JP2010015058A - レーザ光源装置、波長変換素子、波長変換素子の製造方法、プロジェクタ、モニタ装置 - Google Patents
レーザ光源装置、波長変換素子、波長変換素子の製造方法、プロジェクタ、モニタ装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010015058A JP2010015058A JP2008176244A JP2008176244A JP2010015058A JP 2010015058 A JP2010015058 A JP 2010015058A JP 2008176244 A JP2008176244 A JP 2008176244A JP 2008176244 A JP2008176244 A JP 2008176244A JP 2010015058 A JP2010015058 A JP 2010015058A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conversion element
- wavelength conversion
- laser light
- mirror
- wavelength
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims abstract description 254
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 26
- 238000012806 monitoring device Methods 0.000 title 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 48
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 111
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 62
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 53
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims description 14
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 8
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 12
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 12
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 12
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 7
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 5
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
- H01S5/4025—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/35—Non-linear optics
- G02F1/37—Non-linear optics for second-harmonic generation
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N9/00—Details of colour television systems
- H04N9/12—Picture reproducers
- H04N9/31—Projection devices for colour picture display, e.g. using electronic spatial light modulators [ESLM]
- H04N9/3129—Projection devices for colour picture display, e.g. using electronic spatial light modulators [ESLM] scanning a light beam on the display screen
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
- G02F2201/17—Multi-pass arrangements, i.e. arrangements to pass light a plurality of times through the same element, e.g. by using an enhancement cavity
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/005—Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/005—Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S5/0092—Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping for nonlinear frequency conversion, e.g. second harmonic generation [SHG] or sum- or difference-frequency generation outside the laser cavity
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
- Projection Apparatus (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明のレーザ光源装置200は、レーザ光を射出する発光部211と、発光部211から射出されたレーザ光L1の一部を発光部211と異なる方向に向けて反射させる第1ミラー220と、第1ミラー220で反射したレーザ光が入射し、入射したレーザ光のうちの基本波長のレーザ光を反射させて折り返す第2ミラー230と、第1ミラー220と第2ミラー230との間の光路に配置され、入射した基本波長のレーザ光のうちの第1ミラー220に対するS偏光の少なくとも一部を変換波長のレーザ光に変換する波長変換素子240と、を備えている。第1ミラー220は、基本波長のレーザ光の第1ミラーに対するS偏光を選択的に反射させかつ変換波長のレーザ光を透過させる表面220Aを有しているとともに表面220Aを発光部211に向けて配置されている。
【選択図】図2
Description
また、特許文献1のレーザには、共振器内に偏光手段(ブリュスター板)も設けられている。共振器内のレーザ光の偏光状態が偏光手段により制御され、基本波長のレーザ光が良好に共振するようになる。また、波長変換素子は偏光依存性を有しており、レーザ光の偏光状態を制御することにより波長変換素子が良好に機能するようになる。
特許文献1のレーザは共振器内に偏光手段が設けられており、レーザ光は共振器内を往復する度に偏光手段に入射する。すると、入射したレーザ光の一部が偏光手段表面の凹凸等により不測の方向に反射することや偏光手段に吸収されることにより、レーザ光の利用効率が低下してしまう。
一方、本発明では第1ミラーに対するS偏光を共振させるので、共振器内を往復する基本波長の前記S偏光は、往路又は帰路で第1ミラーの表面(界面)で1回反射するのみになる。したがって、P偏光を用いる場合よりも格段に光の利用効率が高くなり、高効率のレーザ光源装置になる。
複数の発光部が配列されていれば、レーザ光源装置から取り出されるレーザ光の総出力が高くなる。また、複数の発光部の各々から射出されるレーザ光の光軸の配列方向が表面と平行になっていれば、詳しくは後述するが、第1ミラーと複数の発光部とを近づけることや、第1ミラーと波長変換素子とを近づけることが可能になる。すなわち、複数の発光部の配列方向と第1ミラーとが非平行である場合に比べて、複数の発光部と波長変換素子との間の光路長を、第1ミラーを小型化した分だけ短くすることができる。これにより、共振器内の光路長に占める波長変換素子内の光路長の割合が高くなり、基本波長のレーザ光を変換波長のレーザ光に効率よく変換することが可能になる。
複数の波長変換素子片において所定方向と直交する面が研磨処理されていれば、この面の表面精度が高くなるので、ここを通る光が不測の方向へ反射あるいは屈折することによる光利用効率の低下が防止される。一般に、研磨処理において被処理面の端側は過剰に研磨されやすい。前記のように分極反転軸方向において最も外側に配置された波長変換素子片の外側に補強部材が設けられていれば、最も外側に配置された波長変換素子片が過剰に研磨されることが防止される。
本発明のレーザ光源装置によれば高出力なレーザ光が得られるので、前記の構成によれば高出力なレーザ光が光変調装置によって変調された後に投射装置によって投射される。したがって、高輝度の投射画像を得ることができ、ダイナミックレンジが広く高品質な投射画像が得られるプロジェクタになる。また、本発明のレーザ光源装置は、高効率になっているので、低消費電力のプロジェクタになる。
本発明のレーザ光源装置によれば高出力なレーザ光が得られるので、高出力なレーザ光で被写体を照明することができる。したがって、被写体で反射する光の光量が確保され、これを撮像することにより鮮明な撮像画像が得られる良好なモニタ装置になる。また、本発明のレーザ光源装置は、高効率になっているので、低消費電力のモニタ装置になる。
図1は、第1実施形態のレーザ光源装置の概略構成を示す斜視図である。図1に示すように、レーザ光源装置100は、複数のエミッタ(発光部)111が配列されたレーザ素子110、第1ミラー120、第2ミラー130、波長変換素子140を備えている。エミッタ111から射出された光の一部は、第1ミラー120で反射した後、波長変換素子140を経て第2ミラー130に入射する。第2ミラー130に入射した光の一部が第2ミラー130で反射し、波長変換素子140を経て第1ミラー120に入射する。第1ミラー120に入射した光は、その一部が第1ミラー120で反射してエミッタ111に入射し、反射しなかった光が第1ミラー120を通り光軸変換プリズム150に入射して光軸を折り曲げられ射出される。
なお、以下の説明では第1ミラーの表面に対するS偏光を単にS偏光と称する場合があり、第1ミラーの表面に対するP偏光を単にP偏光と称する場合がある。すなわち、本実施形態の構成では、レーザ素子110と第2ミラー130との間の光路においてY方向に振動する偏光成分がS偏光である。
なお、図1〜図7において、波長変換素子やその構成要素には、分極方向と反転方向を矢印で模式的に示している。
図2は、第2実施形態のレーザ光源装置の概略構成を示す斜視図である。図2に示すように、レーザ光源装置200は第1実施形態と同様のレーザ素子210、第1ミラー220、第2ミラー230、波長変換素子240、光軸変換プリズム250を備えている。レーザ光源装置200が第1実施形態と異なる点は、複数のエミッタ211から射出される赤外レーザ光L1の光軸の配列方向(Y方向)が、第1ミラー220と平行になっている点である。複数の赤外レーザ光L1は、第1ミラー220の表面220Aに対するS偏光L2が表面220Aで反射し、複数のS偏光L2がY方向に並んで波長変換素子240に入射する。
また、複数のエミッタをX方向とY方向とに2次元的に配列してもよい。例えば、複数のエミッタを第2実施形態のようにY方向に配列するとともに、このような列をX方向に複数並べて行列状にエミッタを配列してもよい。
図3は、本発明の波長変換素子の一実施形態を示す斜視図である。なお、本実施形態は、第2実施形態のレーザ光源装置200の波長変換素子240に基づいて説明する。図3には、説明の便宜上、第2実施形態(図2)と対応したXYZ直交座標系を図示している。このXYZ直交座標系において、波長変換素子240により波長を変換する偏光の進行方向がX方向、変換する偏光の振動方向がY方向になっている。
波長変換素子片243は、Y方向に平行な分極反転軸を有しており、分極部241と反転部242とが交互にかつ周期的に並んだ周期構造を有している。分極部241と反転部242とが周期的に並ぶ周期方向は、分極反転軸と直交する一方向(ここではX方向)になっている。
また、波長変換素子240は、複数の波長変換素子片243を主な要素としていたが、この他にスペーサや補強部材を用いた構成も可能であり、以下の変形例1、2で詳しく説明する。
図4(a)、(b)はそれぞれ、波長変換素子の変形例1、2を示す斜視図である。変形例1が第3実施形態と異なる点は、波長変換素子片がスペーサを介して貼り合わされている点であり、変形例2が変形例1と異なる点は、分極反転軸方向において最も外側に配置された波長変換素子片の外側に補強部材が設けられている点である。
また、波長変換素子片243とスペーサ244とで同じ材質とすることにより、波長変換素子240Bで線膨張係数や熱伝導率を均一にすることが容易になる。なお、反転部242のみならず分極部241も形成されていないことにより、波長変換素子片243と結晶構造が異なるスペーサを用いてもよい。
図5(a)〜(e)、図6(a)〜(c)は、本発明に係る波長変換素子の製造方法の実施形態を示す工程図である。ここでは、第3実施形態の波長変換素子240に基づいてその製造方法を説明する。
本実施形態では、まず、厚み方向と平行な分極反転軸を有し、この分極反転軸と直交する周期方向において周期的な分極反転構造を有する母材を用意する。このような母材としては、製品化されたものを購入して用いてもよいし、形成して用いてもよい。ここでは、母材を形成して波長変換素子の製造に用いる。母材の形成方法としては、例えば以下のような方法が挙げられる。
そして、図5(b)に示すように、ウエハ300上に、ストライプ状のレジストパターンRを形成する。レジストパターンRに覆われた部分は後に分極部241になり、覆われていない部分は後に反転部242になる。
そして、図5(c)に示すように、ウエハ300とレジストパターンRとを覆って電極膜310を形成するともに、ウエハ300におけるレジストパターンR形成面の裏面を覆って電極膜320を形成する。
そして、図5(d)に示すように、電極膜310、320の間に所定の電圧を印加する。これにより、レジストパターンRに覆われていない部分のウエハ300は、電界が印加され結晶構造が変化することによって反転部242になる。また、レジストパターンRは誘電率が極めて低いので、レジストパターンRに覆われていない部分のウエハ300は、電界が印加されないことにより結晶構造が変化せずに分極部241になる。電極膜310、320の間に印加する電圧としては、結晶構造を変化させ得る値とする。このような電圧印加において、基板面方向に電界のクロストークを生じると反転部の形状や位置の精度が低くなってしまうが、前記のようにウエハ300を薄厚化しているので良好な反転部242が得られる。
そして、図5(e)に示すように、電極膜310、320やレジストパターンRを除去し、適宜ウエハ300を個片化することにより母材330が得られる。母材330において分極反転軸方向は、ウエハ300に印加された電界の方向、すなわちウエハ300の厚み方向になる。したがって、母材330の分極反転方向の寸法は、反転部242の形状や位置の精度を高くするほど、小さくなる。一方、母材330の面方向の寸法は、ウエハ300の寸法や個片化の程度に応じて大きくすることが可能である。
そして、図6(b)に示すように、例えば周期方向を回転軸として図6(a)に示した波長変換素子片243を90°回転させ、複数の波長変換素子片243で分極反転軸方向が揃うように位置合わせした後、複数の波長変換素子片243を貼り合わせる。なお、スペーサを介して複数の波長変換素子片243を貼り合わせるようにしてもよいし、最も外側に配置された波長変換素子片の外側に補強部材を貼り付けてもよい。
そして、周期方向の両端面を適宜研磨することにより、両端面の各々を平坦化するとともに複数の波長変換素子片243で周期方向に沿う長さを均一化する。
以上のようにして、図6(c)に示すような波長変換素子240が得られる。
例えば、分極部241及び反転部242が形成されたウエハ300において分極反転軸方向と直交する面に、スペーサ形成部材を貼り付ける。このウエハとしては、分極部241や反転部242を形成する前のウエハ300(図5(a)参照)等でもよい。そして、スペーサ形成部材と、分極部241及び反転部242が形成されたウエハ300とを一括して個片化することにより、スペーサになる集合体が貼り合わされた母材を形成する。そして、この母材を切断することにより、スペーサと波長変換素子片とが貼り合わされた複数の部材を形成する。そして、複数の部材を貼り合わせることにより、複数の波長変換素子片がスペーサを介して貼り合わされた波長変換素子が得られる。このようにすれば、スペーサを形成する工程と波長変換素子片を形成する工程とを一括して行えるので、製造効率が高くなる。また、スペーサ形成部材とウエハ300とを一括して個片化した後に一括して切断するので、スペーサと波長変換素子片とで周期方向における寸法や、周期方向と分極反転軸方向とに直交する方向における寸法が自ずと一致する。したがって、スペーサと波長変換素子片とで寸法を調整する手間を省くことができ、製造効率が高くなる。
母材330を切断する前にスペーサになる集合体を貼り付けて後の工程を行った場合についても、同様の理由により製造効率が高くなる。
図7(a)、(b)は、本発明に係る波長変換素子の製造方法の実施形態を示す工程図である。ここでは、第3実施形態の波長変換素子240に基づいてその製造方法を説明する。本実施形態が第4実施形態と異なる点は、複数の母材を貼り合せて構造体とした後に、この構造体を切断することにより波長変換素子を製造する点である。
次いで、図7(b)に示すように、構造体340における母材330の前記周期方向に沿って、構造体340を厚み方向(分極反転軸方向)に切断する。これにより、図6(c)に示した波長変換素子240が得られる。なお、図6(c)に示した波長変換素子240は、図3に示した波長変換素子240を周期方向(X方向)を回転軸として90°回転させた状態に相当する。
複数の母材330を貼り合わせる際の位置誤差は、第4実施形態において波長変換素子片243を貼り合わせる際の位置誤差と同程度であると考えられる。母材330の寸法が波長変換素子片243の寸法よりも大きいことから、波長変換素子片243間の位置誤差としては、第4実施形態の方が小さくなる。
本実施形態の走査型プロジェクタ500は、レーザ光源装置510と、集光レンズ520と、MEMSミラー(光変調装置、投射装置)530とを備えている。レーザ光源装置510から射出されたレーザ光は、集光レンズ520によってMEMSミラー530に集光される。集光されたレーザ光は、MEMSミラー530によって変調されるとともに、MEMSミラー520の駆動によってスクリーン540上において水平方向、垂直方向に走査される。これにより、スクリーン540に画像が描画されるようになっている。
Claims (12)
- 光を射出する活性層と該活性層における光の射出面と反対側に設けられた反射層とを有しレーザ光を射出する発光部と、
前記発光部から射出されたレーザ光の一部を該発光部と異なる方向に向けて反射させる第1ミラーと、
前記第1ミラーで反射したレーザ光が入射し、入射したレーザ光のうちの基本波長のレーザ光を反射させて折り返す第2ミラーと、
前記第1ミラーと前記第2ミラーとの間の光路に配置され、入射した基本波長のレーザ光のうちの前記第1ミラーに対するS偏光の少なくとも一部を変換波長のレーザ光に変換する波長変換素子と、を備え、
前記第1ミラーは、前記基本波長のレーザ光の該第1ミラーに対するS偏光を選択的に反射させかつ前記変換波長のレーザ光を透過させる表面を有していることを特徴とするレーザ光源装置。 - 複数の前記発光部が配列されているとともに、前記第1ミラーと前記第2ミラーと前記波長変換素子とが該複数の発光部で共通して設けられており、
前記複数の発光部の各々から射出されるレーザ光の光軸の配列方向が前記表面と平行になっていることを特徴とする請求項1に記載のレーザ光源装置。 - 前記波長変換素子は、分極反転軸を有し該分極反転軸と直交する周期方向において周期的な分極反転構造を有する複数の波長変換素子片が前記分極反転軸に沿う方向に貼り合わされて形成されているとともに、前記分極反転軸が前記S偏光の振動方向と平行になるように配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のレーザ光源装置。
- 前記波長変換素子は、前記複数の波長変換素子片がスペーサを介して貼り合わされて形成されていることを特徴とする請求項3に記載のレーザ光源装置。
- 前記波長変換素子は、前記複数の波長変換素子片と前記スペーサとで線膨張係数が略均一になっているとともに、前記スペーサの熱伝導率が前記複数の波長変換素子片の熱伝導率以上であることを特徴とする請求項4に記載のレーザ光源装置。
- 前記スペーサが、前記複数の波長変換素子片と同じ形成材料からなっていることを特徴とする請求項4又は5に記載のレーザ光源装置。
- 前記波長変換素子には、前記分極反転軸方向において最も外側に配置された前記波長変換素子片の外側に補強部材が設けられており、前記複数の波長変換素子片における前記周期方向と直交する面と、前記補強部材における前記周期方向と直交する面とが一括して研磨処理されていることを特徴とする請求項3〜6のいずれか一項に記載のレーザ光源装置。
- 分極反転軸を有し該分極反転軸と直交する周期方向において周期的な分極反転構造を有する複数の波長変換素子片が、前記分極反転軸に沿う方向に貼り合わされて形成されていることを特徴とする波長変換素子。
- 厚み方向と平行な分極反転軸を有し該分極反転軸と直交する周期方向において周期的な分極反転構造を有する母材を用意する工程と、
前記母材を、前記周期方向的に沿って前記厚み方向に切断することにより、複数の波長変換素子片を形成する工程と、
前記複数の波長変換素子片を前記分極反転軸に沿う方向に貼り合せる工程と、を有し、
前記複数の波長変換素子片が貼り合わされてなる波長変換素子を製造することを特徴とする波長変換素子の製造方法。 - 厚み方向と平行な分極反転軸を有し該分極反転軸と直交する周期方向において周期的な分極反転構造を有する複数の母材を用意する工程と、
前記周期方向を前記複数の母材で揃えるとともに前記複数の母材を前記分極反転軸に沿う方向に貼り合せる工程と、
貼り合わされた前記複数の母材を、前記周期方向に沿って前記厚み方向に切断する工程と、を有し、前記複数の母材が切断されることにより、複数の波長変換素子片が貼り合わされてなる波長変換素子を製造することを特徴とする波長変換素子の製造方法。 - 請求項1〜7のいずれか1項に記載のレーザ光源装置と、
該レーザ光源装置から射出されたレーザ光を変調する光変調装置と、
前記変調装置によって変調されたレーザ光を投射する投射装置と、を備えていることを特徴とするプロジェクタ。 - 請求項1〜7のいずれか1項に記載のレーザ光源装置と、
該レーザ光源装置によって照明された被写体を撮像する撮像装置と、を備えていることを特徴とするモニタ装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008176244A JP5056629B2 (ja) | 2008-07-04 | 2008-07-04 | レーザ光源装置、波長変換素子、波長変換素子の製造方法、プロジェクタ、モニタ装置 |
US12/496,816 US8085823B2 (en) | 2008-07-04 | 2009-07-02 | Laser source device, wavelength conversion element, method of manufacturing wavelength conversion element, projector, and monitoring device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008176244A JP5056629B2 (ja) | 2008-07-04 | 2008-07-04 | レーザ光源装置、波長変換素子、波長変換素子の製造方法、プロジェクタ、モニタ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010015058A true JP2010015058A (ja) | 2010-01-21 |
JP5056629B2 JP5056629B2 (ja) | 2012-10-24 |
Family
ID=41464374
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008176244A Expired - Fee Related JP5056629B2 (ja) | 2008-07-04 | 2008-07-04 | レーザ光源装置、波長変換素子、波長変換素子の製造方法、プロジェクタ、モニタ装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8085823B2 (ja) |
JP (1) | JP5056629B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015510273A (ja) * | 2012-02-13 | 2015-04-02 | リアルディー インコーポレイテッド | レーザアーキテクチャ |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW201237825A (en) * | 2011-03-11 | 2012-09-16 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Front light unit and reflective dispay device employing the same |
AU2013219966B2 (en) | 2012-02-15 | 2015-04-02 | Apple Inc. | Scanning depth engine |
RU2014144472A (ru) * | 2012-04-06 | 2016-05-27 | Реалд Инк. | Лазерные архитектуры |
DE102012209593B4 (de) * | 2012-06-06 | 2021-08-12 | Osram Gmbh | Beleuchtungseinrichtung |
US11178392B2 (en) * | 2018-09-12 | 2021-11-16 | Apple Inc. | Integrated optical emitters and applications thereof |
US11555982B1 (en) | 2020-12-15 | 2023-01-17 | Apple Inc. | Detecting positional deviations in an optical module |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0575196A (ja) * | 1991-02-28 | 1993-03-26 | Amoco Corp | 単一周波数の周波数2倍化レーザ及び単一周波数の緑色又は青色光を発生する方法 |
JPH10506233A (ja) * | 1994-09-02 | 1998-06-16 | ライト・ソリユーシヨンズ・コーポレーシヨン | 受動安定化空胴内2倍化レーザー |
JP2004241773A (ja) * | 2003-02-07 | 2004-08-26 | Lpkf Laser & Electronics Ag | 共振器内で周波数変換を行うレーザー光学系 |
JP2005504360A (ja) * | 2001-10-03 | 2005-02-10 | キネティック リミテッド | 非線形光学スタック |
JP2008083482A (ja) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Seiko Epson Corp | レーザ光源装置、照明装置、モニタ装置およびプロジェクタ |
WO2008070911A1 (en) * | 2006-12-15 | 2008-06-19 | Ellex Medical Pty Ltd | Laser |
US7394841B1 (en) * | 2007-01-18 | 2008-07-01 | Epicrystals Oy | Light emitting device for visual applications |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3818129A (en) * | 1971-06-30 | 1974-06-18 | Hitachi Ltd | Laser imaging device |
JP2802193B2 (ja) * | 1992-04-09 | 1998-09-24 | 三菱電機株式会社 | アライメントマーク検出方法及びアライメントマーク検出装置 |
-
2008
- 2008-07-04 JP JP2008176244A patent/JP5056629B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-07-02 US US12/496,816 patent/US8085823B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0575196A (ja) * | 1991-02-28 | 1993-03-26 | Amoco Corp | 単一周波数の周波数2倍化レーザ及び単一周波数の緑色又は青色光を発生する方法 |
JPH10506233A (ja) * | 1994-09-02 | 1998-06-16 | ライト・ソリユーシヨンズ・コーポレーシヨン | 受動安定化空胴内2倍化レーザー |
JP2005504360A (ja) * | 2001-10-03 | 2005-02-10 | キネティック リミテッド | 非線形光学スタック |
JP2004241773A (ja) * | 2003-02-07 | 2004-08-26 | Lpkf Laser & Electronics Ag | 共振器内で周波数変換を行うレーザー光学系 |
JP2008083482A (ja) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Seiko Epson Corp | レーザ光源装置、照明装置、モニタ装置およびプロジェクタ |
WO2008070911A1 (en) * | 2006-12-15 | 2008-06-19 | Ellex Medical Pty Ltd | Laser |
US7394841B1 (en) * | 2007-01-18 | 2008-07-01 | Epicrystals Oy | Light emitting device for visual applications |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015510273A (ja) * | 2012-02-13 | 2015-04-02 | リアルディー インコーポレイテッド | レーザアーキテクチャ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20100002735A1 (en) | 2010-01-07 |
JP5056629B2 (ja) | 2012-10-24 |
US8085823B2 (en) | 2011-12-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5056629B2 (ja) | レーザ光源装置、波長変換素子、波長変換素子の製造方法、プロジェクタ、モニタ装置 | |
US8126025B2 (en) | Laser light source apparatus, and monitoring apparatus and image display apparatus using the same | |
US7972034B2 (en) | Laser light source, laser light source unit, illumination device, monitor apparatus, and image display apparatus | |
WO2007108504A1 (ja) | 投写型ディスプレイ装置及び光源装置 | |
US20110128505A1 (en) | Laser beam source device, laser beam source device manufacturing method, projector, and monitoring device | |
US8328393B2 (en) | Light source device having wavelength conversion and separation means, and projector | |
JP5024088B2 (ja) | レーザ光源装置、照明装置、画像表示装置及びモニタ装置 | |
JP5156015B2 (ja) | コンパクトな多色光線源 | |
JP2013117668A (ja) | スペックル低減装置、プロジェクタ、およびスペックル低減装置の製造方法 | |
JP2011165786A (ja) | 光源装置、画像表示装置及びモニター装置 | |
JP2009200079A (ja) | 光源装置、プロジェクタ、及びモニタ装置 | |
JP2009188056A (ja) | レーザ光源装置、画像表示装置及びモニタ装置 | |
US7711017B2 (en) | Apparatus and method for producing light using laser emission | |
JP2010010607A (ja) | レーザ光源装置、プロジェクタ、モニタ装置 | |
JP2009200284A (ja) | レーザ光源装置、画像表示装置及びモニタ装置 | |
JP2012248558A (ja) | レーザ光源装置 | |
JP4382503B2 (ja) | 投写型表示装置の光源装置と投写型表示装置 | |
JP4382434B2 (ja) | 投写型表示装置の偏光光源装置 | |
JP2007171533A (ja) | 光源装置、光源装置の製造方法、およびプロジェクタ | |
JP2011114182A (ja) | レーザー光源装置、プロジェクター及びモニター装置 | |
JP2010045273A (ja) | 光源装置、プロジェクタ、モニタ装置 | |
JP2008177473A (ja) | レーザ光源装置およびそれを用いたモニタ装置ならびに画像表示装置 | |
JP2011142243A (ja) | レーザー光源装置、プロジェクター、モニター装置 | |
JP2010062250A (ja) | レーザ光源装置、プロジェクタ、モニタ装置 | |
JP2011146498A (ja) | レーザー光源装置、プロジェクター、モニター装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110617 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20110620 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120125 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20120125 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120131 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20120213 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120326 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20120326 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120703 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120716 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150810 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5056629 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |