf+Nb+Ta+B/2:5〜10%、(ただし、Bは0%以上7%以下)、Al,Crの1種または2種が、Al+Cr:0〜5%、残部37%以上のCoおよび不可避的不純物よりなり、かつ原子比で、
Fe/(Co+Fe+Ni):0.10〜0.50、
Ni/(Co+Fe+Ni):0.01〜0.25
を満たすことを特徴とする垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金。 - 請求項1に記載の軟磁性膜層用合金を含む2種類以上の組成の原料粉末を混合、成形したスパッタリングターゲット材において、うち少なくとも1種類の原料粉末が、原子%で、
Ni:20〜34%、
Co:0〜6%、
Zr,Hf,Nb,Ta,Bの1種または2種以上が、Zr+Hf+Nb+Ta+B/2:3〜12%、(ただし、Bは0%以上7%以下)、Al,Crの1種または2種が、Al+Cr:0〜5%、残部Feおよび不可避的不純物よりなり、かつ原子比で、
Ni/(Fe+Ni):0.27〜0.35
を満たすことを特徴とするスパッタリングターゲット材。 - アップセット法により固化成形することを特徴とした請求項2に記載のスパッタリングターゲット材の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008182645A JP5605787B2 (ja) | 2008-07-14 | 2008-07-14 | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金を成膜するためのスパッタリングターゲット材とその製造方法 |
CN200980135768.7A CN102149836B (zh) | 2008-07-14 | 2009-07-14 | 用于在垂直磁记录介质中的软磁膜层的溅射靶材及其制备方法 |
MYPI2011000191A MY159546A (en) | 2008-07-14 | 2009-07-14 | Sputtering target materials for forming alloys for soft-magnetic film layers in perpendicular magnetic recording media, and method for producing the same |
PCT/JP2009/062716 WO2010007980A1 (ja) | 2008-07-14 | 2009-07-14 | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金およびスパッタリングターゲット材並びにその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008182645A JP5605787B2 (ja) | 2008-07-14 | 2008-07-14 | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金を成膜するためのスパッタリングターゲット材とその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010018869A true JP2010018869A (ja) | 2010-01-28 |
JP5605787B2 JP5605787B2 (ja) | 2014-10-15 |
Family
ID=41550383
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008182645A Expired - Fee Related JP5605787B2 (ja) | 2008-07-14 | 2008-07-14 | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金を成膜するためのスパッタリングターゲット材とその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5605787B2 (ja) |
CN (1) | CN102149836B (ja) |
MY (1) | MY159546A (ja) |
WO (1) | WO2010007980A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010095794A (ja) * | 2008-09-22 | 2010-04-30 | Hitachi Metals Ltd | Co−Fe−Ni系合金スパッタリングターゲット材の製造方法 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103038388B (zh) * | 2010-09-03 | 2015-04-01 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 强磁性材料溅射靶 |
JP5714397B2 (ja) * | 2010-10-26 | 2015-05-07 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 磁気記録用軟磁性合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 |
JP5917045B2 (ja) * | 2011-08-17 | 2016-05-11 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 垂直磁気記録媒体における軟磁性薄膜層用合金およびスパッタリングターゲット材 |
JP6302153B2 (ja) * | 2011-09-28 | 2018-03-28 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 垂直磁気記録媒体内の軟磁性薄膜層及び垂直磁気記録媒体 |
JP5778052B2 (ja) * | 2012-02-03 | 2015-09-16 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 磁気記録媒体に用いる低飽和磁束密度を有する軟磁性膜層用合金およびスパッタリングターゲット材 |
CN104145043B (zh) * | 2012-06-06 | 2015-11-25 | 日立金属株式会社 | Fe-Co系合金溅射靶材及其制造方法 |
JP6161991B2 (ja) * | 2013-08-15 | 2017-07-12 | 山陽特殊製鋼株式会社 | Fe−Co系合金スパッタリングターゲット材 |
JP6405261B2 (ja) * | 2014-05-01 | 2018-10-17 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 磁気記録用軟磁性合金及びスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 |
TWI602940B (zh) * | 2014-06-11 | 2017-10-21 | 光洋應用材料科技股份有限公司 | 軟磁性合金濺鍍靶材及軟磁性合金材料 |
CN113787189A (zh) * | 2021-11-16 | 2021-12-14 | 西安欧中材料科技有限公司 | 一种增材制造用模具钢球形粉末及其循环利用方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0268906A (ja) * | 1988-09-02 | 1990-03-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 高飽和磁束密度軟磁性膜及び磁気ヘッド |
JP2006265654A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Hitachi Metals Ltd | Fe−Co−B系合金ターゲット材およびその製造方法 |
JP2007172783A (ja) * | 2005-12-26 | 2007-07-05 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体、その製造方法および磁気記録再生装置 |
JP2007284741A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Sanyo Special Steel Co Ltd | 軟磁性ターゲット材 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3909240A (en) * | 1973-09-28 | 1975-09-30 | Graham Magnetics Inc | Method of producing acicular metal crystals |
US4054530A (en) * | 1973-09-28 | 1977-10-18 | Graham Magnetics, Inc. | Iron-nickel-cobalt magnetic powder and tape prepared therefrom |
JP2007048790A (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-22 | Sony Corp | 記憶素子及びメモリ |
US7524570B2 (en) * | 2005-10-13 | 2009-04-28 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic recording system and medium with high-moment corrosion-resistant “soft” underlayer (SUL) |
JP2007250094A (ja) * | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体、磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録装置 |
JP2007273056A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Fujitsu Ltd | 垂直磁気記録媒体および磁気記憶装置 |
-
2008
- 2008-07-14 JP JP2008182645A patent/JP5605787B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-07-14 MY MYPI2011000191A patent/MY159546A/en unknown
- 2009-07-14 CN CN200980135768.7A patent/CN102149836B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-07-14 WO PCT/JP2009/062716 patent/WO2010007980A1/ja active Application Filing
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0268906A (ja) * | 1988-09-02 | 1990-03-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 高飽和磁束密度軟磁性膜及び磁気ヘッド |
JP2006265654A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Hitachi Metals Ltd | Fe−Co−B系合金ターゲット材およびその製造方法 |
JP2007172783A (ja) * | 2005-12-26 | 2007-07-05 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体、その製造方法および磁気記録再生装置 |
JP2007284741A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Sanyo Special Steel Co Ltd | 軟磁性ターゲット材 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010095794A (ja) * | 2008-09-22 | 2010-04-30 | Hitachi Metals Ltd | Co−Fe−Ni系合金スパッタリングターゲット材の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102149836B (zh) | 2014-03-19 |
CN102149836A (zh) | 2011-08-10 |
JP5605787B2 (ja) | 2014-10-15 |
MY159546A (en) | 2017-01-13 |
WO2010007980A1 (ja) | 2010-01-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5605787B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金を成膜するためのスパッタリングターゲット材とその製造方法 | |
JP5253781B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金ターゲット材 | |
US8430978B2 (en) | Sputtering target and method for production thereof | |
JP5337331B2 (ja) | スパッタリングターゲット材の製造方法 | |
JP2008189996A (ja) | Co−Fe系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法 | |
JP5359890B2 (ja) | 軟磁性膜形成用Fe−Co系合金スパッタリングターゲット材 | |
JP2012169021A (ja) | 磁気記録用軟磁性合金及びスパッタリングターゲット材ならびに磁気記録媒体 | |
JP5370917B2 (ja) | Fe−Co−Ni系合金スパッタリングターゲット材の製造方法 | |
JP6210503B2 (ja) | 磁気記録用軟磁性用合金およびスパッタリングターゲット材 | |
JP2010159491A (ja) | Co−Fe系合金スパッタリングターゲット材 | |
JP5631659B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体用軟磁性合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 | |
JP6094848B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体用Fe−Co系合金軟磁性膜の製造方法 | |
JP2017191625A (ja) | 磁気記録媒体のシード層用合金、スパッタリングターゲット材および磁気記録媒体 | |
JP5403418B2 (ja) | Co−Fe−Ni系合金スパッタリングターゲット材の製造方法 | |
JP2011068985A (ja) | 軟磁性膜用Co−Fe系合金および軟磁性膜形成用Co−Fe系合金スパッタリングターゲット材 | |
JP5650169B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金ターゲット材 | |
TWI567206B (zh) | 軟磁性膜及軟磁性膜形成用濺鍍靶材 | |
JP2016149170A (ja) | Fe−Co−Nb系合金スパッタリングターゲット材および軟磁性膜 | |
TWI823989B (zh) | 磁氣記錄媒體之軟磁性層用濺鍍靶材及磁氣記錄媒體 | |
JP2011181140A (ja) | 磁気記録媒体用Fe−Co系合金軟磁性膜 | |
JP7274361B2 (ja) | 磁気記録媒体のシード層用合金 | |
JP2018085156A (ja) | 軟磁性膜形成用スパッタリングターゲット | |
JP6506659B2 (ja) | 磁気記録用非晶質合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 | |
JP6502672B2 (ja) | Ni−Cu系磁気記録媒体のシード層用合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 | |
JP2020135907A (ja) | 垂直磁気記録媒体の軟磁性層形成用スパッタリングターゲット、並びに、垂直磁気記録媒体及びその軟磁性層 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110620 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130416 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130610 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130709 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130904 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20130925 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20131025 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140707 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140716 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140819 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5605787 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |