JP2009190128A - 加工廃液処理装置 - Google Patents
加工廃液処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009190128A JP2009190128A JP2008034084A JP2008034084A JP2009190128A JP 2009190128 A JP2009190128 A JP 2009190128A JP 2008034084 A JP2008034084 A JP 2008034084A JP 2008034084 A JP2008034084 A JP 2008034084A JP 2009190128 A JP2009190128 A JP 2009190128A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- waste liquid
- pure water
- fresh water
- processing
- disposed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000002699 waste material Substances 0.000 title claims abstract description 145
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 141
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 89
- 239000013505 freshwater Substances 0.000 claims abstract description 69
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims abstract description 38
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims abstract description 31
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 49
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 6
- 239000008213 purified water Substances 0.000 claims description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims 4
- 238000004075 wastewater filtration Methods 0.000 abstract description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 26
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 16
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 10
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 7
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 6
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 5
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- -1 gallium nitride compound Chemical class 0.000 description 2
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F9/00—Multistage treatment of water, waste water or sewage
- C02F9/20—Portable or detachable small-scale multistage treatment devices, e.g. point of use or laboratory water purification systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/001—Processes for the treatment of water whereby the filtration technique is of importance
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/42—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
- C02F2103/34—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from industrial activities not provided for in groups C02F2103/12 - C02F2103/32
- C02F2103/346—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from industrial activities not provided for in groups C02F2103/12 - C02F2103/32 from semiconductor processing, e.g. waste water from polishing of wafers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/10—Greenhouse gas [GHG] capture, material saving, heat recovery or other energy efficient measures, e.g. motor control, characterised by manufacturing processes, e.g. for rolling metal or metal working
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Clinical Laboratory Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Auxiliary Devices For Machine Tools (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Filtration Of Liquid (AREA)
- Dicing (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
【解決手段】廃液収容タンクと廃液濾過手段と清水貯水タンクと純水生成手段と純水温度調整手段と制御手段と操作盤および上記各構成手段を収容する装置ハウジングとを具備する加工廃液処理装置であって、装置ハウジングは底壁と上壁と左側壁と右側壁と後壁および前側開口を開閉する開閉扉を具備しており、底壁における後壁側に廃液タンクが配置され、廃液タンクに隣接して底壁の中央部に清水貯水タンクが配置され、清水貯水タンクに隣接して底壁における前側開口側に純水生成手段が配置され、純水生成手段の上側に廃液濾過手段が配置され、廃液タンクの上方に純水温度調整手段が配置され、廃液濾過手段の上側に制御手段および操作盤が配置されるとともに操作盤が装置ハウジングの前側に配置される。
【選択図】図3
Description
該装置ハウジングは、底壁と上壁と左側壁と右側壁と後壁および前側開口を開閉する開閉扉を具備しており、
該底壁における該後壁側に該廃液タンクが配置され、該廃液タンクに隣接して該底壁の中央部に該清水貯水タンクが配置され、該清水貯水タンクに隣接して該底壁における該前側開口側に該純水生成手段が配置され、
該純水生成手段の上側に廃液濾過手段が配置され、
該廃液タンクの上方に純水温度調整手段が配置され、
該廃液濾過手段の上側に該制御手段および該操作盤が配置されるとともに該操作盤が該装置ハウジングの前側に配置される、
ことを特徴とする加工廃液処理装置が提供される。
図示の実施形態における加工廃液処理装置は、加工廃液を収容する廃液タンク2と、該廃液タンク2に収容された加工廃液を送給する廃液送給ポンプ3を具備している。廃液タンク2は、図示しない切削装置等の加工装置に装備される加工廃液送出手段に配管20によって接続される。従って、廃液タンク2には図示しない切削装置等の加工装置に装備される加工廃液送出手段から送られる加工廃液が配管20を介して導入される。この廃液タンク2の上壁に加工廃液を送給する廃液送給ポンプ3が配設されている。
3:廃液送給ポンプ
31:圧力検出手段
4:廃液濾過手段
41:清水受けパン
42a:第1のフィルター
42b:第2のフィルター
43a、43b:電磁開閉弁
5:清水貯水タンク
50:清水送給ポンプ
6:純水生成手段
61:支持台
62:紫外線照射手段
63a:第1のイオン交換手段
63b:第2のイオン交換手段
64:精密フィルター
66a、66b:電磁開閉弁
68:圧力検出手段
69:比抵抗計
7:純水温度調整手段
8:制御手段
9:操作盤
91:入力手段
92:表示手段
10:装置ハウジング
126:開閉蓋
Claims (1)
- 加工装置の加工の際に供給された加工液が加工によって生成された加工廃液を収容する廃液収容タンクと、該廃液収容タンクに収容された加工廃液を送給する廃液送給ポンプと、該廃液送給ポンプによって送給された加工廃液を濾過して清水に精製するフィルターおよび該フェイルターを着脱可能に支持する清水受けパンを備えた廃液濾過手段と、該廃液濾過手段によって精製された清水を貯水する清水貯水タンクと、該清水貯水タンクに貯水された清水を送給する清水送給ポンプと、該清水送給ポンプによって送給された清水を純水に精製するイオン交換手段および該イオン交換手段を着脱可能に支持する支持台を備えた純水生成手段と、該純水生成手段によって精製された純水を所定の温度に調整する純水温度調整手段と、上記各構成手段を制御する制御手段と、該制御手段に処理情報を入力する入力手段および該制御手段による作動状況等を表示する表示手段とを具備する操作盤と、上記各構成手段を収容する装置ハウジングと、を具備する加工廃液処理装置において、
該装置ハウジングは、底壁と上壁と左側壁と右側壁と後壁および前側開口を開閉する開閉扉を具備しており、
該底壁における該後壁側に該廃液タンクが配置され、該廃液タンクに隣接して該底壁の中央部に該清水貯水タンクが配置され、該清水貯水タンクに隣接して該底壁における該前側開口側に該純水生成手段が配置され、
該純水生成手段の上側に廃液濾過手段が配置され、
該廃液タンクの上方に純水温度調整手段が配置され、
該廃液濾過手段の上側に該制御手段および該操作盤が配置されるとともに該操作盤が該装置ハウジングの前側に配置される
ことを特徴とする加工廃液処理装置。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008034084A JP5086123B2 (ja) | 2008-02-15 | 2008-02-15 | 加工廃液処理装置 |
TW097149252A TWI422458B (zh) | 2008-02-15 | 2008-12-17 | Processing waste liquid processing device (a) |
KR1020090001930A KR101385365B1 (ko) | 2008-02-15 | 2009-01-09 | 가공 폐액 처리 장치 |
SG200900630-5A SG155129A1 (en) | 2008-02-15 | 2009-01-29 | Processing waste liquid treating apparatus |
US12/364,247 US8017003B2 (en) | 2008-02-15 | 2009-02-02 | Processing waste liquid treating apparatus |
DE102009000807A DE102009000807A1 (de) | 2008-02-15 | 2009-02-12 | Bearbeitungsabfallflüssigkeits-Aufbereitungsvorrichtung |
CN2009100064021A CN101508494B (zh) | 2008-02-15 | 2009-02-12 | 加工废液处理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008034084A JP5086123B2 (ja) | 2008-02-15 | 2008-02-15 | 加工廃液処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009190128A true JP2009190128A (ja) | 2009-08-27 |
JP5086123B2 JP5086123B2 (ja) | 2012-11-28 |
Family
ID=40954133
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008034084A Active JP5086123B2 (ja) | 2008-02-15 | 2008-02-15 | 加工廃液処理装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8017003B2 (ja) |
JP (1) | JP5086123B2 (ja) |
KR (1) | KR101385365B1 (ja) |
CN (1) | CN101508494B (ja) |
DE (1) | DE102009000807A1 (ja) |
SG (1) | SG155129A1 (ja) |
TW (1) | TWI422458B (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012218134A (ja) * | 2011-04-14 | 2012-11-12 | Disco Corp | 加工廃液処理装置 |
JP2012218095A (ja) * | 2011-04-06 | 2012-11-12 | Disco Corp | 加工廃液処理装置 |
JP2014124753A (ja) * | 2012-12-27 | 2014-07-07 | Disco Abrasive Syst Ltd | 加工廃液処理装置 |
CN105479256A (zh) * | 2016-01-18 | 2016-04-13 | 南通国盛机电集团有限公司 | 一种新型机床主轴中心出水过滤结构 |
JP2019013877A (ja) * | 2017-07-06 | 2019-01-31 | 株式会社ディスコ | イオン交換ユニット |
JP2021008015A (ja) * | 2019-07-02 | 2021-01-28 | 株式会社ディスコ | 加工廃液処理装置の設置方法 |
CN112299619A (zh) * | 2019-07-26 | 2021-02-02 | 株式会社迪思科 | 废液处理装置 |
KR20210012908A (ko) | 2019-07-26 | 2021-02-03 | 가부시기가이샤 디스코 | 폐액 처리 장치 |
KR20210020769A (ko) | 2019-08-16 | 2021-02-24 | 가부시기가이샤 디스코 | 가공액 순환 장치 |
KR20220164428A (ko) | 2021-06-04 | 2022-12-13 | 가부시기가이샤 디스코 | 세정 장치 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5461918B2 (ja) * | 2009-08-19 | 2014-04-02 | 株式会社ディスコ | 加工廃液処理装置 |
JP6408316B2 (ja) * | 2014-09-17 | 2018-10-17 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
JP2016165771A (ja) * | 2015-03-10 | 2016-09-15 | 株式会社ディスコ | 加工液循環型加工システム |
JP6695625B2 (ja) * | 2016-02-23 | 2020-05-20 | 株式会社ディスコ | メンテナンス領域を有する装置 |
US20170267563A1 (en) * | 2016-03-20 | 2017-09-21 | Mega Sun Biomedical Corp. | Negative hydrogen ion intellegrnt filtration system for curing cancer, cardiovascular disease, diabetes, hypertension, nephrotic syndrome, gout, dysautonomia and atopic dermatitis |
JP2021094674A (ja) * | 2019-12-19 | 2021-06-24 | 株式会社ディスコ | 廃液処理装置及び加工水再生システム |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54114192U (ja) * | 1978-01-24 | 1979-08-10 | ||
JPS59169592A (ja) * | 1983-03-15 | 1984-09-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 有害金属含有水の処理装置 |
JPH06154509A (ja) * | 1992-11-25 | 1994-06-03 | Kyodo Kumiai Gozenyama Yuugou | 切削油処理装置 |
JP2000157996A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-06-13 | Disco Abrasive Syst Ltd | 加工水コントロールシステム |
JP2002119964A (ja) * | 2000-10-13 | 2002-04-23 | Enzan Seisakusho:Kk | 半導体製造工程における排水循環システム |
JP2004314225A (ja) * | 2003-04-15 | 2004-11-11 | Toyota Motor Corp | 油剤再生装置、油剤再生装置の組付け確認方法及び油剤再生装置の運転方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4784763A (en) * | 1987-07-13 | 1988-11-15 | Labconco Corporation | Water purification machine |
JPH09192419A (ja) * | 1995-11-16 | 1997-07-29 | Wako Sangyo Kk | 流体フィルタおよびこの流体フィルタを用いたエンジンオイル濾過装置 |
CN1162570A (zh) * | 1996-02-06 | 1997-10-22 | 三星电子株式会社 | *** |
JPH11151409A (ja) * | 1997-11-19 | 1999-06-08 | Jsr Corp | フィルターの再生法 |
US6746309B2 (en) * | 1999-05-27 | 2004-06-08 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Method of fabricating a semiconductor device |
JP2001070916A (ja) * | 1999-09-03 | 2001-03-21 | Sanyo Electric Co Ltd | 生ごみ処理システム |
WO2003008065A1 (en) * | 2001-07-20 | 2003-01-30 | Bang Gyoon Jung | Back washing valve and filtering apparatus with the same |
JP4129484B2 (ja) * | 2002-10-07 | 2008-08-06 | 株式会社スター・クラスター | 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法 |
JP2004230527A (ja) * | 2003-01-31 | 2004-08-19 | Disco Abrasive Syst Ltd | 加工液循環装置 |
JP3638018B1 (ja) * | 2003-11-10 | 2005-04-13 | シャープ株式会社 | 洗濯機 |
WO2006100937A1 (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Kurita Water Industries Ltd. | 純水製造装置 |
JP4265588B2 (ja) * | 2005-09-26 | 2009-05-20 | パナソニック電工株式会社 | 水処理装置 |
JP2007223007A (ja) * | 2006-02-24 | 2007-09-06 | Ishikawajima Hanyoki Service Co Ltd | シリコン含有排水の処理方法及び装置 |
KR100805378B1 (ko) * | 2006-05-25 | 2008-02-25 | (주)지피엔이 | 난분해성 폐액처리를 위한 오존-전기분해/반도체촉매복합장치 및 그 사용방법 |
-
2008
- 2008-02-15 JP JP2008034084A patent/JP5086123B2/ja active Active
- 2008-12-17 TW TW097149252A patent/TWI422458B/zh active
-
2009
- 2009-01-09 KR KR1020090001930A patent/KR101385365B1/ko active IP Right Grant
- 2009-01-29 SG SG200900630-5A patent/SG155129A1/en unknown
- 2009-02-02 US US12/364,247 patent/US8017003B2/en active Active
- 2009-02-12 CN CN2009100064021A patent/CN101508494B/zh active Active
- 2009-02-12 DE DE102009000807A patent/DE102009000807A1/de active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54114192U (ja) * | 1978-01-24 | 1979-08-10 | ||
JPS59169592A (ja) * | 1983-03-15 | 1984-09-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 有害金属含有水の処理装置 |
JPH06154509A (ja) * | 1992-11-25 | 1994-06-03 | Kyodo Kumiai Gozenyama Yuugou | 切削油処理装置 |
JP2000157996A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-06-13 | Disco Abrasive Syst Ltd | 加工水コントロールシステム |
JP2002119964A (ja) * | 2000-10-13 | 2002-04-23 | Enzan Seisakusho:Kk | 半導体製造工程における排水循環システム |
JP2004314225A (ja) * | 2003-04-15 | 2004-11-11 | Toyota Motor Corp | 油剤再生装置、油剤再生装置の組付け確認方法及び油剤再生装置の運転方法 |
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012218095A (ja) * | 2011-04-06 | 2012-11-12 | Disco Corp | 加工廃液処理装置 |
JP2012218134A (ja) * | 2011-04-14 | 2012-11-12 | Disco Corp | 加工廃液処理装置 |
JP2014124753A (ja) * | 2012-12-27 | 2014-07-07 | Disco Abrasive Syst Ltd | 加工廃液処理装置 |
CN105479256A (zh) * | 2016-01-18 | 2016-04-13 | 南通国盛机电集团有限公司 | 一种新型机床主轴中心出水过滤结构 |
JP2019013877A (ja) * | 2017-07-06 | 2019-01-31 | 株式会社ディスコ | イオン交換ユニット |
JP2021008015A (ja) * | 2019-07-02 | 2021-01-28 | 株式会社ディスコ | 加工廃液処理装置の設置方法 |
JP7339033B2 (ja) | 2019-07-02 | 2023-09-05 | 株式会社ディスコ | 加工廃液処理装置の設置方法 |
KR20210012908A (ko) | 2019-07-26 | 2021-02-03 | 가부시기가이샤 디스코 | 폐액 처리 장치 |
KR20210012907A (ko) | 2019-07-26 | 2021-02-03 | 가부시기가이샤 디스코 | 폐액 처리 장치 |
JP2021020273A (ja) * | 2019-07-26 | 2021-02-18 | 株式会社ディスコ | 廃液処理装置 |
JP2021020274A (ja) * | 2019-07-26 | 2021-02-18 | 株式会社ディスコ | 廃液処理装置 |
US11319214B2 (en) | 2019-07-26 | 2022-05-03 | Disco Corporation | Waste liquid treating apparatus |
US11390536B2 (en) | 2019-07-26 | 2022-07-19 | Disco Corporation | Waste liquid treating apparatus |
JP7339049B2 (ja) | 2019-07-26 | 2023-09-05 | 株式会社ディスコ | 廃液処理装置 |
CN112299619A (zh) * | 2019-07-26 | 2021-02-02 | 株式会社迪思科 | 废液处理装置 |
JP7343325B2 (ja) | 2019-07-26 | 2023-09-12 | 株式会社ディスコ | 廃液処理装置 |
KR20210020769A (ko) | 2019-08-16 | 2021-02-24 | 가부시기가이샤 디스코 | 가공액 순환 장치 |
KR20220164428A (ko) | 2021-06-04 | 2022-12-13 | 가부시기가이샤 디스코 | 세정 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SG155129A1 (en) | 2009-09-30 |
US8017003B2 (en) | 2011-09-13 |
CN101508494B (zh) | 2013-03-27 |
KR20090088791A (ko) | 2009-08-20 |
TW200934611A (en) | 2009-08-16 |
JP5086123B2 (ja) | 2012-11-28 |
CN101508494A (zh) | 2009-08-19 |
KR101385365B1 (ko) | 2014-04-14 |
DE102009000807A1 (de) | 2009-11-26 |
TWI422458B (zh) | 2014-01-11 |
US20090206016A1 (en) | 2009-08-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5086123B2 (ja) | 加工廃液処理装置 | |
JP5461918B2 (ja) | 加工廃液処理装置 | |
JP2009214193A (ja) | 加工廃液処理装置 | |
JP5149035B2 (ja) | 加工廃液処理装置 | |
JP2009095941A (ja) | 加工廃液処理装置 | |
JP5681029B2 (ja) | 加工廃液処理装置 | |
JP7068050B2 (ja) | 純水リサイクルシステム | |
JP5086124B2 (ja) | 加工廃液処理装置 | |
JP5086125B2 (ja) | 加工廃液処理装置 | |
JP7343325B2 (ja) | 廃液処理装置 | |
JP5770004B2 (ja) | 加工廃液処理装置 | |
JP2012223846A (ja) | 加工廃液処理装置 | |
JP5356768B2 (ja) | 廃液処理装置 | |
JP7339049B2 (ja) | 廃液処理装置 | |
TW202112680A (zh) | 加工液循環裝置 | |
JP2022109399A (ja) | 純水生成装置、及び紫外線照射ユニット |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110124 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120806 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120814 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120906 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5086123 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150914 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150914 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |