JP2009508904A5 - - Google Patents
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Description
溶媒に精製処理を施すべく本発明の方法において使用されている原理は、ポリイソシアネートを製造するための多段階プロセスに対して特に適しており、下記のような個別の工程を含む：
(a) (i)ポリイソシアネート（単数または複数）の基となるポリアミン（単数または複数）を不活性溶媒中に溶解して得られる溶液と、(ii)ホスゲンを必要に応じて不活性溶媒中に溶解して得られる溶液とを、一段階もしくは多段階のホスゲン化反応にて反応させる工程；
(b) (a)によって得られる液体反応混合物から、過剰のホスゲンと形成された塩化水素を分離する工程；
(c) (b)において得られた溶液から、溶媒と易揮発性化合物（単数または複数）を蒸発によって一緒に分離し、プロセスの生成物を蒸発残留物として回収し、次いで必要に応じて蒸発残留物を、蒸留のさらなるプロセスにて処理する工程；
(d) (c)において得られた蒸気を凝縮することによって揮発性化合物を含有する溶媒を回収し、アミン溶液(i)を調製するために凝縮液の一部分を再使用し、そして必要に応じてホスゲン溶液(ii)を調製するために凝縮液の別の部分を再使用する工程；および
(e) イソシアネート基非含有の揮発性芳香族汚染物質が濃縮された溶媒ストリームをポリイソシアネート製造プロセスから除去する工程。
(a) (i)ポリイソシアネート（単数または複数）の基となるポリアミン（単数または複数）を不活性溶媒中に溶解して得られる溶液と、(ii)ホスゲンを必要に応じて不活性溶媒中に溶解して得られる溶液とを、一段階もしくは多段階のホスゲン化反応にて反応させる工程；
(b) (a)によって得られる液体反応混合物から、過剰のホスゲンと形成された塩化水素を分離する工程；
(c) (b)において得られた溶液から、溶媒と易揮発性化合物（単数または複数）を蒸発によって一緒に分離し、プロセスの生成物を蒸発残留物として回収し、次いで必要に応じて蒸発残留物を、蒸留のさらなるプロセスにて処理する工程；
(d) (c)において得られた蒸気を凝縮することによって揮発性化合物を含有する溶媒を回収し、アミン溶液(i)を調製するために凝縮液の一部分を再使用し、そして必要に応じてホスゲン溶液(ii)を調製するために凝縮液の別の部分を再使用する工程；および
(e) イソシアネート基非含有の揮発性芳香族汚染物質が濃縮された溶媒ストリームをポリイソシアネート製造プロセスから除去する工程。
Claims (6)
- イソシアネート基非含有の揮発性芳香族汚染物質の含有量がトータルで５０ｐｐｍ未満であるポリイソシアネートの製造法であって、
(a) (i)一つまたは複数のポリイソシアネートの基となる一つまたは複数のポリアミンを不活性溶媒中に溶解して得られる溶液と、(ii)ホスゲンを必要に応じて不活性溶媒中に溶解して得られる溶液とを、一段階もしくは多段階のホスゲン化反応にて反応させる工程；
(b) (a)によって得られる液体反応混合物から、過剰のホスゲンと形成された塩化水素を分離する工程；
(c) (b)において得られた溶液から、溶媒と易揮発性化合物を蒸発によって一緒に分離し、生成物を蒸発残留物として回収し、次いで必要に応じて蒸発残留物をさらなる蒸留プロセスにて処理する工程；
(d) (c)において得られた蒸気を凝縮することによって一つまたは複数の揮発性化合物を含有する溶媒を回収し、ここで、この凝縮液が、イソシアネート基非含有の揮発性芳香族汚染物質が濃縮された溶媒ストリームとなり、イソシアネート基非含有の揮発性芳香族汚染物質を除去処理した溶媒ストリームを、一つまたは複数のアミン溶液および／またはホスゲン溶液を調製するために再使用する工程；および
(e) イソシアネート基非含有の揮発性芳香族汚染物質が濃縮された溶媒ストリームをポリイソシアネート製造プロセスから除去する工程；
を含む、上記製造法。 - 工程(d)における凝縮液の一部分を再使用する前に、さらにイソシアネート基非含有の揮発性芳香族化合物を溶媒から除去する、請求項１に記載の製造法。
- ポリイソシアネートがジフェニルメタン系列のポリイソシアネートである、請求項１または２に記載の製造法。
- 汚染物質がｐ−ジクロロベンゼンを含む、請求項１〜３のいずれかに記載の製造法。
- 不活性溶媒がモノクロロベンゼンを含む、請求項１〜４のいずれかに記載の製造法。
- ポリイソシアネートがジフェニルメタン系列のポリイソシアネートであり、汚染物質がｐ−ジクロロベンゼンを含み、不活性溶媒がモノクロロベンゼンを含む、請求項１〜５のいずれかに記載の製造法。
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