JP2009530803A5 - モノリシック白色発光ダイオード及びその製造方法 - Google Patents

モノリシック白色発光ダイオード及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2009530803A5
JP2009530803A5 JP2008558861A JP2008558861A JP2009530803A5 JP 2009530803 A5 JP2009530803 A5 JP 2009530803A5 JP 2008558861 A JP2008558861 A JP 2008558861A JP 2008558861 A JP2008558861 A JP 2008558861A JP 2009530803 A5 JP2009530803 A5 JP 2009530803A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
region
nitride
quantum
stack
iii
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008558861A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009530803A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from FR0650842A external-priority patent/FR2898434B1/fr
Application filed filed Critical
Publication of JP2009530803A publication Critical patent/JP2009530803A/ja
Publication of JP2009530803A5 publication Critical patent/JP2009530803A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Description

特許文献1において、窒化系(アルミニウム、ガリウム、インジウム)、即ちIII−V族の窒化物材料が使用される。これらは広いバンドギャップを有するとともに、全可視スペクトルを発光可能な特性を有する半導体である。例えば、ダイオードの能動的な領域、即ちダイオードの電流が流れる領域内で、量子井戸又は青色を発光する窒化ガリウム・インジウム(GaInN)/窒化(アルミ)ガリウム((Al)GaN)の量子ドット、及び黄色を発光する他の量子ドットを混合することにより白色光が得られる。
本発明の第1の目的は、異なる波長の電気的注入により、光出力によって制限されないことにある。
加えて、量子ドット又は量子井戸を使用する電気的注入ダイオードにおいて、量子ドット内又は量子井戸内の電子及び正孔の分布は、ダイオードに印加される電圧によって改善されることが知られている。従って、発光される色は、電流の密度によって変化する。
これらの目的の少なくとも1つは、III−V族の窒化物からなるマトリックスを備えるデバイスによって本発明に従い達成される。前記マトリックスは、電流が流れる少なくとも1つの能動的な第1の部位と、電流が流れない少なくとも1つの受動的な第2の部位とを備える。前記マトリックスは、前記能動的な第1の部位内に配置されるとともに、III−V族の窒化物からなる量子井戸又は量子ドット面の第1のスタックを備える少なくとも1つの第1の領域と、III−V族の窒化物からなる量子井戸又は量子ドット面の第2のスタックを備える少なくとも1つの第2の領域とを備える。前記第2の領域が前記マトリックスの受動的な部位内に配置されていることを特徴とする。
デバイスの能動的な部位及び受動的な部位内にそれぞれ配置された量子井戸又は量子ドットのスタックは、デバイスの出力において全可視スペクトルで広がる光を生成するために、第1の領域及び第2の領域によって発光される光を効率的に制御することを可能とする。
本発明に従い、III−V族の窒化物からなる量子井戸又は量子ドット面を含む第1の領域は、第1の量子閉じ込めを形成し、III−V族の窒化物からなる量子井戸又は量子ドット面を含む第2の領域は、第2の量子閉じ込めを形成する。
特に、第1の領域によって発光される光の色に適用することができるように、前記少なくとも1つの第1の領域は、前記能動的な領域内を流れる前記電流による電気的注入を通じて少なくとも第1の波長の光子を放射することを可能とする。前記少なくとも第1の波長は、III−V族の窒化物からなる量子井戸又は量子ドット面の前記第1のスタックの寸法と、III−V族の窒化物からなる量子井戸又は量子ドット面の前記第1のスタックの組成とによって決定される。
同様に、前記少なくとも1つの第2の領域は、第1の領域によって放射される前記光子による光学的ポンピングを通じて少なくとも第2の波長の光子を放射することを可能とする。前記少なくとも1つの第2の波長は、III−V族の窒化物からなる量子井戸又は量子ドット面の前記第2のスタックの寸法と、III−V族の窒化物からなる量子井戸又は量子ドット面の前記第2のスタックの組成とによって決定される。
黄色の発光は、量子井戸又は量子ドット面の1つのスタックのみを使用することで可能となる。
デバイスの出力において白色光を得ながら、色温度及び色票を改善することを可能とする別の実施形態に従えば、前記少なくとも1つの第2の領域は、前記第1の領域によって発光される前記光子による光学的ポンピングによって緑色及び赤色の光子を放射することを可能とする。
電気的注入領域3及び光学的ポンピング領域に対する量子閉じ込めの機能が果たされる限り、III−V族の窒化物材料の種々の組み合わせが本発明のマトリックス13の構成に使用されてもよいことが当然のことである。III−V族の窒化物は、窒化ガリウム、窒化インジウム、窒化アルミニウム、及びこれらの化合物は、窒化(ガリウム、インジウム、アルミニウム)と表記される。より詳しくは、窒化ガリウムの量子ドットが、窒化アルミニウム内に使用されてもよいし、又は窒化ガリウム・インジウムの量子ドットが窒化アルミニウム内に使用されてもよいし、或いは窒化ガリウム・インジウムの量子ドットが窒化アルミニウム・ガリウム・インジウム(AlGaInN)内に使用されてもよい。また、窒化ガリウム・インジウム/窒化ガリウムの量子井戸が使用されてもよい。また、そのような組み合わせは、量子閉じ込めの条件に従うことが知られている。
図3は、窒化アルミニウム/窒化ガリウム/窒化アルミニウムの量子井戸又は窒化アルミニウム/窒化ガリウム/窒化アルミニウムの量子ドットにおけるナノメートル単位の発光波長を示す。発光波長は、量子井戸の幅又は量子ドットの寸法、より詳しくは量子ドットの高さに依存する。
本発明に従う例示的な発光ダイオードを示す。 図1に従う発光ダイオードの組成の選択に対する色彩チャートを示す。 図1に示されるようなデバイスに使用される窒化アルミニウム/窒化ガリウム/窒化アルミニウムの量子井戸又は窒化アルミニウム/窒化ガリウム/窒化アルミニウムの量子ドットにおけるナノメートル単位の発光波長を示す。 図1のデバイスに使用される窒化ガリウム・インジウム(Ga1-xInxN)の厚膜に関する発光波長を示す。 図1のデバイスに使用される窒化ガリウム・インジウム(Ga0.8In0.2N)の井戸に関する発光波長を示す。 本発明に従う別の例示的な発光ダイオードを示す。 本発明に従う更に別の例示的な発光ダイオードを示す。

Claims (11)

  1. III−V族の窒化物からなるマトリックス(13)を備えるデバイスであって、前記マトリックス(13)は、電流が流れる少なくとも1つの能動的な第1の部位(3,4,12)と、電流が流れない少なくとも1つの受動的な第2の部位(5,6,5A,5B)とを備え、前記マトリックスは、前記能動的な第1の部位(3,4,12)内に配置されるとともに、III−V族の窒化物からなる量子井戸又は量子ドット面の第1のスタックを備える少なくとも1つの第1の領域(3)と、III−V族の窒化物からなる量子井戸又は量子ドット面の第2のスタックを備える少なくとも1つの第2の領域(5,5A,5B)とを備え、
    前記第2の領域が前記マトリックスの前記受動的な第2の部位(5,6)内に配置されていることを特徴とするデバイス。
  2. 前記少なくとも1つの第1の領域は、前記能動的な領域内を流れる前記電流による電気的注入を通じて少なくとも第1の波長の光子を放射することを可能とし、前記少なくとも第1の波長は、III−V族の窒化物からなる量子井戸又は量子ドット面の前記第1のスタックの寸法と、III−V族の窒化物からなる量子井戸又は量子ドット面の前記第1のスタックの組成とによって決定される請求項1に記載のデバイス。
  3. 前記少なくとも1つの第2の領域は、前記第1の領域によって放射される前記光子による光学的ポンピングを通じて少なくとも第2の波長の光子を放射することを可能とし、前記少なくとも1つの第2の波長は、III−V族の窒化物からなる量子井戸又は量子ドット面の前記第2のスタックの寸法と、III−V族の窒化物からなる量子井戸又は量子ドット面の前記第2のスタックの組成とによって決定される請求項2に記載のデバイス。
  4. 前記少なくとも1つの第1の波長の光子に対応する光信号(8)と前記少なくとも1つの第2の波長の光子に対応する光信号(9)との組み合わせは、白色光を拡散するように、前記少なくとも第1の領域及び前記少なくとも第2の領域が選択される請求項3に記載のデバイス。
  5. 前記少なくとも1つの第1の領域は、前記能動的な領域を流れる前記電流による電気的注入を通じて青色の光子を放射することを可能とする請求項1〜4の何れか1項に記載のデバイス。
  6. 前記少なくとも1つの第2の領域は、前記第1の領域によって放射される前記光子による光学的ポンピングを通じて黄色の光子を放射することを可能とする請求項5に記載のデバイス。
  7. 前記少なくとも1つの第2の領域は、前記第1の領域によって放射される前記光子による光学的ポンピングを通じて緑色及び赤色の光子を放射することを可能とする請求項5に記載のデバイス。
  8. 前記第1の領域は、窒化ガリウム・インジウム/窒化ガリウム型の量子井戸のスタックから構成される請求項1〜7の何れか1項に記載のデバイス。
  9. 前記第2の領域は、窒化ガリウム/窒化アルミニウム型の量子ドット面のスタックから構成される請求項1〜8の何れか1項に記載のデバイス。
  10. 請求項1〜9の何れか1項に記載のデバイスを備える発光ダイオードであって、前記電流を生成するための手段(10A,10B,10C)を備え、前記電流生成するための手段は、前記電流が流れる前記能動的な第1の部位と、前記電流が流れない前記受動的な第2の部位とを形成するように設けられている発光ダイオード。
  11. 発光ダイオードを製造する方法であって、
    (a)III−V族の窒化物材料からエピタキシャル成長によりマトリックスを形成する工程と、
    (b)電流が流れる能動的な部位を前記マトリックスに形成する工程と、
    (c)電流が流れない受動的な部位を前記マトリックスに形成する工程と、
    (d)(i)量子井戸のスタック及び(ii)量子ドット面の少なくとも一つからなる領域を前記能動的な部位及び前記受動的な部位にそれぞれ形成する工程とを備える方法。
JP2008558861A 2006-03-13 2007-03-09 モノリシック白色発光ダイオード Pending JP2009530803A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR0650842A FR2898434B1 (fr) 2006-03-13 2006-03-13 Diode electroluminescente blanche monolithique
PCT/FR2007/050898 WO2007104884A1 (fr) 2006-03-13 2007-03-09 Diode electroluminescente blanche monolithique

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009530803A JP2009530803A (ja) 2009-08-27
JP2009530803A5 true JP2009530803A5 (ja) 2012-05-31

Family

ID=37388447

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008558861A Pending JP2009530803A (ja) 2006-03-13 2007-03-09 モノリシック白色発光ダイオード

Country Status (6)

Country Link
US (2) US20090101934A1 (ja)
EP (1) EP1994571A1 (ja)
JP (1) JP2009530803A (ja)
KR (1) KR20080104368A (ja)
FR (1) FR2898434B1 (ja)
WO (1) WO2007104884A1 (ja)

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5289448B2 (ja) * 2007-09-28 2013-09-11 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 放射放出用の半導体ボディ
WO2009048425A1 (en) * 2007-10-12 2009-04-16 Agency For Science, Technology And Research Fabrication of phosphor free red and white nitride-based leds
FR2932608B1 (fr) * 2008-06-13 2011-04-22 Centre Nat Rech Scient Procede de croissance de nitrure d'elements du groupe iii.
DE102009023351A1 (de) 2009-05-29 2010-12-02 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronischer Halbleiterchip und Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterchips
KR100993074B1 (ko) * 2009-12-29 2010-11-08 엘지이노텍 주식회사 발광소자, 발광소자의 제조방법 및 발광소자 패키지
KR101011757B1 (ko) * 2010-04-09 2011-02-07 엘지이노텍 주식회사 발광 소자, 발광 소자의 제조방법 및 발광 소자 패키지
EP2610930B1 (en) 2010-08-23 2019-12-25 Samsung Display Co., Ltd. Multichip white led device
KR101244926B1 (ko) 2011-04-28 2013-03-18 피에스아이 주식회사 초소형 led 소자 및 그 제조방법
KR101209449B1 (ko) 2011-04-29 2012-12-07 피에스아이 주식회사 풀-칼라 led 디스플레이 장치 및 그 제조방법
FR3003402B1 (fr) 2013-03-14 2016-11-04 Centre Nat Rech Scient Dispositif monolithique emetteur de lumiere.
DE102013103602A1 (de) * 2013-04-10 2014-10-16 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronischer Halbleiterchip und Verfahren zu seiner Herstellung
JP6183060B2 (ja) * 2013-08-24 2017-08-23 日亜化学工業株式会社 半導体発光素子
US9331298B2 (en) 2013-09-12 2016-05-03 Board Of Trustees Of Michigan State University Nanocluster based light emitting device
FR3019380B1 (fr) * 2014-04-01 2017-09-01 Centre Nat Rech Scient Pixel semiconducteur, matrice de tels pixels, structure semiconductrice pour la realisation de tels pixels et leurs procedes de fabrication
DE102014107472A1 (de) 2014-05-27 2015-12-03 Osram Opto Semiconductors Gmbh Halbleiterbauelement und Beleuchtungsvorrichtung
JP2017220586A (ja) * 2016-06-08 2017-12-14 国立大学法人 東京大学 半導体発光素子
FR3066045A1 (fr) * 2017-05-02 2018-11-09 Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives Diode electroluminescente comprenant des couches de conversion en longueur d'onde
KR101921825B1 (ko) 2017-07-19 2018-11-23 한국과학기술원 질화물 기반 반도체 양자점의 하위밴드 전이를 이용한 광통신파장에서 상온 동작 가능한 결정적 양자광원과 그 제작 방법 및 동작 방법
US10868213B2 (en) * 2018-06-26 2020-12-15 Lumileds Llc LED utilizing internal color conversion with light extraction enhancements
JP2022163951A (ja) * 2021-04-15 2022-10-27 聯嘉光電股▲ふん▼有限公司 三原色スペクトルで発光できるフリップチップ型発光ダイオード構造及び製造方法
US20230282766A1 (en) * 2022-03-03 2023-09-07 Seoul Viosys Co., Ltd Monolithic di-chromatic device and light emitting module having the same

Family Cites Families (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2593966B1 (fr) * 1986-02-04 1988-09-09 Ankri David Structure semi-conductrice monolithique d'un transistor bipolaire a heterojonction et d'un laser
US4818079A (en) * 1987-01-15 1989-04-04 California Institute Of Technology Multiple quantum well optical modulator
JPH11135838A (ja) * 1997-10-20 1999-05-21 Ind Technol Res Inst 白色発光ダイオード及びその製造方法
FR2772187B1 (fr) 1997-12-09 2000-03-17 Thomson Csf Procede et dispositif de fabrication de materiaux semiconducteurs iii-n par photolyse d'ammoniac
US5907165A (en) * 1998-05-01 1999-05-25 Lucent Technologies Inc. INP heterostructure devices
FR2796657B1 (fr) 1999-07-20 2001-10-26 Thomson Csf Procede de synthese de materiaux massifs monocristallins en nitrures d'elements de la colonne iii du tableau de la classification periodique
FR2803433B1 (fr) 1999-12-30 2003-02-14 Thomson Csf Procede de realisation d'une grille metallique enterree dans une structure en materiau semiconducteur
TW497277B (en) * 2000-03-10 2002-08-01 Toshiba Corp Semiconductor light emitting device and method for manufacturing the same
FR2807909B1 (fr) * 2000-04-12 2006-07-28 Centre Nat Rech Scient COUCHE MINCE SEMI-CONDUCTRICE DE GaInN, SON PROCEDE DE PREPARATION; DEL COMPRENANT CETTE COUCHE ET DISPOSITIF D'ECLAIRAGE COMPRENANT CETTE DEL
DE10108079A1 (de) * 2000-05-30 2002-09-12 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optisch gepumpte oberflächenemittierende Halbleiterlaservorrichtung und Verfahren zu deren Herstellung
JP2001352098A (ja) * 2000-06-07 2001-12-21 Sanyo Electric Co Ltd 半導体発光素子およびその製造方法
FR2810159B1 (fr) 2000-06-09 2005-04-08 Centre Nat Rech Scient Couche epaisse de nitrure de gallium ou de nitrure mixte de gallium et d'un autre metal, procede de preparation, et dispositif electronique ou optoelectronique comprenant une telle couche
KR100382481B1 (ko) * 2000-06-09 2003-05-01 엘지전자 주식회사 백색 발광 다이오드 소자 및 그 제조 방법
US6445009B1 (en) * 2000-08-08 2002-09-03 Centre National De La Recherche Scientifique Stacking of GaN or GaInN quantum dots on a silicon substrate, their preparation procedure electroluminescent device and lighting device comprising these stackings
JP3872327B2 (ja) * 2000-12-04 2007-01-24 日本碍子株式会社 半導体発光素子
AU2002231019A1 (en) * 2000-12-15 2002-06-24 Stanford University Laser diode with nitrogen incorporating barrier
JP2002222989A (ja) * 2001-01-26 2002-08-09 Toshiba Corp 半導体発光素子
JP2002246642A (ja) * 2001-02-13 2002-08-30 Canon Inc 窒化物系化合物半導体発光素子
US6611539B2 (en) * 2001-05-29 2003-08-26 Nsc Nanosemiconductor Gmbh Wavelength-tunable vertical cavity surface emitting laser and method of making same
JP3791765B2 (ja) * 2001-06-08 2006-06-28 豊田合成株式会社 Iii族窒化物系化合物半導体発光素子
US7676307B2 (en) * 2001-11-05 2010-03-09 Ford Global Technologies System and method for controlling a safety system of a vehicle in response to conditions sensed by tire sensors related applications
JP2004022969A (ja) * 2002-06-19 2004-01-22 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 半導体発光素子
TW586246B (en) 2002-10-28 2004-05-01 Super Nova Optoelectronics Cor Manufacturing method of white light LED and the light-emitting device thereof
JP2004207583A (ja) * 2002-12-26 2004-07-22 Sony Corp 半導体装置
US6998320B2 (en) * 2003-04-23 2006-02-14 Triquint Semiconductor, Inc. Passivation layer for group III-V semiconductor devices
CN1275337C (zh) * 2003-09-17 2006-09-13 北京工大智源科技发展有限公司 高效高亮度多有源区隧道再生白光发光二极管
US7122827B2 (en) * 2003-10-15 2006-10-17 General Electric Company Monolithic light emitting devices based on wide bandgap semiconductor nanostructures and methods for making same
TWI229465B (en) * 2004-03-02 2005-03-11 Genesis Photonics Inc Single chip white light component
US7580837B2 (en) * 2004-08-12 2009-08-25 At&T Intellectual Property I, L.P. System and method for targeted tuning module of a speech recognition system
US7323721B2 (en) * 2004-09-09 2008-01-29 Blue Photonics Inc. Monolithic multi-color, multi-quantum well semiconductor LED
US7223998B2 (en) * 2004-09-10 2007-05-29 The Regents Of The University Of California White, single or multi-color light emitting diodes by recycling guided modes
US7402831B2 (en) * 2004-12-09 2008-07-22 3M Innovative Properties Company Adapting short-wavelength LED's for polychromatic, broadband, or “white” emission
TWI267212B (en) * 2004-12-30 2006-11-21 Ind Tech Res Inst Quantum dots/quantum well light emitting diode
FR2888664B1 (fr) * 2005-07-18 2008-05-02 Centre Nat Rech Scient Procede de realisation d'un transistor bipolaire a heterojonction
US7593436B2 (en) * 2006-06-16 2009-09-22 Vi Systems Gmbh Electrooptically Bragg-reflector stopband-tunable optoelectronic device for high-speed data transfer
JP2010503228A (ja) * 2006-09-08 2010-01-28 エージェンシー フォー サイエンス,テクノロジー アンド リサーチ 波長可変発光ダイオード
FR2908925B1 (fr) * 2006-11-17 2009-02-20 St Microelectronics Sa PROCEDE D'INTEGRATION D'UN COMPOSANT DE TYPE III-N, TEL QUE DU GaN, SUR UN SUBSTRAT DE SILICIUM (001) NOMINAL

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2009530803A5 (ja) モノリシック白色発光ダイオード及びその製造方法
JP2009530803A (ja) モノリシック白色発光ダイオード
KR100956579B1 (ko) 반도체 및 반도체의 제작방법
JP4942204B2 (ja) SiC蛍光体および発光ダイオード
JP4885987B2 (ja) AlInGaN発光デバイス
JP2910023B2 (ja) 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子
JP5289448B2 (ja) 放射放出用の半導体ボディ
JP2002176198A (ja) 多波長発光素子
JP2007123731A (ja) 半導体発光素子および半導体発光装置
CN107004743B (zh) 半导体发光元件
JP2009539234A (ja) 多重量子井戸構造体、発光半導体ボディ、および発光構成素子
CN108292693A (zh) 具有琥珀色到红色光发射(>600nm)的III族氮化物半导体光发射设备以及用于制作所述设备的方法
JP2008277447A (ja) 蛍光基板及び発光装置
JP2016513878A (ja) モノリシック発光デバイス
JP6113363B2 (ja) 少なくとも1つの高障壁層を有する多重量子井戸を備えたオプトエレクトロニクス半導体チップ
US20080258131A1 (en) Light Emitting Diode
JPH10261818A (ja) 発光半導体装置
US7851242B2 (en) Monolithic white and full-color light emitting diodes using optically pumped multiple quantum wells
JP6174499B2 (ja) 半導体発光素子
JP2005056973A (ja) 半導体発光素子及びそれを作製するための半導体発光素子用エピタキシャルウェハ
JP5344676B2 (ja) 発光素子用基板および発光素子
JP5060823B2 (ja) 半導体発光素子
Leitao et al. Laser-excited 580nm AlGaInP nanomembrane for visible light communications
Kim et al. White emission from InGaN multi-quantum wells on c-planes and nano-pyramids hybrid structure
JP4850058B2 (ja) 半導体素子、ならびにこれを用いた照明装置および画像受像機