JP2009245707A - Display device, and method for manufacturing display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は表示装置および表示装置の製造方法に関し、特には、有機電界発光素子を備えた表示装置および、その製造方法に関する。 The present invention relates to a display device and a manufacturing method of the display device, and more particularly to a display device including an organic electroluminescent element and a manufacturing method thereof.
平面型の表示装置を構成する有機電界発光素子は、陽極と陰極との間に、発光層を含む有機膜を挟持してなる。このような構成の有機電界発光素子を用いた表示装置では、陽極と陰極との間に異物が混入すると、この異物よって陽極−陰極間の短絡が引き起こされ、画素が発光しない滅点欠陥が発生する。このような異物による不具合の影響は、高精細化が図られた表示装置において顕著になる。 An organic electroluminescent element constituting a flat display device is formed by sandwiching an organic film including a light emitting layer between an anode and a cathode. In a display device using an organic electroluminescent element having such a configuration, if a foreign substance is mixed between the anode and the cathode, the foreign substance causes a short circuit between the anode and the cathode, resulting in a dark spot defect in which the pixel does not emit light. To do. The influence of such a defect due to foreign matters becomes significant in a display device with high definition.
そこで、1画素に配置される有機電界発光素子を複数個に画素分割する構成が提案されている。この場合、同一画素内のいずれかの有機電界発光素子が異物によるショート等で欠陥化しても、いずれかの有機電界発光素子が正常に発光するため画素が完全な滅点になることを防止している。 In view of this, a configuration has been proposed in which an organic electroluminescent element arranged in one pixel is divided into a plurality of pixels. In this case, even if one of the organic electroluminescent elements in the same pixel becomes defective due to a short circuit due to a foreign substance, any one of the organic electroluminescent elements emits light normally, thereby preventing the pixel from becoming a complete dark spot. ing.
ここで、以上のような有機電界発光素子を用いた表示装置の製造において、発光層を含む蒸着パターンの形成は、そして、赤（Ｒ）緑（Ｇ）青（Ｂ）の各副画素に対する各有機材料を、マスク蒸着法によってそれぞれの画素に塗り分ける３色塗り分け方式で行われる。図１２および図１３には、画素分割した構成の表示装置について、マスク蒸着による３色塗り分け方式を示す。尚、図１３は、図１２の平面図における各部分の断面図である。 Here, in the manufacture of the display device using the organic electroluminescent element as described above, the formation of the vapor deposition pattern including the light emitting layer is performed for each sub-pixel of red (R) green (G) blue (B). An organic material is applied by a three-color coating method in which each pixel is coated by a mask vapor deposition method. 12 and 13 show a three-color painting method by mask vapor deposition for a display device having a pixel-divided configuration. 13 is a cross-sectional view of each part in the plan view of FIG.
図１２（１）およびそのＡ−Ａ’断面図である図１３（１）に示すように、基板２０１上には、平面略矩形形状を有する各色の副画素ａ（Ｒ），ａ（Ｇ），ａ（Ｂ）が設けられている。そして短辺方向に配列された３つの副画素ａ（Ｒ），ａ（Ｇ），ａ（Ｂ）を１組とした略正方形の表示画素を構成している。ここではまず、これらの副画素ａ（Ｒ），ａ（Ｇ），ａ（Ｂ）を、それぞれ３つに画素分割するために、各副画素ａのそれぞれに３つの下部電極（例えば陽極）２０２を形成する。そして、この上部に、３つの下部電極２０２の中央を開口する開口窓２０３ａを備えた絶縁膜２０３を形成する。
As shown in FIG. 12 (1) and FIG. 13 (1) which is a cross-sectional view taken along the line AA ′, sub-pixels a (R) and a (G) of respective colors having a substantially rectangular shape on the
そして、このような絶縁膜２０３に蒸着マスク２０４を対向配置させる。この蒸着マスク２０４には、各色の画素ａ（Ｒ），ａ（Ｇ），ａ（Ｂ）のうちの１色に対応する複数のマスク開口２０４ａが設けられている。これらのマスク開口２０４ａは、各色の画素ａ（Ｒ），ａ（Ｇ），ａ（Ｂ）毎に設けられている３つの開口窓２０３ａを、一括で露出させる形状となっている。
Then, the
そして先ず、例えば赤色の画素ａ（Ｒ）にマスク開口２０４ａを一致させるように、絶縁膜２０３に対して蒸着マスク２０４を対向配置させる。この際、絶縁膜２０３と蒸着マスク２０４とを密着させる。この状態で、蒸着マスク２０４側から有機材料の蒸気を供給する。そして、１つのマスク開口２０４ａを通過した蒸気を、３つの開口窓２０３ａ内の下部電極２０２上に一括で蒸着させて赤色発光用の蒸着パターン２０５ｒを形成する。
First, for example, the
その後、図１２（２）に示すように、蒸着マスク２０４の位置をずらす。そして、例えば緑色の画素ａ（Ｇ）にマスク開口２０４ａを一致させ、絶縁膜２０３と蒸着マスク２０４を密着させる。この状態で、蒸着マスク２０４側から有機材料の蒸気を供給し、１つのマスク開口２０４ａを通過した蒸気を、３つの開口窓２０３ａ内の下部電極上に一括で蒸着させて緑色発光用の蒸着パターン２０５ｇを形成する。
Thereafter, as shown in FIG. 12B, the position of the
最後に、図１２（３）に示すように、蒸着マスク２０４の位置を再度ずらし、例えば緑色の画素ａ（Ｂ）にマスク開口２０４ａを一致させ、絶縁膜２０３と蒸着マスク２０４とを密着させる。この状態で、蒸着マスク２０４側から有機材料の蒸気を供給し、１つのマスク開口２０４ａを通過した蒸気を、３つの開口窓２０３ａ内の下部電極上に一括で蒸着させて青色発光用の蒸着パターン２０５ｂを形成する。
Finally, as shown in FIG. 12C, the position of the
また、以上のような複数の開口窓２０３a内の下部電極２０２上に一括で蒸着パターンを蒸着される３色塗り分け方法は、画素分割された構成の表示装置の作製に対して適用されるだけではなく、通常の画素分割されていない表示装置に対しても同様に行われている（下記特許文献１参照）。
In addition, the three-color coating method in which a deposition pattern is deposited on the
しかしながら、このようなマスク蒸着法において、特に１枚の蒸着マスクを各色の蒸着パターンの蒸着に用いる方法には、次のような問題があった。この問題を、先の図１２とこれに対応する図１３の断面工程図に従って説明する。 However, in such a mask vapor deposition method, the method of using a single vapor deposition mask for vapor deposition of each color vapor deposition pattern has the following problems. This problem will be described with reference to FIG. 12 and the corresponding sectional process diagram of FIG.
すなわち、図１２（１）および図１３（１）に示したように、はじめの蒸着パターン２０５ｒを蒸着形成した後に、図１２（２）およびそのＡ−Ａ’断面である図１３（２）に示すように蒸着マスクマスク２０４をずらす。これにより、絶縁膜２０３上の蒸着パターン２０５ｒに蒸着マスク２０４が接触する。この接触により、蒸着マスク２０４側に蒸着パターン２０５ｒが密着する場合がある。この場合、図１２（３）およびそのＢ−Ｂ’断面である図１３（３）に示すように、さらに蒸着マスクマスク２０４をずらすと、蒸着マスク２０４に密着した蒸着パターン２０５ｒが、先に形成された絶縁膜２０４上の蒸着パターン２０５ｇに接触する。これにより、蒸着パターン２０５ｒが蒸着パターン２０５ｇ側に転写されたり、蒸着パターン２０５ｒの押し付けによって蒸着パターン２０５ｇに凹状の打痕Ｍが形成される。
That is, as shown in FIG. 12 (1) and FIG. 13 (1), after the first
このような状態で、次の工程では、蒸着パターン２０５ｇ（２０５ｒ，２０５ｂ）を覆う状態で、絶縁膜２０３上の全面に上部電極（例えば陰極）２０６を成膜し、下部電極２０２−上部電極２０６間に蒸着パターン２０５ｇ（２０５ｒ，２０５ｂ）を挟持してなる有機電界発光素子を得る。この場合、上述したように蒸着パターン２０５ｒの転写部分や、蒸着パターン２０５ｇに形成された凹状の打痕を覆う状態で上部電極２０６が成膜されることになるため、段差部分において上部電極２０６が断線し易く、画素が欠陥化する。
In this state, in the next step, an upper electrode (for example, a cathode) 206 is formed on the entire surface of the
そこで本発明は、複数の分割画素を１つの副画素とする構成において、分割画素間への異物付着や損傷による欠陥発生を防止できる表示装置および表示装置の製造方法を提供する。 Therefore, the present invention provides a display device and a method for manufacturing the display device that can prevent the occurrence of defects due to adhesion or damage of foreign matter between divided pixels in a configuration in which a plurality of divided pixels are used as one sub-pixel.
このような目的を達成するための本発明の表示装置は、基板上に設けられた下部電極を有している。また、下部電極を露出する複数の開口窓を有すると共に、所定方向に隣接する当該開口窓間の膜厚が他の部分と比較して薄く設定された薄膜部を備えた絶縁膜を有している。さらに、発光層を含み、前記薄膜部を介して隣接する前記開口窓を連続して覆う形状で設けられた蒸着パターンを有している。また下部電極との間に前記蒸着パターンを挟持する状態で設けられた上部電極を有している。 In order to achieve such an object, a display device of the present invention has a lower electrode provided on a substrate. In addition, it has a plurality of opening windows exposing the lower electrode, and an insulating film having a thin film portion in which the film thickness between the opening windows adjacent in a predetermined direction is set to be thinner than other portions Yes. Furthermore, it has the vapor deposition pattern provided in the shape which covers the said opening window adjacent via the said thin film part including a light emitting layer. Moreover, it has the upper electrode provided in the state which pinched | interposed the said vapor deposition pattern between lower electrodes.
１つの蒸着パターンによって連続して覆われる複数の開口窓間の絶縁膜を、薄膜部としたことにより、絶縁膜上に載置される蒸着マスクに対して、開口窓間の絶縁膜部分が接触することが防止される。これにより、蒸着パターンの形成工程において絶縁膜がダメージを受けることが抑えられる。 By making the insulating film between the plurality of opening windows continuously covered by one evaporation pattern into a thin film portion, the insulating film portion between the opening windows is in contact with the evaporation mask placed on the insulating film. Is prevented. Thereby, it is suppressed that an insulating film receives a damage in the formation process of a vapor deposition pattern.
また本発明は、このような表示装置の製造方法でもあり、次の工程を順に行う。先ず、基板上に下部電極を形成する。次に、下部電極を露出する複数の開口窓を有すると共に、所定方向に隣接する当該開口窓間の膜厚が他の部分と比較して薄く設定された薄膜部を備えた絶縁膜を、前記基板上に形成する。その後、薄膜部を介して隣接する前記開口窓を蒸着マスクのマスク開口から連続して露出させた状態での蒸着成膜を行うことにより、当該隣接する開口窓を連続して覆う形状の蒸着パターンを形成する。さらに、蒸着マスクを前記基板に対して相対的に移動させ、異なる位置において前記隣接する開口窓を当該マスク開口から連続して露出させた状態で蒸着成膜を行うことにより、当該隣接する開口窓を連続して覆う形状の別の蒸着パターンを形成する。以上の後、下部電極との間に前記蒸着パターンを挟持する状態で上部電極を形成する。 Moreover, this invention is also a manufacturing method of such a display apparatus, and performs the next process in order. First, a lower electrode is formed on a substrate. Next, an insulating film having a plurality of opening windows exposing the lower electrode and having a thin film portion in which the film thickness between the opening windows adjacent in a predetermined direction is set to be thinner than the other parts, Form on the substrate. After that, by performing vapor deposition film formation in a state in which the adjacent opening window is continuously exposed from the mask opening of the vapor deposition mask through the thin film portion, a vapor deposition pattern having a shape that continuously covers the adjacent open window Form. Furthermore, by moving the vapor deposition mask relative to the substrate and performing the vapor deposition film formation in a state where the adjacent opening window is continuously exposed from the mask opening at different positions, the adjacent opening window is obtained. Another vapor deposition pattern having a shape covering continuously is formed. After the above, the upper electrode is formed in a state where the vapor deposition pattern is sandwiched between the lower electrode.
以上のような本発明では、１つの蒸着パターンによって連続して覆われる複数の開口窓間の絶縁膜を薄膜部としたことにより、初めに形成された蒸着パターンに対して位置を移動させた蒸着マスクが接触することが防止される。このため、蒸着マスクに対して、初めに形成された蒸着パターン材料が付着することが防止される。したがって蒸着マスクに付着した蒸着パターン材料によって、絶縁膜やその上部の蒸着パターンにダメージが加えられることが防止される。 In the present invention as described above, the insulating film between a plurality of opening windows continuously covered by one vapor deposition pattern is used as a thin film portion, so that the vapor deposition is moved with respect to the vapor deposition pattern formed first. The mask is prevented from contacting. For this reason, it is prevented that the vapor deposition pattern material formed initially adheres with respect to a vapor deposition mask. Therefore, damage to the insulating film and the vapor deposition pattern thereon is prevented by the vapor deposition pattern material adhering to the vapor deposition mask.
以上説明したように本発明によれば、複数の開口窓を１つの蒸着パターンで覆う構成の、例えば画素分割された構成の表示装置を作製する際、開口窓（分割画素）間の絶縁膜への異物付着や損傷による欠陥発生を防止することが可能である。 As described above, according to the present invention, when a display device having a configuration in which a plurality of aperture windows are covered with one vapor deposition pattern, for example, a configuration in which pixels are divided, is manufactured, the insulating film between the aperture windows (divided pixels) is formed. It is possible to prevent the occurrence of defects due to foreign matter adhesion or damage.
以下本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。ここでは、表示装置の製造方法として、薄膜トランジスタに有機電界発光素子を接続されたアクティブマトリックス型の表示装置の製造手順を説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Here, as a manufacturing method of the display device, a manufacturing procedure of an active matrix display device in which an organic electroluminescence element is connected to a thin film transistor will be described.
先ず、図１およびそのＡ−Ａ’断面に相等する図２に示すように、基板１上に、走査線１１および電源線１２、これらと垂直に信号線１３を配線する。そして、これらの走査線１１および電源線１２と、信号線１３との各交差部に配置される各副画素ａ（Ｒ），ａ（Ｇ），ａ（Ｂ）に、３つのスイッチング用の薄膜トランジスタＴｒ１、３つの駆動用の薄膜トランジスタＴｒ２、さらには３つの容量素子Ｃｓからなる画素駆動回路を形成する。各副画素ａ（Ｒ），ａ（Ｇ），ａ（Ｂ）に形成される各画素駆動回路においては、１本の走査線１１と１本の信号線１３を共有する３つの薄膜トランジスタＴｒが、それぞれ容量素子Ｃｓの下部電極に接続されている。また、これらの容量素子Ｃｓの上部電極が、３つの駆動用の薄膜トランジスタＴｒ２のソース電極を構成している。そして、３つの薄膜トランジスタＴｒ２のソース電極には、ここでの図示を省略した有機電界発光素子がそれぞれ接続されている。尚、図２の断面図においては、容量素子Ｃｓのみが図示されている。
First, as shown in FIG. 1 and FIG. 2 equivalent to the A-A ′ cross section, the
このような画素駆動回路は、走査線１１で選択されたスイッチング用の薄膜トランジスタＴｒ１を介して信号線１３から書き込まれた映像信号が保持容量Ｃｓに保持される。そして、保持された信号量に応じた電流が、各駆動用の薄膜トランジスタＴｒ２のソースＳから、ここでの図示を省略した各有機電界発光素子に供給され、この電流値に応じた輝度で有機電界発光素子が発光する構成として形成する。これにより、各副画素ａ（Ｒ），ａ（Ｇ），ａ（Ｂ）の画素駆動回路に接続される各３つの有機電界発光素子は、同一の電流値に応じた輝度で発光する構成となる。
In such a pixel driving circuit, the video signal written from the
また特に、走査線１１方向に隣接する副画素ａ（Ｇ），ａ（Ｂ）、副画素ａ（Ｒ），ａ（Ｇ）、…は信号線１３を対称線として反転して設けられ、電源線１２の一部を共有する構成として形成する。
In particular, the subpixels a (G), a (B), subpixels a (R), a (G),... Adjacent in the direction of the
以上のような構成の画素駆動回路を形成する場合、ここでは先ず、基板１上に、第１金属パターン２１からなる信号線１３の一部および容量素子（Ｃｓ）の下部電極部分、さらには薄膜トランジスタＴｒ１，Ｔｒ２のゲート電極１４を形成する。このような、第１金属パターン２１は、例えばスパッタ法により成膜したモリブデン（Ｍｏ）膜を、レジストパターンをマスクにしてパターンエッチングすることによって形成する。尚、第１金属パター２１は、モリブデン（Ｍｏ）により構成されているとは限らず、後の熱工程において変質しにくい高融点の金属であればよい。
In the case of forming the pixel driving circuit having the above configuration, first, on the
次に、図２の断面図に示すように、これらの第１金属パターン２１を覆う状態で、例えば酸化シリコンや窒化シリコンを用いたゲート絶縁膜３１を成膜する。その後、ゲート絶縁膜３１上に非晶質シリコンからなる半導体薄膜３２を成膜してこれを結晶化させ、チャネル領域となる半導体薄膜３２部分の上部に、絶縁性のストッパ層３３をパターン形成する。次いで、ストッパ層３３を覆う状態で、例えばｎ型の不純物を含有するシリコンからなるｎ型半導体層３４を成膜し、ｎ型半導体層３４と半導体薄膜３２とを、ゲート電極１４の上方において島状にパターニングし、薄膜トランジスタＴｒ２（Ｔｒ１）を形成する。
Next, as shown in the cross-sectional view of FIG. 2, a
次に、図１にも示したように、薄膜トランジスタＴｒ１、Ｔｒ２が形成された基板１上に、第２金属パターン２２からなる走査線１１、電源線１２、容量素子Ｃｓの上部電極、信号線１３の一部分、さらには薄膜トランジスタＴｒ２（Ｔｒ１）に接続されたソース電極とドレイン電極とを形成する。これにより各副画素各副画素ａ（Ｒ），ａ（Ｇ），ａ（Ｂ）に、画素駆動回路が設けられる。
Next, as shown in FIG. 1, the
尚、以上説明したプロセスと同一プロセスを適用して、ここでの図示を省略した表示領域の周辺に設けられる周辺駆動回路を構成する他の素子および配線を形成する。 Note that the same process as described above is applied to form other elements and wirings constituting a peripheral drive circuit provided in the periphery of the display region not shown here.
次に、図２および、図３の平面図に示すように、画素駆動回路が形成された基板１上に、層間絶縁膜４１を形成する。この層間絶縁膜４１は、表面平坦に形成されることが望ましい。次に、層間絶縁膜４１には、各薄膜トランジスタＴｒ２に接続された容量素子Ｃｓに達する３つの接続孔４１ａが設けられていることとする。尚、層間絶縁膜４１は、例えば保護膜としてのパッシベーション膜とその上部の平坦化膜との積層構造であることとする。
Next, as shown in the plan views of FIGS. 2 and 3, an
次に、これらの接続孔４１ａを介して薄膜トランジスタＴｒ２に接続された下部電極４３を、１つの副画素ａ（Ｒ），ａ（Ｇ），ａ（Ｂ）に３つずつパターン形成する。これにより、１つの画素駆動回路で３つの下部電極４３が駆動される構成となる。尚、この下部電極４３は、有機電界発光素子の陽極（または陰極）として用いられるものである。
Next, the
また、これら下部電極４３の形成と同一工程で、副画素ａ（Ｒ），ａ（Ｇ），ａ（Ｂ）間に補助電極４３ａを形成する。尚、補助電極４３ａの配置状態は、下部電極４３との絶縁性が保たれる範囲であれば良く、副画素ａ（Ｒ），ａ（Ｇ），ａ（Ｂ）間の全てに配線される必要はない。
The
次に、下部電極４３の周縁を覆う形状の絶縁膜４５を形成する。本実施形態においてはこの絶縁膜４５の形状が特徴的である。すなわち絶縁膜４５には、各下部電極４３の中央部を開口する開口窓４５ａ、さらには補助電極４３ａに達する接続孔４５ｂが設けられている。開口窓４５ａの配置状態は、副画素ａ（Ｒ），ａ（Ｇ），ａ（Ｂ）間で共通であることとする。尚、各開口窓４５ａは、各副画素副画素ａ（Ｒ），ａ（Ｇ），ａ（Ｂ）を構成する分割画素の画素開口となる。
Next, an insulating
そして特に、この絶縁膜４５は、副画素ａ（Ｒ），ａ（Ｇ），ａ（Ｂ）内に配置された３つの下部電極４３間を覆う部分が、副画素ａ（Ｒ），ａ（Ｇ），ａ（Ｂ）間を覆う部分よりも膜厚が薄い薄膜部４５ｃとして形成されている。この薄膜部４５ｃの膜厚は、その周囲の絶縁膜４５部分の膜厚の１／２程度であることとする。
In particular, the insulating
さらに、この絶縁膜４５においては、図１を参照して第１金属パターン２１と第２金属パターン２２とが積層して配置される位置に対応する部分が、絶縁膜４５の下地となる部分（すなわち絶縁膜４５が形成される基板）の平均的な高さ方向の部分よりも高くなる。そこで、このような下地が他の部分より高くなる部分を、副画素ａ（Ｒ），ａ（Ｇ），ａ（Ｂ）間を覆う部分よりも膜厚が厚い厚膜部４５ｄとして形成しても良い。この厚膜部４５ｄの膜厚は、その周囲の絶縁膜４５部分の膜厚の１．２５倍〜１．５弱倍程度であることとする。
Furthermore, in this insulating
以上のように、開口窓４５aや接続孔４３ｂ、さらには薄膜部４５ｃや厚膜部４５ｄのような膜厚差を有する絶縁膜４５の形成は、リソグラフィーによって行うこととする。絶縁膜４５は感光性樹脂から成り、絶縁膜４５の膜厚に合わせて感光性樹脂の各部分に照射する露光光の露光量を調整することにより、現像後の感光性樹脂を、開口窓４５aや接続孔４３ｂ、さらには薄膜部４５ｃや厚膜部４５ｄのような膜厚差を有する絶縁膜４５として形成する。なお、感光性樹脂としては、ポリイミド樹脂、ポリベンズオキサゾール樹脂、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン、またはアクリル樹脂などが用いられる。尚、上述した層間絶縁膜４１を構成する平坦化膜も、この絶縁膜４５と同様のプロセスで形成される。
As described above, the insulating
以上の後には、３色塗り分け方式を適用したマスク蒸着法によって、赤（Ｒ）緑（Ｇ）青（Ｂ）の各有機材料を、それぞれの副画素ａ（Ｒ），ａ（Ｇ），ａ（Ｂ）に塗り分けて蒸着パターンを形成する。この方式は、従来と同様であって良い。ここでの蒸着パターンの形成を、図４の平面工程図と、その各部断面図である図５の断面工程図に基づいて説明する。尚、図５においては絶縁膜４５の下層の画素駆動回路の図示は省略している。
After the above, each organic material of red (R), green (G), and blue (B) is applied to each of the sub-pixels a (R), a (G), A vapor deposition pattern is formed by coating a (B). This method may be the same as the conventional one. The formation of the vapor deposition pattern here will be described based on the plan process diagram of FIG. 4 and the sectional process diagram of FIG. In FIG. 5, the pixel drive circuit below the insulating
すなわち、先ず図４（１）およびそのＡ−Ａ’断面に対応する図５（１）に示すように、各色の画素ａ（Ｒ），ａ（Ｇ），ａ（Ｂ）のうちの１色に対応する複数のマスク開口２０４ａが設けられた蒸着マスク２０４を用意する。これらのマスク開口２０４ａは、各色の画素ａ（Ｒ），ａ（Ｇ），ａ（Ｂ）毎に設けられている３つの開口窓４５ａを、一括で露出させる形状となっている。ただし、絶縁膜４５に設けられた接続孔４５ｂは、蒸着マスク２０４で塞がれた状態に保たれることとする。
That is, first, as shown in FIG. 4 (1) and FIG. 5 (1) corresponding to the AA ′ cross section, one of the pixels a (R), a (G), and a (B) of each color. A
そして先ず、例えば赤色の画素ａ（Ｒ）にマスク開口２０４ａを一致させるように、絶縁膜４５に対して蒸着マスク２０４を対向配置させる。この際、絶縁膜４５と蒸着マスク２０４とを密着させる。この際、基板1上に蒸着マスク２０４を載置する状態として良い。これにより、絶縁膜４５と蒸着マスク２０４とは接触した状態となる。この状態で、蒸着マスク２０４側から有機材料の蒸気を供給する。そして、１つのマスク開口２０４ａを通過した蒸気を、３つの開口窓４５ａ内の下部電極４５上に一括で蒸着させて赤色発光用の蒸着パターン４７ｒを形成する。
First, for example, the
その後、図４（２）およびそのＡ−Ａ’断面に対応する図５（２）に示すように、蒸着マスク２０４の位置をずらす。そして、例えば緑色の画素ａ（Ｇ）にマスク開口２０４ａを一致させると共に、赤色の画素ａ（Ｒ）および青色の画素ａ（Ｂ）を塞ぐ状態で、絶縁膜４５と蒸着マスク２０４を密着させる。この際、基板1上に蒸着マスク２０４を載置する状態として良い。これにより、絶縁膜４５と蒸着マスク２０４とは接触した状態となる。この状態で、蒸着マスク２０４側から有機材料の蒸気を供給し、１つのマスク開口２０４ａを通過した蒸気を、３つの開口窓４５ａ内の下部電極４５上に一括で蒸着させて緑色発光用の蒸着パターン４７ｇを形成する。
After that, as shown in FIG. 4B and FIG. 5B corresponding to the A-A ′ cross section, the position of the
最後に、図４（３）およびそのＢ−Ｂ’断面に対応する図５（３）に示すように、に示すように、蒸着マスク２０４の位置を再度ずらし、例えば青色の画素ａ（Ｂ）にマスク開口２０４ａを一致させると共に、赤色の画素ａ（Ｒ）および緑色の画素ａ（Ｇ）を塞ぎ、絶縁膜４５と蒸着マスク２０４とを密着させる。この際、基板1上に蒸着マスク２０４を載置する状態として良い。これにより、絶縁膜４５と蒸着マスク２０４とは接触した状態となる。この状態で、蒸着マスク２０４側から有機材料の蒸気を供給し、１つのマスク開口２０４ａを通過した蒸気を、３つの開口窓４５ａ内の下部電極４５上に一括で蒸着させて青色発光用の蒸着パターン４７ｂを形成する。
Finally, as shown in FIG. 4 (3) and FIG. 5 (3) corresponding to the BB ′ cross section, the position of the
尚、以上によって形成する蒸着パターン４７ｒ，４７ｇ，４７ｂは、少なくとも各発光色毎に特有の有機発光層を備えており、例えば陽極側から正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層などを必要に応じた積層構造で蒸着成膜されることとする。また、これらの蒸着パターン４７ｒ，４７ｇ，４７ｂは、同一の蒸着マスク２０４を用いて形成されていることから、同一平面形状で形成されていることになる。
The
以上のようにして蒸着パターン４７ｒ,４７ｇ,４７ｂを形成した後には、図２および図６に示したように、これらの蒸着パターン４７ｒ,４７ｇ,４７ｂを覆う状態で上部電極４９を形成する。またこの上部電極４９は、絶縁膜４５に形成された接続孔４５ｂを介して補助電極４３ａに接続されるように形成する。この上部電極４９は、有機電界発光素子ＥＬの陰極（または陽極)として用いられるものであり、全画素に共通の電極として形成されていることとする。
After the
以上により、層間絶縁膜４１上に、下部電極４３と上部電極４９との間に蒸着パターン４７ｒ,４７ｇ,４７ｂを挟持してなる有機電界発光素子ＥＬを形成する。この有機電界発光素子ＥＬは、下部電極４３において薄膜トランジスタＴｒ２に接続された構成となっている。
As described above, the organic electroluminescent element EL in which the
次に、基板１の有機電界発光素子ＥＬ形成面側に封止基板５１を対向配置し、接着性の封止剤５３を介してガラス基板１と封止基板５１とを貼合せ、表示装置５５を完成させる。
Next, the sealing
以上のようにして得られた表示装置５５は、下部電極４３と上部電極４９との間に発光層を含む蒸着パターン４７ｒ，４７ｇ，４７ｂを挟持してなる有機電界発光素子ＥＬが、基板１上に配列形成されたものとなる。そして特に、有機電界発光素子ＥＬを分離する開口窓４５ａを備えた絶縁膜４５には、各蒸着パターン４７ｒ，４７ｇ，４７ｂで共通に覆われた開口窓４５ａ間は、他の部分と比較して膜厚が薄く設定された薄膜部４５ｃとなっている。また、下地の表面高さが他の部分よりも高い位置に対応する部分に、膜厚が他の部分と比較して厚く設定された厚膜部４５ｄを備えたものになる。
In the display device 55 obtained as described above, the organic electroluminescent element EL in which the
以上説明した実施形態によれば、１つの蒸着パターン４７ｒ，４７ｇ，４７ｂによって連続して覆われる複数の開口窓４５ａ間の絶縁膜４５部分を薄膜部４５ｃとした。これにより、図５（２）に示したように、初めに形成された蒸着パターン４７ｒに対して、位置を移動させた蒸着マスク２０４が接触することが防止される。このため、蒸着マスク２０４に対して、初めに形成された蒸着パターン４７ｒ材料が付着することが防止される。そして、図５（３）に示すように、蒸着マスク２０４の位置をさらに移動した場合に、蒸着マスク２０４に付着した蒸着パターン材料によって、絶縁膜４５やその上部の蒸着パターンにダメージが加えられることを防止できる。
According to the embodiment described above, the insulating
この結果、複数の開口窓４５ａを１つの蒸着パターン４７ｒ，４７ｇ，４７ｂで覆う構成の、例えば画素分割された構成の表示装置５５を作製する際、開口窓４５ａ（分割画素）間の絶縁膜４５への異物付着や損傷による欠陥発生を防止することが可能である。
As a result, when the display device 55 having a structure in which, for example, the pixel is divided is configured to cover the plurality of opening
また特に、絶縁膜４５に、他の部分と比較して下地の表面高さが高い部分に厚膜部４５ｄを設けたことにより、この絶縁膜４５に接触して配置される蒸着マスク２０４は、下地の高さにプラスして膜厚の厚い厚膜部４５ｄ上に載置される状態となる。したがって、蒸着マスク２０４は、おもには厚膜部４５ｄで支持されるため、厚膜部４５ｄ以外の絶縁膜４５部分に、蒸着マスク２０４が接触することが防止され、絶縁膜４５にダメージが加わることがさらに防止される。
In particular, the
尚、上述した実施形態においては、画素分割方式として、１つの画素駆動回路内に薄膜トランジスタＴｒ１、Ｔｒ２および容量素子Ｃｓを複数設け、それぞれに対して有機電界発光素子ＥＬの下部電極４３を接続させる構成とした。しかしながら、本発明は、１つの蒸着パターン４７ｒ，４７ｇ，４７ｂで複数の開口窓４５ａ下の下部電極４３を覆う構成に広く適用可能であり、画素駆動回路の構成が限定されることはない。したがって、下部電極４３毎に異なる画素駆動回路を設けても良く、１つの薄膜トランジスタＴｒ１,Ｔｒ２と１つの容量素子Ｃｓで構成された画素駆動回路に複数の有機電界発光素子ＥＬを接続させた構成であっても良い。
In the embodiment described above, as a pixel division system, a plurality of thin film transistors Tr1 and Tr2 and a capacitor element Cs are provided in one pixel driving circuit, and the
＜適用例＞
以上説明した本発明に係る製造方法によって得られる表示装置は、図７〜図１１に示す様々な電子機器、例えば、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置、ビデオカメラなど、電子機器に入力された映像信号、若しくは、電子機器内で生成した映像信号を、画像若しくは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。以下に、本発明が適用される電子機器の一例について説明する。
<Application example>
Display devices obtained by the manufacturing method according to the present invention described above include various electronic devices shown in FIGS. 7 to 11, such as digital cameras, notebook personal computers, mobile terminal devices such as mobile phones, video cameras, etc. The present invention can be applied to display devices of electronic devices in various fields that display video signals input to electronic devices or video signals generated in electronic devices as images or videos. An example of an electronic device to which the present invention is applied will be described below.
図７は、本発明が適用されるテレビを示す斜視図である。本適用例に係るテレビは、フロントパネル１０２やフィルターガラス１０３等から構成される映像表示画面部１０１を含み、その映像表示画面部１０１として本発明に係る表示装置を用いることにより作成される。 FIG. 7 is a perspective view showing a television to which the present invention is applied. The television according to this application example includes a video display screen unit 101 including a front panel 102, a filter glass 103, and the like, and is created by using the display device according to the present invention as the video display screen unit 101.
図８は、本発明が適用されるデジタルカメラを示す図であり、（Ａ）は表側から見た斜視図、（Ｂ）は裏側から見た斜視図である。本適用例に係るデジタルカメラは、フラッシュ用の発光部１１１、表示部１１２、メニュースイッチ１１３、シャッターボタン１１４等を含み、その表示部１１２として本発明に係る表示装置を用いることにより作製される。 8A and 8B are diagrams showing a digital camera to which the present invention is applied. FIG. 8A is a perspective view seen from the front side, and FIG. 8B is a perspective view seen from the back side. The digital camera according to this application example includes a light emitting unit 111 for flash, a display unit 112, a menu switch 113, a shutter button 114, and the like, and is manufactured by using the display device according to the present invention as the display unit 112.
図９は、本発明が適用されるノート型パーソナルコンピュータを示す斜視図である。本適用例に係るノート型パーソナルコンピュータは、本体１２１に、文字等を入力するとき操作されるキーボード１２２、画像を表示する表示部１２３等を含み、その表示部１２３として本発明に係る表示装置を用いることにより作製される。 FIG. 9 is a perspective view showing a notebook personal computer to which the present invention is applied. A notebook personal computer according to this application example includes a main body 121 including a keyboard 122 that is operated when characters and the like are input, a display unit 123 that displays an image, and the like. It is produced by using.
図１０は、本発明が適用されるビデオカメラを示す斜視図である。本適用例に係るビデオカメラは、本体部１３１、前方を向いた側面に被写体撮影用のレンズ１３２、撮影時のスタート／ストップスイッチ１３３、表示部１３４等を含み、その表示部１３４として本発明に係る表示装置を用いることにより作製される。 FIG. 10 is a perspective view showing a video camera to which the present invention is applied. The video camera according to this application example includes a main body 131, a lens 132 for shooting an object on a side facing forward, a start / stop switch 133 at the time of shooting, a display unit 134, and the like. It is manufactured by using such a display device.
図１１は、本発明が適用される携帯端末装置、例えば携帯電話機を示す図であり、（Ａ）は開いた状態での正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態での正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。本適用例に係る携帯電話機は、上側筐体１４１、下側筐体１４２、連結部（ここではヒンジ部）１４３、ディスプレイ１４４、サブディスプレイ１４５、ピクチャーライト１４６、カメラ１４７等を含み、そのディスプレイ１４４やサブディスプレイ１４５として本発明に係る表示装置を用いることにより作製される。 FIG. 11 is a diagram showing a mobile terminal device to which the present invention is applied, for example, a mobile phone, in which (A) is a front view in an opened state, (B) is a side view thereof, and (C) is in a closed state. (D) is a left side view, (E) is a right side view, (F) is a top view, and (G) is a bottom view. The mobile phone according to this application example includes an upper housing 141, a lower housing 142, a connecting portion (here, a hinge portion) 143, a display 144, a sub display 145, a picture light 146, a camera 147, and the like. And the sub display 145 is manufactured by using the display device according to the present invention.
１…基板、４３…下部電極、４３ａ…補助電極、４５…絶縁膜、４５ａ…開口窓、４５ｂ…接続孔、４５ｃ…薄膜部、４５ｄ…厚膜部、４７ｒ，４７ｇ，４７ｂ…蒸着パターン、４９…上部電極、５５…表示装置、２０４…蒸着マスク、２０４ａ…マスク開口
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記下部電極を露出する複数の開口窓を有すると共に、所定方向に隣接する当該開口窓間の膜厚が他の部分と比較して薄く設定された薄膜部を備えた絶縁膜と、
発光層を含み、前記薄膜部を介して隣接する前記開口窓を連続して覆う形状で設けられた蒸着パターンと、
前記下部電極との間に前記蒸着パターンを挟持する状態で設けられた上部電極と
を有する表示装置。 A lower electrode provided on the substrate;
An insulating film having a plurality of opening windows exposing the lower electrode, and having a thin film portion in which the film thickness between the opening windows adjacent to each other in a predetermined direction is set to be thin compared to other parts;
A deposition pattern provided in a shape including a light emitting layer and continuously covering the opening window adjacent through the thin film portion;
And an upper electrode provided in a state of sandwiching the vapor deposition pattern between the lower electrode and the lower electrode.
請求項１記載の表示装置。 The display device according to claim 1, wherein a plurality of types of the deposition patterns including a light emitting layer of each color are provided on the substrate on which the lower electrode and the insulating film are provided.
請求項１または２に記載の表示装置。 2. The insulating film includes a thick film portion whose thickness is set to be thicker than that of the other portion in a portion corresponding to a position where the surface height of the substrate is higher than that of the other portion. Or the display apparatus of 2.
前記絶縁膜には、前記補助配線に達する接続孔が設けられている
請求項１〜３のうちの１項に記載の表示装置。 On the substrate, auxiliary wiring composed of the same layer as the lower electrode is provided with insulation against the lower electrode,
The display device according to claim 1, wherein a connection hole reaching the auxiliary wiring is provided in the insulating film.
請求項１〜４のうちの１項に記載の表示装置。 The display device according to claim 1, wherein an organic electroluminescent element is formed in a portion where the vapor deposition pattern is sandwiched between the lower electrode and the upper electrode.
前記下部電極を露出する複数の開口窓を有すると共に、所定方向に隣接する当該開口窓間の膜厚が他の部分と比較して薄く設定された薄膜部を備えた絶縁膜を、前記基板上に形成する工程と、
前記薄膜部を介して隣接する前記開口窓を蒸着マスクのマスク開口から連続して露出させた状態での蒸着成膜を行うことにより、当該隣接する開口窓を連続して覆う形状の蒸着パターンを形成する工程と、
前記蒸着マスクを前記基板に対して相対的に移動させ、異なる位置において前記隣接する開口窓を当該マスク開口から連続して露出させた状態で蒸着成膜を行うことにより、当該隣接する開口窓を連続して覆う形状の別の蒸着パターンを形成する工程と、
前記下部電極との間に前記蒸着パターンを挟持する状態で上部電極を形成する工程と
を行う表示装置の製造方法。 Forming a lower electrode on the substrate;
An insulating film having a plurality of opening windows exposing the lower electrode and having a thin film portion in which a film thickness between the opening windows adjacent to each other in a predetermined direction is set thinner than other portions is formed on the substrate. Forming the step,
By performing vapor deposition film formation in a state where the opening window adjacent through the thin film portion is continuously exposed from the mask opening of the vapor deposition mask, a vapor deposition pattern having a shape continuously covering the adjacent opening window is formed. Forming, and
By moving the vapor deposition mask relative to the substrate and performing vapor deposition film formation in a state where the adjacent opening window is continuously exposed from the mask opening at different positions, the adjacent opening window is Forming another vapor deposition pattern having a continuously covering shape;
Forming the upper electrode in a state where the vapor deposition pattern is sandwiched between the lower electrode and the lower electrode.
請求項６記載の表示装置の製造方法。 The method for manufacturing a display device according to claim 6, wherein in the step of forming the vapor deposition pattern, the vapor deposition mask is disposed in contact with the insulating film.
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