JP2009266883A - Stage apparatus, aligner, and method for manufacturing device - Google Patents

Stage apparatus, aligner, and method for manufacturing device Download PDF

Info

Publication number
JP2009266883A
JP2009266883A JP2008111352A JP2008111352A JP2009266883A JP 2009266883 A JP2009266883 A JP 2009266883A JP 2008111352 A JP2008111352 A JP 2008111352A JP 2008111352 A JP2008111352 A JP 2008111352A JP 2009266883 A JP2009266883 A JP 2009266883A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plate
substrate
stage
arm
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008111352A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuhito Kubota
泰仁 窪田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP2008111352A priority Critical patent/JP2009266883A/en
Publication of JP2009266883A publication Critical patent/JP2009266883A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a stage apparatus which can hold a substrate without causing distortion at the edge. <P>SOLUTION: The stage apparatus SX includes a holding portion PH for holding a substrate P, and an arm 2 and an arm drive mechanism 4 as a mounting mechanism which moves downward while supporting the edge of the substrate P and mounts the substrate P on the holding portion PH. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

この発明は、基板を保持するステージ装置、該ステージ装置が保持する基板を露光する露光装置及びデバイス製造方法に関するものである。   The present invention relates to a stage apparatus for holding a substrate, an exposure apparatus for exposing a substrate held by the stage apparatus, and a device manufacturing method.

一般に、液晶デバイスや半導体デバイス等の各種デバイスの製造に露光装置が用いられている。露光装置では、マスク等に設けられたパターンが、ステージ装置上に載置された基板（ガラスプレート、半導体ウエハ等）に転写される。基板は、基板搬送装置により搬送され、ステージ装置が備える基板ホルダ上に載置される。   In general, an exposure apparatus is used for manufacturing various devices such as liquid crystal devices and semiconductor devices. In the exposure apparatus, a pattern provided on a mask or the like is transferred to a substrate (glass plate, semiconductor wafer, or the like) placed on a stage apparatus. The substrate is transferred by a substrate transfer device and placed on a substrate holder provided in the stage device.

従来の露光装置においては、ステージ装置に設けられた上下動機構（センタアップ機構）を用いて基板ホルダ上に基板を載置している。センタアップ機構は、基板ホルダの中央部に設けられ、基板の中央部を支持しながら下降動し、基板ホルダに基板を載置する（例えば、特許文献１参照）。
特開平８−１８１０５４号公報 In a conventional exposure apparatus, a substrate is placed on a substrate holder using a vertical movement mechanism (center-up mechanism) provided in a stage apparatus. The center-up mechanism is provided at the center of the substrate holder, moves downward while supporting the center of the substrate, and places the substrate on the substrate holder (see, for example, Patent Document 1).
JP-A-8-181054

ところで、中小型の液晶パネルはますます小型軽量化が進んでおり、それに伴い、より薄いガラスプレートが液晶デバイス用の基板として採用されている。かかるガラスプレートは、自重によるたわみや反りが生じやすく、上述のセンタアップ機構を用いて支持した場合、縁部に垂れが発生する。このような状態でセンタアップ機構が降下すると、基板は、縁部から順に基板ホルダ上に載置されることになり、縁部に歪（非線形な変形）が生じた状態で基板ホルダに吸着されて保持されることがある。   By the way, medium and small-sized liquid crystal panels have been increasingly reduced in size and weight, and accordingly, thinner glass plates have been adopted as substrates for liquid crystal devices. Such a glass plate is likely to bend or warp due to its own weight, and when supported using the above-described center-up mechanism, dripping occurs at the edge. When the center-up mechanism is lowered in such a state, the substrate is placed on the substrate holder in order from the edge, and is attracted to the substrate holder in a state where the edge is distorted (non-linear deformation). May be retained.

一般に、液晶デバイスの製造では、基板上に異なるパターンを順次転写して、各パターンを所定の配置関係で重ね合わせる必要がある。ところが、上述のように歪が生じた状態の基板に対してパターンの転写を行うと、パターンの重ね合わせ精度が低下するという問題があった。   In general, in manufacturing a liquid crystal device, it is necessary to sequentially transfer different patterns onto a substrate and to superimpose the patterns in a predetermined arrangement relationship. However, when a pattern is transferred to a substrate in which a distortion has occurred as described above, there is a problem that the pattern overlay accuracy is lowered.

この発明の目的は、縁部に歪みを生じさせることなく基板を保持することができるステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a stage apparatus, an exposure apparatus, and a device manufacturing method that can hold a substrate without causing distortion at an edge.

この発明のステージ装置は、基板を保持する保持部と、前記基板の縁部を支持して下降動し、該基板を前記保持部上に載置する載置機構とを備えたことを特徴とする。   The stage apparatus according to the present invention includes a holding unit that holds a substrate, and a mounting mechanism that supports the edge of the substrate and moves downward to place the substrate on the holding unit. To do.

また、この発明の露光装置は、この発明のステージ装置と、前記ステージ装置が保持する感光基板に対し、パターンを介した露光光を照射する照射装置とを備えたことを特徴とする。   An exposure apparatus according to the present invention includes the stage apparatus according to the present invention, and an irradiation apparatus that irradiates exposure light through a pattern onto a photosensitive substrate held by the stage apparatus.

また、この発明のデバイス製造方法は、この発明の露光装置を用いて、前記ステージ装置が保持する感光基板にパターンを転写する露光工程と、前記パターンが転写された前記感光基板を現像し、前記パターンに対応する形状の転写パターン層を前記感光基板に生成する現像工程と、前記転写パターン層を介して前記感光基板を加工する加工工程とを含むことを特徴とする。   Further, the device manufacturing method of the present invention uses the exposure apparatus of the present invention to develop an exposure process for transferring a pattern to a photosensitive substrate held by the stage device, and develop the photosensitive substrate to which the pattern is transferred, The method includes a development step of generating a transfer pattern layer having a shape corresponding to a pattern on the photosensitive substrate, and a processing step of processing the photosensitive substrate through the transfer pattern layer.

この発明のステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法によれば、縁部に歪みを生じさせることなく基板を保持することができる。さらに、この発明の露光装置及びデバイス製造方法によれば、歪みなく基板を保持することができるため、基板に複数のパターンを順次転写した場合に各パターンを高精度に重ね合わせることができる。   According to the stage apparatus, the exposure apparatus, and the device manufacturing method of the present invention, the substrate can be held without causing distortion at the edge. Furthermore, according to the exposure apparatus and the device manufacturing method of the present invention, since the substrate can be held without distortion, each pattern can be superimposed with high accuracy when a plurality of patterns are sequentially transferred onto the substrate.

以下、図面を参照して、本発明の実施形態に係るステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法について説明する。図１は、本発明の第１の実施形態にかかる露光装置の全体構成を示す図である。本実施形態においては、投影光学系ＰＬに対してマスクＭを保持するマスクステージ（図示せず）とプレートＰを保持するプレートステージＰＳとを同期移動させつつ、マスクＭに設けられたパターンの投影像をプレートＰ上に転写するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置を例に挙げて説明する。また、以下の説明においては、図１中に示したＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。ＸＹＺ直交座標系は、Ｘ軸及びＹ軸がプレートＰに対して平行となるよう設定され、Ｚ軸がプレートＰに対して直交する方向に設定されている。図中のＸＹＺ直交座標系は、実際にはＸＹ平面が水平面に平行な面に設定され、Ｚ軸が鉛直上方向に設定される。また、この実施形態ではマスクＭ及びプレートＰを移動させる方向（走査方向）をＸ軸方向に設定している。   Hereinafter, a stage apparatus, an exposure apparatus, and a device manufacturing method according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a view showing the overall arrangement of an exposure apparatus according to the first embodiment of the present invention. In the present embodiment, the projection of the pattern provided on the mask M is performed while the mask stage (not shown) holding the mask M and the plate stage PS holding the plate P are moved synchronously with respect to the projection optical system PL. A step-and-scan type exposure apparatus that transfers an image onto the plate P will be described as an example. In the following description, the XYZ orthogonal coordinate system shown in FIG. 1 is set, and the positional relationship of each member will be described with reference to this XYZ orthogonal coordinate system. The XYZ orthogonal coordinate system is set so that the X axis and the Y axis are parallel to the plate P, and the Z axis is set in a direction orthogonal to the plate P. In the XYZ orthogonal coordinate system in the figure, the XY plane is actually set to a plane parallel to the horizontal plane, and the Z axis is set to the vertically upward direction. In this embodiment, the direction (scanning direction) in which the mask M and the plate P are moved is set in the X-axis direction.

図１に示す露光装置は、プレートＰに対しマスクＭのパターンを介した露光光を照射する照射装置ＩＬを備えている。照射装置ＩＬは光源及び照明光学系等から構成されており、照射装置ＩＬから射出した露光光はマスクＭ上の照明領域内を均一に照明する。マスクＭを通過した露光光は投影光学系ＰＬに入射し、投影光学系ＰＬはマスクＭに設けられたパターンの投影像をプレートＰ上の露光領域に形成する。   The exposure apparatus shown in FIG. 1 includes an irradiation apparatus IL that irradiates the plate P with exposure light through the pattern of the mask M. The irradiation device IL includes a light source, an illumination optical system, and the like, and the exposure light emitted from the irradiation device IL uniformly illuminates the illumination area on the mask M. The exposure light that has passed through the mask M enters the projection optical system PL, and the projection optical system PL forms a projection image of the pattern provided on the mask M in the exposure region on the plate P.

この露光装置は、プレートＰを載置し、プレートＰを走査方向に移動させるステージ装置ＳＸを備えている。ステージ装置ＳＸは、ベースＢ上に載置されるプレートステージＰＳ、プレートステージＰＳ上に載置されるプレートテーブルＰＴ、プレートテーブルＰＴ上に載置されるプレートホルダＰＨを備えている。プレートステージＰＳは、Ｘ方向、Ｙ方向、Ｘ軸及びＹ軸に対する回転方向及びＺ方向に移動可能に構成されており、プレートＰの位置の調整及びプレートＰの走査方向への移動を行う。プレートホルダＰＨは、載置されたプレートＰを平面的に、即ちＸＹ平面に沿って保持する。また、プレートホルダＰＨ上にプレートＰを載置するアーム２、アーム２をＺ方向に移動させるアーム駆動部４を備えている。   This exposure apparatus includes a stage device SX that mounts the plate P and moves the plate P in the scanning direction. The stage device SX includes a plate stage PS placed on the base B, a plate table PT placed on the plate stage PS, and a plate holder PH placed on the plate table PT. The plate stage PS is configured to be movable in the X direction, the Y direction, the rotation direction with respect to the X axis and the Y axis, and the Z direction, and adjusts the position of the plate P and moves the plate P in the scanning direction. The plate holder PH holds the placed plate P in a plane, that is, along the XY plane. Further, an arm 2 for placing the plate P on the plate holder PH and an arm driving unit 4 for moving the arm 2 in the Z direction are provided.

図２は、プレートホルダＰＨ、アーム２及びアーム駆動部４の構成を示す図である。図２に示すように、アーム２は、プレートＰの縁部の外側近傍に配置される枠部６と、枠部６に凸設されてプレートＰの縁部を支持する複数の支持凸部８により構成されている。枠部６は、後述する搬送アーム１４の２本の爪部１６が挿入される部分を除きプレートホルダＰＨの縁部の外側近傍に形成されており、複数の支持凸部８は、枠部６から内側に櫛状に突き出して形成されている。アーム２は、プレートホルダＰＨ上にプレートＰを載置させる前に、搬送アーム１４により搬送されたプレートＰをプレートホルダＰＨの上部で受け取り、アーム駆動部４により下方（−Ｚ方向）に移動（下降動）する。アーム駆動部４は、空気圧駆動式または電動駆動式により構成されている。   FIG. 2 is a diagram illustrating the configuration of the plate holder PH, the arm 2, and the arm driving unit 4. As shown in FIG. 2, the arm 2 includes a frame portion 6 disposed near the outside of the edge portion of the plate P, and a plurality of support protrusion portions 8 that protrude from the frame portion 6 and support the edge portion of the plate P. It is comprised by. The frame portion 6 is formed near the outside of the edge portion of the plate holder PH except for a portion into which two claw portions 16 of the transfer arm 14 described later are inserted, and the plurality of support convex portions 8 are formed of the frame portion 6. It is formed so as to protrude in a comb shape from the inside. Before placing the plate P on the plate holder PH, the arm 2 receives the plate P transported by the transport arm 14 at the upper part of the plate holder PH and moves downward (−Z direction) by the arm drive unit 4 ( Move down). The arm drive unit 4 is configured by a pneumatic drive type or an electric drive type.

プレートホルダＰＨは、縁部にアーム２の複数の支持凸部８を収容する凹部である複数の収容部１０を備えている。複数の収容部１０は複数の支持凸部８に対応して設けられており、個々の収容部１０は個々の支持凸部８を収容する。即ち、１つの収容部１０に１つの支持凸部８が収容される。また、プレートホルダＰＨ上には、図示しない多数の吸気孔が設けられている。プレートＰは、アーム２に支持されてアーム２とともに降下し、アーム２の支持凸部８がプレートホルダＰＨの収容部１０に収容されるとともにプレートホルダＰＨ上に載置され吸着される。   The plate holder PH includes a plurality of accommodating portions 10 that are concave portions that accommodate the plurality of supporting convex portions 8 of the arm 2 at the edge portion. The plurality of accommodating portions 10 are provided corresponding to the plurality of supporting convex portions 8, and each accommodating portion 10 accommodates each supporting convex portion 8. That is, one supporting convex portion 8 is accommodated in one accommodating portion 10. In addition, a large number of intake holes (not shown) are provided on the plate holder PH. The plate P is supported by the arm 2 and descends together with the arm 2, and the support convex portion 8 of the arm 2 is accommodated in the accommodating portion 10 of the plate holder PH and is placed on and adsorbed on the plate holder PH.

また、この露光装置は、ステージ装置ＳＸ（プレートホルダＰＨ）に対してプレートＰの搬送を行う搬送装置ＣＸを備えている。搬送装置ＣＸは、露光前のプレートＰをプレートホルダＰＨの上部に搬入し、露光後のプレートＰをプレートホルダＰＨの上部から搬出する。搬送装置ＣＸは、搬送部ベース１２と搬送部ベース１２上にＸ方向に移動可能に構成されている搬送アーム１４を備えている。図２に示すように、搬送アーム１４は２本の爪部１６を備えており、この２本の爪部１６によりプレートＰは下方から保持される。   The exposure apparatus also includes a transport device CX that transports the plate P to the stage device SX (plate holder PH). The transport apparatus CX carries the plate P before exposure into the upper part of the plate holder PH, and carries out the plate P after exposure from the upper part of the plate holder PH. The transport apparatus CX includes a transport unit base 12 and a transport arm 14 configured to be movable on the transport unit base 12 in the X direction. As shown in FIG. 2, the transport arm 14 includes two claw portions 16, and the plate P is held from below by the two claw portions 16.

この露光装置においては、まず、搬送装置ＣＸにより露光前のプレートＰがステージ装置ＳＸの上部に搬入される。具体的には、搬送アーム１４の２本の爪部１６により保持された矩形状のプレートＰが投影光学系ＰＬとステージ装置ＳＸとの間に挿入される。次に、プレートＰは、搬送アーム１４の２本の爪部１６が下方に移動することにより、プレートホルダＰＨの上部に位置しているアーム２の複数の支持凸部８により支持される。即ち、プレートＰは、支持凸部８により矩形状の角部を含む三辺を支持されることにより、プレートＰの縁部をプレートＰの中央部（縁部に対する内部）より高くした状態で支持される。   In this exposure apparatus, first, the plate P before exposure is carried into the upper part of the stage device SX by the transport device CX. Specifically, a rectangular plate P held by the two claw portions 16 of the transport arm 14 is inserted between the projection optical system PL and the stage device SX. Next, the plate P is supported by the plurality of support protrusions 8 of the arm 2 positioned above the plate holder PH by moving the two claw portions 16 of the transport arm 14 downward. That is, the plate P is supported in a state in which the edge of the plate P is made higher than the central part of the plate P (inside the edge) by supporting the three sides including the rectangular corners by the support convex part 8. Is done.

図３は、図２のＡ−Ａ断面図であって、アーム２上にプレートＰが載置された状態を示している。プレートＰは薄い基板であるため、撓みが生じ、プレートＰの中央部が沈んだ状態となる。図３に示す状態で、プレートＰは、アーム２上に載置され、アーム駆動部４によりアーム２が降下することによりプレートホルダＰＨ上へ受け渡される。即ち、アーム２がプレートホルダＰＨのＺ方向における位置まで降下する前に、プレートＰの中央部がプレートホルダＰＨ上の中央部に載置され吸着される。このとき、プレートＰの縁部は支持凸部８により支持されているため、プレートホルダＰＨのＺ方向における位置まで降下しておらず、プレートホルダＰＨ上に載置されていない。アーム２が降下を続けることにより、プレートＰは中央部からほぼ放射状に順次プレートホルダＰＨ上に載置されて吸着される。アーム２がプレートホルダＰＨのＺ方向における位置まで降下し、アーム２の支持凸部８がプレートホルダＰＨの収容部１０に収容され始めたとき、プレートＰの縁部がプレートホルダＰＨ上に載置されて吸着され、アーム２からプレートホルダＰＨ上への受渡しが完了する。   FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 2 and shows a state where the plate P is placed on the arm 2. Since the plate P is a thin substrate, bending occurs, and the central portion of the plate P sinks. In the state shown in FIG. 3, the plate P is placed on the arm 2 and is transferred onto the plate holder PH when the arm 2 is lowered by the arm driving unit 4. That is, before the arm 2 is lowered to the position in the Z direction of the plate holder PH, the central portion of the plate P is placed on the central portion on the plate holder PH and is adsorbed. At this time, since the edge portion of the plate P is supported by the support convex portion 8, the plate holder PH is not lowered to the position in the Z direction and is not placed on the plate holder PH. As the arm 2 continues to descend, the plate P is placed and adsorbed on the plate holder PH sequentially and radially from the center. When the arm 2 is lowered to the position in the Z direction of the plate holder PH and the support convex portion 8 of the arm 2 starts to be accommodated in the accommodating portion 10 of the plate holder PH, the edge of the plate P is placed on the plate holder PH. As a result, the transfer from the arm 2 onto the plate holder PH is completed.

プレートＰに対する露光処理後、プレートホルダＰＨのＺ方向における位置より下方に位置するアーム２をアーム駆動部４により上昇させる。アーム２がプレートホルダＰＨのＺ方向における位置まで上昇し、プレートホルダＰＨの収容部１０に収容されていた支持凸部８がプレートホルダＰＨより上部まで上昇したとき、プレートホルダＰＨに保持されていたプレートＰの縁部がアーム２の支持凸部８に支持される。そして、アーム２は、プレートＰの中央部がプレートホルダＰＨから持ち上げられるまで、プレートＰの縁部を支持した状態で上昇を続ける。プレートＰの中央部がプレートホルダＰＨから持ち上げられると、搬送装置ＣＸの搬送アーム１４が水平方向（＋Ｘ方向）に移動し、搬送アーム１４の２本の爪部１６が、アーム２に縁部を支持されたプレートＰの下方に挿入される。爪部１６が挿入された後、アーム２は下降し、プレートＰは搬送アーム１４の２本の爪部１６上に載置される。搬送アーム１４は、プレートＰが載置された状態で水平方向（−Ｘ方向）に移動し、プレートＰを搬出する。   After the exposure process for the plate P, the arm 2 positioned below the position of the plate holder PH in the Z direction is raised by the arm driving unit 4. When the arm 2 was raised to the position of the plate holder PH in the Z direction and the support convex portion 8 accommodated in the accommodating portion 10 of the plate holder PH was elevated above the plate holder PH, it was held by the plate holder PH. The edge of the plate P is supported by the support convex portion 8 of the arm 2. The arm 2 continues to rise while supporting the edge of the plate P until the center of the plate P is lifted from the plate holder PH. When the central portion of the plate P is lifted from the plate holder PH, the transfer arm 14 of the transfer device CX moves in the horizontal direction (+ X direction), and the two claw portions 16 of the transfer arm 14 move the edge to the arm 2. It is inserted below the supported plate P. After the claw portion 16 is inserted, the arm 2 is lowered, and the plate P is placed on the two claw portions 16 of the transport arm 14. The transfer arm 14 moves in the horizontal direction (−X direction) with the plate P placed thereon, and carries the plate P out.

この実施形態に係るステージ装置及び露光装置によれば、アーム２によりプレートＰの縁部を保持し、アーム駆動部４によってアーム２を降下動させてプレートホルダＰＨ上にプレートＰを載置するため、プレートＰが中央部から縁部にかけて順次プレートホルダＰＨ上に載置されて吸着され、縁部に歪（非線形的な変形）を生じさせることなくプレートＰをプレートホルダＰＨ上で保持することができる。   According to the stage apparatus and the exposure apparatus according to this embodiment, the edge of the plate P is held by the arm 2 and the arm 2 is moved down by the arm driving unit 4 to place the plate P on the plate holder PH. The plate P is placed and adsorbed on the plate holder PH sequentially from the center to the edge, and the plate P can be held on the plate holder PH without causing distortion (nonlinear deformation) at the edge. it can.

また、プレートの中央部を支持し、プレートホルダ上に載置する従来のセンタアップ機構においては、プレートの縁部が垂れた状態でプレートホルダ上に載置されると、プレートの縁部がプレートホルダ上で平坦になる際に縁部とプレートホルダとの間に擦れが発生し、プレートホルダの表面処理が剥がれ、載置されたプレートとプレートホルダとの間に貼り付き現象（リンギング現象）が生じ、露光が終了したプレートをプレートホルダから搬出するのが困難であった。しかしながら、この実施形態に係るステージ装置及び露光装置においては、アーム２がプレートＰの縁部を支持しているため、縁部が垂れることなくプレートＰの中央部がプレートＰの縁部より先にプレートホルダＰＨ上に載置される。したがって、プレートＰとプレートホルダＰＨとの間の擦れ及び擦れによるリンギング現象を防止することができ、露光が終了したプレートＰをプレートホルダＰＨから容易に搬出することができる。   Further, in the conventional center-up mechanism that supports the center portion of the plate and places it on the plate holder, when the plate is placed on the plate holder with the edge of the plate hanging down, the edge of the plate becomes the plate When flattened on the holder, rubbing occurs between the edge and the plate holder, the surface treatment of the plate holder is peeled off, and a sticking phenomenon (ringing phenomenon) occurs between the placed plate and the plate holder. Thus, it was difficult to carry out the exposed plate from the plate holder. However, in the stage apparatus and the exposure apparatus according to this embodiment, since the arm 2 supports the edge of the plate P, the center of the plate P comes before the edge of the plate P without the edge hanging. It is placed on the plate holder PH. Therefore, rubbing between the plate P and the plate holder PH and ringing phenomenon due to rubbing can be prevented, and the exposed plate P can be easily carried out from the plate holder PH.

また、この実施形態に係る露光装置によれば、ステージ装置により歪みなくプレートを保持することができるため、プレートに複数のパターンを順次転写した場合に各パターンを高精度に重ね合わせることができる。   Further, according to the exposure apparatus according to this embodiment, the plate can be held without distortion by the stage device, so that when a plurality of patterns are sequentially transferred onto the plate, the patterns can be superimposed with high accuracy.

なお、上述の実施形態においては、図３に示すようにアーム２の支持凸部８がプレートＰの縁部を水平（ＸＹ平面に平行）に支持しているが、例えば図４に示すようにアーム２の支持凸部８を所定角度で下方に傾斜して凸設し、プレートＰの縁部を傾斜させて支持するようにしてもよい。また、アーム２の支持凸部８をプレートＰからの荷重に応じて所定角度で下方に傾斜する構成にしてもよい。この場合、プレートＰを載置していないときには支持凸部８は例えば水平に凸設されているが、プレートＰを載置したときはプレートＰの荷重により支持凸部８が所定角度で下方に傾斜し、図４に示すように、プレートＰの縁部を傾斜させて支持する。これらの場合には、より確実にプレートＰを中央部から縁部にかけて順次プレートホルダＰＨ上に載置させて吸着させることができる。   In the above-described embodiment, as shown in FIG. 3, the support convex portion 8 of the arm 2 supports the edge of the plate P horizontally (parallel to the XY plane). For example, as shown in FIG. The support convex portion 8 of the arm 2 may be provided so as to be inclined downward at a predetermined angle, and the edge portion of the plate P may be inclined and supported. Further, the support convex portion 8 of the arm 2 may be configured to incline downward at a predetermined angle according to the load from the plate P. In this case, when the plate P is not placed, the support convex portion 8 is, for example, horizontally provided, but when the plate P is placed, the support convex portion 8 is lowered downward by a predetermined angle due to the load of the plate P. Inclined and supported by inclining the edge of the plate P as shown in FIG. In these cases, the plate P can be more securely placed and adsorbed on the plate holder PH sequentially from the center to the edge.

また、上述の実施形態においては、１つの収容部１０が１つの支持凸部８を収容しているが、１つの収容部１０が２つ以上の支持凸部８を収容する構成にしてもよい。   Moreover, in the above-mentioned embodiment, although one accommodating part 10 accommodates one support convex part 8, you may make it the structure where one accommodating part 10 accommodates two or more support convex parts 8. FIG. .

また、上述の実施形態においては、矩形状のプレートＰをプレートホルダＰＨ上に載置しているが、矩形状以外の多角形状のプレートＰをプレートホルダＰＨ上に載置する際にも本発明を適用することができる。また、アーム２がプレートＰの角部を含む３つの辺部を支持しているが、プレートＰの各角部のみを支持する構成にしてもよい。   In the above-described embodiment, the rectangular plate P is placed on the plate holder PH. However, the present invention is also applicable when placing a polygonal plate P other than the rectangular shape on the plate holder PH. Can be applied. Further, although the arm 2 supports the three sides including the corners of the plate P, the arm 2 may be configured to support only the corners of the plate P.

また、上述の実施形態においては、ステップ・アンド・スキャン方式の露光装置を例に挙げて説明したが、マスクＭとプレートＰとを静止した状態でマスクＭのパターンを露光し、プレートＰを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の露光装置に本発明を適用することもできる。また、投影光学系を備えた露光装置を例に挙げて説明したが、マスクＭのパターンを投影光学系を介すことなくプレートＰ上に露光するプロキシミティ露光装置に本発明を適用することもできる。   In the above-described embodiment, the step-and-scan type exposure apparatus has been described as an example. However, the pattern of the mask M is exposed while the mask M and the plate P are stationary, and the plate P is sequentially exposed. The present invention can also be applied to a step-and-repeat type exposure apparatus that moves stepwise. Further, the exposure apparatus provided with the projection optical system has been described as an example, but the present invention may be applied to a proximity exposure apparatus that exposes the pattern of the mask M onto the plate P without passing through the projection optical system. it can.

次に、本発明に係る露光装置を用いたデバイス製造方法について説明する。図５は、半導体デバイスの製造工程を示すフローチャートである。この図に示すように、半導体デバイスの製造工程では、半導体デバイスの基板となるウエハに金属膜を蒸着し（ステップＳ４０）、この蒸着した金属膜上に感光性材料であるフォトレジストを塗布する（ステップＳ４２）。つづいて、本発明に係る露光装置を用いてマスクに形成されたパターンをウエハ上の各ショット領域に転写し（ステップＳ４４：露光工程）、この転写が終了したウエハの現像、つまりパターンが転写されたフォトレジストの現像を行う（ステップＳ４６：現像工程）。その後、ステップＳ４６によってウエハ表面に形成されたレジストパターンを加工用のマスクとし、ウエハ表面に対してエッチング等の加工を行う（ステップＳ４８：加工工程）。   Next, a device manufacturing method using the exposure apparatus according to the present invention will be described. FIG. 5 is a flowchart showing a manufacturing process of a semiconductor device. As shown in this figure, in the semiconductor device manufacturing process, a metal film is vapor-deposited on a wafer to be a semiconductor device substrate (step S40), and a photoresist, which is a photosensitive material, is applied onto the vapor-deposited metal film ( Step S42). Subsequently, the pattern formed on the mask is transferred to each shot area on the wafer using the exposure apparatus according to the present invention (step S44: exposure process), and the development of the wafer after the transfer, that is, the pattern is transferred. The developed photoresist is developed (step S46: development step). Thereafter, using the resist pattern formed on the wafer surface in step S46 as a mask for processing, the wafer surface is processed such as etching (step S48: processing step).

ここで、レジストパターンとは、本発明にかかる露光装置によって転写されたパターンに対応する形状の凹凸が形成されたフォトレジスト層（転写パターン層）であって、その凹部がフォトレジスト層を貫通しているものである。ステップＳ４８では、このレジストパターンを介してウエハ表面の加工を行う。ステップＳ４８で行われる加工には、例えばウエハ表面のエッチングまたは金属膜等の成膜の少なくとも一方が含まれる。なお、ステップＳ４４では、本発明にかかる露光装置は、フォトレジストが塗布されたウエハを感光基板としてパターンの転写を行う。   Here, the resist pattern is a photoresist layer (transfer pattern layer) in which unevenness having a shape corresponding to the pattern transferred by the exposure apparatus according to the present invention is formed, and the recess penetrates the photoresist layer. It is what. In step S48, the wafer surface is processed through this resist pattern. The processing performed in step S48 includes at least one of etching of the wafer surface or film formation of a metal film, for example. In step S44, the exposure apparatus according to the present invention performs pattern transfer using the photoresist-coated wafer as a photosensitive substrate.

図６は、液晶表示素子等の液晶デバイスの製造工程を示すフローチャートである。この図に示すように、液晶デバイスの製造工程では、パターン形成工程（ステップＳ５０）、カラーフィルタ形成工程（ステップＳ５２）、セル組立工程（ステップＳ５４）およびモジュール組立工程（ステップＳ５６）を順次行う。   FIG. 6 is a flowchart showing a manufacturing process of a liquid crystal device such as a liquid crystal display element. As shown in this figure, in the liquid crystal device manufacturing process, a pattern forming process (step S50), a color filter forming process (step S52), a cell assembling process (step S54) and a module assembling process (step S56) are sequentially performed.

ステップＳ５０のパターン形成工程では、プレート（感光基板）Ｐとしてフォトレジストが塗布されたガラス基板上に、本発明にかかる露光装置を用いて回路パターンおよび電極パターン等の所定のパターンを形成する。このパターン形成工程には、本発明にかかる露光装置を用いてフォトレジスト層に、マスクに設けられたパターンの投影像を転写する露光工程と、パターンの投影像が転写されたプレートの現像、つまりガラス基板上のフォトレジスト層の現像を行い、パターンに対応する形状のフォトレジスト層（転写パターン層）を形成する現像工程と、この現像されたフォトレジスト層を介してガラス基板を加工する加工工程とが含まれている。   In the pattern forming step of step S50, a predetermined pattern such as a circuit pattern and an electrode pattern is formed on a glass substrate coated with a photoresist as a plate (photosensitive substrate) P using the exposure apparatus according to the present invention. In this pattern forming process, an exposure process for transferring the projected image of the pattern provided on the mask to the photoresist layer using the exposure apparatus according to the present invention, and development of the plate on which the projected image of the pattern is transferred, that is, A development process for developing a photoresist layer (transfer pattern layer) corresponding to a pattern by developing the photoresist layer on the glass substrate, and a processing process for processing the glass substrate through the developed photoresist layer And are included.

ステップＳ５２のカラーフィルタ形成工程では、Ｒ（Ｒｅｄ）、Ｇ（Ｇｒｅｅｎ）、Ｂ（Ｂｌｕｅ）に対応する３つのドットの組をマトリクス状に多数配列するか、またはＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルタの組を水平走査方向に複数配列したカラーフィルタを形成する。ステップＳ５４のセル組立工程では、ステップＳ５０によって所定パターンが形成されたガラス基板と、ステップＳ５２によって形成されたカラーフィルタとを用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てる。具体的には、例えばガラス基板とカラーフィルタとの間に液晶を注入することで液晶パネルを形成する。ステップＳ５６のモジュール組立工程では、ステップＳ５４によって組み立てられた液晶パネルに対し、この液晶パネルの表示動作を行わせる電気回路およびバックライト等の各種部品を取り付ける。   In the color filter forming step in step S52, a large number of sets of three dots corresponding to R (Red), G (Green), and B (Blue) are arranged in a matrix, or three of R, G, and B are arranged. A color filter is formed by arranging a plurality of stripe filter sets in the horizontal scanning direction. In the cell assembly process in step S54, a liquid crystal panel (liquid crystal cell) is assembled using the glass substrate on which the predetermined pattern is formed in step S50 and the color filter formed in step S52. Specifically, for example, a liquid crystal panel is formed by injecting liquid crystal between a glass substrate and a color filter. In the module assembling process in step S56, various components such as an electric circuit and a backlight for performing the display operation of the liquid crystal panel are attached to the liquid crystal panel assembled in step S54.

また、本発明は、半導体デバイスまたは液晶デバイス製造用の露光装置への適用に限定されることなく、例えば、プラズマディスプレイ等のディスプレイ装置用の露光装置や、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシーン、薄膜磁気ヘッド、及びＤＮＡチップ等の各種デバイスを製造するための露光装置にも広く適用できる。更に、本発明は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスク（フォトマスク、レチクル等）をフォトリソグラフィ工程を用いて製造する際の、露光工程（露光装置）にも適用することができる。   The present invention is not limited to application to an exposure apparatus for manufacturing a semiconductor device or a liquid crystal device. For example, an exposure apparatus for a display device such as a plasma display, an image sensor (CCD or the like), a micromachine, The present invention can be widely applied to an exposure apparatus for manufacturing various devices such as a thin film magnetic head and a DNA chip. Furthermore, the present invention can also be applied to an exposure process (exposure apparatus) when manufacturing a mask (photomask, reticle, etc.) on which mask patterns of various devices are formed using a photolithography process.

本発明の実施形態に係る露光装置の全体構成を示す図である。It is a figure which shows the whole structure of the exposure apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプレートホルダ及びアームの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the plate holder and arm which concern on embodiment of this invention. アーム上にプレートが載置されている状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state in which the plate is mounted on the arm. アーム上にプレートが載置されている状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state in which the plate is mounted on the arm. 本発明に係るデバイス製造方法の製造工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process of the device manufacturing method which concerns on this invention. 本発明に係るデバイス製造方法の製造工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process of the device manufacturing method which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

ＩＬ…照射装置、ＰＬ…投影光学系、Ｍ…マスク、Ｐ…プレート、ＳＸ…ステージ装置、ＰＨ…プレートホルダ、ＰＴ…プレートテーブル、ＰＳ…プレートステージ、Ｂ…ベース、ＣＸ…搬送装置、２…アーム、６…枠部、８…支持凸部、１０…収容部、１２…搬送ベース、１４…搬送アーム、１６…爪部。   IL ... Irradiation device, PL ... Projection optical system, M ... Mask, P ... Plate, SX ... Stage device, PH ... Plate holder, PT ... Plate table, PS ... Plate stage, B ... Base, CX ... Transport device, 2 ... Arm, 6 ... frame part, 8 ... support convex part, 10 ... accommodating part, 12 ... conveyance base, 14 ... conveyance arm, 16 ... claw part.

Claims (10)

基板を保持する保持部と、
前記基板の縁部を支持して下降動し、該基板を前記保持部上に載置する載置機構と、
を備えたことを特徴とするステージ装置。 A holding unit for holding the substrate;
A mounting mechanism that supports the edge of the substrate and moves downward to place the substrate on the holding unit;
A stage apparatus comprising: 前記載置機構は、前記基板の縁部近傍に配置させる枠部と、前記枠部に凸設されて前記基板の縁部を支持する複数の支持凸部と、を有することを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。   The placement mechanism according to claim 1, further comprising: a frame portion disposed in the vicinity of the edge portion of the substrate; and a plurality of support convex portions that are provided on the frame portion to support the edge portion of the substrate. Item 2. The stage device according to Item 1. 前記支持凸部は、所定角度で下方に傾斜して凸設されることを特徴とする請求項２に記載のステージ装置。   The stage apparatus according to claim 2, wherein the support convex portion is provided so as to be inclined downward at a predetermined angle. 前記支持凸部は、前記基板からの荷重に応じて所定角度で下方に傾斜することを特徴とする請求項２に記載のステージ装置。   The stage apparatus according to claim 2, wherein the support convex portion is inclined downward at a predetermined angle in accordance with a load from the substrate. 前記保持部は、前記載置機構によって降下された複数の前記支持凸部を収容する収容部を有することを特徴とする請求項２〜４のいずれか一項に記載のステージ装置。   The stage device according to any one of claims 2 to 4, wherein the holding unit includes a storage unit that stores the plurality of support protrusions lowered by the placement mechanism. 前記載置機構は、前記保持部に保持された前記基板の縁部を支持して上昇動し、該基板を前記保持部から持ち上げることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載のステージ装置。   The mounting mechanism according to any one of claims 1 to 5, wherein the placement mechanism supports an edge portion of the substrate held by the holding portion and moves upward to lift the substrate from the holding portion. The stage apparatus as described. 前記載置機構は、矩形状の前記基板の各角部と三以上の辺部との少なくとも一方を支持することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載のステージ装置。   The stage device according to any one of claims 1 to 6, wherein the placement mechanism supports at least one of each corner and three or more sides of the rectangular substrate. 請求項１〜７のいずれか一項に記載のステージ装置と、
前記ステージ装置が保持する感光基板に対し、パターンを介した露光光を照射する照射装置と、
を備えたことを特徴とする露光装置。 The stage apparatus according to any one of claims 1 to 7,
An irradiation device that irradiates exposure light through a pattern to a photosensitive substrate held by the stage device;
An exposure apparatus comprising: 前記載置機構に対して前記感光基板の搬送を行う搬送機構を備えたことを特徴とする請求項８に記載の露光装置。   The exposure apparatus according to claim 8, further comprising a transport mechanism that transports the photosensitive substrate with respect to the placement mechanism. 請求項８または９に記載の露光装置を用いて、前記ステージ装置が保持する感光基板にパターンを転写する露光工程と、
前記パターンが転写された前記感光基板を現像し、前記パターンに対応する形状の転写パターン層を前記感光基板に生成する現像工程と、
前記転写パターン層を介して前記感光基板を加工する加工工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。 An exposure step of transferring a pattern to a photosensitive substrate held by the stage device using the exposure apparatus according to claim 8 or 9,
Developing the photosensitive substrate to which the pattern has been transferred, and generating a transfer pattern layer having a shape corresponding to the pattern on the photosensitive substrate;
A processing step of processing the photosensitive substrate through the transfer pattern layer;
A device manufacturing method comprising:
JP2008111352A 2008-04-22 2008-04-22 Stage apparatus, aligner, and method for manufacturing device Pending JP2009266883A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008111352A JP2009266883A (en) 2008-04-22 2008-04-22 Stage apparatus, aligner, and method for manufacturing device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008111352A JP2009266883A (en) 2008-04-22 2008-04-22 Stage apparatus, aligner, and method for manufacturing device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009266883A true JP2009266883A (en) 2009-11-12

Family

ID=41392391

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008111352A Pending JP2009266883A (en) 2008-04-22 2008-04-22 Stage apparatus, aligner, and method for manufacturing device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009266883A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102880013A (en) * 2012-09-28 2013-01-16 清华大学 Reticle stage worktable
CN103543612A (en) * 2013-09-25 2014-01-29 清华大学 Moving-iron cableless six-degree-of-freedom magnetic levitation motion platform with vacuum cover
JP2022159279A (en) * 2020-12-17 2022-10-17 株式会社ニコン Substrate transport device, exposure device, flat panel display production method, device production method, substrate transport method and exposure method

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102880013A (en) * 2012-09-28 2013-01-16 清华大学 Reticle stage worktable
CN103543612A (en) * 2013-09-25 2014-01-29 清华大学 Moving-iron cableless six-degree-of-freedom magnetic levitation motion platform with vacuum cover
JP2022159279A (en) * 2020-12-17 2022-10-17 株式会社ニコン Substrate transport device, exposure device, flat panel display production method, device production method, substrate transport method and exposure method
JP7355174B2 (en) 2020-12-17 2023-10-03 株式会社ニコン Substrate transport device, exposure device, flat panel display manufacturing method, device manufacturing method, substrate transport method, and exposure method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI667549B (en) Exposure apparatus, device manufacturing method, flat panel display manufacturing method, and exposure method
JP2008103703A (en) Substrate retaining unit, exposure apparatus provided with substrate retaining unit, and device manufacturing method
KR20080040800A (en) Apparatus for forming a nano-pattern and method using the same
KR20090006064A (en) Stage apparatus, exposure apparatus, stage control method, exposure method and device manufacturing method
TWI600973B (en) Object exchange method, object exchange system, exposure apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method
JP2009258197A (en) Proximity exposure device, substrate sucking method of proximity exposure device, and method for manufacturing display panel substrate
JP2009266883A (en) Stage apparatus, aligner, and method for manufacturing device
JP2007114570A (en) Substrate holder, exposure device and method for manufacturing device
JP2001100169A (en) Substrate supporting device and substrate processing device
JP2009258195A (en) Proximity exposure device, substrate moving method for proximity exposure device, and method of manufacturing display panel
JP6347285B2 (en) Object processing apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
JP2020046681A (en) Exposure apparatus
JP4674467B2 (en) Substrate transport method, substrate transport apparatus, exposure method, exposure apparatus, and microdevice manufacturing method
JP6036958B2 (en) Exposure equipment
JP2007311374A (en) Substrate holder, exposure apparatus and manufacturing method of device
JP2007115992A (en) Exposure device, substrate and device manufacturing method
JP6631655B2 (en) Exposure apparatus, flat panel display manufacturing method, and device manufacturing method
JP5831773B2 (en) Conveying apparatus, object processing apparatus, conveying method, and object processing method
JP5304017B2 (en) Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
JP2007035706A (en) Conveyance apparatus, exposure device, and method of manufacturing micro device
JP2007233052A (en) Substrate stage device, exposure apparatus and method for manufacturing device
JP2007121999A (en) Color filter for liquid crystal display, and method of manufacturing same
JP7287058B2 (en) Substrate transport apparatus, exposure apparatus, flat panel display manufacturing method, device manufacturing method, and exposure method
JP2013229625A (en) Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method
JP2006005139A (en) Scanning projection aligner