JP2009542016A - 垂直方向の放射方向および安定化された放射波長を有する表面発光型の半導体基体 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (43)
- 活性領域(3)を備えた半導体層列(2)を有する、垂直方向の放射方向を備えた表面発光型の半導体基体(1)において、
共振器(71)における半導体基体の動作時に、前記活性領域において形成された放射のピーク波長が所定の動作範囲では該活性領域において形成された放射の出力の変化に対して安定化されているように半導体基体は波長が安定化されて構成されていることを特徴とする、表面発光型の半導体基体(1)。 - 前記所定の動作範囲の下限は表面発光型の半導体基体のレーザ閾値によって規定されている、請求項1記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記所定の動作範囲の上限は表面発光型の半導体基体のレーザ活性の上限によって規定されている、請求項1または2記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記所定の動作範囲は表面発光型の半導体基体のレーザ活性の全体の範囲によって規定されている、請求項1から3までのいずれか1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記活性領域において形成された前記放射の前記ピーク波長は前記所定の動作範囲では10nmまたはそれ以下で変化する、請求項1から4までのいずれか1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記活性領域において形成された前記放射の前記ピーク波長は前記所定の動作範囲では5nmまたはそれ以下で変化する、請求項1から5までのいずれか1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記活性領域において形成された前記放射の前記ピーク波長は前記所定の動作範囲では1nmまたはそれ以下で変化する、請求項1から6までのいずれか1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記半導体基体は前記活性領域の外側に配置されている少なくとも2つの半導体層を有し、
前記活性領域は複数の量子構造(40)を有し、
各量子構造(40)には前記放射方向に沿った拡張部に関して幾何学的な中心点が対応付けられており、
前記量子構造(40)の前記幾何学的な中心点は前記放射方向に沿って相互に平均光学距離Dをおいて配置されており、
前記活性領域の外側に配置されている前記半導体層のうちの1つの半導体層の光学的な層厚は前記平均光学距離Dの半分の整数倍に対して所期のように離調されている、請求項1から7までのいずれか1項記載の表面発光型の半導体基体。 - 動作のために共振器(71)が設けられており、活性領域(3)と該活性領域(3)の外側に配置されている少なくとも2つの半導体層とを備えた半導体層列(2)を有する、垂直方向の放射方向を備えた表面発光型の半導体基体(1)において、
前記活性領域は複数の量子構造(40)を有し、
各量子構造(40)には前記放射方向に沿った拡張部に関して幾何学的な中心点が対応付けられており、
前記量子構造(40)の前記幾何学的な中心点は前記放射方向に沿って相互に平均光学距離Dをおいて配置されており、
前記活性領域の外側に配置されている前記半導体層のうちの1つの半導体層の光学的な層厚は前記平均光学距離Dの半分の整数倍に対して所期のように離調されていることを特徴とする、表面発光型の半導体基体。 - 前記活性領域(3)の外側に配置されている前記半導体層のうちの1つの半導体層の光学的な層厚は、D/2に関してはD/2の奇数倍に対して、またはDに関してはDの整数倍に対して1%以上45%以下で離調されている、請求項8または9記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記活性領域(3)の外側に配置されている前記半導体層のうちの1つの半導体層の光学的な層厚は、D/2に関してはD/2の奇数倍に対して、またはDに関してはDの整数倍に対して2%以上35%以下で離調されている、請求項8から10までのいずれか1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記活性領域(3)の外側に配置されている前記半導体層のうちの1つの半導体層の光学的な層厚は、D/2に関してはD/2の奇数倍に対して、またはDに関してはDの整数倍に対して5%以上30%以下で離調されている、請求項1から11までのいずれか1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記活性領域(3)は該活性領域の外側に配置されている半導体層の間に配置されている、請求項8から12までのうちの少なくとも1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記活性領域(3)の外側に配置されている2つの半導体層はDの整数倍またはD/2の奇数倍に対して所期のように離調されている、請求項8から13までのうちの少なくとも1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記活性領域(3)の外側に配置されている半導体層のうちの1つはD/2の整数倍よりも大きく、且つ前記活性領域の外側に配置されている半導体層のうちの1つはD/2の整数倍よりも小さい、請求項8から14までのうちの少なくとも1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記共振器(71)は半導体基体(1)内に構成されているブラッグミラー(6)によって形成されている、請求項1から15までのうちの少なくとも1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記ブラッグミラー(6)は、前記活性領域(3)の外側に配置されており、且つ所期のように離調されている半導体層のうちの1つの半導体層によって形成されている、請求項16記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記ブラッグミラー(3)はD/2の奇数倍に対して所期のように離調されている別の半導体層を有する、請求項17記載の表面発光型の半導体基体。
- 半導体基体(1)は前記活性領域(3)において増幅されるべき放射に対する放射通過面(2)を有する、請求項8から18までのうちの少なくとも1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記活性領域(3)の外側に配置されており、所期のように離調されている半導体層のうちの1つの半導体層は前記放射通過面(11)に接している窓層(52)として実施されている、請求項19記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記窓層(52)と前記活性領域(3)との間には別の半導体層(51)が配置されている、請求項20記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記活性領域(3)と前記放射通過面(11)との間に配置されている半導体層の光学的な層厚はDに関してはDの整数倍に対して1%以上45%以下、有利には2%以上35%以下、殊に有利には5%以上30%以下離調されている、請求項8から21までのうちの少なくとも1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記活性領域(3)の前記放射通過面(11)側とは反対側に配置されている半導体層の光学的な層厚はD/2に対して1%以上45%以下、有利には2%以上35%以下、殊に有利には5%以上20%以下離調されている、請求項8から22までのいずれか1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記活性領域(3)は5つ以上の量子構造(40)、有利には10以上の量子構造(40)を有する、請求項8から23までのうちの少なくとも1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 隣り合う2つの量子構造(40)はバリア(45)によって相互に隔てられている、請求項8から24までのうちの少なくとも1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記バリア(45)はGaAs1-yPy、ただし0≦y≦1、有利には0.05≦y≦0.25、またはAlzGa1-zAs、ただし0≦z≦1、有利には0.02≦z≦0.15、を含有する、請求項25記載の表面発光型の半導体基体。
- 量子構造(40)は量子層(41)によって形成されている、請求項8から26までのうちの少なくとも1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 量子構造(40)は2以上5以下の量子層(41)を有し、該量子層(41)は前記量子構造(40)において中間層(42)によって相互に隔てられている、請求項8から26までのうちの少なくとも1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 量子層(41)はInxGa1-xAS、ただし0≦x≦1、有利には0.05≦x≦0.25、を含有する、請求項8から28までのいずれか1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記共振器(71)は外部共振器として構成されている、請求項1から29までのいずれか1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 半導体基体(1)の外側における前記外部共振器(71)内の光学的な放射路にはモード選択素子が設けられていない、請求項30記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記共振器(71)における半導体基体の動作時に前記活性領域(3)において増幅されるべき前記放射の前記ピーク波長が前記活性領域(3)の温度の変化時に0.5%/100K以下で変化するように半導体基体は波長が安定化されて構成されている、請求項1から31までのうちの少なくとも1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記共振器(71)における半導体基体の動作時に前記活性領域において増幅されるべき前記放射の前記ピーク波長が前記活性領域の温度の変化時に0.2%/100K以下、有利には0.1%/100K以下で変化するように半導体基体は構成されている、請求項1から32までのうちの少なくとも1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記共振器(71)内には非線形の光学素子(75)が配置されている、請求項1から33までのいずれか1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記非線形の光学素子(75)は前記活性領域において増幅されるべき放射の周波数倍加、例えば周波数2倍化のために設けられている、請求項34記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記半導体基体(1)はポンプ放射源(15)による前記活性領域(3)の光学的なポンピングのために構成されている、請求項1から35までのうちの少なくとも1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 半導体基体(1)の前記活性領域(3)において増幅されるべき前記放射の前記ピーク波長が、前記活性領域(3)において吸収される光学的なポンプ出力の変化時に5nm/W以下、有利には2nm/W以下、殊に有利には1nm/W以下で変化するように半導体基体(1)は波長が安定化されて構成されている、請求項36記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記ポンプ放射源(15)は半導体基体(1)の横方向のポンピングのために設けられている、請求項36または37記載の表面発光型の半導体基体。
- 前記ポンプ放射源(15)および前記半導体基体はモノリシックに集積されている、請求項36から38までのうちの少なくとも1項記載の表面発光型の半導体基体。
- 請求項1から39までのいずれか1項記載の表面発光型の半導体基体(1)および共振器(71)を有することを特徴とする、半導体レーザモジュール(100)。
- レーザ(90)を光学的にポンピングするために設けられている、請求項40記載の半導体レーザモジュール。
- 前記レーザ(90)は固体レーザまたはファイバレーザまたは半導体レーザである、請求項41記載の半導体レーザモジュール。
- 表示装置(95)、例えばプロジェクタ装置における作動のために設けられている、請求項40から42までのうちの少なくとも1項記載の半導体レーザモジュール。
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