JP2009218323A - 極端紫外光源装置 - Google Patents
極端紫外光源装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009218323A JP2009218323A JP2008059179A JP2008059179A JP2009218323A JP 2009218323 A JP2009218323 A JP 2009218323A JP 2008059179 A JP2008059179 A JP 2008059179A JP 2008059179 A JP2008059179 A JP 2008059179A JP 2009218323 A JP2009218323 A JP 2009218323A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- ultraviolet light
- extreme ultraviolet
- debris
- light source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—X-ray radiation generated from plasma
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
- G03F7/70033—Production of exposure light, i.e. light sources by plasma extreme ultraviolet [EUV] sources
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
- G03F7/70916—Pollution mitigation, i.e. mitigating effect of contamination or debris, e.g. foil traps
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
【解決手段】極端紫外光源装置は、ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する極端紫外光源装置であって、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内の所定の位置に供給されるターゲットにレーザビームを照射することによりプラズマを生成するドライバレーザと、チャンバ内に設置され、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射する集光ミラーと、チャンバと連通し、排気装置と接続されてチャンバ内を一定の圧力に維持する排気経路と、排気経路に備えられ、プラズマから発生するデブリを捕集する捕集装置と、捕集されたデブリをチャンバ外に回収する回収装置とを具備する。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の第1の実施形態を説明するための図である。図1を参照しながら、本実施形態に係るEUV光源装置の基本的な構成とその動作について説明する。図1に示すEUV光源装置は、レーザビームをターゲット物質に照射して励起させることによりEUV光を生成するレーザ励起プラズマ(LPP)方式を採用している。
Claims (14)
- ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する極端紫外光源装置であって、
極端紫外光の生成が行われるチャンバと、
前記チャンバ内の所定の位置に供給されるターゲットにレーザビームを照射することによりプラズマを生成するドライバレーザと、
前記チャンバ内に設置され、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射する集光ミラーと、
前記チャンバと連通し、排気装置と接続されて前記チャンバ内を一定の圧力に維持する排気経路と、
前記排気経路に備えられ、プラズマから発生するデブリを捕集する捕集装置と、
捕集されたデブリを前記チャンバ外に回収する回収装置と、
を具備する極端紫外光源装置。 - ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する極端紫外光源装置であって、
極端紫外光の生成が行われるチャンバと、
前記チャンバ内の所定の位置に供給されるターゲットにレーザビームを照射することによりプラズマを生成するドライバレーザと、
前記チャンバ内に設置され、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射する集光ミラーと、
前記チャンバと連通し、排気装置と接続されて前記チャンバ内を一定の圧力に維持する排気経路と、
前記排気経路に備えられ、プラズマから発生するデブリを捕集し、捕集されたデブリを反応性ガスと反応させて反応生成ガスを生成する捕集反応装置と、
前記排気経路に接続され、反応生成ガスを処理することにより、捕集されたデブリを前記チャンバ外に回収する回収装置と、
を具備する極端紫外光源装置。 - 前記チャンバと前記排気経路との間に、前記チャンバから前記排気経路にデブリを通過させるデブリ通過穴を有するスキマーと、
前記排気経路と前記捕集反応室との間に、前記排気経路から前記捕集反応室にデブリを通過させるデブリ通過穴と、前記捕集反応室から前記排気経路に反応性ガスと反応生成ガスとを通過させる排気ガス通気穴とを有する隔壁と、
を備える、請求項2記載の極端紫外光源装置。 - 前記回収装置が、前記排気経路と前記捕集反応室とに接続される、請求項2記載の極端紫外光源装置。
- 前記チャンバと連通する切替バルブを有し、前記排気経路が、それぞれ回収装置と連通する複数の排気経路を含み、前記切替バルブによって前記チャンバと連通する複数の排気経路が切替えられる、請求項2記載の極端紫外光源装置。
- 前記捕集反応室に前記反応性ガスを加熱する加熱装置を備える、請求項2〜5のいずれか1項記載の極端紫外光源装置。
- 中性粒子を帯電させる帯電装置を備える、請求項1〜6のいずれか1項記載の極端紫外光源装置。
- 帯電したデブリを集束させ前記排気経路に導く磁場を発生するコイルを含む磁場発生装置を備える、請求項1〜7のいずれか1項記載の極端紫外光源装置。
- 帯電したデブリを集束させ前記排気経路に導く磁場を発生する少なくとも2個のコイルを含む磁場発生装置を備え、前記排気経路の側にあるコイルの径が、前記排気経路と反対側にあるコイルの径より大きい、請求項1〜8のいずれか1項記載の極端紫外光源装置。
- 前記ターゲットが錫(Sn)を含む、請求項1〜9のいずれか1項記載の極端紫外光源装置。
- 前記ターゲットがドロップレットターゲットを含む、請求項1〜10のいずれか1項記載の極端紫外光源装置。
- 前記ターゲットがワイヤターゲットを含む、請求項1〜10のいずれか1項記載の極端紫外光源装置。
- 前記ワイヤターゲットがコートワイヤターゲットを含む、請求項12記載の極端紫外光源装置。
- 前記ドライバレーザが炭酸ガス(CO2)レーザを含む、請求項1〜13のいずれか1項記載の極端紫外光源装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008059179A JP5133740B2 (ja) | 2008-03-10 | 2008-03-10 | 極端紫外光源装置 |
US12/382,108 US8212228B2 (en) | 2008-03-10 | 2009-03-09 | Extreme ultra violet light source apparatus |
US13/477,940 US20120228527A1 (en) | 2008-03-10 | 2012-05-22 | Extreme ultra violet light source apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008059179A JP5133740B2 (ja) | 2008-03-10 | 2008-03-10 | 極端紫外光源装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012135330A Division JP5425265B2 (ja) | 2012-06-15 | 2012-06-15 | 極端紫外光源装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009218323A true JP2009218323A (ja) | 2009-09-24 |
JP5133740B2 JP5133740B2 (ja) | 2013-01-30 |
Family
ID=41052652
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008059179A Active JP5133740B2 (ja) | 2008-03-10 | 2008-03-10 | 極端紫外光源装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8212228B2 (ja) |
JP (1) | JP5133740B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011228256A (ja) * | 2010-03-29 | 2011-11-10 | Gigaphoton Inc | 極端紫外光生成装置、レーザシステムおよび方法 |
JP2013084892A (ja) * | 2011-06-20 | 2013-05-09 | Gigaphoton Inc | チャンバ装置 |
WO2015063825A1 (ja) * | 2013-10-28 | 2015-05-07 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成装置 |
WO2015097820A1 (ja) * | 2013-12-26 | 2015-07-02 | ギガフォトン株式会社 | ターゲット生成装置 |
US9854658B2 (en) | 2013-12-27 | 2017-12-26 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light generation apparatus |
US10349508B2 (en) | 2015-09-09 | 2019-07-09 | Gigaphoton Inc. | Target storage device |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5426317B2 (ja) | 2008-10-23 | 2014-02-26 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光光源装置 |
US8881526B2 (en) | 2009-03-10 | 2014-11-11 | Bastian Family Holdings, Inc. | Laser for steam turbine system |
JP2011023712A (ja) | 2009-06-19 | 2011-02-03 | Gigaphoton Inc | 極端紫外光源装置 |
US8330131B2 (en) * | 2010-01-11 | 2012-12-11 | Media Lario, S.R.L. | Source-collector module with GIC mirror and LPP EUV light source |
CN103733735B (zh) | 2011-08-12 | 2016-05-11 | Asml荷兰有限公司 | 辐射源 |
TWI596384B (zh) * | 2012-01-18 | 2017-08-21 | Asml荷蘭公司 | 光源收集器元件、微影裝置及元件製造方法 |
WO2013127587A2 (en) * | 2012-02-27 | 2013-09-06 | Asml Netherlands B.V. | Source collector apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2013175402A (ja) * | 2012-02-27 | 2013-09-05 | Gigaphoton Inc | 極端紫外光生成装置及びターゲット物質供給方法 |
US9268031B2 (en) * | 2012-04-09 | 2016-02-23 | Kla-Tencor Corporation | Advanced debris mitigation of EUV light source |
WO2013189827A2 (en) * | 2012-06-22 | 2013-12-27 | Asml Netherlands B.V. | Radiation source and lithographic apparatus. |
US20150264791A1 (en) * | 2012-08-01 | 2015-09-17 | Asml Netherlands B.V. | Method and Apparatus for Generating Radiation |
KR102012902B1 (ko) | 2013-02-26 | 2019-08-22 | 삼성전자주식회사 | 광원 소자 및 이를 포함하는 반도체 제조 장치 |
US9544984B2 (en) * | 2013-07-22 | 2017-01-10 | Kla-Tencor Corporation | System and method for generation of extreme ultraviolet light |
KR102211898B1 (ko) | 2014-11-27 | 2021-02-05 | 삼성전자주식회사 | 노광 장치용 액체 누출 감지 장치 및 방법 |
WO2016098193A1 (ja) * | 2014-12-17 | 2016-06-23 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成装置 |
KR102269695B1 (ko) | 2015-03-19 | 2021-06-25 | 삼성전자주식회사 | 극자외선 광 생성 장치 |
US10806016B2 (en) * | 2017-07-25 | 2020-10-13 | Kla Corporation | High power broadband illumination source |
US10631392B2 (en) * | 2018-04-30 | 2020-04-21 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | EUV collector contamination prevention |
US10877190B2 (en) * | 2018-08-17 | 2020-12-29 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Extreme ultraviolet radiation source |
US10791616B1 (en) * | 2019-03-27 | 2020-09-29 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Radiation source apparatus |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004533704A (ja) * | 2001-04-18 | 2004-11-04 | コミツサリア タ レネルジー アトミーク | 特にリソグラフィのための極短紫外の光を生成するための方法及び装置 |
JP2005032510A (ja) * | 2003-07-10 | 2005-02-03 | Nikon Corp | Euv光源、露光装置及び露光方法 |
JP2006080255A (ja) * | 2004-09-09 | 2006-03-23 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
JP2006202671A (ja) * | 2005-01-24 | 2006-08-03 | Ushio Inc | 極端紫外光光源装置及び極端紫外光光源装置で発生するデブリの除去方法 |
WO2007005414A2 (en) * | 2005-06-29 | 2007-01-11 | Cymer, Inc. | Alternative fuels for euv light source |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7671349B2 (en) * | 2003-04-08 | 2010-03-02 | Cymer, Inc. | Laser produced plasma EUV light source |
US8075732B2 (en) * | 2004-11-01 | 2011-12-13 | Cymer, Inc. | EUV collector debris management |
JP4888046B2 (ja) * | 2006-10-26 | 2012-02-29 | ウシオ電機株式会社 | 極端紫外光光源装置 |
US20080237501A1 (en) * | 2007-03-28 | 2008-10-02 | Ushio Denki Kabushiki Kaisha | Extreme ultraviolet light source device and extreme ultraviolet radiation generating method |
JP5277496B2 (ja) * | 2007-04-27 | 2013-08-28 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源装置および極端紫外光源装置の光学素子汚染防止装置 |
-
2008
- 2008-03-10 JP JP2008059179A patent/JP5133740B2/ja active Active
-
2009
- 2009-03-09 US US12/382,108 patent/US8212228B2/en active Active
-
2012
- 2012-05-22 US US13/477,940 patent/US20120228527A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004533704A (ja) * | 2001-04-18 | 2004-11-04 | コミツサリア タ レネルジー アトミーク | 特にリソグラフィのための極短紫外の光を生成するための方法及び装置 |
JP2005032510A (ja) * | 2003-07-10 | 2005-02-03 | Nikon Corp | Euv光源、露光装置及び露光方法 |
JP2006080255A (ja) * | 2004-09-09 | 2006-03-23 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
JP2006202671A (ja) * | 2005-01-24 | 2006-08-03 | Ushio Inc | 極端紫外光光源装置及び極端紫外光光源装置で発生するデブリの除去方法 |
WO2007005414A2 (en) * | 2005-06-29 | 2007-01-11 | Cymer, Inc. | Alternative fuels for euv light source |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011228256A (ja) * | 2010-03-29 | 2011-11-10 | Gigaphoton Inc | 極端紫外光生成装置、レーザシステムおよび方法 |
US9130345B2 (en) | 2010-03-29 | 2015-09-08 | Gigaphoton Inc. | System and method for generating extreme ultraviolet light, and laser apparatus |
US9509115B2 (en) | 2010-03-29 | 2016-11-29 | Gigaphoton Inc. | System and method for generating extreme ultraviolet light, and laser apparatus |
US10074956B2 (en) | 2010-03-29 | 2018-09-11 | Gigaphoton Inc. | System and method for generating extreme ultraviolet light, and laser apparatus |
US10630042B2 (en) | 2010-03-29 | 2020-04-21 | Gigaphoton Inc. | System and method for generating extreme ultraviolet light, and laser apparatus |
JP2013084892A (ja) * | 2011-06-20 | 2013-05-09 | Gigaphoton Inc | チャンバ装置 |
WO2015063825A1 (ja) * | 2013-10-28 | 2015-05-07 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成装置 |
JPWO2015063825A1 (ja) * | 2013-10-28 | 2017-03-09 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成装置 |
US9894744B2 (en) | 2013-10-28 | 2018-02-13 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light generation apparatus |
WO2015097820A1 (ja) * | 2013-12-26 | 2015-07-02 | ギガフォトン株式会社 | ターゲット生成装置 |
US9854658B2 (en) | 2013-12-27 | 2017-12-26 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light generation apparatus |
US10349508B2 (en) | 2015-09-09 | 2019-07-09 | Gigaphoton Inc. | Target storage device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8212228B2 (en) | 2012-07-03 |
US20090224181A1 (en) | 2009-09-10 |
JP5133740B2 (ja) | 2013-01-30 |
US20120228527A1 (en) | 2012-09-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5133740B2 (ja) | 極端紫外光源装置 | |
EP3714476B1 (en) | High-brightness lpp source and methods for generating radiation and mitigating debris | |
US9000404B2 (en) | Systems and methods for optics cleaning in an EUV light source | |
JP5684786B2 (ja) | 熱い壁及び冷たい集光ミラーを備えたレーザ生成プラズマ極紫外チャンバのためのシステム、方法及び装置 | |
US8368039B2 (en) | EUV light source glint reduction system | |
US10887973B2 (en) | High brightness laser-produced plasma light source | |
WO2012170144A1 (en) | Systems and methods for buffer gas flow stabilization in a laser produced plasma light source | |
JP2005032510A (ja) | Euv光源、露光装置及び露光方法 | |
JP2007134166A (ja) | 極端紫外光光源装置 | |
US9301380B2 (en) | Extreme ultraviolet source with magnetic cusp plasma control | |
JP2004340761A (ja) | 極端紫外光発生装置 | |
JP7454561B2 (ja) | Euv光源中の放射源材料の汚染を軽減するための装置及び方法 | |
JP5425265B2 (ja) | 極端紫外光源装置 | |
JPH11345698A (ja) | レーザプラズマx線源およびそれを用いた半導体露光装置並びに半導体露光方法 | |
JP6940529B2 (ja) | デブリ低減システム、放射源及びリソグラフィ装置 | |
JP2009105307A (ja) | 極端紫外光源装置および極端紫外光源における付着物除去方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110308 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120412 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120417 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120522 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20120713 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121030 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121108 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151116 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5133740 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |