JP2009212058A - X線発生装置ならびにx線分析装置、x線透過像計測装置及びx線干渉計 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】内部を真空可能に構成した管本体と、該管本体内において電子ビームを発生する電子源と、前記管本体内に設けられ、前記電子源から出射される電子ビームが照射されることによりX線を発生するためのターゲット部材とを備えたX線発生装置において、
前記ターゲット部材3a、3bを、繰り返される複数の微小幅のストライプ状金属薄膜32を基材31、31aに埋め込んで形成し、前記電子ビームを前記特定のストライプ状金属薄膜に照射することにより前記特定のストライプ状金属薄膜から特性X線を低角度でX線窓12を通して外部に出射するように構成したことを特徴とする。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明に係るストライプ状のX線金属ターゲット(金属薄膜)を備えたX線発生装置(X線管)の第1の実施の形態を示す斜視図である。図2は、本発明に係るストライプ状のX線金属ターゲット(金属薄膜)を備えたX線発生装置(X線管)の第1の実施の形態を示す断面図である。即ち、本発明に係るX線発生装置(X線管)の第1の実施の形態は、内部を真空可能に構成したステンレス製のX線管本体1に電子源2と陽極3を形成するターゲット部材3a及び3bとを設けて構成される。電子源2はフィラメント電源41による加熱で熱電子を放出し陰極を構成するフィラメント21と、電子ビーム23を30〜60μm程度(特性X線の径を10〜30μm程度を得ようとする場合)に収束する電子レンズ22とを備えて構成される。電子レンズ22は、静電場によるものでも、磁場によるものでも同等の効果を発揮する。本実施例では静電レンズによるものを示しており、特にバイアス電圧42を印加しなくても電子ビームの金属ターゲット上収束径30〜60μmを得ることは可能である。フィラメント21と陽極3との間には金属ターゲット(金属薄膜)3aに対して収束させた電子ビーム23を照射するための高圧電源4が設けられている。発生したX線はX線取り出し窓34の方向に射出されるもの35がX線発生装置から取り出され使用される。
本発明に係るストライプ状のX線金属ターゲット(金属薄膜)を備えたX線発生装置(X線管)の第2の実施の形態において、第1の実施の形態と相違する点は、図6を用いて説明する。
Claims (10)
- 内部を真空可能に構成した管本体と、該管本体内において電子ビームを発生する電子源と、前記管本体内に設けられ、前記電子源から出射される電子ビームが照射されることによりX線を発生するためのターゲット部材とを備えたX線発生装置において、
前記ターゲット部材を、繰り返される複数の微小幅のストライプ状金属薄膜を基材に埋め込んで形成し、前記電子ビームを前記特定のストライプ状金属薄膜に照射することにより前記特定のストライプ状金属薄膜から特性X線を低角度でX線窓を通して外部に出射するように構成したことを特徴とするX線発生装置。 - 前記基材に埋め込まれたストライプ状金属薄膜の前記微小幅が、前記ターゲット部材上に照射される前記電子ビームの径よりも狭いことを特徴とする請求項1に記載のX線発生装置。
- さらに、前記電子源から出射される電子ビームを前記ターゲット部材上に集束して照射させる電子レンズを備えたことを特徴とする請求項1又は2に記載のX線発生装置。
- 前記ターゲット部材において、前記基材を銅材で形成したときは、前記ストライプ状金属薄膜をモリブデン、金、銀、タングステン、ニッケル、クロムのいずれかを用いて形成したことを特徴とする請求項1又は2に記載のX線発生装置。
- 前記ターゲット部材において、前記基材を銅材とその表面にタングステン膜を形成して構成した場合には、前記ストライプ状金属薄膜をモリブデン、金、銀、銅、ニッケル、クロムのいずれかを用いて形成したことを特徴とする請求項1又は2に記載のX線発生装置。
- 前記ターゲット部材上において照射される前記電子ビームの径が10〜500μmの範囲内であることを特徴とする請求項1又は2に記載のX線発生装置。
- 前記ターゲット部材は、前記ストライプ状金属薄膜の下地に合成ダイヤモンド層を有することを特徴とする請求項1又は2に記載のX線発生装置。
- 請求項1乃至7の何れか1つに記載のX線発生装置を備えたことを特徴とするX線分析装置。
- 請求項1乃至7の何れか1つに記載のX線発生装置を備えたことを特徴とするX線透過像計測装置。
- 請求項1乃至7の何れか1つに記載のX線発生装置を備えたことを特徴とするX線干渉計。
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