JP2009503593A - 線焦点を作成する光学システム、この光学システムを用いる走査システム、および基板のレーザ加工方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】伝搬方向に伝搬する入力光ビームを放射する光源44であって、入力光ビーム42は、伝搬方向に対して直角の第1次元xにおける延長部分および第1次元xおよび伝搬方向に対して直角の第2次元yにおける延長部分を有する光源44と、入力光ビームを第1次元xにおいて拡大するための少なくとも一つのビーム拡大光学素子46と、第2次元yにおいて湾曲される集束光学素子であって、集束光学素子が入力光ビームを第2次元yにおいて表面上の線焦点Fに集束させる集束光学素子48と、線焦点がまっすぐでありかつ線焦点の少なくともほぼ全長にわたって表面上の平坦な焦点面にあるように、線焦点を平らにするための少なくとも一つの補正光学素子50とを備える。
【選択図】図9
Description
本発明は、さらに走査ビーム焦点を基板上に作成する走査システムに関する。
なおさらに、本発明は、基板のレーザ加工方法に関する。
本明細書および本請求の範囲において用いられる「線焦点」という用語は、ビームの伝搬方向に直交するビームの2つの横方向次元間に大きなアスペクト比を有するビーム形状であると理解される。このようなアスペクト比は、特に100より大きいこともある。
現在の光学システムでは、例えば200mmである線焦点の長さと、例えば1mmである線焦点の幅との典型的な比は、およそ100〜200である。しかしながら、いくつかの応用としては、線焦点の長さと幅との比が600〜10000まで増加するように、非常に薄い(<0.05mm)および長い(>300mm)線焦点を持つことが望ましい。
図1〜図3は、先行技術に従って光ビームの線焦点を基板の表面上に作成する光学システムを示す。
入力光ビーム10の集束は、通常、シリンドリカルレンズ12によって行われる。最小達成可能線幅Wは、レンズ12のF数f#に関する。最小(回折限界)線幅Wは、積W=2f#・λによって与えられ、式中λは、入力光ビーム10の動作波長である。したがって、小さいf#<20は、非常に細い線焦点に必要とされる。レンズ12のx方向の焦点距離fxは、入力ビーム直径Dから追従してfx=D・zy#となる。例えば、直径D=20mmの入力ビーム10は、約fx<400mmの焦点距離を必要とする。したがって、レンズ12と線焦点が形成される基板との間の距離は、典型的に短距離に限定される。
全入力ビームを拡大する代わりに、該ビームを、線焦点が時間の関数として走査されうるように高速ステアリングミラー(例えば、ガルボミラー)によって偏向することもできる。しかしながら、時間平均では、ステアリングミラーは、素子14と同じ機能となるだろう。
結果として、入力光ビーム10が集束する平面は平坦にはならず、湾曲する。このことは、基板Sが典型的に平坦であるので望ましくない。特に、入力光ビーム10の端部光線16,18については、鮮明な焦点は中央光線の焦点よりもレンズ12に近くなる。言い換えると、入力光ビーム10は、x方向の基板S上のビームのエッジでは焦点が外れる。この状況を、図5に示す。発生した収差は、基板S上の図4に示すビームフットプリントがボウタイ形状であるので、通常ボウタイ型誤差と呼ばれる。
本発明の他の目的は、前述した目的を達成する走査ビーム焦点を基板の表面上に作成する走査システムを提供することである。
本発明のさらに他の目的は、できるだけ収差がない線ビームまたは線焦点を持つ基板のレーザ加工法を提供することである。
以下では、光ビームの線焦点を基板上に形成または作成する光学システムの好ましい実施形態を説明する。
本発明に従って入力光ビームから線焦点を基板の表面上に作成する光学システムは、一般に、入力光ビームを発する光源を備えている。入力光ビームは伝搬方向に伝搬し、入力光ビームは、伝搬方向に対して直角の第1次元における延長部分および第1次元および伝搬方向に対して直角の第2次元における延長部分を有している。
さらに、第2次元において湾曲される少なくとも一つの集束光学素子は、該集束光学素子が入力光ビームを第2次元において基板の表面上の線焦点または線ビームに集束するように設けられている。
第1の種類の実施形態において、少なくとも一つの補正光学素子は、少なくとも一つの集束素子と基板の表面との間に位置決めされ、入力光ビームの集束素子への斜め入射によって生じる線焦点での収差を補正するために負出力を有している。好ましくは、少なくとも一つの補正光学素子は、この場合入力光ビームの伝搬方向において見ると、基板の表面の前の最後の光学素子である。補正光学「素子」は、主に表面、特に集束レンズの光出口面にすぎないことを理解されたい。
他の種類の実施形態では、少なくとも一つの補正光学素子は、少なくとも一つの集束光学素子の前に位置決めされ、入力光ビームが少なくとも一つの集束光学素子に少なくともほぼ直角に入射するように入力光ビームを平行にする平行光学素子である。図1〜図5を参照して上で説明したように、ボウタイ型誤差は、集束光学素子上およびそれを通過する入力光ビームの斜め入射によって生じる。入力光ビームが集束光学素子に入射する前に入力光ビームを平行にすることによって、このような斜め入射を回避し、ひいてはボウタイ型誤差のような収差も回避する。
以下で説明するさらなる好ましい実施形態では、中間焦点を基板と光源との間に作成するように光学システムを設計することができる。このような光学システムに好ましくは中間焦点を設ける理由は、光源によって放出される入力光ビームは平行になっていないことがよくあるが、収束性または発散性であるからである。入力光ビームは回折限界ではないことがよくあるが、ある固有ビーム発散を有してもよい。このような非回折限界ビームを集束させた場合、積W=2・f#・λによって与えられる最小(回折限界)線幅にはならないが、限界ビーム品質のため大きくなる。したがって、ビームを中間位置に集束させること、および中間焦点領域に配置され、入力光ビームのシャープエッジを第1次元および第2次元のうち少なくとも一方において作成するためのマスク(開口)を用いることが望ましい。
中間焦点を第2次元において作成する光学システムでは、入力光ビームは、入力光ビームを第2次元において基板上に集束させる集束光学素子上に斜めに入射し、それによりボウタイ型誤差の形の収差が再び生じることになる。
したがって、本問題を解決するために、中間焦点を作成するさらなる集束光学素子には、(入力光ビームの伝搬方向で見ると)中間焦点の後ろに配置され、第2次元において入力ビームを平行にするためのさらなる平行光学素子が割り当てられる。したがって、入力光ビームは、該入力光ビームを第2次元においても少なくともほぼ直角に基板の表面上に集束させる集束光学素子に入射され、それによって斜め入射およびこのような斜め入射によって生じる収差を回避する。
さらに、少なくとも一つの集束光学素子はシリンドリカルレンズであってもよく、前述したさらなる集束光学素子もシリンドリカルレンズであってもよい。
さらに、入力光ビームは、波長が、線焦点を持つ処理対象基板の波長に対する吸収係数が高くなるように選択される光を備えることができる。
基板自体は半導体膜を備えることができ、または例えばアモルファスシリコンを含むことができる。
ボウタイ型誤差の補正が、入力光ビームを基板の表面上に直角で集束させる集束光学素子に入力光ビームを入射させる主構に基づく場合には、線焦点は、本発明の光学システムのさらなる利点としては、多くの場合に望ましいように、基板の表面上ではテレセントリックである。「テレセントリック」は、光が基板の表面に直角で入射することも意味している。
「シリンドリカル光学素子」という用語は以下の説明で用いる限りでは、簡略化のために用いられ、光ビームの伝搬方向に対して直角の1次元においては必ずしも球面ではない湾曲面を有し、および第1次元および光ビームの伝搬方向に対して直角である他の次元においてはまったくまたは実質的に湾曲がない光学素子(レンズおよび鏡)のすべての形状を含んでいる。「シリンドリカル光学素子」という用語は、原則として、非球面湾曲を有する光学素子(レンズおよび鏡)も含んでいる。本発明では、「シリンドリカル光学素子」の湾曲の特定の形状は、多項式または円錐面によって説明することができる放物線状、楕円状、または非球面状である。
入力光ビーム22は、入力光ビーム22を図6のz方向である伝搬方向に放射する光源24によって放射される。入力光ビーム22は、図6のx方向でありかつ光ビーム22の伝搬方向に対して直角である第1次元における延長部分および図6のy方向でありかつ第1次元および入力光ビーム22の伝搬方向に対して直角である第2次元における延長部分を有している。光源24によって放射されるような入力光ビーム22の断面の形状は正方形であってもよいが、異なる形状、例えば、円形、楕円形、長方形、または任意の他の形状であってもよい。
光学システム20は、入力光ビーム22を、拡大の後基板の表面S上の線焦点Fに集束させる集束光学素子28をさらに備えている。集束光学素子28は、例えば、Y方向に正出力を持つシリンドリカルレンズである。
図6に示す実施形態と同じように、光学システム40はz方向に伝搬する入力光ビーム42を放射する光源44、入力光ビーム42をx方向に拡大するビーム拡大光学素子46、および拡大された入力光ビームをy方向に集束させる集束光学素子48を備えている。
光学システム40は、入力光ビーム42の伝搬方向において見ると、集束光学素子48の前に配置される平行光学素子として構成される補正光学素子50をさらに備えている。平行光学素子50は、入力光ビーム48がx方向の入力光ビームの全延長部分にわたって直角に集束光学素子48に入射するように拡大された入力光ビーム42を平行にする。簡単な本実施形態では、平行光学素子50は、入力光ビーム42を、このようにしてx方向において平行にする。図2の角度ωはこのようにしてゼロとなり、スネルの屈折の法則は、もはやωに依存していない。
光学システム40のさらなる利点は、集束された後の入力光ビーム42が基板の表面Sにも直角に入射し、それにより光学システム40はテレセントリック光学システムになるということである。
図11は、他の光学システム60を示している。光学システム60は、入力光ビーム62を発する光源64、入力光ビーム62をx方向に拡大するビーム拡大光学素子66、入力光ビーム62を基板の表面S上においてy方向に集束させる集束光学素子68、およびx方向の拡大後の入力光ビーム62を、x方向に平行にする平行光学素子の形の補正光学素子70を備えている。
中間焦点FIに起因して、入力光ビーム62は、入力光ビーム62がビーム拡大光学素子66を通過、および入力光ビーム62が平行光学素子70を通過するにつれて、y方向の斜め入射角(図3では、θとされている)を有している。したがって、入力光ビーム62が基板の表面S上に集束する平面は、図12に示すように、要望したように、再び湾曲されかつ平坦ではない。線焦点の曲がりの影響は、図1〜図3の場合におけるように、入力光ビームのx方向の斜め入射の影響としては重要ではないが、線焦点Fの擾乱として考えるには十分大きいだろう。
光学システム80は、入力光ビーム82を放射する光源、入力光ビーム82をx方向に拡大するためのビーム拡大光学素子86、拡大された入力光ビーム82を基板の表面S上に集束させるための集束光学素子88、拡大された入力光ビーム82をx方向に平行にするための平行光学素子90、中間焦点FIを中間焦点面に作成するさらなる焦点光学素子92、および中間焦点FIに配置される開口96を有するマスク94を備えている。
さらなる集束光学素子82およびさらなる平行光学素子98は、ともに歪像ケプラー型無限焦点望遠鏡を形成する。素子92および98の焦点距離が互いに異なるように選択される場合、光学システム80の当該部分は、1次元無限焦点ビームエクスパンダまたはコンプレッサを形成し、したがって同時に、出ていく入力光ビーム82の大きさを光学システム80にとって必要な大きさに適合させるために、入ってくる入力光ビーム82を拡大または圧縮するために用いられてもよい。
以上で説明したような光学システムの応用に従って、光源によって放射される光の波長は、基板の本波長についての吸収係数が高くなるように選択される。特に、レーザ源24,44,84は、高出力エキシマレーザまたは他の高出力光源であってもよい。
Claims (43)
- 線焦点を入力光ビームから基板の表面上に作成する光学システムであって、
伝搬方向に伝搬する前記入力光ビームを放射する光源であって、前記入力光ビームは、前記伝搬方向に対して直角の第1次元における延長部分および前記第1次元および前記伝搬方向に対して直角の第2次元における延長部分を有する光源と、
前記入力光ビームを前記第1次元において拡大するための少なくとも一つのビーム拡大光学素子と、
前記第2次元において湾曲される少なくとも一つの集束光学素子であって、前記集束光学素子が前記入力光ビームを前記第2次元において前記基板の表面上の前記線焦点に集束させる集束光学素子と、
前記線焦点がまっすぐであり、かつ前記線焦点の少なくともほぼ全長にわたって前記基板の表面上の平坦な焦点面にあるように、前記線焦点を平らにするための少なくとも一つの補正光学素子とを備える、光学システム。 - 前記少なくとも一つの補正光学素子は、前記少なくとも一つの集束素子と前記表面との間に位置決めされ、負出力を有する、請求項1に記載の光学システム。
- 前記少なくとも一つの補正光学素子は、前記第1次元および前記第2次元のうち少なくとも一方において前記負出力を有する、請求項2に記載の光学システム。
- 前記少なくとも一つの補正光学素子は、前記入力光ビームが前記少なくとも一つの集束光学素子に前記第1次元および前記第2次元のうち少なくとも一方において少なくともほぼ直角に入射するように前記少なくとも一つの集束光学素子の前に位置決めされ、前記入力光ビームを前記第1次元および前記第2次元のうち少なくとも一方において平行にする平行光学素子である、請求項1に記載の光学システム。
- 前記少なくとも一つの集束光学素子と前記光源との間に配置され、中間焦点を前記第1次元および前記第2次元のうち少なくとも一方において作成するための少なくとも一つのさらなる集束光学素子をさらに備える、請求項1に記載の光学システム。
- 開口が前記入力光ビームのシャープエッジを前記第1次元および前記第2次元のうち少なくとも一方において作成する前記中間焦点の領域に配置される、請求項5に記載の光学システム。
- 前記開口は長方形のスリットを有している、請求項6に記載の光学システム。
- 前記さらなる集束光学素子には、前記中間焦点の後ろに配置され、前記入力光ビームを前記第2次元において平行にするためのさらなる平行光学素子が割り当てられる、請求項5に記載の光学システム。
- 前記さらなる集束光学素子および前記さらなる平行光学素子は、無限焦点望遠鏡を形成するように配置される、請求項8に記載の光学システム。
- 前記さらなる平行光学素子は、前記少なくとも一つのビーム拡大光学素子の前に配置される、請求項8に記載の光学システム。
- 前記少なくとも一つのビーム拡大光学素子は、高速ステアリングミラー、例えば、ガルボミラーである、請求項1に記載の光学システム。
- 前記少なくとも一つのビーム拡大素子は、少なくとも一つの負シリンドリカルレンズ、シリンドリカルレンズアレイ、少なくとも一つの回折素子、第1次元拡散板を含むグループから選択される、請求項1に記載の光学システム。
- 前記ビーム拡大素子は前記ビームも均質にする、請求項1に記載の光学システム。
- 前記少なくとも一つの集束光学素子はシリンドリカルレンズである、請求項1に記載の光学システム。
- 前記少なくとも一つのさらなる集束光学素子はシリンドリカルレンズである、請求項5に記載の光学システム。
- 前記少なくとも一つのビーム拡大光学素子の少なくとも一つ、前記少なくとも一つの集束光学素子、および前記少なくとも一つの補正光学素子のうち少なくとも一つはフッ化カルシウムを含む、請求項1に記載の光学システム。
- 前記入力光ビームは、波長が、前記基板の前記波長に対する吸収係数が高くなるように選択される光を備える、請求項1に記載の光学システム。
- 前記基板は半導体膜を備える、請求項1に記載の光学システム。
- 前記基板はアモルファスシリコンを含む、請求項1に記載の光学システム。
- 前記光源は50W以上の光出力を与える高出力レーザである、請求項1に記載の光学システム。
- 前記光源はエキシマレーザである、請求項1に記載の光学システム。
- 前記線焦点は前記基板の前記表面上でテレセントリックである、請求項1に記載の光学システム。
- 走査ビーム焦点を基板上に作成する走査システムであって、
伝搬方向に伝搬する入力光ビームを放射する光源であって、前記入力光ビームは、前記伝搬方向に対して直角の第1次元における延長部分および前記第1次元および前記伝搬方向に対して直角の第2次元における延長部分を有する光源と、
前記入力光ビームを前記第1次元において拡大するための少なくとも一つのビーム拡大光学素子と、
前記第2次元において湾曲される少なくとも一つの集束光学素子であって、前記集束光学素子が前記入力光ビームを前記第2次元において前記平面上の前記線焦点に集束させる集束光学素子と、
前記線焦点がまっすぐであり、かつ前記線焦点の少なくともほぼ全長にわたって前記表面上の平坦な焦点面にあるように、前記線焦点を平らにするための少なくとも一つの補正光学素子とを備える、走査システム。 - 前記少なくとも一つの補正光学素子は、前記少なくとも一つの集束素子と前記表面との間に位置決めされ、負出力を有する、請求項23に記載の走査システム。
- 前記少なくとも一つの補正光学素子は、前記第1次元および前記第2次元のうち少なくとも一方において前記負出力を有する、請求項24に記載の走査システム。
- 前記少なくとも一つの補正光学素子は、前記入力光ビームが前記少なくとも一つの集束光学素子に前記第1次元および前記第2次元のうち少なくとも一方において少なくともほぼ直角に入射するように前記少なくとも一つの集束光学素子の前に位置決めされ、前記入力光ビームを前記第1次元および前記第2次元のうち少なくとも一方において平行にする平行光学素子である、請求項23に記載の走査システム。
- 前記少なくとも一つの集束光学素子と前記光源との間に配置され、中間焦点を前記2次元において作成するための少なくとも一つのさらなる集束光学素子をさらに備える、請求項23に記載の走査システム。
- 開口が前記入力光ビームのシャープエッジを前記第1次元および前記第2次元のうち少なくとも一方において作成する前記中間焦点の領域に配置される、請求項27に記載の走査システム。
- 前記開口は長方形のスリットを有している、請求項28に記載の走査システム。
- 前記さらなる集束光学素子には、前記中間焦点の後ろに配置され、前記入力光ビームを前記第2次元において平行にするためのさらなる平行光学素子が割り当てられる、請求項27に記載の走査システム。
- 前記さらなる集束光学素子および前記さらなる平行光学素子は、無限焦点望遠鏡を形成するように配置される、請求項30に記載の走査システム。
- 前記さらなる平行光学素子は、前記少なくとも一つのビーム拡大光学素子の前に配置される、請求項30に記載の走査システム。
- 前記線焦点を前記基板全体にわたって走査する手段をさらに備える、請求項23に記載の走査システム。
- 基板のレーザ加工方法であって、走査ビーム焦点を前記基板の表面上に作成する走査システムを使用し、前記走査システムは、
伝搬方向に伝搬する入力光ビームを放射する光源であって、前記入力光ビームは、前記伝搬方向に対して直角の第1次元における延長部分および前記第1次元および前記伝搬方向に対して直角の第2次元における延長部分を有する光源と、
前記入力光ビームを前記第1次元において拡大するための少なくとも一つのビーム拡大光学素子と、
前記第2次元において湾曲される少なくとも一つの集束光学素子であって、前記集束光学素子が前記入力光ビームを前記2次元において前記平面上の前記線焦点に集束させる集束光学素子と、
前記線焦点がまっすぐであり、かつ前記線焦点の少なくともほぼ全長にわたって前記表面上の平坦な焦点面にあるように、前記線焦点を平らにするための少なくとも一つの補正光学素子とを備える、方法。 - 前記線焦点を前記基板全体にわたって走査するステップをさらに含む、請求項34に記載の方法。
- 前記線焦点を前記基板全体にわたって機械的に走査するステップをさらに含む、請求項35に記載の方法。
- 前記線焦点を前記基板全体にわたって光学的に走査するステップをさらに含む、請求項35に記載の方法。
- 前記基板はシリコン基板である、請求項34に記載の方法。
- 前記基板は半導体膜である、請求項34に記載の方法。
- 前記レーザ加工は前記基板を焼きなますステップを含む、請求項34に記載の方法。
- 前記レーザ加工は前記基板のレーザ誘導結晶化を含む、請求項34に記載の方法。
- 前記レーザ加工はフラットパネルディスプレイ製造工程で行われる、請求項34に記載の方法。
- 前記レーザ加工は有機LEDディスプレイ製造工程で行われる、請求項34に記載の方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009016541A (ja) * | 2007-07-04 | 2009-01-22 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | レーザアニール装置及びレーザアニール方法 |
JP2022539890A (ja) * | 2019-07-08 | 2022-09-13 | フラウンホーファー-ゲゼルシャフト・ツール・フェルデルング・デル・アンゲヴァンテン・フォルシュング・アインゲトラーゲネル・フェライン | マルチチャネル光学機械アドレス指定部 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN101762879B (zh) * | 2010-01-25 | 2012-03-14 | 深圳市大族激光科技股份有限公司 | 一种激光扩束*** |
CN101788716B (zh) * | 2010-02-24 | 2011-09-28 | 深圳市大族激光科技股份有限公司 | 一种激光扩束*** |
DE102010027196B4 (de) | 2010-07-07 | 2012-03-08 | Carl Zeiss Laser Optics Gmbh | Optisches System zum Erzeugen eines Linienfokus sowie Vorrichtung zum Behandeln eines Substrats mit einem solchen optischen System |
CN102928982B (zh) * | 2011-08-10 | 2017-04-05 | 上海雄博精密仪器股份有限公司 | 一种大口径平行光扩束装置及方法 |
KR102459817B1 (ko) | 2015-10-01 | 2022-10-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 레이저 결정화 장치 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3824127C2 (de) * | 1988-07-15 | 1994-09-29 | Fraunhofer Ges Forschung | Vorrichtung zur Wärmebehandlung der Oberfläche eines Substrates, insbesondere zum Kristallisieren von polykristallinem oder amorphem Substratmaterial |
US5237149A (en) * | 1992-03-26 | 1993-08-17 | John Macken | Laser machining utilizing a spacial filter |
US5818645A (en) * | 1996-07-16 | 1998-10-06 | Management Graphics, Inc. | Multimode optical source and image scanning apparatus using the same |
US5736709A (en) * | 1996-08-12 | 1998-04-07 | Armco Inc. | Descaling metal with a laser having a very short pulse width and high average power |
WO1999003012A1 (en) * | 1997-07-08 | 1999-01-21 | Etec Systems, Inc. | Anamorphic scan lens for laser scanner |
US6396616B1 (en) * | 2000-10-10 | 2002-05-28 | 3M Innovative Properties Company | Direct laser imaging system |
WO2006066687A1 (en) * | 2004-12-22 | 2006-06-29 | Carl Zeiss Laser Optics Gmbh | Optical system for creating a line focus, a scanning system for producing a scanning beam focus and a method for laser processing of a substrate |
-
2006
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009016541A (ja) * | 2007-07-04 | 2009-01-22 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | レーザアニール装置及びレーザアニール方法 |
JP2022539890A (ja) * | 2019-07-08 | 2022-09-13 | フラウンホーファー-ゲゼルシャフト・ツール・フェルデルング・デル・アンゲヴァンテン・フォルシュング・アインゲトラーゲネル・フェライン | マルチチャネル光学機械アドレス指定部 |
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