JP2009272373A - 計測装置、計測方法、露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
スリットと空中像の位置関係を高速かつ高精度に調整可能な計測装置を提供する。
【解決手段】
光学系の物体面に配置されたパターンを照明して光学系の像面にパターンの空中像40を形成し、像面に配置されたスリット54を介して空中像40の光強度分布を計測する計測装置であって、光学系の像面に配置されたステージ60と、ステージ60に搭載されスリット54を透過した光を受光する少なくとも二つの受光部を含む受光素子53と、空中像40の干渉縞に平行な方向とスリット54の長手方向との間の角度εと、スリット54の長手方向においてスリット54の中心位置と受光素子53が受光する光の強度が最大となる位置との間の距離との関係を記憶した記憶部と、その関係に基づいて角度εを求める演算部と、演算部にて求められた角度εを0にするように、ステージ60を回転させるステージ駆動部80とを有する。
【選択図】図3
Description
W.N.Partlo, C.H.Fields and W.G.Oldham, J.Vac.Sci.Technol.B, Vol.11, pp.2686−2691
θc=arcsin(2HP/SL) … (1)
と表すことができる。ここで、SLはスリットの長手方向の長さ(スリット長)で、HPは空中像の光強度分布変動の半周期である。スリットとL/Sパターンのなす角度が臨界角度θcより小さければ、スリットに照射される光量は、スリットをスキャンすることで変調する。
Ws≦λ … (2)
に設定する必要がある。ここで、λは光源の波長である。
Ls≧10×λ … (3)
に設定されている。
また、回復処理を行う際、光源の波長幅や偏光度、光学系の収差などをあらかじめ求めておくか、又は、光学系から他のセンサなどを用いて得られる計測値を参照することで、回復処理の精度を向上させることができる。
20 マスク
30 投影光学系
40 空中像
45 入射面
50 空中像計測センサ
51 遮光膜
52 透明基板
53 受光素子
531 第一受光部
532 第二受光部
54、540 スリット
541 第一アライメントスリット
542 第二アライメントスリット
60 ステージ
70 信号処理部
71 記憶部
72 演算部
80 ステージ駆動部
100 計測装置
Claims (10)
- 光学系の物体面に配置されたパターンを照明して該光学系の像面に該パターンの像を形成し、該像面に配置されたスリットを介して該像の光強度分布を計測する計測装置であって、
前記光学系の像面に配置されたステージと、
前記ステージに搭載され、前記スリットを透過した光を受光する少なくとも二つの受光部を含む受光素子と、
前記像の干渉縞に平行な方向と前記スリットの長手方向との間の角度と、該スリットの長手方向において該スリットの中心位置と前記受光素子が受光する光の強度が最大となる位置との間の距離との関係を記憶した記憶部と、
前記記憶部に記憶された前記関係に基づいて前記角度を求める演算部と、
前記演算部にて求められた前記角度を0にするように、前記ステージを回転させるステージ駆動部と、を有することを特徴とする計測装置。 - 前記受光素子は、一次元状に配列された画素アレイを含むことを特徴とする請求項1記載の計測装置。
- 前記受光素子は、二次元状に配列された画素アレイを含むことを特徴とする請求項1記載の計測装置。
- 前記スリットは、複数のスリットを含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一に記載の計測装置。
- 前記スリットは、アライメント用のスリットと計測用のスリットを含むことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一に記載の計測装置。
- 前記アライメント用のスリットは、異なる角度で配置された2つ以上のスリットを含むことを特徴とする請求項5記載の計測装置。
- 前記演算部は、予め記憶されているか、又は、コンピュータにより計算された前記スリットの透過特性を用いてスリットスキャン信号を算出することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一に記載の計測装置。
- 光学系の物体面に配置されたパターンを照明して該光学系の像面に該パターンの像を形成し、該像面に配置されたスリットを介して該像の光強度分布を計測する計測方法であって、
前記光学系の像面に配置されたステージに搭載された少なくとも二つの受光部を含む受光素子を用いて、前記スリットを透過した光を受光する受光ステップと、
前記像の干渉縞に平行な方向と前記スリットの長手方向との間の角度と、該スリットの長手方向において該スリットの中心位置と前記受光素子が受光する光の強度が最大となる位置との間の距離との関係に基づいて、該角度を求める演算ステップと、
前記演算ステップにて求められた前記角度を0にするように、前記ステージを回転させるステージ駆動ステップと、
前記ステージを回転させて前記角度を0にしてから、前記像を計測する計測ステップと、を有することを特徴とする計測方法。 - 請求項1乃至7のいずれか一に記載の計測装置を備えたことを特徴とする露光装置。
- 請求項9記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、を有することを特徴とするデバイス製造方法。
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