JP2009267407A - 放射源 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】放射源は、放射を放出する放射エミッタと、放射を収集するコレクタと、放射源によって放出される汚染物を捕集する汚染物トラップとを含む。汚染物トラップは、実質的に放射状に延びる複数のフォイルと、コレクタによって収集される放射の外側円錐軌道外に位置する第1の磁気リングと、コレクタによって収集される放射の軌道内に位置する第2の磁気リングとを含む。これらの磁気リングは、フォイルに平行な成分を含む磁界を提供する。
【選択図】図3
Description
Claims (15)
- 放射を放出する放射エミッタと、
前記放射を収集するコレクタと、
前記放射エミッタによって放出される汚染物を捕集する汚染物トラップであって、実質的に放射状に延びる複数のフォイルと、前記コレクタによって収集される放射の外側円錐軌道外に位置する第1の磁気リングと、前記コレクタによって収集される放射の軌道内に位置する第2の磁気リングとを備える汚染物トラップとを備え、前記磁気リングが前記フォイルに平行な成分を含む磁界を提供する、放射源。 - 前記コレクタが、互いの内部に提供された複数の反射シェルを備え、前記第2の磁気リングが、前記コレクタの反射シェルに関連する、請求項1に記載の放射源。
- 前記汚染物トラップが、前記コレクタの別の反射シェルに関連する第3の磁気リングをさらに備える、請求項2に記載の放射源。
- 前記汚染物トラップが、前記コレクタの前記反射シェルの少なくとも半数に関連する磁気リングを備える、請求項3に記載の放射源。
- 前記磁気リングの少なくとも1つが、反射シェルに実質的に整列する、請求項2又は3に記載の放射源。
- 前記反射シェルのうちの1つの反射シェルの終端縁と前記放射エミッタとの間に前記磁気リングの少なくとも1つが提供される、請求項2から5のいずれか1項に記載の放射源。
- 前記磁気リングの内面及び外面が前記放射エミッタによって放出される放射の移動方向に実質的に平行になるように、前記少なくとも1つの磁気リングが放射エミッタの方に向けられる、請求項6に記載の放射源。
- 前記磁気リングのうちの少なくとも1つが、前記反射シェルの1つから延びる影領域内の前記コレクタに提供される、請求項2から7のいずれか1項に記載の放射源。
- 前記フォイルが、前記コレクタの前記反射シェル間に提供される、請求項2から8のいずれか1項に記載の放射源。
- 前記コレクタが、前記放射エミッタの放射を受け、前記放射を焦点へ向けて反射するコレクタミラーを備える、請求項1に記載の放射源。
- 前記第2の磁気リングが、前記放射が前記放射エミッタから放出される第1の方向に平行な方向の長さが前記第1の方向に垂直な第2の方向の長さよりも長い、請求項10に記載の放射源。
- 前記第2の磁気リングが、前記コレクタミラーの外側よりも前記コレクタミラーの中心の近くにある、請求項10又は11に記載の放射源。
- 前記第2の磁気リングが、前記コレクタミラーの中心と外側との距離の約50%未満の位置にある、請求項10又は11に記載の放射源。
- 請求項1から13のいずれか1項に記載の放射源と、
前記放射を放射ビームに調整する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与するパターニングデバイスを支持する支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
を備えるリソグラフィ装置。 - 放射源であって、
放射を放出する放射エミッタと、
前記放射を収集するコレクタと、
前記放射エミッタによって放出される汚染物を捕集する汚染物トラップであって、実質的に放射状に延びる複数のフォイルと、前記コレクタによって収集される放射の外側円錐軌道外に位置する第1の磁気リングと、前記コレクタによって収集される放射の軌道内に位置する第2の磁気リングとを備える汚染物とラップとを備え、前記磁気リングが前記フォイルに平行な成分を含む磁界を提供する、放射源と、
前記放射を放射ビームに調整する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与するパターニングデバイスを支持する支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
を備えるリソグラフィ装置。
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