JP2009203282A - Coating material for forming transparent antistatic film, transparent antistatic film using it, and transparent base material with transparent antistatic film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、透明帯電防止膜形成用塗料とそれを用いた透明帯電防止膜および透明帯電防止膜付き透明基材に関し、さらに詳しくは、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極線管（ＣＲＴ）、プロジェクション（ＰＪＴＶ）などの各種表示装置に好適に用いられ、これらの表示装置の表示面に、帯電防止効果を付与することが可能であるとともに、膜の硬度および防汚性をさらに向上させることが可能な透明帯電防止膜形成用塗料、それを用いて形成してなる透明帯電防止膜および透明帯電防止膜付き透明基材に関するものである。 The present invention relates to a coating material for forming a transparent antistatic film, a transparent antistatic film using the same, and a transparent substrate with a transparent antistatic film, and more particularly, a plasma display (PDP), a liquid crystal display (LCD), and an electroluminescence display. (ELD), cathode ray tube (CRT), projection (PJTV), and other suitable display devices. It is possible to impart an antistatic effect to the display surface of these display devices, and the hardness of the film. The present invention also relates to a coating for forming a transparent antistatic film capable of further improving the antifouling property, a transparent antistatic film formed using the same, and a transparent substrate with a transparent antistatic film.
一般に、画像表示用の一般材料、例えば、従来のプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極線管（ＣＲＴ）、プロジェクション（ＰＪＴＶ）などの各種表示装置に用いられるポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などの透明基材は、静電気が帯電し易く、この静電気により、埃が付着するという問題がある。このような問題を改善するために、透明基材の画像表示部に透明導電膜を形成することが行われている。この透明導電膜の形成方法としては、一般的に、透明基材の画像表示面に導電性微粒子を含有する塗料を塗工し、製膜する方法が用いられている。 Generally, it is used for various display devices such as general materials for image display, such as conventional plasma display (PDP), liquid crystal display (LCD), electroluminescence display (ELD), cathode ray tube (CRT), projection (PJTV). Transparent substrates such as polyethylene terephthalate (PET), triacetyl cellulose (TAC), and polymethyl methacrylate (PMMA) are easily charged with static electricity, and there is a problem that dust adheres to the static electricity. In order to improve such a problem, forming a transparent conductive film in the image display part of a transparent base material is performed. As a method for forming this transparent conductive film, a method is generally used in which a coating containing conductive fine particles is applied to the image display surface of a transparent substrate to form a film.
透明導電膜の形成において、この透明導電膜と透明基材との密着性を高めるために、易接着層付きの透明基材を用いたり、透明基材にコロナ放電処理を施したりしている。
透明基材に易接着層を形成する手段としては、例えば、非晶質導電性酸化スズとアクリル共重合高分子とからなる帯電防止プライマーが開示されている（例えば、特許文献１参照）。
また、帯電防止性能を有するプラスチックフィルムのプライマーに用いられ、プラスチックとの密着性を高めるバインダーとしては、ガラス転移点が−３０℃〜０℃の範囲の非結晶性ポリエステル系ポリウレタンと、ガラス転移点が０℃〜４０℃の範囲の結晶性ポリエステル系ポリウレタンとからなる複合組成物が開示されている（例えば、特許文献２参照）。
また、熱可塑性樹脂シートに対する導電性微粒子の密着性を向上させるために、導電性微粒子を含む導電性塗料としては、ガラス転移点が８０℃以上のアクリル系樹脂と、ガラス転移点が７０℃以下のアクリル系樹脂とを含むものが開示されている（例えば、特許文献３参照）。
As a means for forming an easy-adhesion layer on a transparent substrate, for example, an antistatic primer composed of amorphous conductive tin oxide and an acrylic copolymer is disclosed (for example, see Patent Document 1).
In addition, the binder used for the primer of the plastic film having antistatic performance and enhancing the adhesiveness with the plastic includes an amorphous polyester polyurethane having a glass transition point in the range of -30 ° C to 0 ° C, and a glass transition point. Has disclosed a composite composition comprising a crystalline polyester polyurethane having a temperature of 0 ° C. to 40 ° C. (see, for example, Patent Document 2).
Further, in order to improve the adhesion of the conductive fine particles to the thermoplastic resin sheet, the conductive paint containing the conductive fine particles includes an acrylic resin having a glass transition point of 80 ° C. or higher and a glass transition point of 70 ° C. or lower. The thing containing this acrylic resin is disclosed (for example, refer patent document 3).
しかしながら、易接着層の上に、透明導電膜を形成するための塗料を塗布する場合、易接着層の種類によっては、易接着層に対する塗料の親和性が低く、得られた塗膜の密着性や耐摩耗性が不十分であり、また、塗膜の外観が損なわれる、易接着層付きの基板は高価であるなどの問題があった。
また、通常、表面処理を施していない透明基材に塗料を塗布して透明導電膜を形成した場合、透明導電膜は透明基材との密着性が低く、耐摩耗性も著しく低い。したがって、透明導電膜の摩耗により、導電性微粒子の脱落などによる汚染の問題が生じることがある。そこで、透明基材に対して、コロナ放電処理などの表面処理が施されている。しかしながら、透明基材に対するコロナ放電処理などの表面処理は、耐摩耗性が十分に向上しないことも多く、また、時間の経過に伴ってその効果が低下するため、生産性が悪いという問題があった。さらに、表面処理工程が増えることから、製造コストが高くなるという問題があった。
However, when applying a paint for forming a transparent conductive film on the easy-adhesion layer, depending on the type of the easy-adhesion layer, the paint has a low affinity for the easy-adhesion layer, and the adhesion of the obtained coating film In addition, the abrasion resistance is insufficient, the appearance of the coating film is impaired, and the substrate with an easy-adhesion layer is expensive.
Moreover, normally, when a transparent conductive film is formed by applying a coating to a transparent base material that has not been subjected to surface treatment, the transparent conductive film has low adhesion to the transparent base material and has extremely low wear resistance. Accordingly, the abrasion of the transparent conductive film may cause a problem of contamination due to dropping off of the conductive fine particles. Therefore, surface treatment such as corona discharge treatment is applied to the transparent substrate. However, surface treatment such as corona discharge treatment for transparent substrates often does not sufficiently improve the wear resistance, and the effect decreases with time, resulting in poor productivity. It was. Furthermore, since the surface treatment process increases, there is a problem that the manufacturing cost is increased.
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、表面処理を施していない透明基材への密着性、耐摩耗性、導電性などに優れた塗膜を容易に作製することができる透明帯電防止膜形成用塗料とそれを用いた透明帯電防止膜および透明帯電防止膜付き透明基材を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and can easily produce a coating film excellent in adhesion, abrasion resistance, conductivity and the like to a transparent substrate that has not been subjected to surface treatment. It is an object to provide a coating material for forming a transparent antistatic film, a transparent antistatic film using the same, and a transparent substrate with a transparent antistatic film.
本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意研究を行った結果、透明帯電防止膜形成用塗料のバインダーとして、ガラス転移点が０℃以下の熱可塑性樹脂と、ガラス転移点が４０℃以上の熱可塑性樹脂とを用いることにより、得られる塗膜の透明基材に対する密着性が向上し、耐摩耗性も向上することを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a thermoplastic resin having a glass transition point of 0 ° C. or lower as a binder for a coating material for forming a transparent antistatic film and a glass transition point of 40 ° C. It has been found that by using the above thermoplastic resin, the adhesion of the obtained coating film to the transparent substrate is improved and the wear resistance is also improved, and the present invention has been completed.
すなわち、本発明の透明帯電防止膜形成用塗料は、導電性微粒子と、バインダーとを含有してなる透明帯電防止膜形成用塗料であって、前記バインダーは、ガラス転移点が０℃以下の熱可塑性樹脂と、ガラス転移点が４０℃以上の熱可塑性樹脂とを含有してなることを特徴とする。 That is, the transparent antistatic film-forming paint of the present invention is a transparent antistatic film-forming paint comprising conductive fine particles and a binder, and the binder has a glass transition point of 0 ° C. or less. It comprises a plastic resin and a thermoplastic resin having a glass transition point of 40 ° C. or higher.
前記バインダーは、さらに、ビニル基、エポキシ基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、イソシアネート基の群から選択される１種または２種以上の有機官能基を有する高分子化合物を含有してなることが好ましい。
前記バインダーは、さらに、コロイダルシリカを含有してなることが好ましい。
The binder preferably further contains a polymer compound having one or more organic functional groups selected from the group consisting of a vinyl group, an epoxy group, an acryloxy group, a methacryloxy group, and an isocyanate group.
The binder preferably further contains colloidal silica.
前記バインダーにおける前記ガラス転移点が０℃以下の熱可塑性樹脂の含有率は、２５質量％以上かつ７５質量％以下であることが好ましい。
前記バインダーにおける前記高分子化合物と前記コロイダルシリカの合計の含有率は、２５質量％以上かつ５５質量％以下であることが好ましい。
前記高分子化合物と前記コロイダルシリカの合計における前記コロイダルシリカの含有率は、２０質量％以上かつ８０質量％以下であることが好ましい。
The content of the thermoplastic resin having a glass transition point of 0 ° C. or less in the binder is preferably 25% by mass or more and 75% by mass or less.
The total content of the polymer compound and the colloidal silica in the binder is preferably 25% by mass or more and 55% by mass or less.
The content of the colloidal silica in the total of the polymer compound and the colloidal silica is preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less.
前記コロイダルシリカの平均粒子径は、１０ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることが好ましい。
前記導電性微粒子は、スズを含む金属酸化物微粒子であることが好ましい。
前記導電性微粒子の平均粒子径は、５ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることが好ましい。
前記導電性微粒子の含有率は、前記バインダー１００質量部に対して４０質量部以上かつ２５０質量部以下であることが好ましい。
The average particle size of the colloidal silica is preferably 10 nm or more and 100 nm or less.
The conductive fine particles are preferably metal oxide fine particles containing tin.
The average particle size of the conductive fine particles is preferably 5 nm or more and 100 nm or less.
The content of the conductive fine particles is preferably 40 parts by mass or more and 250 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the binder.
本発明の透明帯電防止膜は、本発明の透明帯電防止膜形成用塗料を用いて形成してなることを特徴とする。 The transparent antistatic film of the present invention is formed by using the paint for forming a transparent antistatic film of the present invention.
本発明の透明帯電防止膜付き透明基材は、透明帯電防止膜を透明基材の表面に形成してなることを特徴とする。 The transparent base material with a transparent antistatic film of the present invention is characterized in that a transparent antistatic film is formed on the surface of the transparent base material.
本発明の透明帯電防止膜形成用塗料によれば、導電性微粒子と、バインダーとを含有してなる透明帯電防止膜形成用塗料であって、前記バインダーは、ガラス転移点が０℃以下の熱可塑性樹脂と、ガラス転移点が４０℃以上の熱可塑性樹脂とを含有してなるので、コロナ放電処理などの表面処理を施していない透明基材への密着性、耐摩耗性、導電性などに優れた透明帯電防止膜を容易に作製することができる。 According to the coating material for forming a transparent antistatic film of the present invention, the coating material for forming a transparent antistatic film comprising conductive fine particles and a binder, wherein the binder has a glass transition point of 0 ° C. or less. Since it contains a plastic resin and a thermoplastic resin having a glass transition point of 40 ° C. or higher, it is suitable for adhesion to a transparent substrate not subjected to surface treatment such as corona discharge treatment, wear resistance, conductivity, etc. An excellent transparent antistatic film can be easily produced.
本発明の透明帯電防止膜形成用塗料とそれを用いた透明帯電防止膜の最良の形態について説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
The best mode of the transparent antistatic film-forming paint of the present invention and the transparent antistatic film using the same will be described.
This embodiment is specifically described for better understanding of the gist of the invention, and does not limit the present invention unless otherwise specified.
本発明の透明帯電防止膜形成用塗料は、導電性微粒子と、バインダーとを含有してなる透明帯電防止膜形成用塗料であって、バインダーが、ガラス転移点が０℃以下の熱可塑性樹脂と、ガラス転移点が４０℃以上の熱可塑性樹脂とを含有してなる塗料である。 The paint for forming a transparent antistatic film of the present invention is a paint for forming a transparent antistatic film comprising conductive fine particles and a binder, wherein the binder comprises a thermoplastic resin having a glass transition point of 0 ° C. or less. A coating material containing a thermoplastic resin having a glass transition point of 40 ° C. or higher.
導電性微粒子としては、表面抵抗が低く、しかも透明性を確保することができる点から、スズを含む金属酸化物微粒子が好ましい。
スズを含む金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化スズ（ＳｎＯ２、ＳｎＯなど）、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、スズ含有酸化インジウム（ＩＴＯ）などが挙げられる。
As the conductive fine particles, metal oxide fine particles containing tin are preferable from the viewpoint of low surface resistance and ensuring transparency.
Examples of the metal oxide fine particles containing tin include tin oxide (SnO 2 , SnO, etc.), antimony-containing tin oxide (ATO), tin-containing indium oxide (ITO), and the like.
この導電性微粒子の平均粒子径は、５ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１０ｎｍ以上かつ８０ｎｍ以下である。
導電性微粒子の平均粒子径は、５ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることが好ましい理由は、導電性微粒子の平均粒子径が５ｎｍ未満では、導電性微粒子同士の接触抵抗が大きくなり、導電性が阻害されるからであり、一方、導電性微粒子の平均粒子径が１００ｎｍを超えると、微粒子同士の凝集が生じ易くなり、その結果、塗料の保存安定性が低下し、ポットライフが短くなるからである。
The average particle size of the conductive fine particles is preferably 5 nm or more and 100 nm or less, more preferably 10 nm or more and 80 nm or less.
The reason why the average particle diameter of the conductive fine particles is preferably 5 nm or more and 100 nm or less is that when the average particle diameter of the conductive fine particles is less than 5 nm, the contact resistance between the conductive fine particles is increased, and the conductivity is inhibited. On the other hand, if the average particle diameter of the conductive fine particles exceeds 100 nm, the fine particles tend to aggregate with each other. As a result, the storage stability of the paint is lowered and the pot life is shortened.
この透明帯電防止膜形成用塗料では、導電性微粒子の含有率は、バインダー１００質量部に対して４０質量部以上かつ２５０質量部以下であることが好ましく、より好ましくは５０質量部以上かつ２００質量部以下である。
透明帯電防止膜形成用塗料における導電性微粒子の含有率は、バインダー１００質量部に対して４０質量部以上かつ２５０質量部以下であることが好ましい理由は、導電性微粒子の含有率が４０質量部未満では、この透明帯電防止膜形成用塗料を用いて製膜した場合に、その膜中の導電性微粒子の濃度が低くなり、導電性微粒子間の接触の度合いが低下し、その結果、表面抵抗が高くなってしまい、所望の表面抵抗が得られなくなるからである。一方、導電性微粒子の含有率が２５０質量部を超えると、塗料中にて導電性微粒子の凝集が生じ易くなり、その結果、塗料の保存安定性が低下し、ポットライフが短くなるばかりでなく、この透明帯電防止膜形成用塗料を用いて製膜した場合、その膜中の導電性微粒子の濃度が高くなり、その結果、導電性微粒子に起因する着色が生じ易くなり、膜の可視光線に対する透過率が低下するからである。
In this transparent antistatic film-forming coating material, the content of the conductive fine particles is preferably 40 parts by mass or more and 250 parts by mass or less, more preferably 50 parts by mass or more and 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder. Or less.
The reason why the conductive fine particle content in the transparent antistatic film-forming coating material is preferably 40 parts by mass or more and 250 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the binder is that the content of the conductive fine particles is 40 parts by mass. If the film is formed using this transparent antistatic film-forming coating material, the concentration of the conductive fine particles in the film is lowered, and the degree of contact between the conductive fine particles is reduced. This is because the desired surface resistance cannot be obtained. On the other hand, when the content of the conductive fine particles exceeds 250 parts by mass, the conductive fine particles are easily aggregated in the paint, and as a result, the storage stability of the paint is lowered and the pot life is shortened. When the film is formed using this transparent antistatic film-forming coating material, the concentration of the conductive fine particles in the film becomes high, and as a result, coloration due to the conductive fine particles is likely to occur, and the film is resistant to visible light. This is because the transmittance decreases.
ガラス転移点（Ｔｇ）が０℃以下の熱可塑性樹脂としては、例えば、東洋紡績社製のポリエステル樹脂である、バイロナールＭＤ１９８５（ガラス転移点−２０℃）、バイロナールＭＤ１９３０（ガラス転移点−１０℃）、第一工業製薬社製のウレタン樹脂であるスーパーフレックス４６０（ガラス転移点−２１℃）などが挙げられる。 Examples of the thermoplastic resin having a glass transition point (Tg) of 0 ° C. or lower include, for example, Vylonal MD1985 (glass transition point−20 ° C.) and Vironal MD1930 (glass transition point−10 ° C.), which are polyester resins manufactured by Toyobo And Superflex 460 (glass transition point-21 ° C.), which is a urethane resin manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd ..
ガラス転移点（Ｔｇ）が４０℃以上の熱可塑性樹脂としては、例えば、東洋紡績社製のポリエステル樹脂である、バイロナールＭＤ１２００（ガラス転移点６７℃）、バイロナールＭＤ１５００（ガラス転移点７７℃）、バイロナールＭＤ１２５０（ガラス転移点６２℃）、第一工業製薬社製のウレタン樹脂であるスーパーフレックス１１０（ガラス転移点４６℃）などが挙げられる。 Examples of the thermoplastic resin having a glass transition point (Tg) of 40 ° C. or higher include, for example, Vylonal MD1200 (glass transition point 67 ° C.), Vylonal MD1500 (glass transition point 77 ° C.), and Bironal, which are polyester resins manufactured by Toyobo Co., Ltd. Examples thereof include MD1250 (glass transition point 62 ° C.), Superflex 110 (glass transition point 46 ° C.), which is a urethane resin manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku.
この透明帯電防止膜形成用塗料では、バインダーにおけるガラス転移点が０℃以下の熱可塑性樹脂の含有率は、２５質量％以上かつ７５質量％以下であることが好ましく、より好ましくは３０質量％以上かつ７０質量％以下である。
バインダーにおけるガラス転移点が０℃以下の熱可塑性樹脂の含有率は、２５質量％以上かつ７５質量％以下であることが好ましい理由は、ガラス転移点が０℃以下の熱可塑性樹脂の含有率が２５質量％未満では、透明基材に対する透明帯電防止膜の密着性が低下して、耐摩耗性が低下するからであり、一方、ガラス転移点が０℃以下の熱可塑性樹脂の含有率が７５質量％を超えると、得られる透明帯電防止膜が軟らかすぎて、耐摩耗性が低下するからである。
In this transparent antistatic film-forming coating material, the content of the thermoplastic resin having a glass transition point of 0 ° C. or less in the binder is preferably 25% by mass or more and 75% by mass or less, more preferably 30% by mass or more. And it is 70 mass% or less.
The reason why the content of the thermoplastic resin having a glass transition point of 0 ° C. or less in the binder is preferably 25% by mass or more and 75% by mass or less is that the content of the thermoplastic resin having a glass transition point of 0 ° C. or less. If the content is less than 25% by mass, the adhesion of the transparent antistatic film to the transparent substrate is lowered and the wear resistance is lowered. On the other hand, the content of the thermoplastic resin having a glass transition point of 0 ° C. or lower is 75. This is because if it exceeds mass%, the resulting transparent antistatic film is too soft and wear resistance decreases.
上記のバインダーは、さらに、ビニル基、エポキシ基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、イソシアネート基の群から選択される１種または２種以上の有機官能基を有する高分子化合物を含有することが好ましい。
このような高分子化合物としては、アルコキシシランの加水分解物および有機変性アルコキシシランの加水分解物の双方を含有するものが用いられる。
The binder preferably further contains a polymer compound having one or more organic functional groups selected from the group of vinyl group, epoxy group, acryloxy group, methacryloxy group, and isocyanate group.
As such a polymer compound, one containing both a hydrolyzate of alkoxysilane and a hydrolyzate of organically modified alkoxysilane is used.
アルコキシシランとしては、例えば、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシランなどが挙げられる。また、アルコキシシランの加水分解物の替わりに、コロイダルシリカを使用することもできる。
有機変性アルコキシシランとしては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、４−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。
これらのアルコキシシランまたは有機変性アルコキシシランは、それぞれの加水分解物を使用してもよいし、複数のシラン化合物の共加水分解物を使用してもよい。
Examples of the alkoxysilane include tetramethoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, tetraethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, hexyltri And methoxysilane. Moreover, colloidal silica can also be used instead of the hydrolyzate of alkoxysilane.
Examples of the organically modified alkoxysilane include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and 3-glycidoxypropyl. Triethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 4-methacryloxypropylmethyldiethoxy Examples thereof include silane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, and 3-isocyanatopropyltriethoxysilane.
Each of these alkoxysilanes or organically modified alkoxysilanes may use a hydrolyzate thereof, or a cohydrolyzate of a plurality of silane compounds.
バインダーは、さらに、コロイダルシリカを含有することが好ましい。
このコロイダルシリカの平均粒子径は、１０ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１５ｎｍ以上かつ８０ｎｍ以下である。
コロイダルシリカの平均粒子径は、１０ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることが好ましい理由は、コロイダルシリカの平均粒子径が１０ｎｍ未満では、導電性微粒子の間にコロイダルシリカが入り込み、導電性微粒子の導電パスを阻害するからであり、一方、コロイダルシリカの平均粒子径が１００ｎｍを超えると、粒子による散乱のため、この透明帯電防止膜形成用塗料を用いて形成した透明帯電防止膜が白っぽく散乱し、また、コロイダルシリカの粒子間の空隙が大きくなり、耐摩耗性が劣化するからである。
The binder preferably further contains colloidal silica.
The average particle size of the colloidal silica is preferably 10 nm or more and 100 nm or less, more preferably 15 nm or more and 80 nm or less.
The reason why the average particle size of the colloidal silica is preferably 10 nm or more and 100 nm or less is that when the average particle size of the colloidal silica is less than 10 nm, the colloidal silica enters between the conductive particles, and the conductive path of the conductive particles is reduced. On the other hand, when the average particle diameter of colloidal silica exceeds 100 nm, the transparent antistatic film formed using this transparent antistatic film-forming coating material is scattered whitish due to scattering by particles, This is because the gaps between the colloidal silica particles become large and the wear resistance deteriorates.
この透明帯電防止膜形成用塗料では、バインダーにおける高分子化合物とコロイダルシリカの合計の含有率は、２５質量％以上かつ５５質量％以下であることが好ましく、より好ましくは３０質量％以上かつ５０質量％以下である。
バインダーにおける高分子化合物とコロイダルシリカの合計の含有率は、２５質量％以上かつ５５質量％以下であることが好ましい理由は、高分子化合物とコロイダルシリカの合計の含有率が２５質量％未満では、透明基材に対する透明帯電防止膜の密着性が低下して、耐摩耗性が低下するからであり、一方、高分子化合物とコロイダルシリカの合計の含有率が５５質量％を超えると、コロイダルシリカや高分子化合物が導電性微粒子の表面に結合し、導電性を阻害するとともに、この透明帯電防止膜形成用塗料を用いて形成した透明帯電防止膜が熱収縮で割れやすくなるとともに、塗料の分散性が悪くなるからである。
In this transparent antistatic film-forming coating material, the total content of the polymer compound and colloidal silica in the binder is preferably 25% by mass or more and 55% by mass or less, more preferably 30% by mass or more and 50% by mass. % Or less.
The reason why the total content of the polymer compound and colloidal silica in the binder is preferably 25% by mass or more and 55% by mass or less is that when the total content of the polymer compound and colloidal silica is less than 25% by mass, This is because the adhesiveness of the transparent antistatic film to the transparent substrate is lowered and the wear resistance is lowered. On the other hand, when the total content of the polymer compound and colloidal silica exceeds 55% by mass, colloidal silica or The polymer compound binds to the surface of the conductive fine particles and inhibits the conductivity, and the transparent antistatic film formed using the coating material for forming the transparent antistatic film is easily broken by heat shrinkage, and the dispersibility of the paint Because it gets worse.
また、この透明帯電防止膜形成用塗料では、高分子化合物とコロイダルシリカの合計におけるコロイダルシリカの含有率は、２０質量％以上かつ８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは２５質量％以上かつ７５質量％以下である。
高分子化合物とコロイダルシリカの合計におけるコロイダルシリカの含有率は、２０質量％以上かつ８０質量％以下であることが好ましい理由は、コロイダルシリカの含有率が２０質量％未満では、高分子化合物が導電性微粒子の表面に結合し、導電性を阻害するとともに、加熱時にこの透明帯電防止膜形成用塗料を用いて形成した透明帯電防止膜が熱収縮で割れやすくなるとともに、塗料の分散性が悪くなるからであり、一方、コロイダルシリカの含有率が８０質量％を超えると、透明基材に対する透明帯電防止膜の密着性が低下して、耐摩耗性が低下するからである。
In this transparent antistatic film-forming coating material, the content of colloidal silica in the total of the polymer compound and colloidal silica is preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less, more preferably 25% by mass or more. And it is 75 mass% or less.
The reason why the colloidal silica content in the total of the polymer compound and colloidal silica is preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less is that when the colloidal silica content is less than 20% by mass, the polymer compound is conductive. It binds to the surface of the conductive fine particles and inhibits conductivity, and the transparent antistatic film formed using the coating material for forming the transparent antistatic film during heating is easily broken by heat shrinkage, and the dispersibility of the paint is deteriorated. On the other hand, if the content of colloidal silica exceeds 80% by mass, the adhesion of the transparent antistatic film to the transparent substrate is lowered and the wear resistance is lowered.
この透明帯電防止膜形成用塗料は、塗工性を高めるために、さらに、レベリング剤を含有していてもよい。
このレベリング剤としては、ケイ素またはフッ素を含む有機化合物が好ましく、例えば、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエーテルエステル変性ポリジメチルシロキサン、水酸基あるいはアクリル基含有物などのシリコーン系ポリマー、パーフルオロアルキルスルホン酸、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキルエステル、その他フッ素変性ポリマーなどが挙げられる。
The coating material for forming the transparent antistatic film may further contain a leveling agent in order to improve the coatability.
The leveling agent is preferably an organic compound containing silicon or fluorine. For example, polyether-modified polydimethylsiloxane, polyetherester-modified polydimethylsiloxane, a silicone-based polymer such as a hydroxyl group-containing or acrylic group-containing material, and perfluoroalkylsulfonic acid. , Perfluoroalkyl ethylene oxide adducts, perfluoroalkyl esters, and other fluorine-modified polymers.
この透明帯電防止膜形成用塗料によれば、導電性微粒子と、バインダーとを含有してなる透明帯電防止膜形成用塗料であって、バインダーは、ガラス転移点が０℃以下の熱可塑性樹脂と、ガラス転移点が４０℃以上の熱可塑性樹脂とを含有してなるので、コロナ放電処理などの表面処理を施していない未処理の透明基材への密着性、耐摩耗性、導電性などに優れた透明帯電防止膜を容易に作製することができる。 According to this coating material for forming a transparent antistatic film, it is a coating material for forming a transparent antistatic film comprising conductive fine particles and a binder, and the binder comprises a thermoplastic resin having a glass transition point of 0 ° C. or less. Since it contains a thermoplastic resin having a glass transition point of 40 ° C. or higher, it is suitable for adhesion to untreated transparent substrates not subjected to surface treatment such as corona discharge treatment, wear resistance, conductivity, etc. An excellent transparent antistatic film can be easily produced.
また、バインダーに上記の高分子化合物を添加することにより、ＰＥＴフィルムなどのプラスチック基材に対する透明帯電防止膜の密着性がさらに向上する。すなわち、高分子化合物として、アルコキシシランの加水分解物および有機変性アルコキシシランの加水分解物を用いることにより、その有機官能基が、上記の熱可塑樹脂およびプラスチック基材の表面と結合し、かつ、そのシラノール基が導電性微粒子と結合することによって、導電性微粒子と、熱可塑樹脂およびプラスチック基材とが結びつき（密着性が向上し）、耐摩耗性が向上する。なぜならば、バインダーが熱可塑性樹脂のみからなる場合、コロナ放電処理などの表面処理を施していない未処理のプラスチック基材は、透明帯電防止膜と結合する官能基が少ないので、透明帯電防止膜との密着性が低いため、透明帯電防止膜に、プラスチック基材と結合する官能基の数を増やす必要があるからである。 Moreover, the adhesion of the transparent antistatic film to a plastic substrate such as a PET film is further improved by adding the above polymer compound to the binder. That is, by using a hydrolyzate of alkoxysilane and a hydrolyzate of organically modified alkoxysilane as the polymer compound, the organic functional group is bonded to the surface of the thermoplastic resin and the plastic substrate, and When the silanol group is bonded to the conductive fine particles, the conductive fine particles are bonded to the thermoplastic resin and the plastic substrate (adhesion is improved), and the wear resistance is improved. This is because when the binder is made of only a thermoplastic resin, an untreated plastic substrate that has not been subjected to a surface treatment such as corona discharge treatment has few functional groups that bind to the transparent antistatic film. This is because it is necessary to increase the number of functional groups bonded to the plastic substrate in the transparent antistatic film.
さらに、バインダーに上記のコロイダルシリカを添加することにより、上記の高分子化合物のシラノール基がコロイダルシリカに吸着して、この高分子化合物の導電性微粒子への結合が適度に抑制されて、導電性微粒子による導電性が低下することを抑えることができる。すなわち、透明帯電防止膜の耐摩耗性と導電性のバランスをとるために、コロイダルシリカを添加する。なお、透明帯電防止膜の導電性は、導電性微粒子にコロイダルシリカが結合した場合の方が、導電性微粒子に高分子化合物のシラノール基が結合した場合よりも良好である。 Furthermore, by adding the above colloidal silica to the binder, the silanol group of the above polymer compound is adsorbed on the colloidal silica, and the binding of the polymer compound to the conductive fine particles is moderately suppressed, and the conductivity is increased. It can suppress that the electroconductivity by microparticles | fine-particles falls. That is, colloidal silica is added to balance the wear resistance and conductivity of the transparent antistatic film. The conductivity of the transparent antistatic film is better when the colloidal silica is bonded to the conductive fine particles than when the silanol group of the polymer compound is bonded to the conductive fine particles.
次に、本発明の透明帯電防止膜形成用塗料を用いて透明帯電防止膜を形成する方法について説明する。
まず、透明基材を用意する。この透明基材としては、特に限定されず、プラスチック基材、ガラス基材を挙げることができ、その形状としては、平板、フィルム、シートなどいずれであってもよい。
このプラスチック基材としては、透明プラスチックシートや透明プラスチックフィルムなどが挙げられる。このプラスチック基材の材質としては、特に限定されるものではないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリアクリレート、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリアクリレートとポリスチレン（ＰＳ）の共重合体などから適宜選択することができる。
Next, a method for forming a transparent antistatic film using the coating material for forming a transparent antistatic film of the present invention will be described.
First, a transparent substrate is prepared. The transparent substrate is not particularly limited, and examples thereof include a plastic substrate and a glass substrate, and the shape thereof may be any of a flat plate, a film, a sheet, and the like.
Examples of the plastic substrate include a transparent plastic sheet and a transparent plastic film. The material of the plastic substrate is not particularly limited. For example, polyethylene terephthalate (PET), triacetyl cellulose (TAC), polyacrylate, polystyrene (PS), polyacrylate and polystyrene (PS) are combined. It can be suitably selected from polymers and the like.
次いで、この透明基材上に、本発明の透明帯電防止膜形成用塗料を塗布して塗布膜を形成する。
透明帯電防止膜形成用塗料の塗布方法としては、特に限定されることはなく、例えば、グラビアコート法などのロールコート法、スピンコート法、デイップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法などの各種塗布方法が用いられる。
Next, the transparent antistatic film-forming coating material of the present invention is applied onto the transparent substrate to form a coating film.
The coating method of the transparent antistatic film-forming coating is not particularly limited, for example, a roll coating method such as a gravure coating method, a spin coating method, a dip method, a spray method, a slide coating method, a bar coating method, Various coating methods such as meniscus coater method, flexographic printing method, screen printing method, and bead coater method are used.
次いで、この塗布膜を、酸化雰囲気中、８０℃以上かつ１５０℃以下の温度にて熱処理する。
このようにして、本発明の透明帯電防止膜を得ることができる。
Next, this coating film is heat-treated at a temperature of 80 ° C. or higher and 150 ° C. or lower in an oxidizing atmosphere.
In this way, the transparent antistatic film of the present invention can be obtained.
本発明の透明帯電防止膜を透明基材の表面に形成すれば、帯電防止機能、膜の硬度、防汚性に優れ、さらには長期信頼性に優れた透明帯電防止膜付き透明基材が得られる。 When the transparent antistatic film of the present invention is formed on the surface of a transparent base material, a transparent base material with a transparent antistatic film excellent in antistatic function, film hardness and antifouling property and excellent in long-term reliability is obtained. It is done.
以下、実施例および比較例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further more concretely, this invention is not limited to a following example.
「実施例１」
アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学社製）４．３ｇとメタノール１１．２ｇを配合し、攪拌混合しながら、希硝酸（１規定、硝酸０．１ｇを純水４．２ｇで希釈したもの）を滴下し、次いで、環流しながら６０℃にて３時間攪拌し、有機変性アルコキシシランの加水分解物（加水分解物Ａ）を調製した。
次に、低Ｔｇポリエステル樹脂（バイロナールＭＤ１９８５、ガラス転移点−２０℃、東洋紡績社製）１．９ｇ、高Ｔｇポリエステル樹脂（バイロナールＭＤ１２００、ガラス転移点６７℃、東洋紡績社製）１．５ｇ、６．６７％アンチモン含有酸化スズ分散液３０．０ｇ、レベリング剤（ＫＦ３５４、信越化学社製）０．３ｇ、コロイダルシリカ（ＳＴ−０、日産化学社製）１．０ｇ、加水分解物Ａ２．０ｇ、および、純水６３．３ｇを配合し、攪拌混合して塗料（塗料ａ）を調製した。
塗料ａ中のＡＴＯ、低Ｔｇポリエステル樹脂、高Ｔｇポリエステル樹脂、コロイダルシリカ、および、加水分解物Ａ由来のシリカの質量比は、塗料ａ中のＡＴＯ：低Ｔｇポリエステル樹脂：高Ｔｇポリエステル樹脂：コロイダルシリカ：加水分解物Ａ由来のシリカ＝２０：５：５：２：３であった。
次に、ＰＥＴフィルムに、バーコート方により塗料ａを塗布し、次いで、乾燥機により１００℃にて１分間乾燥させ、厚み０．５μｍの透明帯電防止膜を形成し、実施例１の透明帯電防止膜付きＰＥＴフィルムを得た。
Example 1
A mixture of 4.3 g of acryloxypropyltrimethoxysilane (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 11.2 g of methanol, and while stirring and mixing, dilute nitric acid (1 N, 0.1 g of nitric acid with 4.2 g of pure water) Then, the mixture was stirred at 60 ° C. for 3 hours while refluxing to prepare an organically modified alkoxysilane hydrolyzate (hydrolyzate A).
Next, 1.9 g of low Tg polyester resin (Vylonal MD1985, glass transition point-20 ° C., manufactured by Toyobo Co., Ltd.), 1.5 g of high Tg polyester resin (Vylonal MD1200, glass transition point 67 ° C., manufactured by Toyobo Co., Ltd.), 6.67% antimony-containing tin oxide dispersion 30.0 g, leveling agent (KF354, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.3 g, colloidal silica (ST-0, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) 1.0 g, hydrolyzate A 2.0 g , And 63.3 g of pure water were mixed and mixed by stirring to prepare a paint (paint a).
The mass ratio of ATO, low Tg polyester resin, high Tg polyester resin, colloidal silica, and silica derived from hydrolyzate A in paint a is as follows: ATO: low Tg polyester resin: high Tg polyester resin: colloid in paint a Silica: Silica derived from hydrolyzate A = 20: 5: 5: 2: 3.
Next, the paint a was applied to the PET film by a bar coating method, and then dried at 100 ° C. for 1 minute by a dryer to form a transparent antistatic film having a thickness of 0.5 μm. A PET film with a protective film was obtained.
「実施例２」
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５０３、信越化学社製）４．５ｇとメタノール１１．２ｇを配合し、攪拌混合しながら、希硝酸（１規定、硝酸０．１ｇを純水４．２ｇで希釈したもの）を滴下し、次いで、環流しながら６０℃にて３時間攪拌し、有機変性アルコキシシランの加水分解物（加水分解物Ｂ）を調製した。
次に、低Ｔｇポリエステル樹脂（バイロナールＭＤ１９８５、ガラス転移点−２０℃、東洋紡績社製）１．９ｇ、高Ｔｇポリエステル樹脂（バイロナールＭＤ１２００、ガラス転移点６７℃、東洋紡績社製）１．５ｇ、６．６７％アンチモン含有酸化スズ分散液３０．０ｇ、レベリング剤（ＫＦ３５４、信越化学社製）０．３ｇ、コロイダルシリカ（ＳＴ−０、日産化学社製）１．０ｇ、加水分解物Ｂ２．０ｇ、および、純水６３．３ｇを配合し、攪拌混合して塗料（塗料ｂ）を調製した。
塗料ｂ中のＡＴＯ、低Ｔｇポリエステル樹脂、高Ｔｇポリエステル樹脂、コロイダルシリカ、および、加水分解物Ｂ由来のシリカの質量比は、塗料ｂ中のＡＴＯ：低Ｔｇポリエステル樹脂：高Ｔｇポリエステル樹脂：コロイダルシリカ：加水分解物Ｂ由来のシリカ＝２０：５：５：２：３であった。
次に、ＰＥＴフィルムに、バーコート方により塗料ｂを塗布し、次いで、乾燥機により１００℃にて１分間乾燥させ、厚み０．５μｍの透明帯電防止膜を形成し、実施例２の透明帯電防止膜付きＰＥＴフィルムを得た。
"Example 2"
4.5 g of methacryloxypropyltrimethoxysilane (KBM-503, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 11.2 g of methanol are mixed, and while stirring and mixing, dilute nitric acid (1 N, 0.1 g of nitric acid is added with 4.2 g of pure water). Then, the mixture was stirred at 60 ° C. for 3 hours while refluxing to prepare a hydrolyzate (hydrolyzate B) of organically modified alkoxysilane.
Next, 1.9 g of low Tg polyester resin (Vylonal MD1985, glass transition point-20 ° C., manufactured by Toyobo Co., Ltd.), 1.5 g of high Tg polyester resin (Vylonal MD1200, glass transition point 67 ° C., manufactured by Toyobo Co., Ltd.), 6.67% antimony-containing tin oxide dispersion 30.0 g, leveling agent (KF354, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.3 g, colloidal silica (ST-0, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) 1.0 g, hydrolyzate B 2.0 g And 63.3 g of pure water were mixed and mixed by stirring to prepare a paint (paint b).
The mass ratio of ATO, low Tg polyester resin, high Tg polyester resin, colloidal silica, and silica derived from hydrolyzate B in paint b is as follows: ATO: low Tg polyester resin: high Tg polyester resin: colloid in paint b Silica: Silica derived from hydrolyzate B = 20: 5: 5: 2: 3.
Next, paint b was applied to the PET film by a bar coating method, and then dried at 100 ° C. for 1 minute by a dryer to form a transparent antistatic film having a thickness of 0.5 μm. A PET film with a protective film was obtained.
「実施例３」
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−４０３、信越化学社製）４．２ｇとメタノール１１．５ｇを配合し、攪拌混合しながら、希硝酸（１規定、硝酸０．１ｇを純水４．２ｇで希釈したもの）を滴下し、次いで、環流しながら６０℃にて３時間攪拌し、有機変性アルコキシシランの加水分解物（加水分解物Ｃ）を調製した。
次に、低Ｔｇポリエステル樹脂（バイロナールＭＤ１９３０、ガラス転移点−１０℃、東洋紡績社製）１．６ｇ、高Ｔｇポリエステル樹脂（バイロナールＭＤ１２００、ガラス転移点６７℃、東洋紡績社製）１．５ｇ、６．６７％アンチモン含有酸化スズ分散液３０．０ｇ、レベリング剤（ＫＦ３５４、信越化学社製）０．３ｇ、コロイダルシリカ（ＳＴ−０、日産化学社製）１．０ｇ、加水分解物Ｃ２．０ｇ、および、純水６３．３ｇを配合し、攪拌混合して塗料（塗料ｃ）を調製した。
塗料ｃ中のＡＴＯ、低Ｔｇポリエステル樹脂、高Ｔｇポリエステル樹脂、コロイダルシリカ、および、加水分解物Ｃ由来のシリカの質量比は、塗料ｃ中のＡＴＯ：低Ｔｇポリエステル樹脂：高Ｔｇポリエステル樹脂：コロイダルシリカ：加水分解物Ｃ由来のシリカ＝２０：５：５：２：３であった。
次に、ＰＥＴフィルムに、バーコート方により塗料ｃを塗布し、次いで、乾燥機により１００℃にて１分間乾燥させ、厚み０．５μｍの透明帯電防止膜を形成し、実施例３の透明帯電防止膜付きＰＥＴフィルムを得た。
"Example 3"
A mixture of 4.2 g of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (KBM-403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 11.5 g of methanol was mixed with stirring, and diluted nitric acid (1N, 0.1 g of nitric acid with pure water 4). Then, the mixture was stirred at 60 ° C. for 3 hours while refluxing to prepare a hydrolyzate of organically modified alkoxysilane (hydrolyzate C).
Next, 1.6 g of low Tg polyester resin (Vylonal MD1930, glass transition point-10 ° C., manufactured by Toyobo Co., Ltd.), 1.5 g of high Tg polyester resin (Vylonal MD1200, glass transition point 67 ° C., manufactured by Toyobo Co., Ltd.), 6.67% antimony-containing tin oxide dispersion 30.0 g, leveling agent (KF354, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.3 g, colloidal silica (ST-0, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) 1.0 g, hydrolyzate C 2.0 g And 63.3 g of pure water were mixed and mixed by stirring to prepare a paint (paint c).
The mass ratio of ATO, low Tg polyester resin, high Tg polyester resin, colloidal silica and hydrolyzate C-derived silica in paint c is as follows: ATO: low Tg polyester resin: high Tg polyester resin: colloid in paint c Silica: Silica derived from hydrolyzate C = 20: 5: 5: 2: 3.
Next, the paint c was applied to the PET film by a bar coating method, and then dried at 100 ° C. for 1 minute by a dryer to form a transparent antistatic film having a thickness of 0.5 μm. A PET film with a protective film was obtained.
「比較例１」
塗料ｃ中のＡＴＯ、低Ｔｇポリエステル樹脂、高Ｔｇポリエステル樹脂、コロイダルシリカ、および、加水分解物Ｃ由来のシリカの質量比を、塗料ｃ中のＡＴＯ：低Ｔｇポリエステル樹脂：高Ｔｇポリエステル樹脂：コロイダルシリカ：加水分解物Ｃ由来のシリカ＝２０：６：６：１．２：１．８とした以外は実施例３と同様にして、比較例１の透明帯電防止膜付きＰＥＴフィルムを得た。
"Comparative Example 1"
The mass ratio of ATO, low Tg polyester resin, high Tg polyester resin, colloidal silica, and hydrolyzate C-derived silica in the paint c is defined as ATO: low Tg polyester resin: high Tg polyester resin: colloidal in the paint c. A PET film with a transparent antistatic film of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 3 except that Silica: Silica derived from hydrolyzate C = 20: 6: 6: 1.2: 1.8.
「比較例２」
塗料ｃ中のＡＴＯ、低Ｔｇポリエステル樹脂、高Ｔｇポリエステル樹脂、コロイダルシリカ、および、加水分解物Ｃ由来のシリカの質量比を、塗料ｃ中のＡＴＯ：低Ｔｇポリエステル樹脂：高Ｔｇポリエステル樹脂：コロイダルシリカ：加水分解物Ｃ由来のシリカ＝２０：３：３：３．６：５．４とした以外は実施例３と同様にして、比較例２の透明帯電防止膜付きＰＥＴフィルムを得た。
"Comparative Example 2"
The mass ratio of ATO, low Tg polyester resin, high Tg polyester resin, colloidal silica, and hydrolyzate C-derived silica in the paint c is defined as ATO: low Tg polyester resin: high Tg polyester resin: colloidal in the paint c. A PET film with a transparent antistatic film of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Example 3 except that Silica: Silica derived from hydrolyzate C = 20: 3: 3: 3.6: 5.4.
「比較例３」
塗料ｃ中のＡＴＯ、低Ｔｇポリエステル樹脂、高Ｔｇポリエステル樹脂、コロイダルシリカ、および、加水分解物Ｃ由来のシリカの質量比を、塗料ｃ中のＡＴＯ：低Ｔｇポリエステル樹脂：高Ｔｇポリエステル樹脂：コロイダルシリカ：加水分解物Ｃ由来のシリカ＝２０：２：８：２：３とした以外は実施例３と同様にして、比較例３の透明帯電防止膜付きＰＥＴフィルムを得た。
“Comparative Example 3”
The mass ratio of ATO, low Tg polyester resin, high Tg polyester resin, colloidal silica, and hydrolyzate C-derived silica in the paint c is defined as ATO: low Tg polyester resin: high Tg polyester resin: colloidal in the paint c. A PET film with a transparent antistatic film of Comparative Example 3 was obtained in the same manner as Example 3 except that Silica: Silica derived from hydrolyzate C = 20: 2: 8: 2: 3.
「比較例４」
塗料ｃ中のＡＴＯ、低Ｔｇポリエステル樹脂、高Ｔｇポリエステル樹脂、コロイダルシリカ、および、加水分解物Ｃ由来のシリカの質量比を、塗料ｃ中のＡＴＯ：低Ｔｇポリエステル樹脂：高Ｔｇポリエステル樹脂：コロイダルシリカ：加水分解物Ｃ由来のシリカ＝２０：８：２：２：３とした以外は実施例３と同様にして、比較例４の透明帯電防止膜付きＰＥＴフィルムを得た。
“Comparative Example 4”
The mass ratio of ATO, low Tg polyester resin, high Tg polyester resin, colloidal silica, and hydrolyzate C-derived silica in the paint c is defined as ATO: low Tg polyester resin: high Tg polyester resin: colloidal in the paint c. A PET film with a transparent antistatic film of Comparative Example 4 was obtained in the same manner as in Example 3 except that Silica: Silica derived from hydrolyzate C = 20: 8: 2: 2: 3.
「比較例５」
塗料ｃ中のＡＴＯ、低Ｔｇポリエステル樹脂、高Ｔｇポリエステル樹脂、コロイダルシリカ、および、加水分解物Ｃ由来のシリカの質量比を、塗料ｃ中のＡＴＯ：低Ｔｇポリエステル樹脂：高Ｔｇポリエステル樹脂：コロイダルシリカ：加水分解物Ｃ由来のシリカ＝２０：５：５：０．５：４．５とした以外は実施例３と同様にして、比較例５の透明帯電防止膜付きＰＥＴフィルムを得た。
“Comparative Example 5”
The mass ratio of ATO, low Tg polyester resin, high Tg polyester resin, colloidal silica, and hydrolyzate C-derived silica in the paint c is defined as ATO: low Tg polyester resin: high Tg polyester resin: colloidal in the paint c. A PET film with a transparent antistatic film of Comparative Example 5 was obtained in the same manner as in Example 3 except that Silica: Silica derived from hydrolyzate C = 20: 5: 5: 0.5: 4.5.
「比較例６」
塗料ｃ中のＡＴＯ、低Ｔｇポリエステル樹脂、高Ｔｇポリエステル樹脂、コロイダルシリカ、および、加水分解物Ｃ由来のシリカの質量比を、塗料ｃ中のＡＴＯ：低Ｔｇポリエステル樹脂：高Ｔｇポリエステル樹脂：コロイダルシリカ：加水分解物Ｃ由来のシリカ＝２０：５：５：４．５：０．５とした以外は実施例３と同様にして、比較例６の透明帯電防止膜付きＰＥＴフィルムを得た。
“Comparative Example 6”
The mass ratio of ATO, low Tg polyester resin, high Tg polyester resin, colloidal silica, and hydrolyzate C-derived silica in the paint c is defined as ATO: low Tg polyester resin: high Tg polyester resin: colloidal in the paint c. A PET film with a transparent antistatic film of Comparative Example 6 was obtained in the same manner as in Example 3 except that Silica: Silica derived from hydrolyzate C = 20: 5: 5: 4.5: 0.5.
「比較例７」
塗料ｃ中のＡＴＯ、低Ｔｇポリエステル樹脂、高Ｔｇポリエステル樹脂、コロイダルシリカ、および、加水分解物Ｃ由来のシリカの質量比を、塗料ｃ中のＡＴＯ：低Ｔｇポリエステル樹脂：高Ｔｇポリエステル樹脂：コロイダルシリカ：加水分解物Ｃ由来のシリカ＝５：５：５：２：３とした以外は実施例３と同様にして、比較例７の透明帯電防止膜付きＰＥＴフィルムを得た。
“Comparative Example 7”
The mass ratio of ATO, low Tg polyester resin, high Tg polyester resin, colloidal silica, and hydrolyzate C-derived silica in the paint c is defined as ATO: low Tg polyester resin: high Tg polyester resin: colloidal in the paint c. A PET film with a transparent antistatic film of Comparative Example 7 was obtained in the same manner as in Example 3 except that Silica: Silica derived from hydrolyzate C = 5: 5: 5: 2: 3.
「比較例８」
塗料ｃ中のＡＴＯ、低Ｔｇポリエステル樹脂、高Ｔｇポリエステル樹脂、コロイダルシリカ、および、加水分解物Ｃ由来のシリカの質量比を、塗料ｃ中のＡＴＯ：低Ｔｇポリエステル樹脂：高Ｔｇポリエステル樹脂：コロイダルシリカ：加水分解物Ｃ由来のシリカ＝４０：５：５：２：３とした以外は実施例３と同様にして、比較例８の透明帯電防止膜付きＰＥＴフィルムを得た。
“Comparative Example 8”
The mass ratio of ATO, low Tg polyester resin, high Tg polyester resin, colloidal silica, and hydrolyzate C-derived silica in the paint c is defined as ATO: low Tg polyester resin: high Tg polyester resin: colloidal in the paint c. A PET film with a transparent antistatic film of Comparative Example 8 was obtained in the same manner as in Example 3 except that Silica: Silica derived from hydrolyzate C = 40: 5: 5: 2: 3.
上記実施例１〜３および比較例１〜８について、透明帯電防止膜形成用塗料の組成を表１に示す。 Table 1 shows the compositions of the transparent antistatic film-forming paints for Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 8.
「透明帯電防止膜付きＰＥＴフィルムの評価」
実施例１〜３および比較例１〜８の透明帯電防止膜付きＰＥＴフィルムの各々について、耐摩耗性、ヘイズ（曇価）、表面抵抗値、密着性の評価を下記の方法により行った。
"Evaluation of PET film with transparent antistatic film"
About each of PET film with a transparent antistatic film of Examples 1-3 and Comparative Examples 1-8, abrasion resistance, haze (haze value), surface resistance value, and adhesive evaluation were performed by the following method.
（１）耐摩耗性
ラビングテスター（こすり試験器、大平理化社製）を用いて、縦１ｃｍ×横２ｃｍの形状に折り畳んだ不織布（ベンコット、旭化成せんい社製）に、２ｋｇｆの荷重を負荷しながら、透明帯電防止膜付きＰＥＴフィルムの表面（透明帯電防止膜）上を５回往復させた後、透明帯電防止膜付きＰＥＴフィルムの表面を目視により観察し、評価した。
得られた結果を下記の３段階で評価した。
○：透明帯電防止膜付きＰＥＴフィルムの表面にできた傷が１０本以下
△：透明帯電防止膜付きＰＥＴフィルムの表面にできた傷が１０本以上、かつ、透明帯電防止膜が剥離しなかった
×：透明帯電防止膜が完全に剥離した
実施例１〜３および比較例１〜８の結果を表２に示す。
(1) Abrasion resistance Using a rubbing tester (rubbing tester, manufactured by Ohira Rika Co., Ltd.) while applying a load of 2 kgf to a nonwoven fabric (Bencot, manufactured by Asahi Kasei Fibers Co., Ltd.) folded in a 1 cm long x 2 cm wide shape. After reciprocating five times on the surface of the PET film with a transparent antistatic film (transparent antistatic film), the surface of the PET film with a transparent antistatic film was visually observed and evaluated.
The obtained results were evaluated in the following three stages.
○: 10 or less scratches made on the surface of the PET film with a transparent antistatic film Δ: 10 or more scratches made on the surface of the PET film with a transparent antistatic film, and the transparent antistatic film was not peeled off X: The results of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 8 in which the transparent antistatic film was completely peeled are shown in Table 2.
（２）ヘイズ（曇価）
日本工業規格ＪＩＳ Ｋ ７１０５「プラスチックの光学的特性試験方法」に準拠して、透明帯電防止膜付きＰＥＴフィルムのヘイズ値を測定した。
実施例１〜３および比較例１〜８の結果を表２に示す。
(2) Haze (cloudiness value)
The haze value of a PET film with a transparent antistatic film was measured in accordance with Japanese Industrial Standard JIS K 7105 “Plastic Optical Properties Test Method”.
The results of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 8 are shown in Table 2.
（３）表面抵抗値
日本工業規格ＪＩＳ Ｋ ６９１１「熱硬化性プラスチック一般試験方法」に準拠して、透明帯電防止膜付きＰＥＴフィルムの表面抵抗値を測定した。
実施例１〜３および比較例１〜８の結果を表２に示す。
(3) Surface Resistance Value The surface resistance value of a PET film with a transparent antistatic film was measured in accordance with Japanese Industrial Standard JIS K 6911 “General Thermosetting Plastic Test Method”.
The results of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 8 are shown in Table 2.
（４）密着性
日本工業規格ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−６「クロスカット法」に準拠して、透明帯電防止膜付きＰＥＴフィルムにおける透明帯電防止膜の密着性を評価した。
得られた結果から、透明帯電防止膜の密着性を評価し、密着性が比較例１よりも向上した場合を「○」、密着性が比較例１と同等あるいは比較例１よりも劣る場合を「×」とした。
実施例１〜３および比較例１〜８の結果を表２に示す。
(4) Adhesiveness The adhesiveness of the transparent antistatic film in the PET film with the transparent antistatic film was evaluated in accordance with Japanese Industrial Standard JIS K 5600-5-6 “Crosscut Method”.
From the obtained results, the adhesion of the transparent antistatic film was evaluated, and the case where the adhesion was improved as compared with Comparative Example 1 was “◯”, and the case where the adhesion was equivalent to Comparative Example 1 or inferior to Comparative Example 1 It was set as “x”.
The results of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 8 are shown in Table 2.
表２の結果から、実施例１〜３では、耐摩耗性、ヘイズ（曇価）、表面抵抗値および密着性の各項目について優れていることが確認された。
一方、比較例１では、（低Ｔｇポリエステル樹脂と高Ｔｇポリエステル樹脂の合計量（質量））：（コロイダルシリカとシランカップリング剤の加水分解物との合計量（質量））＝８：２とすると、ＰＥＴフィルムに対する透明帯電防止膜の密着性が低下して、耐摩耗性が低下することが分かった。
比較例２では、（低Ｔｇポリエステル樹脂と高Ｔｇポリエステル樹脂の合計量（質量））：（コロイダルシリカとシランカップリング剤の加水分解物との合計量（質量））＝２：３とすると、コロイダルシリカが導電性微粒子の表面に結合し、導電性を阻害するとともに、加熱時に熱割れしやすくなることが分かった。また、塗料の分散性が悪くなることが分かった。
From the result of Table 2, in Examples 1-3, it was confirmed that it was excellent about each item of abrasion resistance, haze (cloudiness value), surface resistance value, and adhesiveness.
On the other hand, in Comparative Example 1, (total amount (mass) of low Tg polyester resin and high Tg polyester resin): (total amount (mass) of colloidal silica and hydrolyzate of silane coupling agent) = 8: 2 Then, it turned out that the adhesiveness of the transparent antistatic film | membrane with respect to PET film falls, and abrasion resistance falls.
In Comparative Example 2, (total amount (mass) of low Tg polyester resin and high Tg polyester resin): (total amount (mass) of colloidal silica and hydrolyzate of silane coupling agent) = 2: 3 It has been found that colloidal silica binds to the surface of the conductive fine particles, impedes conductivity, and easily cracks during heating. Moreover, it turned out that the dispersibility of a coating material worsens.
比較例３では、低Ｔｇポリエステル樹脂（質量）：高Ｔｇポリエステル樹脂（質量）＝２：８とすると、ＰＥＴフィルムに対する透明帯電防止膜の密着性が低下して、耐摩耗性が低下することが分かった。
比較例４では、低Ｔｇポリエステル樹脂（質量）：高Ｔｇポリエステル樹脂（質量）＝８：２とすると、透明帯電防止膜が軟らかすぎて、耐摩耗性が低下することが分かった。
In Comparative Example 3, when low Tg polyester resin (mass): high Tg polyester resin (mass) = 2: 8, the adhesion of the transparent antistatic film to the PET film is lowered, and the wear resistance may be lowered. I understood.
In Comparative Example 4, it was found that when low Tg polyester resin (mass): high Tg polyester resin (mass) = 8: 2, the transparent antistatic film is too soft and wear resistance decreases.
比較例５では、コロイダルシリカ（質量）：シランカップリング剤の加水分解物（質量）＝１：９とすると、シランカップリング剤が導電性微粒子の表面に結合し、導電性を阻害するとともに、加熱時に熱割れしやすくなることが分かった。また、塗料の分散性が悪くなることが分かった。
比較例６では、コロイダルシリカ（質量）：シランカップリング剤の加水分解物（質量）＝９：１とすると、ＰＥＴフィルムに対する透明帯電防止膜の密着性が低下して、耐摩耗性が低下することが分かった。
In Comparative Example 5, when colloidal silica (mass): hydrolyzate of silane coupling agent (mass) = 1: 9, the silane coupling agent binds to the surface of the conductive fine particles and inhibits conductivity, It was found that heat cracking easily occurs during heating. Moreover, it turned out that the dispersibility of a coating material worsens.
In Comparative Example 6, when colloidal silica (mass): hydrolyzate of silane coupling agent (mass) = 9: 1, the adhesion of the transparent antistatic film to the PET film is lowered and the wear resistance is lowered. I understood that.
比較例７では、導電性微粒子（質量）：バインダー（質量）＝１：３とすると、透明帯電防止膜付きＰＥＴフィルムの導電性が低下することが分かった。
比較例８では、導電性微粒子（質量）：バインダー（質量）＝８：３とすると、透明帯電防止膜付きＰＥＴフィルムの耐摩耗性が低下することが分かった。
In Comparative Example 7, it was found that when the conductive fine particles (mass): binder (mass) = 1: 3, the conductivity of the PET film with a transparent antistatic film is lowered.
In Comparative Example 8, it was found that when conductive fine particles (mass): binder (mass) = 8: 3, the wear resistance of the PET film with a transparent antistatic film is lowered.
本発明の透明帯電防止膜形成用塗料は、導電性微粒子と、バインダーとを含有してなる透明帯電防止膜形成用塗料であって、前記バインダーは、ガラス転移点が０℃以下の熱可塑性樹脂と、ガラス転移点が４０℃以上の熱可塑性樹脂とを含有してなるものであるから、この塗料を用いて形成した透明帯電防止膜は、帯電防止機能、耐摩耗性、防汚性（埃が付着し難い）、プラスチックなどの基材への密着性などが求められるあらゆる物に適用可能であり、特に、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極線管（ＣＲＴ）、プロジェクション（ＰＪＴＶ）などの各種画像表示装置の表示面における帯電防止機能、耐摩耗性、防汚性および密着性を向上させる場合に非常に効果的であり、その産業的利用価値は非常に大きなものである。
The coating material for forming a transparent antistatic film according to the present invention is a coating material for forming a transparent antistatic film comprising conductive fine particles and a binder, and the binder is a thermoplastic resin having a glass transition point of 0 ° C. or less. And a thermoplastic resin having a glass transition point of 40 ° C. or higher, the transparent antistatic film formed using this paint has an antistatic function, wear resistance, antifouling property (dust) It can be applied to any object that requires adhesion to a substrate such as plastic, and in particular, it is a plasma display (PDP), a liquid crystal display (LCD), an electroluminescence display (ELD), a cathode ray tube. When improving the antistatic function, wear resistance, antifouling property and adhesion on the display surface of various image display devices such as (CRT) and projection (PJTV) It is very effective, the industrial utilization value is very large.
Claims (12)
前記バインダーは、ガラス転移点が０℃以下の熱可塑性樹脂と、ガラス転移点が４０℃以上の熱可塑性樹脂とを含有してなることを特徴とする透明帯電防止膜形成用塗料。 A coating material for forming a transparent antistatic film comprising conductive fine particles and a binder,
The said binder contains the thermoplastic resin whose glass transition point is 0 degrees C or less, and the thermoplastic resin whose glass transition point is 40 degrees C or more, The coating material for transparent antistatic film formation characterized by the above-mentioned.
A transparent base material with a transparent antistatic film, wherein the transparent antistatic film according to claim 11 is formed on the surface of the transparent base material.
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