JP2009260339A - 位置決めシステム、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
位置決めシステム、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009260339A JP2009260339A JP2009092537A JP2009092537A JP2009260339A JP 2009260339 A JP2009260339 A JP 2009260339A JP 2009092537 A JP2009092537 A JP 2009092537A JP 2009092537 A JP2009092537 A JP 2009092537A JP 2009260339 A JP2009260339 A JP 2009260339A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- actuator
- force
- positioning system
- balance mass
- support
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 74
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 55
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 49
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims description 4
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70766—Reaction force control means, e.g. countermass
Landscapes
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置のベースフレーム内でテーブルを位置決めするための位置決めシステムが、テーブルに作動力を加えるための第1のアクチュエータであって、第1のアクチュエータの反力を吸収するように構築され配置された第1のバランスマスに接続される第1のアクチュエータを含み、この位置決めシステムが、第1のアクチュエータにより第1のバランスマスに加えられた作動力によって引き起こされたトルクを補償するために補償力および/またはトルクを加えるように構築され配置されたコントローラおよび第2のアクチュエータを含む。
【選択図】図3
Description
h1×F1=l1×F214−l2×F212
によって計算することができる。
Claims (17)
- サポートを位置決めするための位置決めシステムであって、
前記サポートに作動力を加えるように構成された第1のアクチュエータであって、前記第1のアクチュエータによって生成された前記作動力に起因する反力を吸収するように構築され配置された第1のバランスマスに結合される第1のアクチュエータと、
前記第1のアクチュエータにより前記第1のバランスマスに加えられた前記作動力によって引き起こされたトルクを補償するために補償力を加えるように構築され配置されたコントローラおよび第2のアクチュエータと、
を備える位置決めシステム。 - 前記コントローラおよび前記第2のアクチュエータが、前記第1のバランスマスと前記サポートとの質量中心の位置の違いによって引き起こされたトルクを補償するように構築され配置される、
請求項1に記載の位置決めシステム。 - 前記第1のバランスマスおよび前記サポートの質量中心が第1の方向において位置の違いを有し、前記第1のアクチュエータが前記第1の方向に対して垂直な方向に前記作動力を加えるように構築され配置される、
請求項2に記載の位置決めシステム。 - 前記第1の方向が重力に対して実質的に平行であり、前記第1の方向に対して垂直な方向が実質的に水平面内にある、
請求項3に記載の位置決めシステム。 - 前記第1のアクチュエータが、磁石プレートおよびコイルシステムを含む平面モータである、
請求項1に記載の位置決めシステム。 - 前記磁石プレートが前記第1のバランスマスに設けられ、
前記コイルシステムが前記サポートに設けられる、
請求項5に記載の位置決めシステム。 - 前記テーブル、前記第1のバランスマス、および前記第1のアクチュエータを移動可能に支持するベースフレームを含む、
請求項1に記載の位置決めシステム。 - 前記第2のアクチュエータが、第2のバランスマスに前記補償力を加えるように構築され配置される、
請求項1に記載の位置決めシステム。 - 前記第2のアクチュエータが、前記ベースフレームと、前記ベースフレームを支持するグランドフロアとの間に前記補償力を加えるように構成される、
請求項8に記載の位置決めシステム。 - 前記第2のバランスマスが、補償トルクを加えるために前記第2のアクチュエータによって回転方向に作動されるように構成される、
請求項7に記載の位置決めシステム。 - 前記第2のバランスマスが前記ベースフレームから移動可能につり下げられ、
前記第2のアクチュエータが前記第2のバランスマスと前記ベースフレームとの間に前記補償力を加えるように構成される、
請求項7に記載の位置決めシステム。 - 前記第2のバランスマスが前記第1のバランスマスから移動可能につり下げられる、
請求項7に記載の位置決めシステム。 - 前記コントローラが、前記第1のアクチュエータによって加えられた前記作動力を表す入力と、前記作動力に基づいて前記補償力を計算するように構築され配置された計算器とを含む、
請求項1に記載の位置決めシステム。 - 前記コントローラが、前記作動力の位置および方向に基づいた前記補償力と、前記補償力の位置および方向とを計算するように構築され配置される、
請求項1に記載の位置決めシステム。 - 放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構築されたパターニングデバイスサポートであって、パターン付き放射ビームを形成するために前記パターニングデバイスが前記放射ビームの断面にパターンを付与することができるパターニングデバイスサポートと、
基板を保持するように構築された基板サポートと、
前記基板のターゲット部分上に前記パターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
前記サポートのうちの少なくとも1つを位置決めするように構築され配置された位置決めシステムであって、
前記サポートに作動力を加えるように構成された第1のアクチュエータであって、前記第1のアクチュエータによって生成された前記作動力に起因する反力を吸収するように構築され配置された第1のバランスマスに結合される第1のアクチュエータと、
前記第1のアクチュエータにより前記第1のバランスマスに加えられた前記作動力によって引き起こされたトルクを補償するために補償力を加えるように構築され配置されたコントローラおよび第2のアクチュエータと、
を含む位置決めシステムと、
を備えるリソグラフィ装置。 - 放射感応性材料の層によって少なくとも部分的に覆われる基板を基板サポートに供給するステップと、
パターニングデバイスをパターニングデバイスサポートに供給するステップと、
前記放射感応性材料の層上にパターン付き放射ビームを投影するステップと、
前記サポートのうちの少なくとも1つを位置決めするステップであって、
第1のバランスマスと前記サポートとの間に第1の力を加えるステップであって、前記第1の力が前記第1のバランスマスに対して前記サポートを移動させるステップと、
前記第1のバランスマスと前記サポートとの質量中心の位置の違いによって引き起こされたトルクを補償するために第2の力を制御可能に加えるステップと、
を含む位置決めするステップと、
を含むデバイス製造方法。 - 前記第2の力が第2のバランスマスに加えられる、
請求項16に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US7112608P | 2008-04-14 | 2008-04-14 | |
US61/071,126 | 2008-04-14 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009260339A true JP2009260339A (ja) | 2009-11-05 |
JP5147776B2 JP5147776B2 (ja) | 2013-02-20 |
Family
ID=40718932
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009092537A Active JP5147776B2 (ja) | 2008-04-14 | 2009-04-07 | 位置決めシステム、およびリソグラフィ装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8144310B2 (ja) |
JP (1) | JP5147776B2 (ja) |
CN (1) | CN101561642B (ja) |
SG (1) | SG156572A1 (ja) |
TW (1) | TWI453562B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021509968A (ja) * | 2018-01-04 | 2021-04-08 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 位置決め装置、リソグラフィ装置、バランス・マストルクを補償する方法及び装置製造方法 |
JP7433181B2 (ja) | 2020-09-23 | 2024-02-19 | 株式会社Screenホールディングス | 描画装置 |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8144310B2 (en) | 2008-04-14 | 2012-03-27 | Asml Netherlands B.V. | Positioning system, lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP5674316B2 (ja) * | 2010-01-06 | 2015-02-25 | オークマ株式会社 | 構造体のたわみ抑制方法 |
NL2008695A (en) * | 2011-05-25 | 2012-11-27 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus comprising substrate table. |
JP5789153B2 (ja) * | 2011-08-15 | 2015-10-07 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
US9298077B2 (en) | 2011-10-10 | 2016-03-29 | Nikon Corporation | Reaction assembly for a stage assembly |
KR20150013570A (ko) * | 2012-04-27 | 2015-02-05 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치 |
CN103809384B (zh) * | 2012-11-12 | 2016-03-09 | 上海微电子装备有限公司 | 工件台与掩模台公用的平衡质量***及光刻机 |
JP6218459B2 (ja) * | 2013-07-02 | 2017-10-25 | キヤノン株式会社 | 除振装置、除振方法、リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法 |
JP6449875B2 (ja) * | 2013-10-29 | 2019-01-09 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
US10649347B2 (en) | 2013-10-29 | 2020-05-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
WO2015187803A1 (en) | 2014-06-05 | 2015-12-10 | The Regents Of The University Of Michigan | Magnet assisted stage for vibration and heat reduction in wafer scanning |
NL2016688A (en) * | 2015-07-09 | 2017-01-17 | Asml Netherlands Bv | Movable support and lithographic apparatus |
JP7166175B2 (ja) | 2016-06-27 | 2022-11-07 | フォームラブス,インコーポレーテッド | 積層造形のための位置検出技術ならびに関連するシステムおよび方法 |
JP6880979B2 (ja) * | 2016-11-30 | 2021-06-02 | 株式会社リコー | 振動抑制装置および電子機器 |
JP6990296B2 (ja) * | 2017-09-04 | 2022-01-12 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 電子ビーム検査装置のステージ位置決め |
WO2019232303A1 (en) | 2018-06-01 | 2019-12-05 | Formlabs, Inc. | Improved stereolithography techniques and related systems and methods |
EP3670958A1 (en) * | 2018-12-21 | 2020-06-24 | ASML Netherlands B.V. | Positioning device, stiffness reduction device and electron beam apparatus |
KR20220054588A (ko) * | 2019-09-02 | 2022-05-03 | 파나소닉 아이피 매니지먼트 가부시키가이샤 | 스테이지 위치 제어 장치, 및 스테이지 위치 제어 방법 |
CN115059730B (zh) * | 2022-07-01 | 2023-09-26 | 上海隐冠半导体技术有限公司 | 运动*** |
CN114810930B (zh) * | 2022-07-01 | 2022-09-16 | 上海隐冠半导体技术有限公司 | 运动*** |
CN116230610B (zh) * | 2023-05-08 | 2023-09-26 | 上海隐冠半导体技术有限公司 | 一种工件的位置调整方法及*** |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10223527A (ja) * | 1996-12-06 | 1998-08-21 | Nikon Corp | 露光装置 |
JPH11191526A (ja) * | 1997-12-26 | 1999-07-13 | Canon Inc | ステージ装置、およびこれを用いた露光装置、ならびにデバイス製造方法 |
JPH11190786A (ja) * | 1997-12-26 | 1999-07-13 | Canon Inc | ステージ装置、およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 |
JPH11243132A (ja) * | 1997-04-22 | 1999-09-07 | Canon Inc | 位置決め装置およびこれを用いた露光装置 |
JP2001217172A (ja) * | 2000-01-31 | 2001-08-10 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
JP2005354022A (ja) * | 2004-05-14 | 2005-12-22 | Canon Inc | ステージ装置および露光装置ならびにデバイス製造方法 |
JP2007273633A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Canon Inc | ステージ装置及びその制御方法、露光装置及びデバイス製造方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6222614B1 (en) * | 1996-12-06 | 2001-04-24 | Nikon Corporation | Exposure elements with a cable-relaying support |
US6028376A (en) * | 1997-04-22 | 2000-02-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Positioning apparatus and exposure apparatus using the same |
DE19938893B4 (de) | 1999-08-17 | 2005-06-09 | Infineon Technologies Ag | Schwingungsfreie Vorrichtung zur Halbleiterbelichtung |
TW546551B (en) | 1999-12-21 | 2003-08-11 | Asml Netherlands Bv | Balanced positioning system for use in lithographic apparatus |
US20030202865A1 (en) | 2002-04-25 | 2003-10-30 | Applied Materials, Inc. | Substrate transfer apparatus |
US7239369B2 (en) * | 2002-09-30 | 2007-07-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP1486824A1 (en) * | 2003-06-11 | 2004-12-15 | ASML Netherlands B.V. | A movable stage system for in a lithographic projection apparatus, lithographic projection apparatus and device manufacturing method |
US7248339B2 (en) * | 2003-07-04 | 2007-07-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7224432B2 (en) * | 2004-05-14 | 2007-05-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Stage device, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US7292317B2 (en) * | 2005-06-08 | 2007-11-06 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing substrate stage compensating |
US7898204B2 (en) * | 2007-01-05 | 2011-03-01 | Active Precision, Inc. | High-speed substrate manipulator |
CN100492177C (zh) * | 2007-06-22 | 2009-05-27 | 上海微电子装备有限公司 | 光刻机工件台平衡定位*** |
US8144310B2 (en) * | 2008-04-14 | 2012-03-27 | Asml Netherlands B.V. | Positioning system, lithographic apparatus and device manufacturing method |
-
2009
- 2009-03-24 US US12/409,919 patent/US8144310B2/en active Active
- 2009-03-27 TW TW98110264A patent/TWI453562B/zh active
- 2009-04-03 SG SG200902335-9A patent/SG156572A1/en unknown
- 2009-04-07 JP JP2009092537A patent/JP5147776B2/ja active Active
- 2009-04-09 CN CN2009101348054A patent/CN101561642B/zh active Active
-
2012
- 2012-02-17 US US13/398,890 patent/US9122173B2/en active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10223527A (ja) * | 1996-12-06 | 1998-08-21 | Nikon Corp | 露光装置 |
JPH11243132A (ja) * | 1997-04-22 | 1999-09-07 | Canon Inc | 位置決め装置およびこれを用いた露光装置 |
JPH11191526A (ja) * | 1997-12-26 | 1999-07-13 | Canon Inc | ステージ装置、およびこれを用いた露光装置、ならびにデバイス製造方法 |
JPH11190786A (ja) * | 1997-12-26 | 1999-07-13 | Canon Inc | ステージ装置、およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 |
JP2001217172A (ja) * | 2000-01-31 | 2001-08-10 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
JP2005354022A (ja) * | 2004-05-14 | 2005-12-22 | Canon Inc | ステージ装置および露光装置ならびにデバイス製造方法 |
JP2007273633A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Canon Inc | ステージ装置及びその制御方法、露光装置及びデバイス製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021509968A (ja) * | 2018-01-04 | 2021-04-08 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 位置決め装置、リソグラフィ装置、バランス・マストルクを補償する方法及び装置製造方法 |
JP6990775B2 (ja) | 2018-01-04 | 2022-01-12 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 位置決め装置、リソグラフィ装置、バランス・マストルクを補償する方法及び装置製造方法 |
JP7433181B2 (ja) | 2020-09-23 | 2024-02-19 | 株式会社Screenホールディングス | 描画装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101561642B (zh) | 2012-10-10 |
SG156572A1 (en) | 2009-11-26 |
US8144310B2 (en) | 2012-03-27 |
US20120147355A1 (en) | 2012-06-14 |
CN101561642A (zh) | 2009-10-21 |
US20090262325A1 (en) | 2009-10-22 |
US9122173B2 (en) | 2015-09-01 |
TW200947175A (en) | 2009-11-16 |
JP5147776B2 (ja) | 2013-02-20 |
TWI453562B (zh) | 2014-09-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5147776B2 (ja) | 位置決めシステム、およびリソグラフィ装置 | |
JP4695022B2 (ja) | ステージ装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP4638454B2 (ja) | リソグラフィ装置およびリソグラフィ装置のコンポーネントを制御する方法 | |
JP4976483B2 (ja) | リソグラフィ装置及び基板ステージ補償を利用したデバイス製造方法 | |
JP5124605B2 (ja) | リソグラフィ装置および位置決め組立体 | |
JP5159740B2 (ja) | リソグラフィ装置及びアクチュエータ | |
JP5162417B2 (ja) | リソグラフィ装置およびその振動制御方法 | |
JP4881215B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP6741739B2 (ja) | 粒子ビーム装置 | |
JP2019523437A (ja) | リソグラフィ装置及びリソグラフィ投影装置 | |
US8947640B2 (en) | Positioning device, lithographic apparatus, positioning method and device manufacturing method | |
JP2012114436A (ja) | コントローラ、リソグラフィ装置、オブジェクト位置の制御方法及びデバイス製造方法 | |
JP2008072100A (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP2009267406A (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP6644891B2 (ja) | アクティブベースフレームサポートを有するリソグラフィ装置 | |
JP2009200488A (ja) | 粘弾性制振層を備えるチャックを有するリソグラフィ装置 | |
KR101138901B1 (ko) | 위치설정 시스템, 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
US10228626B2 (en) | Movable support and lithographic apparatus | |
US9753381B2 (en) | Substrate table system, lithographic apparatus and substrate table swapping method | |
JP6697563B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP4977174B2 (ja) | オブジェクトサポート位置決めデバイスおよびリソグラフィ装置 | |
JP2009302535A (ja) | リソグラフィ装置、複合材料及び製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110714 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110802 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111101 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120316 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120613 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121120 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121127 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5147776 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151207 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |