JP2009272277A - Organic electroluminescent element, method of manufacturing organic electroluminescent element, organic electroluminescent device, and method of manufacturing organic electroluminescent device - Google Patents

Organic electroluminescent element, method of manufacturing organic electroluminescent element, organic electroluminescent device, and method of manufacturing organic electroluminescent device Download PDF

Info

Publication number
JP2009272277A
JP2009272277A JP2008124370A JP2008124370A JP2009272277A JP 2009272277 A JP2009272277 A JP 2009272277A JP 2008124370 A JP2008124370 A JP 2008124370A JP 2008124370 A JP2008124370 A JP 2008124370A JP 2009272277 A JP2009272277 A JP 2009272277A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
organic
light emitting
functional layer
insulating film
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2008124370A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masatsugu Goto
正嗣 後藤
Mari Sakai
真理 酒井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2008124370A priority Critical patent/JP2009272277A/en
Publication of JP2009272277A publication Critical patent/JP2009272277A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce film thickness dispersion of an organic functional layer. <P>SOLUTION: The method of manufacturing an organic electroluminescent element sequentially includes steps of: forming first electrodes 110 on a substrate 100A; forming, on the substrate 100A, barrier rib films 120 having openings 121 exposing at least partial parts of the first electrodes 110; forming insulating films 130 continuously covering the inner walls of the openings 121 and peripheries of the openings 121 of the barrier rib films 120; making regions 124, located on the upper surfaces of the barrier rib films 120 without overlapping the insulating films 130 in a plan view, liquid-repellent against a liquid organic functional layer formation material relative to the insulating film 130; forming an organic functional layer including an organic light-emitting layer at least inside the openings 121; and forming second electrodes on the organic functional layer. In the step of forming the organic functional layer, the liquid organic functional layer formation material is arranged over the insulating films, and the organic functional layer is formed by solidifying it. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法に関する。   The present invention relates to an organic electroluminescence element, a method for producing an organic electroluminescence element, an organic electroluminescence device, and a method for producing an organic electroluminescence device.

有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬと称す）を用いた発光素子として、有機ＥＬ素子が知られている。有機ＥＬ素子は、正孔を供給する陽極と電子を供給する陰極との間に、有機ＥＬ材料からなる有機発光層を含んだ有機機能層を有するものである。供給された正孔と電子とが有機発光層内で結合して、光を生じるようになっている。有機機能層は、正孔注入層や正孔輸送層、有機発光層等の有機層からなっている。これら有機層の形成方法としては、液滴吐出法、スピンコート法等の液相法を用いる方法（例えば、特許文献１）や蒸着法等の気相法を用いる方法が知られている。   An organic EL element is known as a light-emitting element using organic electroluminescence (hereinafter referred to as organic EL). The organic EL element has an organic functional layer including an organic light emitting layer made of an organic EL material between an anode supplying holes and a cathode supplying electrons. The supplied holes and electrons are combined in the organic light emitting layer to generate light. The organic functional layer is composed of an organic layer such as a hole injection layer, a hole transport layer, or an organic light emitting layer. As a method for forming these organic layers, a method using a liquid phase method such as a droplet discharge method or a spin coating method (for example, Patent Document 1) or a method using a vapor phase method such as an evaporation method is known.

液相法を用いて有機ＥＬ素子を製造するには、まず画像信号をスイッチングする薄膜トランジスタと電気的に接続された画素電極を形成する。そして、画素電極の周囲に無機物隔壁層を形成し、画素電極を露出させて無機物隔壁層上に有機物隔壁層を形成する。そして、表面処理を行って、有機層の形成材料である液状体に対して無機物隔壁層を親液性にするとともに、有機物隔壁層を撥液性にする。そして、有機隔壁層の開口内側に液滴吐出法等で液状体を充填し、これを乾燥・焼成等により固化して有機層を形成する。液状体の充填・固化を繰り返すことにより有機層を積層して有機機能層を形成した後、この上に共通電極を形成すること等により、有機ＥＬ素子が得られる。   In order to manufacture an organic EL element using the liquid phase method, first, a pixel electrode electrically connected to a thin film transistor for switching an image signal is formed. Then, an inorganic partition wall layer is formed around the pixel electrode, and the pixel electrode is exposed to form an organic partition wall layer on the inorganic partition wall layer. Then, surface treatment is performed to make the inorganic partition wall lyophilic and to make the organic partition layer lyophobic with respect to the liquid that is the material for forming the organic layer. Then, a liquid material is filled inside the opening of the organic partition layer by a droplet discharge method or the like, and this is solidified by drying, baking, or the like to form an organic layer. An organic EL element is obtained by forming an organic functional layer by repeatedly filling and solidifying a liquid material to form an organic functional layer, and then forming a common electrode thereon.

このように、有機物隔壁層等によって区画された領域に液状体を充填すれば、位置精度を高めることができる。また、有機物は無機物よりも厚く成膜することが容易であるため、有機物隔壁層の開口内側の容積を大きくすることが容易である。容積を大きくすればここに充填可能な液状体の体積が大きくなり、有機層の膜厚を確保することが容易になる。
特開２００３−１８７９７０号公報 In this way, if the liquid material is filled in the region partitioned by the organic partition wall layer or the like, the positional accuracy can be improved. Further, since the organic material can be formed thicker than the inorganic material, it is easy to increase the volume inside the opening of the organic material partition layer. If the volume is increased, the volume of the liquid material that can be filled therein increases, and it becomes easy to ensure the film thickness of the organic layer.
JP 2003-187970 A

特許文献１のように液相法を用いると低コストで有機ＥＬ素子を製造することが可能であるが、有機ＥＬ素子の品質を向上させる観点から改善すべき点もある。
前記のように、有機物隔壁層を形成することは、液相法を用いて有機ＥＬ素子を製造する上で極めて有効である。ところが、有機物隔壁層の開口内側に液状体を充填し固化すると、形成された有機層に膜厚のばらつきを生じることがある。これは、以下の理由による。 When a liquid phase method is used as in Patent Document 1, it is possible to manufacture an organic EL element at a low cost. However, there is a point to be improved from the viewpoint of improving the quality of the organic EL element.
As described above, the formation of the organic partition wall layer is extremely effective in manufacturing an organic EL element using a liquid phase method. However, when the liquid material is filled inside the opening of the organic partition wall layer and solidified, the formed organic layer may vary in film thickness. This is due to the following reason.

有機物隔壁層は、アクリル樹脂やポリイミド樹脂を成膜した後、この膜を露光・現像することにより形成されている。現像により形成された有機隔壁層は、その内壁が基板に対して傾斜面となっている。一般に、現像による加工精度はドライエッチング等に比べて低いため、有機物隔壁層の開口内壁の形状を高精度に制御することは困難である。そのため、通常は、開口内壁の基板に対する傾斜角が開口の周方向でばらつきを有している。一方、開口内側に充填された液状体は、有機隔壁層の撥液性により、その周縁において開口内壁と所定の接触角をなす形状となる。そのため、開口の周方向で開口内壁の傾斜角にばらつきを生じていると、液状体の形状がその周方向で変化して歪んでしまう。すると、液状体の乾燥時に液面の形状を反映して有機層が形成され、その表面が歪んでしまうことにより有機層の膜厚が部分的に変化してしまう。膜厚が不均一になると、有機ＥＬ素子の特性が低下してしまい、歩留りが損なわれてしまうこともある。   The organic partition wall layer is formed by forming an acrylic resin or a polyimide resin and then exposing and developing the film. The inner wall of the organic partition layer formed by development is inclined with respect to the substrate. In general, since the processing accuracy by development is lower than that of dry etching or the like, it is difficult to control the shape of the inner wall of the organic partition wall layer with high accuracy. Therefore, normally, the inclination angle of the inner wall of the opening with respect to the substrate varies in the circumferential direction of the opening. On the other hand, the liquid filled inside the opening has a shape that forms a predetermined contact angle with the inner wall of the opening at the periphery due to the liquid repellency of the organic partition wall layer. For this reason, if the inclination angle of the inner wall of the opening varies in the circumferential direction of the opening, the shape of the liquid material changes in the circumferential direction and is distorted. Then, when the liquid is dried, an organic layer is formed reflecting the shape of the liquid surface, and the surface of the organic layer is distorted, so that the film thickness of the organic layer partially changes. If the film thickness is not uniform, the characteristics of the organic EL element are deteriorated, and the yield may be impaired.

本発明は、前記事情に鑑み成されたものであって、良好な有機ＥＬ素子を低コストで製造する方法を提供することを目的の１つとする。また、良好な有機ＥＬ素子を提供することを目的の１つとする。   This invention is made | formed in view of the said situation, Comprising: It aims at providing the method of manufacturing a favorable organic EL element at low cost. Another object is to provide a favorable organic EL element.

本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法は、所定の発光領域を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、基板上に第１電極を形成する工程と、前記基板上に前記第１電極の少なくとも一部を露出する開口部を備えた隔壁膜を形成する工程と、前記開口部の内壁と前記隔壁膜の前記開口部の周辺とを連続的に覆う絶縁膜を形成する工程と、前記隔壁膜の上面であって、平面視において前記絶縁膜と重ならない領域を前記液状の有機機能層形成材料に対して前記絶縁膜よりも撥液性にする工程と、少なくとも前記開口部の内側に有機発光層を含んだ有機機能層を形成する工程と、前記有機機能層上に第２電極を形成する工程と、をこの順番で有し、前記有機機能層を形成する工程では、前記絶縁膜上にわたって液状の有機機能層形成材料を配置しこれを固化して前記有機機能層を形成することを特徴とする。   The manufacturing method of the organic electroluminescent element of this invention is a manufacturing method of the organic electroluminescent element which has a predetermined light emission area | region, Comprising: The process of forming a 1st electrode on a board | substrate, The said 1st electrode on a said board | substrate Forming a partition film having an opening exposing at least a part thereof, forming an insulating film continuously covering an inner wall of the opening and the periphery of the opening of the partition film, and the partition A step of making a region of the upper surface of the film that does not overlap with the insulating film in a plan view more liquid-repellent than the insulating film with respect to the liquid organic functional layer forming material, and at least organic inside the opening A step of forming an organic functional layer including a light emitting layer, and a step of forming a second electrode on the organic functional layer in this order. In the step of forming the organic functional layer, Nitta Place the organic functional layer forming material in liquid to solidify it and forming the organic functional layer.

有機機能層を形成する工程で開口部の内側と隔壁膜上に形成された部分の絶縁膜上とにわたって液状の有機機能層形成材料を配置すると、絶縁膜を液状の有機機能層形成材料に対して親液性にしておりかつ隔壁膜の上面であって平面視において絶縁膜と重ならない領域を撥液性にしているので、液状の有機機能層形成材料（以下、液状体と称す）は開口部の内側と絶縁膜上とに保持される。この液状体を乾燥や焼成等により固化すると、以下の理由により有機機能層を均一な膜厚に形成することができる。   In the step of forming the organic functional layer, when the liquid organic functional layer forming material is disposed over the inside of the opening and the insulating film formed on the partition film, the insulating film is disposed on the liquid organic functional layer forming material. The liquid organic functional layer forming material (hereinafter referred to as a liquid material) is opened because the region that is lyophilic and has an upper surface of the partition film and does not overlap with the insulating film in plan view is made liquid repellent. Held on the inside of the portion and on the insulating film. When this liquid is solidified by drying, baking, or the like, the organic functional layer can be formed in a uniform film thickness for the following reason.

一般に、平坦面上に膜を形成する場合にその位置精度を高めることは、開口部を高精度な形状に形成することよりも容易である。基板上に隔壁膜を形成するとその上面が平坦になるので、開口部の周辺に絶縁膜を高い位置精度で形成することができる。隔壁膜の開口部の内壁を撥液性としてここに液状体を配置する方法では、乾燥過程における液状体の形状が、開口部の内壁の形状（傾斜角）と内壁に対する液状体の接触角により規定される。   In general, when forming a film on a flat surface, it is easier to increase the positional accuracy than to form the opening in a highly accurate shape. When the partition wall film is formed on the substrate, the upper surface thereof becomes flat, so that the insulating film can be formed with high positional accuracy around the opening. In the method in which the inner wall of the opening of the partition film is made liquid-repellent and the liquid material is disposed here, the shape of the liquid material in the drying process depends on the shape (inclination angle) of the inner wall of the opening and the contact angle of the liquid material to the inner wall It is prescribed.

本発明の方法では、乾燥処理において液状体の周縁部は絶縁膜との密着性により開口部周辺に保持されるので、乾燥過程における液状体の形状が絶縁膜の端の位置により規定される。前記のように絶縁膜は開口部内壁に比べて高精度で形成することができるので、乾燥過程における液状体の形状を高精度に制御することが可能になる。したがって、液状体の形状を反映させてこれを良好な形状に固化することができ、均一な膜厚の有機機能層を形成することができる。よって、有機機能層の特性が部分的にばらつくことが防止され、良好な有機機能層を備えた良好な有機エレクトロルミネッセンス素子を製造することができる。   In the method of the present invention, in the drying process, the peripheral portion of the liquid material is held around the opening due to adhesion with the insulating film, so that the shape of the liquid material in the drying process is defined by the position of the end of the insulating film. As described above, since the insulating film can be formed with higher precision than the inner wall of the opening, the shape of the liquid material in the drying process can be controlled with high precision. Therefore, the shape of the liquid can be reflected and solidified into a good shape, and an organic functional layer having a uniform thickness can be formed. Therefore, the characteristics of the organic functional layer are prevented from partially varying, and a good organic electroluminescence element having a good organic functional layer can be manufactured.

また、前記隔壁膜は、有機材料からなることが好ましい。
有機材料を厚く成膜することは無機材料よりも容易であるため、隔壁膜を厚く形成することが容易になる。隔壁膜を厚くすれば開口部の内側の容積が大きくなるので、有機機能層の膜厚を確保することが容易になる。また、塗布法等を用いて有機材料を成膜すれば隔壁膜の平坦性が向上するので、絶縁膜の位置精度を高めることができ、有機機能層の形状の高精度化が図られる。 The partition film is preferably made of an organic material.
Since it is easier to form a thick organic material than an inorganic material, it is easy to form a thick barrier film. If the partition wall film is thickened, the volume inside the opening is increased, so that it is easy to secure the film thickness of the organic functional layer. In addition, when the organic material is formed using a coating method or the like, the flatness of the partition film is improved, so that the positional accuracy of the insulating film can be increased and the shape of the organic functional layer can be highly accurate.

また、前記絶縁膜は、無機材料からなることが好ましい。
このようにすれば、マスクパターンを用いた蒸着法により隔壁膜を部分的に覆うように無機材料を成膜して絶縁膜を形成することや、隔壁膜全体を覆って無機材料を成膜しこの膜をフォトリソグラフィ法及びドライエッチング法等を用いてパターニングして絶縁膜を形成することができる。このようなパターニング方法によれば絶縁膜の位置精度を高めることができ、有機機能層の形状の高精度化が図られる。 The insulating film is preferably made of an inorganic material.
In this way, an insulating material can be formed by depositing an inorganic material so as to partially cover the partition wall film by vapor deposition using a mask pattern, or an inorganic material can be formed covering the entire partition film. This film can be patterned using a photolithography method, a dry etching method, or the like to form an insulating film. According to such a patterning method, the positional accuracy of the insulating film can be increased, and the shape of the organic functional layer can be highly accurate.

本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、所定の発光領域を有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、基板上に設けられた第１電極と、基板上に設けられ、前記第１電極の少なくとも一部を露出する開口部を有する隔壁膜と、前記開口部の内壁と前記隔壁膜の前記開口部の周辺とを連続的に覆って設けられた絶縁膜と、前記開口部の内側における前記絶縁膜上と前記第１電極上とに少なくとも設けられ、有機発光層を含んだ有機機能層と、前記有機機能層上に設けられた第２電極と、を有し、前記隔壁膜の上面であって、平面視において前記絶縁膜と重ならない領域が前記有機機能層の形成材料に対して前記絶縁膜よりも撥液性を有していることを特徴とする。   The organic electroluminescent element of the present invention is an organic electroluminescent element having a predetermined light emitting region, and is provided with a first electrode provided on the substrate and at least a part of the first electrode exposed on the substrate. A partition film having an opening to be formed; an insulating film provided continuously covering an inner wall of the opening and the periphery of the opening of the partition film; and the insulating film on the inner side of the opening; An organic functional layer provided at least on the first electrode and including an organic light emitting layer; and a second electrode provided on the organic functional layer, the upper surface of the partition film, and in plan view The region that does not overlap with the insulating film is more lyophobic than the insulating film with respect to the material for forming the organic functional layer.

このような有機エレクトロルミネッセンス素子の製造には、前記した本発明の有機エレクトロルミネッセンスの製造方法を適用することが可能である。これにより、有機機能層に部分的な厚さばらつきを生じることが防止され、良好な有機機能層になる。したがって、発光特性や電気特性が部分的にばらつくことが防止された良好な有機エレクトロルミネッセンス素子になる。   For the production of such an organic electroluminescence element, it is possible to apply the organic electroluminescence production method of the present invention described above. Thereby, it is prevented that a partial thickness variation occurs in the organic functional layer, and a good organic functional layer is obtained. Therefore, a good organic electroluminescence element in which the light emission characteristics and electrical characteristics are prevented from partially varying is obtained.

本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法は、所定の発光領域を有する複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法であって、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の各々を、前記の本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法で製造するとともに、前記絶縁膜は、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の各々において、互いに独立するように形成することを特徴とする。
前記の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法によれば、膜厚が均一な有機機能層を備えた良好な有機エレクトロルミネッセンス素子を製造することができるので、これを適用すれば、良好な有機エレクトロルミネッセンス装置を製造することが可能になる。 The method for producing an organic electroluminescent device of the present invention is a method for producing an organic electroluminescent device comprising a plurality of organic electroluminescent elements having a predetermined light emitting region, and each of the plurality of organic electroluminescent elements is And the insulating film is formed so as to be independent from each other in each of the plurality of organic electroluminescence elements.
According to the method for producing an organic electroluminescence element, a good organic electroluminescence element having an organic functional layer having a uniform film thickness can be produced. If this is applied, a good organic electroluminescence device is obtained. Can be manufactured.

また、前記絶縁膜は、前記開口部の周辺における幅を、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を配置する第１方向において、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を前記第１方向よりも密に配置する第２方向よりも広くすることもできる。
有機機能層を形成する工程で液状の有機機能層形成材料を配置しこれを乾燥や焼成等により固化する際には、乾燥等により雰囲気中の溶媒成分が増加する。この増加の度合いは、有機エレクトロルミネッセンス素子を疎に配置する領域では密に配置する領域に比べて緩やかである。雰囲気中の溶媒成分の濃度が低くなるほど液状の有機機能層形成材料の乾燥速度が高くなるため、疎に配置する方向においては密に配置する方向に比べて液状の有機機能層形成材料の乾燥速度が高くなる。 In addition, the insulating film has a width around the opening in a first direction in which the plurality of organic electroluminescence elements are arranged, and the plurality of organic electroluminescence elements are arranged more densely than in the first direction. It can also be wider than two directions.
When a liquid organic functional layer forming material is disposed in the step of forming the organic functional layer and solidified by drying or baking, the solvent component in the atmosphere increases due to drying or the like. The degree of this increase is more gradual in the region where the organic electroluminescence elements are sparsely arranged than in the region where the organic electroluminescence elements are densely arranged. The lower the concentration of the solvent component in the atmosphere, the higher the drying speed of the liquid organic functional layer forming material, so the drying speed of the liquid organic functional layer forming material is lower in the sparsely arranged direction than in the densely arranged direction. Becomes higher.

前記のように発光周辺領域の所定幅を、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を疎に配置する方向において密に配置する方向よりも広くすれば、配置された液状体の平面視した状態での中心位置が、発光領域の中心位置よりも有機エレクトロルミネッセンス素子を疎に配置する方向側になる。したがって、この方向側に保持される液状の有機機能層形成材料の量が多くなり、疎に配置する方向における乾燥速度が低くなる。よって、密に配置する方向と疎に配置する方向とで乾燥速度が均一になり、有機機能層の膜厚が均一になる。   As described above, if the predetermined width of the light emitting peripheral region is made wider than the direction in which the plurality of organic electroluminescence elements are densely arranged, the center position of the arranged liquid material in a plan view However, it becomes the direction side which arrange | positions an organic electroluminescent element sparsely rather than the center position of a light emission area | region. Therefore, the amount of the liquid organic functional layer forming material held on this direction side increases, and the drying speed in the sparsely arranged direction decreases. Therefore, the drying speed is uniform between the densely arranged direction and the sparsely arranged direction, and the film thickness of the organic functional layer is uniform.

また、前記所定の発光領域は、前記絶縁膜によって規定されており、前記第２方向における、隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の絶縁膜間の間隔は、前記第２方向における、隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の所定の発光領域間の間隔に対して１／１００以上にすることが好ましい。
このようにすれば、有機機能層を形成する工程で隔壁膜上における絶縁膜に液状の有機機能層形成材料を配置した際に、異なる絶縁膜に配置された液状の有機機能層形成材料が絶縁膜の間において互いに吸着することが防止される。したがって、各隔壁膜の内側及び開口部周辺に配置された液状の有機機能層形成材料を良好な形状にすることができ、各有機エレクトロルミネッセンスにおいて有機機能層の膜厚を均一にすることができる。 In addition, the predetermined light emitting region is defined by the insulating film, and an interval between the insulating films of the adjacent organic electroluminescence elements in the second direction is an adjacent organic electroluminescence element in the second direction. It is preferable that the distance between the predetermined light emitting regions is 1/100 or more.
In this way, when the liquid organic functional layer forming material is disposed on the insulating film on the partition film in the step of forming the organic functional layer, the liquid organic functional layer forming material disposed on the different insulating film is insulated. Adsorption between the membranes is prevented. Therefore, the liquid organic functional layer forming material arranged inside each partition film and around the opening can be formed into a good shape, and the thickness of the organic functional layer can be made uniform in each organic electroluminescence. .

本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置は、所定の発光領域を有する複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた有機エレクトロルミネッセンス装置であって、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の各々が、前記の本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子で構成されており、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の各々において、前記絶縁膜は隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の絶縁膜と分離して形成されていることを特徴とする。
前記のように本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、良好な有機エレクトロルミネッセンスとなっているので、これにより構成された有機エレクトロルミネッセンス装置も良好なものとなる。 The organic electroluminescence device of the present invention is an organic electroluminescence device including a plurality of organic electroluminescence elements having a predetermined light emitting region, and each of the plurality of organic electroluminescence elements is the organic electroluminescence device of the present invention. Each of the plurality of organic electroluminescence elements is characterized in that the insulating film is formed separately from an insulating film of an adjacent organic electroluminescence element.
As described above, since the organic electroluminescent element of the present invention has good organic electroluminescence, the organic electroluminescent device constituted thereby is also good.

また、複数の発光画素を有し、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子のうちの１つが前記複数の発光画素のうちの２以上にわたって設けられている構成としてもよい。
このようにすれば、有機エレクトロルミネッセンス素子において発光特性や電気特性が部分的にばらつくことが防止されているので、１つの有機エレクトロルミネッセンス素子を共有した複数の発光画素において特性が均一になる。 Moreover, it is good also as a structure which has a some light emitting pixel and is provided over 2 or more of the said some light emitting pixels among the said some organic electroluminescent elements.
In this way, since the light emission characteristics and electrical characteristics are prevented from partially varying in the organic electroluminescence element, the characteristics are uniform in a plurality of light emitting pixels sharing one organic electroluminescence element.

以下、本発明の実施形態を説明するが、本発明の技術範囲は以下の実施形態に限定されるものではない。以降の説明では図面を用いて各種の構造を例示するが、構造の特徴的な部分を分かりやすく示すために、図面中の構造はその寸法や縮尺を実際の構造に対して異ならせて示す場合がある。［第１実施形態］では、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）を多数備えた有機エレクトロルミネッセンス装置（有機ＥＬ装置）の構成について説明する。続く［第２実施形態］では、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法を有機ＥＬ装置の製造方法に基づいて説明する。［変形例］では、第１実施形態と異なる様態の有機エレクトロルミネッセンス装置について説明する。［電子機器］では、本発明による有機エレクトロルミネッセンス装置を備えた電子機器について説明する。   Hereinafter, although embodiment of this invention is described, the technical scope of this invention is not limited to the following embodiment. In the following description, various structures are illustrated using drawings, but in order to show the characteristic parts of the structures in an easy-to-understand manner, the structures in the drawings are shown in different sizes and scales from the actual structures. There is. In the first embodiment, a configuration of an organic electroluminescence device (organic EL device) including a large number of organic electroluminescence elements (organic EL elements) of the present invention will be described. In the following [Second Embodiment], a method for manufacturing an organic EL element of the present invention will be described based on a method for manufacturing an organic EL device. In [Modification], an organic electroluminescence device having a mode different from that of the first embodiment will be described. [Electronic device] describes an electronic device including the organic electroluminescence device according to the present invention.

［第１実施形態］
第１実施形態の有機ＥＬ装置は、複数の画素を備えたフルカラーの画像表示装置であり、画素の発光素子として機能する有機ＥＬ素子を有している。各有機ＥＬ素子は、本発明を適用したものである。 [First Embodiment]
The organic EL device according to the first embodiment is a full-color image display device including a plurality of pixels, and includes an organic EL element that functions as a light emitting element of the pixel. Each organic EL element is one to which the present invention is applied.

図１（ａ）は、本実施形態の有機ＥＬ装置１における画素の構成を概略して示す平面図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
図１（ａ）に示すように有機ＥＬ装置１は、複数の発光領域Ａ１と各発光領域Ａ１の周を所定幅で環状に囲む発光周辺領域Ａ２とを有している。複数の発光領域Ａ１は行列状に整列配置されており、１つの発光領域Ａ１が、サブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂの１つと対応している。 FIG. 1A is a plan view schematically showing the configuration of a pixel in the organic EL device 1 of the present embodiment, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. is there.
As shown in FIG. 1A, the organic EL device 1 has a plurality of light emitting regions A1 and a light emitting peripheral region A2 that surrounds the periphery of each light emitting region A1 in a ring shape with a predetermined width. The plurality of light emitting areas A1 are arranged in a matrix, and one light emitting area A1 corresponds to one of the sub-pixels Pr, Pg, and Pb.

サブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂはいずれも同様の構成となっているが、有機発光層（後述する）の形成材料の違いにより、それぞれ赤色光、緑色光、青色光を射出するようになっている。３つのサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂから射出された３色の色光により、フルカラー表示の最小単位である１画素が構成される。本実施形態のサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂは、いずれも平面視略長円形状になっている。長円形状とは、一方向に延びる帯形状を有しその両端が円弧状になっている形状のことである。ここでは、前記一方向を長軸とし、長軸の直交方向を短軸とする長円形状になっている。   The sub-pixels Pr, Pg, and Pb all have the same configuration, but emit red light, green light, and blue light, respectively, depending on the formation material of the organic light emitting layer (described later). . The three colors of light emitted from the three sub-pixels Pr, Pg, and Pb constitute one pixel that is the minimum unit for full-color display. All of the sub-pixels Pr, Pg, and Pb of the present embodiment have a substantially oval shape in plan view. The oval shape is a shape having a band shape extending in one direction and both ends thereof being arcuate. Here, it has an elliptical shape in which the one direction is a major axis and the direction orthogonal to the major axis is a minor axis.

以下、図１に示したＸＹＺ直交座標系を設定し、これに基づいて部材の位置関係を説明する。このＸＹＺ直交座標系において、Ｘ方向はサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂの短軸方向、Ｙ方向は長軸方向、Ｚ方向は有機ＥＬ装置１の厚さ方向となっている。   Hereinafter, the XYZ orthogonal coordinate system shown in FIG. 1 is set, and the positional relationship of the members will be described based on this. In this XYZ orthogonal coordinate system, the X direction is the minor axis direction of the sub-pixels Pr, Pg, Pb, the Y direction is the major axis direction, and the Z direction is the thickness direction of the organic EL device 1.

本実施形態では、Ｘ方向に色光が異なる３種類のサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂが周期的に並んで配置されており、Ｙ方向に３種類のサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂが色ごとに並んで配置されている。ここではサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂの各々に、図２（ｂ）に示すような有機ＥＬ素子１００が配置されている。   In the present embodiment, three types of subpixels Pr, Pg, and Pb having different colored lights in the X direction are periodically arranged, and three types of subpixels Pr, Pg, and Pb are arranged for each color in the Y direction. Is arranged in. Here, an organic EL element 100 as shown in FIG. 2B is arranged in each of the sub-pixels Pr, Pg, and Pb.

図２（ｂ）に示すように、有機ＥＬ素子１００は、素子基板（基板）１００Ａ上に設けられた画素電極（第１電極）１１０、有機機能層１４０、共通電極（第２電極）１５０を備えている。画素電極１１０は島状に形成されており、画素電極１１０の外周を環状に囲んで隔壁膜１２０が設けられている。隔壁膜１２０には、発光領域Ａ１における画素電極１１０を露出させる開口部１２１が設けられており、有機機能層１４０は開口部１２１の内側の画素電極１１０上に配置されている。発光周辺領域Ａ２において、隔壁膜１２０の開口部内壁１２２と隔壁膜１２０上の開口部周辺１２３とにわたって絶縁膜１３０が設けられている。ここでは、絶縁膜１３０が画素電極１１０において開口部１２１の内側に露出した部分の周縁部にも設けられている。   As shown in FIG. 2B, the organic EL element 100 includes a pixel electrode (first electrode) 110, an organic functional layer 140, and a common electrode (second electrode) 150 provided on an element substrate (substrate) 100A. I have. The pixel electrode 110 is formed in an island shape, and a partition wall film 120 is provided so as to surround the outer periphery of the pixel electrode 110 in an annular shape. The partition film 120 is provided with an opening 121 that exposes the pixel electrode 110 in the light emitting region A 1, and the organic functional layer 140 is disposed on the pixel electrode 110 inside the opening 121. In the light emitting peripheral region A <b> 2, the insulating film 130 is provided across the opening inner wall 122 of the partition film 120 and the opening periphery 123 on the partition film 120. Here, the insulating film 130 is also provided on the peripheral edge portion of the pixel electrode 110 exposed at the inside of the opening 121.

素子基板１００Ａは、その詳細な構成を図示しないが、Ｘ方向に延設された複数の走査線、Ｙ方向に延設された複数の信号線、各信号線と並んで延設された電源線等の各種配線を備えている。各走査線は、走査信号を供給する走査線駆動回路に接続されており、各信号線は、画像信号を供給する信号線駆動回路に接続されている。走査線及び信号線により区画される領域に、サブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂのうちの１つが配置されている。サブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂの各々には各種スイッチング素子が設けられている。各種スイッチング素子は、走査信号に基づいて画像信号をスイッチングするとともに、スイッチングされた画像信号に基づいて、電源線を介して画素電極１１０に所定の電圧を印加するようになっている。   Although the detailed configuration of the element substrate 100A is not shown, a plurality of scanning lines extending in the X direction, a plurality of signal lines extending in the Y direction, and a power line extending alongside each signal line Etc. are provided. Each scanning line is connected to a scanning line driving circuit that supplies a scanning signal, and each signal line is connected to a signal line driving circuit that supplies an image signal. One of the sub-pixels Pr, Pg, and Pb is disposed in a region partitioned by the scanning line and the signal line. Various switching elements are provided in each of the sub-pixels Pr, Pg, and Pb. The various switching elements switch the image signal based on the scanning signal, and apply a predetermined voltage to the pixel electrode 110 via the power supply line based on the switched image signal.

本実施形態では、画素電極１１０が陽極として機能するようになっており、共通電極１５０が陰極として機能するようになっている。
画素電極１１０は、仕事関数が高い（例えば５ｅＶ以上）導電材料、具体的にはＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等からなっており、画素電極１１０から有機機能層１４０に正孔が効率的に供給されるようになっている。ＩＴＯは透光性を有する材料であり、有機機能層１４０から発せられた光を画素電極１１０側から取り出すことが可能となっている。 In the present embodiment, the pixel electrode 110 functions as an anode, and the common electrode 150 functions as a cathode.
The pixel electrode 110 is made of a conductive material having a high work function (for example, 5 eV or more), specifically, ITO (indium tin oxide) or the like, and holes are efficiently supplied from the pixel electrode 110 to the organic functional layer 140. It has come to be. ITO is a light-transmitting material, and light emitted from the organic functional layer 140 can be extracted from the pixel electrode 110 side.

共通電極１５０は、仕事関数が低い（例えば５ｅＶ以下）材料からなっている。仕事関数が低い材料としては、カルシウムやマグネシウム、ナトリウム、リチウム金属、又はこれらの金属化合物であるフッ化カルシウム等の金属フッ化物や酸化リチウム等の金属酸化物、アセチルアセトナトカルシウム等の有機金属錯体等が挙げられる。ここでは、有機機能層１４０上に図示略のカルシウム層、及びアルミニウム層が順次形成された多層構造となっている。カルシウム層は、有機機能層１４０に電子を注入する電子注入層、あるいは有機機能層１４０に電子を輸送する電子輸送層等として機能するようになっており、アルミニウム層は共通電極１５０を低抵抗化するとともに有機機能層１４０から発せられた光を画素電極１１０側に反射する反射層としても機能するようになっている。   The common electrode 150 is made of a material having a low work function (for example, 5 eV or less). Materials having a low work function include calcium fluoride, magnesium, sodium, lithium metal, or metal fluorides such as calcium fluoride which are these metal compounds, metal oxides such as lithium oxide, and organometallic complexes such as acetylacetonato calcium. Etc. Here, it has a multilayer structure in which a calcium layer (not shown) and an aluminum layer are sequentially formed on the organic functional layer 140. The calcium layer functions as an electron injection layer that injects electrons into the organic functional layer 140 or an electron transport layer that transports electrons into the organic functional layer 140. The aluminum layer reduces the resistance of the common electrode 150. At the same time, it also functions as a reflective layer that reflects the light emitted from the organic functional layer 140 to the pixel electrode 110 side.

有機機能層は、有機ＥＬ材料からなる有機発光層を含んで構成されている。有機機能層の構造としては、陽極側から正孔注入層、有機発光層が順に積層された構造や、正孔注入層と有機発光層との間に正孔輸送層を設けた構造、正孔注入層に替えて正孔注入輸送層を設けた構造、さらに有機発光層の陰極側に電子注入（輸送）層を設けた構造等が挙げられる。本実施形態では、画素電極１１０側から順に配置された正孔注入層１４１、正孔輸送層１４２、及び有機発光層１４３の３層の有機層で構成された有機機能層１４０を採用している。３層の有機層の各々は、各有機層の液状の形成材料を液相法で配置し、これを乾燥・焼成等により固化して形成されている。   The organic functional layer includes an organic light emitting layer made of an organic EL material. As the structure of the organic functional layer, a structure in which a hole injection layer and an organic light emitting layer are laminated in order from the anode side, a structure in which a hole transport layer is provided between the hole injection layer and the organic light emitting layer, holes Examples include a structure in which a hole injection / transport layer is provided instead of the injection layer, and a structure in which an electron injection (transport) layer is provided on the cathode side of the organic light emitting layer. In the present embodiment, an organic functional layer 140 composed of three organic layers of a hole injection layer 141, a hole transport layer 142, and an organic light emitting layer 143 arranged in order from the pixel electrode 110 side is employed. . Each of the three organic layers is formed by arranging the liquid forming material of each organic layer by a liquid phase method, and solidifying it by drying, baking, or the like.

有機機能層の形成材料としては、公知のものを用いることができ、具体的には以下のようなものがある。
正孔注入層の形成材料として、ポリチオフェン誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリピロール誘導体等が挙げられる。
正孔輸送層の形成材料としては、ＴＡＰＣ、ＴＰＤ、α‐ＮＰＤ、ｍ‐ＭＴＤＡＴＡ、２‐ＴＮＡＴＡ、ＴＣＴＡ、スピロ‐ＴＡＤ、（ＤＴＰ）ＤＰＰＤ、ＨＴＭ１、ＴＰＴＥ１、ＮＴＰＡ、ＴＦＬＴＦ、ポリフルオレン誘導体（ＰＦ）やポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）等のポリシラン系有機高分子材料等が挙げられる。 As a material for forming the organic functional layer, known materials can be used, and specifically, there are the following materials.
Examples of the material for forming the hole injection layer include polythiophene derivatives, polyaniline derivatives, and polypyrrole derivatives.
As a material for forming the hole transport layer, TAPC, TPD, α-NPD, m-MTDATA, 2-TNATA, TCTA, Spiro-TAD, (DTP) DPPD, HTM1, TPTE1, NTPA, TFLTF, polyfluorene derivative (PF) ), Polyparaphenylene vinylene derivative (PPV), polyparaphenylene derivative (PPP), polyvinylcarbazole (PVK), polythiophene derivative, polysilane organic polymer material such as polymethylphenylsilane (PMPS), and the like.

有機発光層の形成材料としては、前記した正孔輸送層の形成材料の他、ペニレン系色素や、クマリン系色素、ローダミン系色素などの有機高分子材料、あるいはこれら有機高分子材料に例えばルブレン、ペリレン、９，１０‐ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドンなどの低分子有機材料をドープしたもの、ＣＢＰ（４．４．‐ジカルバゾール‐４，４‐ビフェニル）誘導体、ＰｔＯＥＰ（白金ポルフィリン錯体）誘導体、Ｉｒ（ｐｐｙ）３（イリジウム錯体）誘導体、ＦＩｒｐｉｃ（イリジウム錯体）誘導体等の燐光材料等が挙げられる。
有機発光層の形成材料の具体例としては、（ポリ［（９，９‐ジオクチルフルオレニル‐２，７‐ジビニレンフルオレニレン‐ａｌｔ‐ｃｏ‐（９， １０‐アントラセン））］や、（ポリ［｛９，９ジヘキシル‐２，７‐ビス（１‐シアノビニレン）フルオレニル-エン｝‐ａｌｔ‐ｃｏ‐｛２，５‐ビス（Ｎ，Ｎ’ ‐ジフェニルアミノ）‐１，４‐フェニレン｝］、（ポリ［｛２‐メトキシ‐５‐（２‐エチルヘキシロキシ）‐１，４‐（１‐シアノビニレンフェニレン）｝‐ｃｏ‐｛２，５‐ビス（Ｎ，Ｎ’‐ジフェニルアミノ）‐１，４‐フェニレン｝］）等の赤色発光材料や、Ｆ８ＢＴ（ジオクチルフルオレン／ベンゾチアジアゾール共重合体）等の緑色発光材料、ＰＦ８（ポリジオクチルフルオレン）等の青色発光材料等が挙げられる。 As the material for forming the organic light emitting layer, in addition to the above-described material for forming the hole transport layer, organic polymer materials such as penylene dyes, coumarin dyes, rhodamine dyes, or these organic polymer materials such as rubrene, Perylene, 9,10-diphenylanthracene, tetraphenylbutadiene, nile red, coumarin 6, doped with low molecular weight organic materials such as quinacridone, CBP (4.4.-dicarbazole-4,4-biphenyl) derivatives, PtOEP Examples thereof include phosphorescent materials such as (platinum porphyrin complex) derivatives, Ir (ppy) 3 (iridium complex) derivatives, and FIrpic (iridium complex) derivatives.
Specific examples of the material for forming the organic light emitting layer include (poly [(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-divinylenefluorenylene-alt-co- (9,10-anthracene))]], (Poly [{9,9dihexyl-2,7-bis (1-cyanovinylene) fluorenyl-ene} -alt-co- {2,5-bis (N, N′-diphenylamino) -1,4-phenylene} ], (Poly [{2-methoxy-5- (2-ethylhexyloxy) -1,4- (1-cyanovinylenephenylene)}-co- {2,5-bis (N, N'-diphenylamino) Red light emitting materials such as -1,4-phenylene}]), green light emitting materials such as F8BT (dioctylfluorene / benzothiadiazole copolymer), and blue light emitting materials such as PF8 (polydioctylfluorene). .

なお、電子輸送層を設ける場合にその形成材料としては、オキサジアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、フェナンソロリン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン誘導体、ジフェノキノン誘導体、ヒドロキシキノリン誘導体等を用いるとよい。   In the case of providing an electron transport layer, the forming material includes oxadiazole derivatives, oxazole derivatives, phenanthoroline derivatives, anthraquinodimethane derivatives, benzoquinone derivatives, naphthoquinone derivatives, anthraquinone derivatives, tetracyanoanthraquinodimethane derivatives, fluorenone. Derivatives, diphenyldicyanoethylene derivatives, diphenoquinone derivatives, hydroxyquinoline derivatives, and the like are preferably used.

隔壁膜１２０は、絶縁性のアクリル系樹脂やポリイミド系樹脂、これらにフッ素等を添加した含フッ素樹脂等の樹脂材料（有機材料）からなっており、絶縁膜１３０は、シリコン酸化物（ＳｉＯ２）やシリコン窒化物（ＳｉＮ）等からなっている。隣り合う絶縁膜１３０の隔壁膜１２０上における間隔Ｘ２が、隣り合う一方の絶縁膜１３０の開口部１２１側の端と他方の絶縁膜１３０の開口部１２１側の端との間の距離Ｘ１に対して１／１００以上になっている。つまり、幅Ｘ１と間隔Ｘ２との関係は、以下の式（１）で記述される。
（Ｘ２／Ｘ１）＞（１／１００） ・・・式（１） The partition film 120 is made of an insulating acrylic resin or polyimide resin, or a resin material (organic material) such as a fluorine-containing resin obtained by adding fluorine or the like thereto. The insulating film 130 is made of silicon oxide (SiO 2). ) And silicon nitride (SiN). The distance X2 between the adjacent insulating films 130 on the partition wall film 120 is a distance X1 between the end of the adjacent insulating film 130 on the opening 121 side and the end of the other insulating film 130 on the opening 121 side. 1/100 or more. That is, the relationship between the width X1 and the interval X2 is described by the following equation (1).
(X2 / X1)> (1/100) (1)

隔壁膜１２０の上面における絶縁膜１３０の非形成領域１２４は、有機機能層１４０の形成に用いる液状の形成材料（液状の有機機能層形成材料）に対して撥液性になっており、絶縁膜１３０はこの液状の形成材料に対して親液性になっている。このような構成にすることで、有機機能層１４０に部分的な膜厚ばらつきを生じることが防止されており、その詳細については［第２実施形態］で説明する。なお、本実施形態の隔壁膜１２０や絶縁膜１３０には、プラズマ処理（表面処理）により撥液性や親液性が付与されている。この他にも形成材料を選択することや撥液性あるいは親液性を付与する添加剤を含有した形成材料を用いることにより、撥液性あるいは親液性を発現させるようにしてもよい。   The non-formation region 124 of the insulating film 130 on the upper surface of the partition film 120 is liquid repellent with respect to a liquid forming material (liquid organic functional layer forming material) used for forming the organic functional layer 140. 130 is lyophilic with respect to this liquid forming material. With such a configuration, it is possible to prevent partial variations in the thickness of the organic functional layer 140, and details thereof will be described in [Second Embodiment]. Note that the partition wall film 120 and the insulating film 130 of the present embodiment are given liquid repellency and lyophilicity by plasma treatment (surface treatment). In addition, the formation of a liquid repellency or lyophilicity may be achieved by selecting a forming material or using a forming material containing an additive that imparts liquid repellency or lyophilicity.

以上のような有機ＥＬ素子１００の画素電極１１０には、走査信号や画像信号により所定のタイミングで所定の電圧が印加されるようになっている。これにより、画素電極１１０から正孔注入層１４１に正孔が供給され、共通電極１５０から有機発光層１４３に電子が供給される。画素電極１１０側から供給された正孔は、正孔注入層１４１及び正孔輸送層１４２を通って有機発光層１４３に運ばれ、共通電極１５０側から供給された電子と結合することにより光を発する。画素電極１１０側に発せられた光は、素子基板１００Ａ側から射出され、共通電極１５０側に発せられた光は共通電極１５０で反射し素子基板１００Ａ側から射出される。３つのサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂから射出された３色の色光によりフルカラーの１画素が構成される。このような画素が多数設けられていることにより、画像を表示することが可能になっている。   A predetermined voltage is applied to the pixel electrode 110 of the organic EL element 100 as described above at a predetermined timing by a scanning signal or an image signal. As a result, holes are supplied from the pixel electrode 110 to the hole injection layer 141, and electrons are supplied from the common electrode 150 to the organic light emitting layer 143. Holes supplied from the pixel electrode 110 side are transported to the organic light emitting layer 143 through the hole injection layer 141 and the hole transport layer 142, and are combined with electrons supplied from the common electrode 150 side to emit light. To emit. The light emitted to the pixel electrode 110 side is emitted from the element substrate 100A side, and the light emitted to the common electrode 150 side is reflected by the common electrode 150 and emitted from the element substrate 100A side. A full-color pixel is constituted by the three color lights emitted from the three sub-pixels Pr, Pg, and Pb. An image can be displayed by providing a large number of such pixels.

本実施形態の有機ＥＬ素子１００においては、前記のように有機機能層１４０に部分的な膜厚ばらつきを生じることが防止されており、開口部１２１の内側における画素電極１１０上で有機機能層１４０の膜厚が均一になっている。そのため、所定の電圧により有機機能層１４０が均一に機能し、良好な発光特性の有機機能層１４０になっている。また、有機機能層１４０の膜厚が均一になっているので、その抵抗値が均一になり電圧印加時に有機機能層１４０を流れる電流値が均一になる。これにより、有機機能層１４０に部分的に大電流が流れること等の不都合を生じることが防止され、良好な電気特性の有機ＥＬ素子１００となっている。また、前記の不都合により有機機能層１４０が劣化することが防止され、長寿命の有機ＥＬ素子１００になっている。   In the organic EL element 100 of the present embodiment, the organic functional layer 140 is prevented from having a partial thickness variation as described above, and the organic functional layer 140 is formed on the pixel electrode 110 inside the opening 121. The film thickness is uniform. Therefore, the organic functional layer 140 functions uniformly with a predetermined voltage, and the organic functional layer 140 has good light emission characteristics. Moreover, since the film thickness of the organic functional layer 140 is uniform, the resistance value is uniform, and the current value flowing through the organic functional layer 140 is uniform when a voltage is applied. This prevents inconveniences such as a large current flowing partially through the organic functional layer 140, and the organic EL element 100 has good electrical characteristics. Further, the organic functional layer 140 is prevented from being deteriorated due to the inconvenience, and the organic EL element 100 has a long life.

［第２実施形態］
次に、有機ＥＬ装置の製造方法の一実施形態を前記有機ＥＬ装置１に基づいて説明する。図２（ａ）〜（ｃ）、図３（ａ）〜（ｃ）、図４（ａ）〜（ｃ）は、本実施形態の有機ＥＬ装置の製造方法を示す断面工程図である。 [Second Embodiment]
Next, an embodiment of a method for manufacturing an organic EL device will be described based on the organic EL device 1. 2A to 2C, FIGS. 3A to 3C, and FIGS. 4A to 4C are cross-sectional process diagrams illustrating a method for manufacturing the organic EL device of this embodiment.

まず、図２（ａ）に示すように、素子基板１００Ａを用意し、素子基板１００Ａ上の所定領域に島状の画素電極１１０を形成する。これらは、公知の形成方法、形成材料を用いて形成することができる。例えば、ガラスや石英、プラスチック等の透光性を有する基体に、走査線、信号線、電源線等の各種配線や各種スイッチング素子等を形成して素子基板１００Ａを形成する。そして、素子基板１００Ａ上にＩＴＯ等の導電材料を成膜した後、この膜をフォトリソグラフィ法及びエッチング技術を用いてパターニングすることにより画素電極１１０を形成する。   First, as shown in FIG. 2A, an element substrate 100A is prepared, and island-shaped pixel electrodes 110 are formed in a predetermined region on the element substrate 100A. These can be formed using a known forming method and forming material. For example, the element substrate 100A is formed by forming various wirings such as scanning lines, signal lines, and power supply lines, various switching elements, and the like on a light-transmitting substrate such as glass, quartz, and plastic. Then, after a conductive material such as ITO is formed on the element substrate 100A, the pixel electrode 110 is formed by patterning the film using a photolithography method and an etching technique.

次いで、図２（ｂ）に示すように、素子基板１００Ａ上に隔壁膜１２０を形成するとともに、隔壁膜１２０に発光領域Ａ１における画素電極１１０を露出させる開口部１２１を形成する。これらは、公知の形成方法、形成材料を用いて形成することができる。例えば、画素電極１１０を含んだ素子基板１００Ａの全面を覆って、絶縁性のポジ型感光性樹脂を塗布法で塗布する。ポジ型感光性樹脂の具体例としては、アクリル系樹脂やポリイミド系樹脂が挙げられる。そして、この膜を乾燥・焼成等により固化することによって、ポジ型感光性樹脂からなる膜が得られる。一般に、ポジ型感光性樹脂等の有機材料は、無機材料よりも厚く成膜することが容易であり、厚く成膜することにより膜の平坦性を高めることができる。そして、例えばフォトマスク等を素子基板１００Ａに対して位置合わせし、ポジ型感光性樹脂からなる膜を露光・現像することによりパターニングして、開口部１２１を有する隔壁膜１２０を形成する。   Next, as illustrated in FIG. 2B, the partition film 120 is formed on the element substrate 100 </ b> A, and the opening 121 that exposes the pixel electrode 110 in the light emitting region A <b> 1 is formed in the partition film 120. These can be formed using a known forming method and forming material. For example, an insulating positive photosensitive resin is applied by a coating method so as to cover the entire surface of the element substrate 100A including the pixel electrode 110. Specific examples of the positive photosensitive resin include acrylic resins and polyimide resins. Then, by solidifying the film by drying, baking, or the like, a film made of a positive photosensitive resin can be obtained. In general, an organic material such as a positive photosensitive resin can be easily formed thicker than an inorganic material, and the film flatness can be improved by forming the film thick. Then, for example, a photomask or the like is aligned with the element substrate 100A, and a film made of a positive photosensitive resin is patterned by exposure and development to form the partition film 120 having the opening 121.

隔壁膜１２０の上面１２５は、通常と同様に平坦になっている。また、露光・現像によりパターニングすると、開口部内壁１２２は素子基板１００Ａに対して傾いた傾斜面となりその傾斜角にばらつきを生じる。そのため、１つの開口部１２１の周方向で開口部内壁１２２の傾斜角が変化してしまうこともある。   The upper surface 125 of the partition film 120 is flat as usual. Further, when patterning is performed by exposure / development, the opening inner wall 122 becomes an inclined surface inclined with respect to the element substrate 100A, and the inclination angle varies. Therefore, the inclination angle of the opening inner wall 122 may change in the circumferential direction of one opening 121.

次いで、図２（ｃ）に示すように、開口部内壁１２２、開口部周辺１２３、及び開口部１２１の内側に露出した部分の画素電極１１０の周縁部を覆って、絶縁膜１３０を形成する。例えば、画素電極１１０や隔壁膜１２０を含んだ素子基板１００Ａ全面にシリコン酸化物を成膜しこの膜をフォトリソグラフィ法及びエッチング法を用いてパターニングすることにより、絶縁膜１３０が得られる。なお、素子基板１００Ａとメタルマスク等のマスクパターンとを位置合わせした状態で、シリコン酸化物を蒸着法でパターン成膜して絶縁膜１３０を形成してもよい。   Next, as illustrated in FIG. 2C, an insulating film 130 is formed to cover the inner wall 122 of the opening, the periphery of the opening 123, and the peripheral portion of the pixel electrode 110 that is exposed inside the opening 121. For example, the insulating film 130 is obtained by forming a silicon oxide film on the entire surface of the element substrate 100A including the pixel electrode 110 and the partition wall film 120 and patterning the film using a photolithography method and an etching method. Note that the insulating film 130 may be formed by patterning silicon oxide with a vapor deposition method in a state where the element substrate 100A and a mask pattern such as a metal mask are aligned.

前記のように隔壁膜１２０が平坦になっているので、上面１２５におけるパターニングの精度を確保することができ、上面１２５における絶縁膜１３０の端の位置を高精度とすることができる。また、画素電極１１０上における絶縁膜１３０の端の位置精度も同様の理由により高精度とすることができる。本実施形態では、絶縁膜１３０の隔壁膜１２０上における間隔Ｘ２が、平面視した状態での開口部１２１の周方向における幅Ｘ１に対して１／１００以上になるようにパターニングする（図１（ｂ）参照）。素子基板１００Ａに対して位置合わせを行ってパターニングすれば、開口部１２１も素子基板１００Ａに対して位置合わせしているので絶縁膜１３０と開口部１２１とのＸＹ面における相対位置を高精度とすることができる。ここでは、絶縁膜１３０及び画素電極１１０の各々のＸＹ面における中心位置が略一致するように絶縁膜１３０を形成する。   Since the partition wall film 120 is flat as described above, the patterning accuracy on the upper surface 125 can be ensured, and the position of the end of the insulating film 130 on the upper surface 125 can be made highly accurate. Further, the position accuracy of the end of the insulating film 130 on the pixel electrode 110 can be made high for the same reason. In this embodiment, the insulating film 130 is patterned so that the interval X2 on the partition film 120 is 1/100 or more with respect to the width X1 in the circumferential direction of the opening 121 in a plan view (FIG. 1 ( b)). If the element substrate 100A is aligned and patterned, the opening 121 is also aligned with the element substrate 100A. Therefore, the relative position of the insulating film 130 and the opening 121 on the XY plane is made highly accurate. be able to. Here, the insulating film 130 is formed so that the center positions of the insulating film 130 and the pixel electrode 110 in the XY plane substantially coincide with each other.

有機機能層１４０の形成に先立ち、開口部１２１の内側に露出した画素電極１１０、及び絶縁膜１３０を後述する有機機能層１４０の液状の形成材料に対して親液性にしておく。また、隔壁膜１２０上面における絶縁膜１３０の非形成領域１２４を有機機能層１４０の液状の形成材料に対して撥液性にしておく。撥液性材料（例えば、含フッ素樹脂）で隔壁膜を形成した場合には、撥液性を付与する表面処理が不要となる。親液性の樹脂材料、あるいは撥液性が十分でない樹脂材料で隔壁膜を形成した場合には、その表面にＣＦ４などの有機フッ化物を用いたプラズマ処理を行うことにより、撥液性を付与することができる。また、ＩＴＯからなる画素電極１１０やシリコン酸化物からなる絶縁膜１３０は親液性を有しているが、その表面に有機物が付着すること等により親液性が損なわれている場合がある。このような場合には、酸素プラズマ処理や紫外線照射処理を行うことにより、親液性を良好に発現させることができる。 Prior to the formation of the organic functional layer 140, the pixel electrode 110 and the insulating film 130 exposed inside the opening 121 are made lyophilic with respect to the liquid forming material of the organic functional layer 140 described later. Further, the non-formation region 124 of the insulating film 130 on the upper surface of the partition film 120 is made liquid repellent with respect to the liquid forming material of the organic functional layer 140. When the partition film is formed of a liquid repellent material (for example, a fluorine-containing resin), a surface treatment for imparting liquid repellency is not necessary. When the partition film is formed of a lyophilic resin material or a resin material with insufficient liquid repellency, the surface is treated with a plasma treatment using an organic fluoride such as CF 4 , thereby improving the liquid repellency. Can be granted. In addition, the pixel electrode 110 made of ITO and the insulating film 130 made of silicon oxide have lyophilic properties, but the lyophilicity may be impaired due to adhesion of organic substances on the surface thereof. In such a case, lyophilicity can be satisfactorily expressed by performing oxygen plasma treatment or ultraviolet irradiation treatment.

本実施形態では、開口部１２１の内側に露出した画素電極１１０、及び絶縁膜１３０を含んだ素子基板１００Ａ全面に酸素プラズマ処理を行って画素電極１１０、及び絶縁膜１３０に親液性を付与する。次いで、非形成領域１２４を含んだ素子基板１００Ａ全面にＣＦ４を用いたプラズマ処理を行って、隔壁膜１２０の上面における絶縁膜１３０の非形成領域１２４に撥液性を付与する。 In this embodiment, the entire surface of the element substrate 100A including the pixel electrode 110 and the insulating film 130 exposed inside the opening 121 is subjected to oxygen plasma treatment to impart lyophilicity to the pixel electrode 110 and the insulating film 130. . Next, plasma treatment using CF 4 is performed on the entire surface of the element substrate 100 A including the non-formation region 124 to impart liquid repellency to the non-formation region 124 of the insulating film 130 on the upper surface of the partition film 120.

次いで、図３（ａ）に示すように、液滴吐出ヘッド２００によって正孔注入層１４１の液状の形成材料を吐出して、これを隔壁膜１２０の開口部１２１の内側に配置（充填）するとともに、液状の形成材料を開口部１２１の外側に溢れさせて開口部周辺１２３に設けられた絶縁膜１３０上に配置する。
例えば、正孔注入層１４１の液状の形成材料として、ポリチオフェン誘導体である３，４‐ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）をポリスチレンスルフォン酸（ＰＳＳ）に分散させ、さらにこれを水に分散させたＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ溶液に溶媒を添加して粘度を調整した溶液を調製する。溶媒としては、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ノルマルブタノール、γ‐ブチロラクトン、Ｎ‐メチルピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ヘキサメチルホスソルアミド（ＨＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、１，３‐ジメチル‐２‐イミダゾリジノン（ＤＭＩ）及びその誘導体、カルビト‐ルアセテート、ブチルカルビト‐ルアセテート等のグリコールエーテル類の高沸点溶媒等を用いることができる。溶液の粘度を、１〜３ｗｔ％の溶液において２〜２０ｃｐｓ程度とすること好ましく、７〜１０ｃｐｓ程度とすることがより好ましい。このようにすれば、液滴吐出ヘッドの吐出ノズルに詰まりを生じることなく溶液を安定に吐出することができる。 Next, as shown in FIG. 3A, the liquid forming material of the hole injection layer 141 is discharged by the droplet discharge head 200, and this is disposed (filled) inside the opening 121 of the partition wall film 120. At the same time, a liquid forming material overflows outside the opening 121 and is disposed on the insulating film 130 provided around the opening 123.
For example, as a liquid forming material of the hole injection layer 141, 3,4-polyethylenedioxythiophene (PEDOT), which is a polythiophene derivative, is dispersed in polystyrene sulfonic acid (PSS) and further dispersed in water. A solution is prepared by adjusting the viscosity by adding a solvent to the PSS solution. Solvents include isopropyl alcohol (IPA), normal butanol, γ-butyrolactone, N-methylpyrrolidone (NMP), dimethylformamide (DMF), hexamethylphossolamide (HMP), dimethyl sulfoxide (DMSO), 1,3- High-boiling solvents such as dimethyl-2-imidazolidinone (DMI) and its derivatives, glycol ethers such as carbitol acetate and butyl carbitol acetate can be used. The viscosity of the solution is preferably about 2 to 20 cps, more preferably about 7 to 10 cps in a 1 to 3 wt% solution. In this way, the solution can be stably discharged without causing clogging of the discharge nozzle of the droplet discharge head.

このようにして配置された液状の形成材料は、絶縁膜１３０が親液性になっているので絶縁膜１３０上に濡れ広がるとともに、隔壁膜１２０の上面における絶縁膜１３０の非形成領域１２４が撥液性になっているのでここに濡れ広がることがない。このようにして、開口部１２１の内側と隔壁膜１２０上の絶縁膜１３０に液状体１４１ａが配置される。間隔Ｘ２を幅Ｘ１に対して１／１００以上にしているので、隣り合う２つの絶縁膜１３０間で各々に配置された液状体１４１ａが互いの吸着力等により接触してしまうことが防止される。   The liquid forming material arranged in this manner wets and spreads on the insulating film 130 because the insulating film 130 is lyophilic, and the non-forming region 124 of the insulating film 130 on the upper surface of the partition film 120 is repellent. Since it is liquid, it does not spread here. In this way, the liquid 141 a is disposed on the inside of the opening 121 and the insulating film 130 on the partition film 120. Since the interval X2 is set to 1/100 or more with respect to the width X1, it is possible to prevent the liquid bodies 141a disposed between the two adjacent insulating films 130 from coming into contact with each other due to mutual adsorption force or the like. .

配置された液状体１４１ａの端の位置は、隔壁膜１２０上の絶縁膜１３０の端の位置とほぼ一致しており、その形状は液状体１４１ａの両端側が互いに対称になる。絶縁膜１３０は、その両端の位置が高精度となっており、かつ画素電極１１０と絶縁膜１３０とでＸＹ面における中心位置がほぼ一致しているので、液状体１４１ａは画素電極１１０の中心位置周りに点対称な形状となる。   The position of the end of the disposed liquid body 141a substantially coincides with the position of the end of the insulating film 130 on the partition wall film 120, and its shape is symmetrical with respect to both ends of the liquid body 141a. The insulating film 130 has high-precision positions at both ends, and the pixel electrode 110 and the insulating film 130 have substantially the same center position on the XY plane, so the liquid 141a is positioned at the center position of the pixel electrode 110. It has a point-symmetric shape around it.

次いで、液状体１４１ａに例えば１５０℃の加熱処理を行って、これに含まれる溶媒を揮発させる。これにより液状体１４１ａの体積が減少し、図３（ｂ）に示すように隔壁膜１２０の上面よりも低い位置に液面を有する液状体１４１ｂとなる。液状体１４１ｂの周縁部は、絶縁膜１３０との親和力により開口部周辺１２３上の絶縁膜１３０に保持されている。開口部１２１の内側における液状体１４１ｂは、液状体１４１ｂの周縁部から引張力を受けることによりその形状が定まる。前記のように画素電極１１０と絶縁膜１３０とでＸＹ面における中心位置がほぼ一致しているので、乾燥過程における液状体１４１ｂも画素電極１１０の中心位置周りに点対称な形状となる。
さらに液状体１４１ｂに含まれる溶媒等を揮発させてこれを固形状の膜とし、図３（ｃ）に示すように、正孔注入層１４１を形成する。正孔注入層１４１は、絶縁膜１３０との親和力により開口部周辺１２３上の絶縁膜１３０上にも保持されている。乾燥過程において液状の形成材料の形状が歪むことがないので、画素電極１１０上において平坦な正孔注入層１４１となり、この部分の膜厚が均一になる。 Next, the liquid 141a is subjected to, for example, a heat treatment at 150 ° C. to volatilize the solvent contained therein. As a result, the volume of the liquid 141a is reduced, and the liquid 141b having a liquid level lower than the upper surface of the partition wall film 120 is formed as shown in FIG. The peripheral portion of the liquid 141 b is held by the insulating film 130 on the periphery 123 of the opening due to affinity with the insulating film 130. The shape of the liquid 141b inside the opening 121 is determined by receiving a tensile force from the peripheral edge of the liquid 141b. Since the pixel electrode 110 and the insulating film 130 have substantially the same center position on the XY plane as described above, the liquid 141b in the drying process also has a point-symmetric shape around the center position of the pixel electrode 110.
Further, the solvent contained in the liquid 141b is volatilized to form a solid film, and a hole injection layer 141 is formed as shown in FIG. The hole injection layer 141 is also held on the insulating film 130 on the periphery of the opening 123 by affinity with the insulating film 130. Since the shape of the liquid forming material is not distorted in the drying process, a flat hole injection layer 141 is formed on the pixel electrode 110, and the thickness of this portion becomes uniform.

次いで、図４（ａ）に示すように、開口部１２１の内側における正孔注入層１４１上に正孔輸送層１４２を形成する。具体的には、正孔輸送層１４２の液状の形成材料として例えばＴＦＢを０．１ｗｔ％トリメチルベンゼン溶液とし、これを液滴吐出法で開口部１２１の内側及び開口部周辺１２３の正孔注入層１４１上に配置する。ここでも溶液の粘度を調整することにより溶液を安定に吐出することができる。そして、配置した溶液を窒素雰囲気において１８０℃程度の温度で１時間程度加熱して乾燥させる。そして、その表面をトリメチルベンゼン溶媒で洗浄し、トリメチルベンゼン溶媒に対して可溶な表層を除去するとともに不溶な層を残して、膜厚が１０ｎｍ程度の正孔輸送層１４２を形成する。正孔輸送層１４２も、正孔注入層１４１と同様の理由により画素電極１１０上において平坦になり、この部分の膜厚が均一になる。   Next, as shown in FIG. 4A, the hole transport layer 142 is formed on the hole injection layer 141 inside the opening 121. Specifically, as a liquid forming material of the hole transport layer 142, for example, TFB is made into a 0.1 wt% trimethylbenzene solution, and this is used as a hole injection layer inside the opening 121 and around the opening 123 by a droplet discharge method. 141. Again, the solution can be stably discharged by adjusting the viscosity of the solution. Then, the arranged solution is dried by heating at a temperature of about 180 ° C. for about 1 hour in a nitrogen atmosphere. Then, the surface is washed with a trimethylbenzene solvent to remove a surface layer soluble in the trimethylbenzene solvent and leave an insoluble layer to form a hole transport layer 142 having a thickness of about 10 nm. The hole transport layer 142 is also flat on the pixel electrode 110 for the same reason as the hole injection layer 141, and the film thickness of this portion is uniform.

次いで、図４（ｂ）に示すように、開口部１２１の内側における正孔輸送層１４２上に有機発光層１４３を形成する。具体的には、有機発光層１４３の液状の形成材料として例えば前記赤色発光材料を０．８ｗｔ％のトリメチルベンゼン溶液とし、これを液滴吐出法で開口部１２１の内側及び開口部周辺１２３の正孔輸送層１４２上に配置する。ここでも、溶液の粘度を調整することにより溶液を安定に吐出することができる。そして、配置した溶液を窒素雰囲気において１３０℃程度の温度で３０分程度加熱して焼成し、膜厚が６０〜８０ｎｍ程度の有機発光層１４３を形成する。有機発光層１４３も、正孔注入層１４１と同様の理由により画素電極１１０上において平坦になり、この部分の膜厚が均一になる。   Next, as shown in FIG. 4B, an organic light emitting layer 143 is formed on the hole transport layer 142 inside the opening 121. Specifically, as a liquid forming material of the organic light emitting layer 143, for example, the red light emitting material is a 0.8 wt% trimethylbenzene solution, and this is applied to the inside of the opening 121 and the periphery of the opening 123 by a droplet discharge method. Arranged on the hole transport layer 142. Again, the solution can be stably discharged by adjusting the viscosity of the solution. Then, the arranged solution is heated and fired at a temperature of about 130 ° C. for about 30 minutes in a nitrogen atmosphere to form an organic light emitting layer 143 having a thickness of about 60 to 80 nm. The organic light emitting layer 143 also becomes flat on the pixel electrode 110 for the same reason as the hole injection layer 141, and the film thickness of this portion becomes uniform.

以上のようにして、開口部１２１の内側に正孔注入層１４１、正孔輸送層１４２、有機発光層１４３から構成された有機機能層１４０が得られる。画素電極１１０上において有機機能層１４０は、平坦になっており、その膜厚が均一になっている。   As described above, the organic functional layer 140 including the hole injection layer 141, the hole transport layer 142, and the organic light emitting layer 143 is obtained inside the opening 121. On the pixel electrode 110, the organic functional layer 140 is flat and the film thickness is uniform.

次いで、図４（ｃ）に示すように有機機能層１４０上に共通電極１５０を形成する。例えば、真空度が１０−６Ｔｏｒｒ（１．３３×１０−４Ｐａ）の雰囲気でカルシウムを真空蒸着法により１０ｎｍ程度の膜厚に成膜した後、同様の条件下でアルミニウム（Ａｌ）を２００ｎｍ程度の膜厚に成膜して、カルシウム膜とアルミニウム膜とからなる共通電極１５０を形成する。
以上のようにして、図１（ｂ）に示した有機ＥＬ素子１００が得られる。また、素子基板１００Ａ上に設けられた複数の有機ＥＬ素子１００を適宜封止し、信号線駆動回路や走査線駆動回路、周辺回路等を設けることにより有機ＥＬ装置１が得られる。 Next, a common electrode 150 is formed on the organic functional layer 140 as shown in FIG. For example, after depositing calcium to a thickness of about 10 nm by vacuum deposition in an atmosphere with a degree of vacuum of 10 −6 Torr (1.33 × 10 −4 Pa), aluminum (Al) is deposited to 200 nm under the same conditions. A common electrode 150 is formed of a calcium film and an aluminum film.
As described above, the organic EL element 100 shown in FIG. 1B is obtained. Further, the organic EL device 1 can be obtained by appropriately sealing a plurality of organic EL elements 100 provided on the element substrate 100A and providing a signal line driving circuit, a scanning line driving circuit, a peripheral circuit, and the like.

以上のような本発明の有機ＥＬ装置の製造方法によれば、絶縁膜１３０の一部を隔壁膜１２０上に形成しているので、開口部周辺１２３における絶縁膜１３０の周（端）の位置を高精度にすることができる。これにより、発光領域Ａ１に対して所望の相対位置に周が位置する絶縁膜１３０とすることができ、液状体１４１ａは、その周が所定の位置になるように配置される。液状体１４１ａの形状はその周の位置によって規定されるので、液状体１４１ａを所望の形状にすることができる。   According to the method for manufacturing an organic EL device of the present invention as described above, since a part of the insulating film 130 is formed on the partition film 120, the position of the periphery (end) of the insulating film 130 in the periphery 123 of the opening. Can be made highly accurate. As a result, the insulating film 130 having a circumference at a desired relative position with respect to the light emitting region A1 can be formed, and the liquid 141a is arranged so that the circumference is at a predetermined position. Since the shape of the liquid 141a is defined by the circumferential position, the liquid 141a can be formed into a desired shape.

乾燥過程における液状体１４１ｂの液面の形状は、絶縁膜１３０が親液性を有しているので絶縁膜１３０の周の位置によって定まり、ここが撥液性である場合と異なり開口部内壁１２２の形状、特にその傾斜角の影響を受けにくくなる。したがって、開口部内壁１２２の形状のばらつきにより液面の形状が歪んでしまうことが防止され、乾燥過程における液状体１４１ｂを開口部１２１の内側に良好な形状に保持することができる。よって、液状体１４１ｂをさらに乾燥させて膜化すると、その液面の歪みによる膜厚ばらつきが低減された良好な膜（ここでは正孔注入層１４１）を形成することができる。例えば第２実施形態のように、平面視した状態で絶縁膜１３０と発光領域Ａ１とで中心位置を揃えることにより、この中心位置回りに点対称な形状の正孔注入層１４１を形成することができる。同様にして正孔輸送層１４２や有機発光層１４３を形成することにより、良好な形状の有機機能層１４０を形成することができる。   The shape of the liquid surface of the liquid 141b in the drying process is determined by the circumferential position of the insulating film 130 because the insulating film 130 is lyophilic. Unlike the case where the insulating film 130 is liquid repellent, the inner wall 122 of the opening is formed. It becomes difficult to be influenced by the shape of the film, particularly its inclination angle. Therefore, the shape of the liquid surface is prevented from being distorted due to the variation in the shape of the inner wall 122 of the opening, and the liquid 141b in the drying process can be held in a good shape inside the opening 121. Therefore, when the liquid 141b is further dried to form a film, a favorable film (here, the hole injection layer 141) in which the variation in film thickness due to distortion of the liquid surface is reduced can be formed. For example, as in the second embodiment, the hole injection layer 141 having a point-symmetric shape around the center position can be formed by aligning the center positions of the insulating film 130 and the light emitting region A1 in a plan view. it can. Similarly, by forming the hole transport layer 142 and the organic light emitting layer 143, the organic functional layer 140 having a good shape can be formed.

このようにして得られた本発明の有機ＥＬ素子にあっては、有機機能層１４０の形成過程における表面形状の歪みに起因する膜厚ばらつきが低減されており、発光領域Ａ１において有機機能層１４０の膜厚が均一になっている。したがって、発光領域Ａ１で有機機能層１４０が均一に機能するようになり、発光特性や電気特性が部分的にばらつくことが防止された良好な有機ＥＬ素子となっている。
また、本発明の有機ＥＬ装置は、発光特性や電気特性が部分的にばらつくことが防止された複数の有機ＥＬ素子を備えているので、これを発光素子として良好に機能させることが可能になっており、良好なものとなっている。 In the organic EL device of the present invention thus obtained, the variation in film thickness due to the distortion of the surface shape in the process of forming the organic functional layer 140 is reduced, and the organic functional layer 140 in the light emitting region A1. The film thickness is uniform. Therefore, the organic functional layer 140 functions uniformly in the light emitting region A1, and the organic EL element is a good organic EL element in which the light emission characteristics and electrical characteristics are prevented from partially varying.
Moreover, since the organic EL device of the present invention includes a plurality of organic EL elements in which the light emission characteristics and the electrical characteristics are prevented from partially varying, it can function well as a light emitting element. It is good.

なお、１つの有機ＥＬ素子において、発光領域の周に沿う発光周辺領域の幅を変化させてもよいし、複数の有機ＥＬ素子で発光周辺領域の幅を異ならせてもよい。複数の発光領域わたって１つの有機ＥＬ素子が配置されていてもよい。
また、第１実施形態では、ボトムエミッション型の有機ＥＬ装置の構成例を説明したが、トップエミッション型の有機ＥＬ装置を採用することもでき、この場合にも本発明の効果を得ることができる。また、複数の異なる色光を発する有機ＥＬ素子を用いるのではなく、単色光を発する有機ＥＬ素子とカラーフィルタ等を用いてフルカラーの画像表示装置や画像形成装置を構成してもよいし、単色光を発する照明装置等に適用することも可能である。 In one organic EL element, the width of the light emitting peripheral area along the circumference of the light emitting area may be changed, or the width of the light emitting peripheral area may be different among a plurality of organic EL elements. One organic EL element may be disposed over a plurality of light emitting regions.
In the first embodiment, the configuration example of the bottom emission type organic EL device has been described. However, the top emission type organic EL device can also be adopted, and the effect of the present invention can also be obtained in this case. . In addition, instead of using a plurality of organic EL elements that emit different color light, a full color image display device or image forming apparatus may be configured using an organic EL element that emits monochromatic light, a color filter, or the like. It is also possible to apply to a lighting device that emits light.

［変形例］
図５（ａ）は、変形例１の有機ＥＬ装置１における画素の構成を概略して示す平面図であり、図５（ｂ）は、変形例２における画素の構成を示す平面図である。変形例１の有機ＥＬ装置１は、第１実施形態と同様の画像表示装置であり、変形例２の有機ＥＬ装置１は画像形成装置等に用いられるラインヘッドである。変形例１、２が第１実施形態と異なる点は、発光周辺領域Ａ２の幅が発光領域Ａ１の周に沿って変化している点である。発光周辺領域Ａ２の幅は、有機ＥＬ素子が疎に配置される方向おいて密に配置される方向よりも広くなっている。 [Modification]
FIG. 5A is a plan view schematically showing the configuration of the pixel in the organic EL device 1 of the first modification, and FIG. 5B is a plan view showing the configuration of the pixel in the second modification. The organic EL device 1 of Modification 1 is an image display device similar to that of the first embodiment, and the organic EL device 1 of Modification 2 is a line head used in an image forming apparatus or the like. Modifications 1 and 2 are different from the first embodiment in that the width of the light emitting peripheral area A2 changes along the circumference of the light emitting area A1. The width of the light emitting peripheral area A2 is wider than the direction in which the organic EL elements are densely arranged in the direction in which the organic EL elements are sparsely arranged.

図５（ａ）に示す変形例１の有機ＥＬ装置１には、画像表示領域Ａに多数の発光領域Ａ１が行列状に整列配置されている。各発光領域Ａ１の周を環状に囲んで発光周辺領域Ａ２が設けられている。第１実施形態と同様に、発光領域Ａ１には画素電極１１０、有機機能層１４０、共通電極１５０等が設けられており、発光周辺領域Ａ２には絶縁膜１３０が設けられている。画像表示領域Ａの周縁に配置された発光領域Ａ１の周辺の発光周辺領域Ａ２において、その幅が画像表示領域Ａの周縁側で中央側よりも広くなっている。   In the organic EL device 1 of Modification 1 shown in FIG. 5A, a large number of light emitting areas A1 are arranged in a matrix in the image display area A. A light emitting peripheral region A2 is provided surrounding the periphery of each light emitting region A1 in an annular shape. Similar to the first embodiment, the pixel electrode 110, the organic functional layer 140, the common electrode 150, and the like are provided in the light emitting region A1, and the insulating film 130 is provided in the light emitting peripheral region A2. In the light emitting peripheral area A2 around the light emitting area A1 arranged at the peripheral edge of the image display area A, the width is wider on the peripheral side of the image display area A than on the central side.

このようにすれば、以下の理由により有機機能層１４０の膜厚を均一にすることができる。発光周辺領域Ａ２に絶縁膜１３０を形成すると、絶縁膜１３０は、その中心位置が平面視した状態で発光領域Ａ１の中心位置よりも有機ＥＬ素子が疎に配置される方向（以下、画像表示領域Ａの外側と称す）にずれて配置される。そして、開口部１２１の内側に有機機能層の液状の形成材料を配置すると、配置された液状体１４１ａは、その中心位置が発光領域Ａ１の中心位置よりも画像表示領域Ａの外側にずれて配置される。画像表示領域Ａの外側には液状体が配置されないため、画像表示領域Ａの中央側から周縁側に向うにつれて、揮発した溶媒成分の雰囲気中の濃度が小さくなる。これにより、画像表示領域Ａの中央側から周縁側に向うにつれて、溶媒の乾燥速度が高くなる。一方、前記のように液状体１４１ａの中心位置がずれていれば、その体積は発光領域Ａ１の中心位置に対して画像表示領域Ａの外側で内側よりも多くなる。そのため、外側と内側とで乾燥時間が均一になり、有機機能層の膜厚が均一になる。
なお、変形例１では、画像表示領域Ａの一番外側に配置される発光領域Ａ１について、その周辺の発光周辺領域Ａ２の幅を変化させているが、画像表示領域Ａの中央側の発光領域Ａ１についても発光周辺領域Ａ２の幅を変化させてもよい。例えば、画像表示領域の中心位置から離れるにつれて発光周辺領域の幅を広くするようにしてもよい。 In this way, the thickness of the organic functional layer 140 can be made uniform for the following reason. When the insulating film 130 is formed in the light emitting peripheral region A2, the insulating film 130 has a direction in which the organic EL elements are arranged more sparsely than the center position of the light emitting region A1 in a state where the center position is viewed in plan (hereinafter referred to as an image display region). (Referred to as the outside of A). When the liquid forming material of the organic functional layer is arranged inside the opening 121, the arranged liquid body 141a is arranged so that the center position thereof is shifted to the outside of the image display area A from the center position of the light emitting area A1. Is done. Since no liquid material is disposed outside the image display area A, the concentration of the volatilized solvent component in the atmosphere decreases from the center side to the peripheral side of the image display area A. Thereby, the drying speed of a solvent becomes high as it goes to the peripheral side from the center side of the image display area A. On the other hand, if the center position of the liquid 141a is deviated as described above, the volume of the liquid body 141a is greater on the outside of the image display area A than on the inside with respect to the center position of the light emitting area A1. Therefore, the drying time is uniform between the outside and the inside, and the film thickness of the organic functional layer is uniform.
In the first modification, the width of the light emitting peripheral area A2 around the light emitting area A1 arranged on the outermost side of the image display area A is changed, but the light emitting area on the center side of the image display area A is changed. Also for A1, the width of the light emitting peripheral area A2 may be changed. For example, the width of the light emitting peripheral area may be increased as the distance from the center position of the image display area increases.

図５（ｂ）に示す変形例２の有機ＥＬ装置１には、画像形成領域Ａに多数の発光領域Ａ１が列状（ここでは１列）に配置されている。第１実施形態と同様に、発光領域Ａ１には画素電極１１０、有機機能層１４０、共通電極１５０等が設けられており、発光周辺領域Ａ２には絶縁膜１３０が設けられている。発光周辺領域Ａ２の幅は、発光領域Ａ１が近接しない方向、すなわち発光領域Ａ１の配列方向に直交する方向において配列方向よりも広くなっている。変形例２においても、変形例１と同様の理由により有機機能層１４０の膜厚が均一になる。   In the organic EL device 1 of Modification 2 shown in FIG. 5B, a large number of light emitting regions A1 are arranged in a row (here, one row) in the image forming region A. Similar to the first embodiment, the pixel electrode 110, the organic functional layer 140, the common electrode 150, and the like are provided in the light emitting region A1, and the insulating film 130 is provided in the light emitting peripheral region A2. The width of the light emitting peripheral area A2 is wider than the arrangement direction in the direction in which the light emitting area A1 is not close, that is, in the direction orthogonal to the arrangement direction of the light emitting area A1. Also in the second modification, the film thickness of the organic functional layer 140 becomes uniform for the same reason as the first modification.

図６（ａ）は、変形例３の有機ＥＬ装置１における画素の構成を概略して示す平面図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）のＣ−Ｃ線に沿う断面図である。変形例３が、第１実施形態と異なる点は、複数の発光画素にわたって１つの有機ＥＬ素子が配置されている点である。
図６（ａ）に示すように、変形例３の有機ＥＬ装置１にも第１実施形態と同様に、多数の発光領域Ａ１が行列状に整列配置されている。多数の発光領域Ａ１の各々が発光画素（サブ画素）となっており、Ｙ方向に並ぶ複数の発光領域Ａ１の周囲を環状に囲む領域と、複数の発光領域Ａ１の間の領域とが、１つの発光周辺領域Ａ２になっている。ここでは、発光周辺領域Ａ２が同じ色光を発する３つの発光領域Ａ１を囲んで配置されている。 FIG. 6A is a plan view schematically showing the configuration of a pixel in the organic EL device 1 of Modification Example 3, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the line C-C in FIG. It is. Modification 3 is different from the first embodiment in that one organic EL element is arranged over a plurality of light emitting pixels.
As shown in FIG. 6A, in the organic EL device 1 of Modification 3 as well, in the same way as in the first embodiment, a large number of light emitting areas A1 are arranged in a matrix. Each of the plurality of light emitting regions A1 is a light emitting pixel (sub pixel), and a region surrounding the plurality of light emitting regions A1 arranged in the Y direction in a ring shape and a region between the plurality of light emitting regions A1 are 1 Two light emitting peripheral areas A2. Here, the light emitting peripheral area A2 is disposed so as to surround the three light emitting areas A1 that emit the same color light.

図６（ｂ）に示すように、発光領域Ａ１ごとに独立した画素電極１１０が設けられており、画素電極１１０の間には絶縁膜１３０が設けられている。１つの発光周辺領域Ａ２に囲まれる３つの画素電極１１０上には、共通の有機機能層１４０、共通電極１５０が設けられている。３つの画素電極１１０は、それぞれ独立したスイッチング素子と電気的に接続されている。各画素電極１１０上に位置する部分の有機機能層１４０に独立して電圧を印加することにより、発光領域Ａ１ごとに、独立した階調の光を射出することが可能になっている。   As shown in FIG. 6B, an independent pixel electrode 110 is provided for each light emitting region A <b> 1, and an insulating film 130 is provided between the pixel electrodes 110. A common organic functional layer 140 and a common electrode 150 are provided on the three pixel electrodes 110 surrounded by one light emitting peripheral region A2. The three pixel electrodes 110 are electrically connected to independent switching elements. By independently applying a voltage to a portion of the organic functional layer 140 located on each pixel electrode 110, it is possible to emit light of independent gradation for each light emitting region A1.

変形例３の有機ＥＬ装置１にあっては、１つの発光周辺領域Ａ２に囲まれる複数の発光領域Ａ１において有機機能層１４０の膜厚が均一になる。これにより、これら複数の発光領域Ａ１に対応した発光画素において発光特性や電気特性が均一になり、良好な有機ＥＬ装置となる。
なお、１つの発光周辺領域が２又は４以上の発光領域を囲んで配置されていてもよい。また、単色光を発する有機ＥＬ素子とカラーフィルタ等を用いてフルカラーの画像表示装置や画像形成装置を構成する場合等には、異なる色光を発する複数の発光画素を囲む領域を発光周辺領域としてもよい。例えば、図１（ａ）においてＸ方向に並ぶ赤色光、緑色光、青色光をそれぞれ発するサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂを囲んで、すなわちフルカラー表示の１画素を囲んで発光周辺領域を設定してもよい。 In the organic EL device 1 of Modification 3, the film thickness of the organic functional layer 140 is uniform in a plurality of light emitting regions A1 surrounded by one light emitting peripheral region A2. As a result, the light emission characteristics and electrical characteristics are uniform in the light emitting pixels corresponding to the plurality of light emitting regions A1, and a good organic EL device is obtained.
One light emitting peripheral region may be arranged so as to surround two or four or more light emitting regions. When a full-color image display device or image forming apparatus is configured using an organic EL element that emits monochromatic light and a color filter, an area surrounding a plurality of light-emitting pixels that emit different color light may be used as a light-emitting peripheral area. Good. For example, in FIG. 1A, a light emitting peripheral region is set by surrounding subpixels Pr, Pg, and Pb that emit red light, green light, and blue light arranged in the X direction, that is, surrounding one pixel of full color display. Also good.

［電子機器］
次に、本発明の有機ＥＬ素子を有するラインヘッド（有機ＥＬ装置）を備えた画像形成装置（電子機器）について説明する。図７は、画像形成装置４００を示す概略構成図である。 [Electronics]
Next, an image forming apparatus (electronic apparatus) provided with a line head (organic EL apparatus) having the organic EL element of the present invention will be described. FIG. 7 is a schematic configuration diagram illustrating the image forming apparatus 400.

画像形成装置４００は、転写媒体４２２の走行経路の近傍に、像担持体としての感光体ドラム４１６を備えている。感光体ドラム４１６の周囲には、感光体ドラム４１６の回転方向（図中に矢印で示す）に沿って、露光装置４１５、現像装置４１８及び転写ローラ４２１が順次配設されている。感光体ドラム４１６は、回転軸４１７の周りに回転可能に設けられており、その外周面には、回転軸方向中央部に感光面４１６Ａが形成されている。露光装置４１５及び現像装置４１８は感光体ドラム４１６の回転軸４１７に沿って長軸状に配置されており、その長軸方向の幅は、感光面４１６Ａの幅と概ね一致している。   The image forming apparatus 400 includes a photosensitive drum 416 as an image carrier in the vicinity of the travel path of the transfer medium 422. Around the photosensitive drum 416, an exposure device 415, a developing device 418, and a transfer roller 421 are sequentially arranged along the rotation direction of the photosensitive drum 416 (indicated by an arrow in the drawing). The photosensitive drum 416 is rotatably provided around the rotation shaft 417, and a photosensitive surface 416A is formed on the outer peripheral surface of the photosensitive drum 416 at the central portion in the rotation axis direction. The exposure device 415 and the developing device 418 are arranged in a long axis shape along the rotation shaft 417 of the photosensitive drum 416, and the width in the long axis direction substantially coincides with the width of the photosensitive surface 416A.

この画像形成装置４００では、まず、感光体ドラム４１６が回転する過程において、露光装置４１５の上流側に設けられた図示略の帯電装置により感光体ドラム４１６の表面（感光面４１６Ａ）が例えば正に帯電され、次いで露光装置４１５により感光体ドラム４１６の表面が露光されて表面に静電潜像ＬＡが形成される。さらに、現像装置４１８の現像ローラ４１９により、トナー（現像剤）４３０が感光体ドラム４１６の表面に付与され、静電潜像ＬＡの電気的吸着力によって静電潜像ＬＡに対応したトナー像が形成される。なお、トナー粒子は正に帯電されている。   In the image forming apparatus 400, first, in the process of rotating the photosensitive drum 416, the surface of the photosensitive drum 416 (photosensitive surface 416 </ b> A) is made positive by, for example, a charging device (not shown) provided upstream of the exposure device 415. Then, the surface of the photosensitive drum 416 is exposed by the exposure device 415, and an electrostatic latent image LA is formed on the surface. Further, the toner (developer) 430 is applied to the surface of the photosensitive drum 416 by the developing roller 419 of the developing device 418, and the toner image corresponding to the electrostatic latent image LA is formed by the electric adsorption force of the electrostatic latent image LA. It is formed. The toner particles are positively charged.

現像装置４１８によるトナー像の形成後は、感光体ドラム４１６の更なる回転によりトナー像が転写媒体４２２に接触し、転写ローラ４２１により転写媒体４２２の背面からトナー像のトナー粒子とは逆極性の電荷（ここでは負電荷）が付与され、これに応じて、トナー像を形成するトナー粒子が感光体ドラム４１６の表面から転写媒体４２２に吸引され、トナー像が転写媒体１２２の表面に転写される。   After the toner image is formed by the developing device 418, the toner image comes into contact with the transfer medium 422 by further rotation of the photosensitive drum 416, and the transfer roller 421 has a polarity opposite to the toner particles of the toner image from the back surface of the transfer medium 422. Charge (here, negative charge) is applied, and accordingly, toner particles forming a toner image are sucked from the surface of the photosensitive drum 416 to the transfer medium 422, and the toner image is transferred to the surface of the transfer medium 122. .

露光装置４１５は、複数の発光素子４５０を有するラインヘッド４１０と、ラインヘッド４１０から放射された光Ｌを正立等倍結像させる複数のレンズ素子４１３を有する結像光学素子４１２とを備えている。ラインヘッド４１０と結像光学素子４１２とは、互いにアライメントされた状態で図示略のヘッドケースによって保持され、感光体ドラム４１６上に固定されている。   The exposure apparatus 415 includes a line head 410 having a plurality of light emitting elements 450, and an imaging optical element 412 having a plurality of lens elements 413 for imaging the light L emitted from the line head 410 at an erecting equal magnification. Yes. The line head 410 and the imaging optical element 412 are held by a head case (not shown) while being aligned with each other, and are fixed on the photosensitive drum 416.

ラインヘッド４１０は、複数の発光素子４５０を感光体ドラム４１６の回転軸４１７に沿って配列してなる発光素子列４２０と、発光素子４５０を駆動させる図示略の駆動素子からなる駆動素子群と、これら駆動素子（駆動素子群）の駆動を制御する制御回路群４１１とを備えている。発光素子４５０、駆動素子群及び制御回路群４１１は長細い矩形の素子基板（基体）４１０Ａ上に一体形成されている。   The line head 410 includes a light emitting element array 420 formed by arranging a plurality of light emitting elements 450 along the rotation axis 417 of the photosensitive drum 416, a drive element group including a drive element (not shown) that drives the light emitting elements 450, and the like. And a control circuit group 411 that controls driving of these drive elements (drive element group). The light emitting element 450, the driving element group, and the control circuit group 411 are integrally formed on a long and thin rectangular element substrate (base body) 410A.

結像光学素子４１２は、日本板硝子株式会社製のセルフォック（登録商標）レンズ素子と同様の構成からなるレンズ素子４１３を感光体ドラム４１６の回転軸４１７に沿って千鳥状に２列配列（配置）してなるレンズ素子列４１４を備えている。
この画像形成装置４００は、ラインヘッド４１０が本発明の有機ＥＬ素子で構成されている。本発明の有機ＥＬ素子は、有機機能層の膜厚が均一になっておりその発光特性や電気特性が良好になっているので、感光体ドラムを良好に感光させることができ、高精細な画像を形成することが可能な画像形成装置となっている。 The imaging optical element 412 is arranged (arranged) in a staggered manner along the rotation axis 417 of the photosensitive drum 416 with lens elements 413 having the same configuration as a SELFOC (registered trademark) lens element manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd. A lens element array 414 is provided.
In this image forming apparatus 400, the line head 410 is composed of the organic EL element of the present invention. In the organic EL element of the present invention, the organic functional layer has a uniform film thickness, and its light emission characteristics and electrical characteristics are good, so that the photosensitive drum can be well exposed and a high-definition image can be obtained. This is an image forming apparatus capable of forming the image.

次に、本発明の有機ＥＬ素子を有する画像表示装置（有機ＥＬ装置）を表示部に用いた電子機器について説明する。   Next, an electronic apparatus using an image display device (organic EL device) having the organic EL element of the present invention for a display unit will be described.

図８（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。携帯電話５００は表示部５１０を備えており、表示部５１０は本発明の有機ＥＬ装置により構成されている。
図８（ｂ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。情報処理装置６００は、キーボードなどの入力部６１０、表示部６２０、筐体６３０等を備えている。また、表示部６２０は、本発明の有機ＥＬ装置により構成されている。
図８（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。時計７００は表示部７１０を備えている。表示部７１０は、本発明の有機ＥＬ装置により構成されている。 FIG. 8A is a perspective view showing an example of a mobile phone. The mobile phone 500 includes a display unit 510, and the display unit 510 is configured by the organic EL device of the present invention.
FIG. 8B is a perspective view showing an example of a portable information processing apparatus such as a word processor or a personal computer. The information processing apparatus 600 includes an input unit 610 such as a keyboard, a display unit 620, a housing 630, and the like. The display unit 620 is configured by the organic EL device of the present invention.
FIG. 8C is a perspective view showing an example of a wristwatch type electronic device. The watch 700 includes a display unit 710. The display unit 710 is configured by the organic EL device of the present invention.

図８（ａ）〜（ｃ）に示す電子機器はいずれも、その表示部が本発明の有機ＥＬ装置により構成されているので、良好な表示が可能なものとなっている。   In any of the electronic devices shown in FIGS. 8A to 8C, the display unit is configured by the organic EL device of the present invention, so that good display is possible.

なお、電子機器としては、前記電子機器に限られることなく、種々の電子機器に適用することができる。例えば、ディスクトップ型コンピュータ、液晶プロジェクタ、マルチメディア対応のパーソナルコンピュータ（ＰＣ）及びエンジニアリング・ワークステーション（ＥＷＳ）、ページャ、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、電子手帳、電子卓上計算機、カーナビゲーション装置、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等の電子機器に適用することができる。   The electronic device is not limited to the electronic device, and can be applied to various electronic devices. For example, a desktop computer, a liquid crystal projector, a multimedia personal computer (PC) and an engineering workstation (EWS), a pager, a word processor, a television, a viewfinder type or a monitor direct view type video tape recorder, an electronic notebook, an electronic The present invention can be applied to electronic devices such as a desktop computer, a car navigation device, a POS terminal, and a device having a touch panel.

（ａ）は画素構成の平面概略図、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線断面図である。(A) is a schematic plan view of a pixel configuration, and (b) is a cross-sectional view taken along line BB of (a). （ａ）〜（ｃ）は、製造方法を示す断面工程図である。(A)-(c) is sectional process drawing which shows a manufacturing method. （ａ）〜（ｃ）は、図２（ｃ）から続く断面工程図である。(A)-(c) is sectional process drawing which continues from FIG.2 (c). （ａ）〜（ｃ）は、図３（ｃ）から続く断面工程図である。(A)-(c) is sectional process drawing which continues from FIG.3 (c). （ａ）、（ｂ）はそれぞれ変形例１、２の画素構成の平面図外略図である。(A), (b) is the schematic outside plan view of the pixel structure of the modifications 1 and 2, respectively. （ａ）は変形例３の平面概略図、（ｂ）は（ａ）のＣ−Ｃ線断面図である。(A) is the plane schematic of the modification 3, (b) is CC sectional view taken on the line of (a). 電子機器の一例であるラインヘッドを示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the line head which is an example of an electronic device. （ａ）〜（ｃ）は、図７と異なる電子機器の例を示す斜視図である。(A)-(c) is a perspective view which shows the example of the electronic device different from FIG.

符号の説明Explanation of symbols

１・・・有機ＥＬ装置、１００・・・有機ＥＬ素子、１１０・・・画素電極（第１電極）
１２０・・・隔壁膜、１２１・・・開口部、１２２・・・開口部内壁、１２３・・・開口部周辺、１２４・・・絶縁膜の非形成領域、１３０・・・絶縁膜、１４０・・・有機機能層、１４１・・・正孔注入層、１４２・・・正孔輸送層、１４３・・・有機発光層、１５０・・・共通電極（第２電極）、Ａ１・・・発光領域、Ａ２・・・発光周辺領域 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic EL apparatus, 100 ... Organic EL element, 110 ... Pixel electrode (1st electrode)
120 ... partition wall film, 121 ... opening, 122 ... inner wall of opening, 123 ... periphery of opening, 124 ... non-formation region of insulating film, 130 ... insulating film, 140. .... Organic functional layer, 141 ... Hole injection layer, 142 ... Hole transport layer, 143 ... Organic light emitting layer, 150 ... Common electrode (second electrode), A1 ... Light emitting region , A2 ... Light emitting peripheral area

Claims (9)

所定の発光領域を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
基板上に第１電極を形成する工程と、
前記基板上に前記第１電極の少なくとも一部を露出する開口部を備えた隔壁膜を形成する工程と、
前記開口部の内壁と前記隔壁膜の前記開口部の周辺とを連続的に覆う絶縁膜を形成する工程と、
前記隔壁膜の上面であって、平面視において前記絶縁膜と重ならない領域を前記液状の有機機能層形成材料に対して前記絶縁膜よりも撥液性にする工程と、
少なくとも前記開口部の内側に有機発光層を含んだ有機機能層を形成する工程と、
前記有機機能層上に第２電極を形成する工程と、
をこの順番で有し、
前記有機機能層を形成する工程では、前記絶縁膜上にわたって液状の有機機能層形成材料を配置しこれを固化して前記有機機能層を形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 A method for producing an organic electroluminescence device having a predetermined light emitting region,
Forming a first electrode on a substrate;
Forming a partition film having an opening exposing at least a part of the first electrode on the substrate;
Forming an insulating film continuously covering the inner wall of the opening and the periphery of the opening of the partition film;
A step of making the region on the upper surface of the partition film that does not overlap the insulating film in plan view more repellent than the insulating film with respect to the liquid organic functional layer forming material;
Forming an organic functional layer including an organic light emitting layer at least inside the opening; and
Forming a second electrode on the organic functional layer;
In this order,
In the step of forming the organic functional layer, a liquid organic functional layer forming material is disposed on the insulating film and solidified to form the organic functional layer. 前記隔壁膜は、有機材料からなることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。   The method of manufacturing an organic electroluminescence element according to claim 1, wherein the partition film is made of an organic material. 前記絶縁膜は、無機材料からなることを特徴とする請求項１又は２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。   The method for manufacturing an organic electroluminescent element according to claim 1, wherein the insulating film is made of an inorganic material. 所定の発光領域を有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
基板上に設けられた第１電極と、
基板上に設けられ、前記第１電極の少なくとも一部を露出する開口部を有する隔壁膜と、
前記開口部の内壁と前記隔壁膜の前記開口部の周辺とを連続的に覆って設けられた絶縁膜と、
前記開口部の内側における前記絶縁膜上と前記第１電極上とに少なくとも設けられ、有機発光層を含んだ有機機能層と、
前記有機機能層上に設けられた第２電極と、を有し、
前記隔壁膜の上面であって、平面視において前記絶縁膜と重ならない領域が前記有機機能層の形成材料に対して前記絶縁膜よりも撥液性を有していることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 An organic electroluminescence device having a predetermined light emitting region,
A first electrode provided on a substrate;
A partition wall film provided on a substrate and having an opening exposing at least a part of the first electrode;
An insulating film provided continuously covering the inner wall of the opening and the periphery of the opening of the partition film;
An organic functional layer including at least an organic light emitting layer provided at least on the insulating film and on the first electrode inside the opening;
A second electrode provided on the organic functional layer,
An area of the upper surface of the partition film, which does not overlap with the insulating film in plan view, is more lyophobic than the insulating film with respect to the material for forming the organic functional layer. Luminescence element. 所定の発光領域を有する複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法であって、
前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の各々を、請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法で製造するとともに、前記絶縁膜は、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の各々において、互いに独立するように形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 A method for producing an organic electroluminescence device comprising a plurality of organic electroluminescence elements having a predetermined light emitting region,
While manufacturing each of these organic electroluminescent elements by the manufacturing method of the organic electroluminescent element as described in any one of Claims 1-3, the said insulating film is each of these organic electroluminescent elements. The method for producing an organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the organic electroluminescence device is formed independently of each other. 前記絶縁膜は、前記開口部の周辺における幅を、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を配置する第１方向において、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を前記第１方向よりも密に配置する第２方向よりも広くすることを特徴とする請求項５に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。   The insulating film has a width in the periphery of the opening, and a second direction in which the plurality of organic electroluminescence elements are arranged denser than the first direction in the first direction in which the plurality of organic electroluminescence elements are arranged. 6. The method of manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 5, wherein the manufacturing method is wider. 前記所定の発光領域は、前記絶縁膜によって規定されており、前記第２方向における、隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の絶縁膜間の間隔は、前記第２方向における、隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の所定の発光領域間の間隔に対して１／１００以上にすることを特徴とする請求項６に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。   The predetermined light emitting region is defined by the insulating film, and an interval between insulating films of adjacent organic electroluminescent elements in the second direction is a predetermined distance between adjacent organic electroluminescent elements in the second direction. The method of manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 6, wherein the distance between the light emitting regions is set to 1/100 or more. 所定の発光領域を有する複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた有機エレクトロルミネッセンス装置であって、
前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の各々が、請求項４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子で構成されており、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の各々において、前記絶縁膜は隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の絶縁膜と分離して形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。 An organic electroluminescence device comprising a plurality of organic electroluminescence elements having a predetermined light emitting region,
Each of the plurality of organic electroluminescence elements is configured by the organic electroluminescence element according to claim 4, and in each of the plurality of organic electroluminescence elements, the insulating film is an insulation of an adjacent organic electroluminescence element. An organic electroluminescence device formed separately from a film. 複数の発光画素を有し、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子のうちの１つが前記複数の発光画素のうちの２以上にわたって設けられていることを特徴とする請求項８に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   The organic electroluminescence device according to claim 8, further comprising: a plurality of light emitting pixels, wherein one of the plurality of organic electroluminescence elements is provided over two or more of the plurality of light emitting pixels. .
JP2008124370A 2008-05-12 2008-05-12 Organic electroluminescent element, method of manufacturing organic electroluminescent element, organic electroluminescent device, and method of manufacturing organic electroluminescent device Withdrawn JP2009272277A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008124370A JP2009272277A (en) 2008-05-12 2008-05-12 Organic electroluminescent element, method of manufacturing organic electroluminescent element, organic electroluminescent device, and method of manufacturing organic electroluminescent device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008124370A JP2009272277A (en) 2008-05-12 2008-05-12 Organic electroluminescent element, method of manufacturing organic electroluminescent element, organic electroluminescent device, and method of manufacturing organic electroluminescent device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009272277A true JP2009272277A (en) 2009-11-19

Family

ID=41438635

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008124370A Withdrawn JP2009272277A (en) 2008-05-12 2008-05-12 Organic electroluminescent element, method of manufacturing organic electroluminescent element, organic electroluminescent device, and method of manufacturing organic electroluminescent device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009272277A (en)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160024046A (en) * 2014-08-22 2016-03-04 삼성디스플레이 주식회사 Light emitting display device and method of manufacturing the same
JP2016115472A (en) * 2014-12-12 2016-06-23 株式会社Ｊｏｌｅｄ Organic light-emission device
US9412969B2 (en) 2014-07-16 2016-08-09 Samsung Electronics Co., Ltd. Organic electro-luminescent display and method of fabricating the same
CN107771313A (en) * 2015-03-31 2018-03-06 飞利浦照明控股有限公司 Color extractor
WO2018179133A1 (en) * 2017-03-29 2018-10-04 シャープ株式会社 Display device, display device production method, display device production apparatus, deposition apparatus, and controller
JP2018186102A (en) * 2013-12-26 2018-11-22 株式会社Ｊｏｌｅｄ Display device, method for manufacturing display device, and method for designing display device
JP2020510275A (en) * 2017-03-24 2020-04-02 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Ｂｏｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｇｒｏｕｐ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． Pixel limiting layer, organic electroluminescent element, method of manufacturing the same, and display device
JP2020095961A (en) * 2018-12-14 2020-06-18 エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド Electroluminescent display device and method of manufacturing the same
KR20210060622A (en) * 2018-11-12 2021-05-26 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 Display device and manufacturing method thereof
KR20210118375A (en) * 2020-11-17 2021-09-30 삼성디스플레이 주식회사 Light emitting display device
JP2021535533A (en) * 2018-08-31 2021-12-16 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Boe Technology Group Co., Ltd. Pixel regulation structure, display panel, their manufacturing method, display device

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018186102A (en) * 2013-12-26 2018-11-22 株式会社Ｊｏｌｅｄ Display device, method for manufacturing display device, and method for designing display device
US9412969B2 (en) 2014-07-16 2016-08-09 Samsung Electronics Co., Ltd. Organic electro-luminescent display and method of fabricating the same
KR20160024046A (en) * 2014-08-22 2016-03-04 삼성디스플레이 주식회사 Light emitting display device and method of manufacturing the same
KR102181978B1 (en) 2014-08-22 2020-11-24 삼성디스플레이 주식회사 Light emitting display device and method of manufacturing the same
JP2016115472A (en) * 2014-12-12 2016-06-23 株式会社Ｊｏｌｅｄ Organic light-emission device
CN107771313A (en) * 2015-03-31 2018-03-06 飞利浦照明控股有限公司 Color extractor
JP2020510275A (en) * 2017-03-24 2020-04-02 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Ｂｏｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｇｒｏｕｐ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． Pixel limiting layer, organic electroluminescent element, method of manufacturing the same, and display device
JP7028786B2 (en) 2017-03-24 2022-03-02 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司 Pixel limited layer, organic electroluminescence element and its manufacturing method, display device
WO2018179133A1 (en) * 2017-03-29 2018-10-04 シャープ株式会社 Display device, display device production method, display device production apparatus, deposition apparatus, and controller
US20200035768A1 (en) * 2017-03-29 2020-01-30 Sharp Kabushiki Kaisha Display device, display device production method, display device production apparatus, deposition apparatus, and controller
JP2021535533A (en) * 2018-08-31 2021-12-16 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Boe Technology Group Co., Ltd. Pixel regulation structure, display panel, their manufacturing method, display device
JP7295033B2 (en) 2018-08-31 2023-06-20 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司 Pixel defining structure, display panel, manufacturing method thereof, and display device
KR20210060622A (en) * 2018-11-12 2021-05-26 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 Display device and manufacturing method thereof
KR102615044B1 (en) * 2018-11-12 2023-12-19 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 Display device and method of manufacturing the same
US11943971B2 (en) 2018-11-12 2024-03-26 Japan Display Inc. OLED with one color emitting layer on a convex portion
JP2020095961A (en) * 2018-12-14 2020-06-18 エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド Electroluminescent display device and method of manufacturing the same
KR20210118375A (en) * 2020-11-17 2021-09-30 삼성디스플레이 주식회사 Light emitting display device
KR102368768B1 (en) 2020-11-17 2022-03-02 삼성디스플레이 주식회사 Light emitting display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2009272277A (en) Organic electroluminescent element, method of manufacturing organic electroluminescent element, organic electroluminescent device, and method of manufacturing organic electroluminescent device
US10770658B2 (en) Method of manufacturing organic light-emitting device and method of manufacturing display unit
US8883532B2 (en) Organic EL display device and manufacturing method of the same
TWI508279B (en) Display and method of manufacturing the same, unit, transfer printing method, organic electroluminescence unit and method of manufacturing the same, and electronic apparatus
KR100643376B1 (en) Display device and method of making display device
US8507928B2 (en) Organic EL device, method for manufacturing organic EL device, and electronic device
KR101152140B1 (en) Display device and method of making display device
KR100760346B1 (en) Organic el device and electronic apparatus
US20120049210A1 (en) Organic el display unit and electronic device
JP2007134327A (en) Display device and method of manufacturing same
JP2007157662A (en) Manufacturing method of organic light emitting device, organic light emitting device, and electronic equipment
JP2003243163A (en) Organic led display and its manufacturing method
US20100194269A1 (en) Organic el display and manufacturing method thereof
JP2010129419A (en) Light emitting device and manufacturing method
KR20150037729A (en) Display device, manufacturing method of display device, and electronic apparatus
TWI544572B (en) Display device
JP2016115747A (en) Display device, manufacturing method of the same, and electronic apparatus
JP2010034143A (en) Organic electroluminescent display and its manufacturing method
JP2009176700A (en) Method for manufacturing organic el element, organic el element, organic el device, and electronic device
JP4707996B2 (en) Flexible display and manufacturing method thereof
JP2009272588A (en) Organic electroluminescent device
JP2011210407A (en) Light-emitting device
JP2008235327A (en) Organic electroluminescent device and manufacturing method therefor, and electronic equipment
JP5029082B2 (en) Method for manufacturing organic electroluminescence device
JP2009272108A (en) Organic electroluminescent element and manufacturing method of organic electroluminescent element

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20110802