JP2009301853A - 高エネルギー粒子発生装置及び集光装置並びに高エネルギー粒子発生方法及び集光方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】主レーザ光及び副レーザ光を照射するレーザ光照射装置10と、導光管群20からの主レーザ光及び副レーザ光を反射するステアリングミラー41と、主レーザ光が入射される軸外し放物面ミラー44と、軸外し放物面ミラー44で集光された主レーザ光が照射されるターゲット部50と、副レーザ光の光軸とその受光面の法線とが成す傾斜角度を検出する傾斜角度センサ48と、副レーザ光のその光軸回りの回転角度を検出するCCDカメラ49と、副レーザ光の回転角度を取得し、これに対応する副レーザ光の最適傾斜角度をあらかじめ定めた最適傾斜角度データから抽出し、当該最適傾斜角度で副レーザ光が傾斜角度センサ48に受光されるようにステアリングミラー41を回動させる制御装置を具備する。
【選択図】図4
Description
11 主レーザ光源
12 副レーザ光源
13 ビームエキスパンダ
14 ダイクロイックミラー
15 副レーザ光用ミラー
16 整形マスク
17 第1貫通孔
18 第2貫通孔
19 合成像
20 導光管群
21 導光管
22 導光管ミラー
23 ベアリング
24 基台
25 ミラー
26 ウェイト
30 X線発生部
40 集光部
41 ステアリングミラー
42 ダイクロイックミラー
43 折り返しミラー
44 軸外し放物面ミラー
45 ハーフミラー
46 平凸レンズ
47 位置センサ
48 傾斜角度センサ
49 CCDカメラ
50 ターゲット部
51 ターゲット試料
52 X線変換材
53 試料支持軸
54 巻き取り軸
60 画像データ
61 第1の像
62 第2の像
71 第1画像パターン
72 第2画像パターン
100 X線発生部
101 ターゲット
102 傾斜角度センサ
103 ステアリングミラー
104 ダイクロイックミラー
105 折り返しミラー
106 軸外し放物面ミラー
107 平凸レンズ
108 位置センサ
Claims (9)
- パルス状の主レーザ光及び当該主レーザ光と光軸を共有する副レーザ光を照射するレーザ光源と、
前記主レーザ光及び副レーザ光を前記レーザ光源から遠隔の位置に導く導光手段と、
前記導光手段からの前記主レーザ光及び前記副レーザ光を任意の角度に反射し得るように回動自在に構成された角度調整用ミラーと、
前記角度調整用ミラーから前記主レーザ光が入射される軸外し放物面ミラーと、
前記軸外し放物面ミラーにより集光された前記主レーザ光が照射されて高エネルギー粒子を発生させるターゲットと、
前記角度調整用ミラーから前記副レーザ光を受光面に受光すると共に当該副レーザ光の光軸と当該受光面の法線とが成す傾斜角度を検出する傾斜角度検出手段と、
前記導光手段に入射する前における前記副レーザ光を基準として、前記角度調整用ミラーから受光した前記副レーザ光のその光軸回りの回転角度を検出する回転角度検出手段と、
前記軸外し放物面ミラーの焦点に前記主レーザ光が集光されたときにおける前記副レーザ光の傾斜角度である最適傾斜角度を前記回転角度ごとに定めた最適傾斜角度データが予め設定された制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記回転角度検出手段より前記副レーザ光の回転角度を取得し、当該回転角度に対応する副レーザ光の最適傾斜角度を前記最適傾斜角度データから抽出し、当該最適傾斜角度で前記副レーザ光が前記傾斜角度検出手段に受光されるように前記角度調整用ミラーを回動させることを特徴とする高エネルギー粒子発生装置。 - 請求項1に記載する高エネルギー粒子発生装置において、
前記最適傾斜角度データは、前記軸外し放物面ミラーの焦点近傍で前記主レーザ光の像を画像データとして取得し、前記主レーザ光が一点に結像した画像データが得られるように前記角度調整用ミラーの角度を調整し、このときの前記傾斜角度を前記回転角度に対応付けて作成したものである
ことを特徴とする高エネルギー粒子発生装置。 - 請求項1又は請求項2に記載する高エネルギー粒子発生装置において、
前記傾斜角度検出手段は、前記副レーザ光の前記受光面における像の位置と前記受光面の所定位置との差を算出するとともに、当該所定位置に焦点が合わされたレンズを介して前記角度調整用ミラーから前記副レーザ光が照射されるように構成され、前記差と前記レンズの焦点距離から前記傾斜角度を算出する
ことを特徴とする高エネルギー粒子発生装置。 - 請求項1〜請求項3の何れか一項に記載する高エネルギー粒子発生装置において、
前記レーザ光源と前記導光手段との間に配設された第1貫通孔及び第2貫通孔を有する整形マスクを具備し、
前記副レーザ光は、前記第1貫通孔及び第2貫通孔を通過することにより2つに分割され、
前記回転角度検出手段は、2つに分かれた前記副レーザ光の像である第1の像及び第2の像を受光すると共に、前記第1貫通孔と前記第2貫通孔とを結ぶ直線を基準線とし、前記第1の像を中心として前記第2の像の前記基準線からの角度を前記回転角度として算出する
ことを特徴とする高エネルギー粒子発生装置。 - 請求項1〜請求項4の何れか一項に記載する高エネルギー粒子発生装置において、
前記ターゲットは、前記主レーザ光が入射されて高エネルギー電子を発生するターゲット試料と、当該高エネルギー電子との相互作用により高エネルギーX線を発生するX線変換材とから構成されている
ことを特徴とする高エネルギー粒子発生装置。 - 請求項1〜請求項5の何れか一項に記載する高エネルギー粒子発生装置において、
前記導光手段は、折曲部を有する複数の導光管がベアリングを介して相互に回動自在に接続され、
前記各導光管の折曲部には、入射した主レーザ光及び副レーザ光を導光管の折れ曲がる方向に反射させるミラーが配設されている
ことを特徴とする高エネルギー粒子発生装置。 - レーザ光源からのパルス状の主レーザ光及び当該主レーザ光と光軸を共有する副レーザ光が導光手段を介して入射されると共に、これらの主レーザ光及び副レーザ光を任意の角度に反射し得るように回動自在に構成された角度調整用ミラーと、
前記角度調整用ミラーから前記主レーザ光が入射されてその焦点に前記主レーザ光を集光する軸外し放物面ミラーと、
前記角度調整用ミラーから前記副レーザ光を受光面に受光すると共に当該副レーザ光の光軸と当該受光面とが成す傾斜角度を検出する傾斜角度検出手段と、
前記導光手段に入射する前における前記副レーザ光を基準として、前記角度調整用ミラーから受光した前記副レーザ光のその光軸回りの回転角度を検出する回転角度検出手段と、
前記軸外し放物面ミラーの焦点に前記主レーザ光が集光されたときにおける前記副レーザ光の傾斜角度である最適傾斜角度を前記回転角度ごとに定めた最適傾斜角度データが予め設定された制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記回転角度検出手段より前記副レーザ光の回転角度を取得し、当該回転角度に対応する副レーザ光の最適傾斜角度を前記最適傾斜角度データから抽出し、当該最適傾斜角度で前記副レーザ光が前記傾斜角度検出手段に受光されるように前記角度調整用ミラーを回動させることを特徴とする集光装置。 - パルス状の主レーザ光及び当該主レーザ光と光軸を共有する副レーザ光を照射するレーザ光源と、
前記主レーザ光及び副レーザ光を前記レーザ光源から遠隔の位置に導く導光手段と、
前記導光手段からの前記主レーザ光及び前記副レーザ光を任意の角度に反射し得るように回動自在に構成された角度調整用ミラーと、
前記角度調整用ミラーから前記主レーザ光が入射される軸外し放物面ミラーと、
前記軸外し放物面ミラーにより集光された前記主レーザ光が照射されて高エネルギー粒子を発生させるターゲットと、
前記角度調整用ミラーから前記副レーザ光を受光面に受光すると共に当該副レーザ光の光軸と当該受光面の法線とが成す傾斜角度を検出する傾斜角度検出手段と、
前記導光手段に入射する前における前記副レーザ光を基準として、前記角度調整用ミラーから受光した前記副レーザ光のその光軸回りの回転角度を検出する回転角度検出手段とを備える高エネルギー粒子発生装置を用いた高エネルギー粒子発生方法であって、
前記軸外し放物面ミラーの焦点に前記主レーザ光が集光されたときにおける前記副レーザ光の傾斜角度である最適傾斜角度を前記回転角度ごとに定めた最適傾斜角度データを求める工程と、
前記回転角度検出手段より前記副レーザ光の回転角度を取得し、当該回転角度に対応する副レーザ光の最適傾斜角度を前記最適傾斜角度データから抽出し、当該最適傾斜角度で前記副レーザ光が前記傾斜角度検出手段に受光されるように前記角度調整用ミラーを回動させる工程とを備える
ことを特徴とする高エネルギー粒子発生方法。 - レーザ光源からのパルス状の主レーザ光及び当該主レーザ光と光軸を共有する副レーザ光が導光手段を介して入射されると共に、これらの主レーザ光及び副レーザ光を任意の角度に反射し得るように回動自在に構成された角度調整用ミラーと、
前記角度調整用ミラーから前記主レーザ光が入射されてその焦点に前記主レーザ光を集光する軸外し放物面ミラーと、
前記角度調整用ミラーから前記副レーザ光を受光面に受光すると共に当該副レーザ光の光軸と当該受光面とが成す傾斜角度を検出する傾斜角度検出手段と、
前記導光手段に入射する前における前記副レーザ光を基準として、前記角度調整用ミラーから受光した前記副レーザ光のその光軸回りの回転角度を検出する回転角度検出手段とを備える集光装置を用いた集光方法であって、
前記軸外し放物面ミラーの焦点に前記主レーザ光が集光されたときにおける前記副レーザ光の傾斜角度である最適傾斜角度を前記回転角度ごとに定めた最適傾斜角度データを求める工程と、
前記回転角度検出手段より前記副レーザ光の回転角度を取得し、当該回転角度に対応する副レーザ光の最適傾斜角度を前記最適傾斜角度データから抽出し、当該最適傾斜角度で前記副レーザ光が前記傾斜角度検出手段に受光されるように前記角度調整用ミラーを回動させる工程とを具備する
ことを特徴とする集光方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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