JP2009168805A - 流量計、流量計のためのシステムチップ及びその製造方法 - Google Patents
流量計、流量計のためのシステムチップ及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009168805A JP2009168805A JP2008331938A JP2008331938A JP2009168805A JP 2009168805 A JP2009168805 A JP 2009168805A JP 2008331938 A JP2008331938 A JP 2008331938A JP 2008331938 A JP2008331938 A JP 2008331938A JP 2009168805 A JP2009168805 A JP 2009168805A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flow
- flow tube
- tube
- system chip
- flow meter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 44
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 34
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 34
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 18
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 14
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 13
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 6
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 claims description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 12
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 10
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 6
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 5
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 5
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 5
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910020776 SixNy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006244 Medium Thermal Substances 0.000 description 1
- LKJPSUCKSLORMF-UHFFFAOYSA-N Monolinuron Chemical compound CON(C)C(=O)NC1=CC=C(Cl)C=C1 LKJPSUCKSLORMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/76—Devices for measuring mass flow of a fluid or a fluent solid material
- G01F1/78—Direct mass flowmeters
- G01F1/80—Direct mass flowmeters operating by measuring pressure, force, momentum, or frequency of a fluid flow to which a rotational movement has been imparted
- G01F1/84—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters
- G01F1/845—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters arrangements of measuring means, e.g., of measuring conduits
- G01F1/8468—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters arrangements of measuring means, e.g., of measuring conduits vibrating measuring conduits
- G01F1/8472—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters arrangements of measuring means, e.g., of measuring conduits vibrating measuring conduits having curved measuring conduits, i.e. whereby the measuring conduits' curved center line lies within a plane
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/68—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using thermal effects
- G01F1/684—Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow
- G01F1/6845—Micromachined devices
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/68—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using thermal effects
- G01F1/684—Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow
- G01F1/6847—Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow where sensing or heating elements are not disturbing the fluid flow, e.g. elements mounted outside the flow duct
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/68—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using thermal effects
- G01F1/684—Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow
- G01F1/688—Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow using a particular type of heating, cooling or sensing element
- G01F1/6888—Thermoelectric elements, e.g. thermocouples, thermopiles
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/76—Devices for measuring mass flow of a fluid or a fluent solid material
- G01F1/78—Direct mass flowmeters
- G01F1/80—Direct mass flowmeters operating by measuring pressure, force, momentum, or frequency of a fluid flow to which a rotational movement has been imparted
- G01F1/84—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters
- G01F1/8409—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters constructional details
- G01F1/844—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters constructional details microfluidic or miniaturised flowmeters
- G01F1/8445—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters constructional details microfluidic or miniaturised flowmeters micromachined flowmeters
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Measuring Volume Flow (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
【解決手段】支持体5に設けられたシリコン基体1を有し、シリコン基体1の開口部4に流量を計測すべき媒体を搬送する少なくとも一つのシリコン流管3が設けられ、上記流管3はシリコン基体1に、上記開口部を経て、窒化シリコンでコーティングされた流路につながる二つの端部を有し、流管がコリオリ型流量センサそして/あるいは熱型流量センサを形成し、流管3が支持体5を経て外部への接続ラインをなしている。
【選択図】図1a
Description
−フラッピングモードあるいはトルクモードでローレンツアクチュエータにより流管が振動する(図2b参照)、あるいは
−フラッピングモードを起こさせる熱励起を通して導体10に熱を発生する(図2c参照)
ことである。
流管は回転軸29(x軸)まわりに作動(振動)する。この振動は、質量流れのときには、回転軸までの距離が変化する管部24における位置でコリオリ力を生ずる。管部24におけるコリオリ力はU字状の流管3を回転軸30(y軸)まわりに回転させ、その結果、管部24の直動をもたらす。この回転軸まわりの(振動)作動は図2bで符号34により示されている。結果としてのy軸まわりのコリオリ誘導回転は流量に比例し、管部24のz方向の動き35を生ずる。管部24は、同時に両方の動き、すなわち、(流量に比例した)捩り振動34とフラッピング動を生ずる。
流管がフラッピング、あるいは回転軸(y軸)30まわりの作動(振動)を生ずるが、これは質量流れの場合、この場合でも、回転軸までの距離が変化する位置でのコリオリ力を生じ、今度は、管部22(上方)と管部26(下方)で管部24の回転を起こす。この管部24のz方向における(振動)作動は図2cで符号36として示されている。結果としてのx軸29まわりのコリオリ誘導回転は流量に比例し、管部24の回転軸xまわりの回転を生ずる。再び、管部24は同時に二つの動き、すなわち、流量に比例するフラッピング振動36と捩り振動37とを生ずる。
2 (絶対)圧力センサ
3 コリオリ管(流管)
4 開口部
5 支持体
6 接続ワイヤ
7 接続ワイヤ
8 接続ワイヤ
9,9’ マグネット
10 導体
11 容量センサ要素
12 容量センサ要素
15,15’ 開口
16,16’ 流体継手
17 システムチップ
22 管部
24 管部
26 管部
42,42’ 金属層
45 SiN層
46 SiN層
47 パターン開口
48 パターン開口
Claims (23)
- 流量センサを備えたシステムチップを有し、該システムチップがシリコン基体を有し、該シリコン基体に開口部が形成されていてこの開口部内に、計測されるべき媒体を搬送する窒化シリコン流管が収められ、該流管が流入端そして流出端を有し、該流入端そして流出端が、シリコン基体に形成され窒化シリコンでコーティングされた流路へ、開口部を形成する壁部を介して集まっている、ことを特徴とする流量計。
- シリコン基体が支持体上に配されていること、窒化シリコンでコーティングされた流路が支持体を介して外部の接続ラインに接続されていることとする請求項1に記載の流量計。
- 流管はループ状をなし開口部の内周壁面の三つの内壁面に対して自由状態のもとで支持されていることとする請求項1に記載の流量計。
- 流量センサがコリオリ型であり流管を振動させる手段(A)と流管の動きを検出する手段(B)とを有していることとする請求項1に記載の流量計。
- 手段(A)はローレンツアクチュエータを形成していて、流管上の導体パターンと、導体パターンを通して電流を流す手段と、流管の一箇所あるいは複数個所で磁界を発生する手段とを有していることとする請求項4に記載の流量計。
- 手段(A)は流管を熱的に励起させることとする請求項4に記載の流量計。
- 手段(A)は流管と流管に設けられた導体パターンにより形成されるバイモルフの熱で作動することとする請求項4に記載の流量計。
- 手段(B)は容量性であって、導体パターンがキャパンタの一つのプレートとして機能し、基体上の電極が他のプレートとして機能することとする請求項5に記載の流量計。
- 手段(B)は光学的に作動し、光ビームが導体パターンに直接照射され反射光が検出されることとする請求項5に記載の流量計。
- 流管はU字状をなし、開口部の内周壁面の三つの内壁面に対して自由状態のもとで支持され、U字状流管の両脚の間での温度差を測定するように配設された熱電対と協働することとする請求項1に記載の流量計。
- 単結晶シリコン基体が供給され、ここへのSiN蒸着工程と、部分的なエッチングによるキャビティ形成工程と、エッチングによる部分的な露出工程が、マイクロシステム技術(MST)を用いてなされ、少なくとも一側が固定で他側が自由支持構造の流管を得ること特徴とする流量計のためのシステムチップの製造方法。
- 基体は互いに対向する二つの主面を有し、自由支持構造の流管が一つの主面に取り付けられ、外部装置に接続される一つもしくは複数の管が他の主面に接続されることとする請求項11に記載の流量計のためのシステムチップの製造方法。
- 次のA)〜J)の工程を経ることとする請求項11に記載の流量計のためのシステムチップの製造方法。
A)A1.シリコン基体(ウェハー)を供給する。
A2.シリコンウェハーの両面に第一SiN層を形成し、上面側に管構造(長い孔のパターン)をパターン形成し、下面側にエッチングされるべき接続孔を形成する。
B)各流管接続のためにウェハーの下面側に、ウェハーの厚みから所望の管厚を減じた値よりも深い孔をエッチングにより形成する。
C)予め定められた管径を得るために、必要時間の間、上面側で自由孔を通して等方性エッチングにより流管を形成する。
D)第二SiN層を蒸着により形成する。
E)第一金属層(導体パターン)を供給そしてパターン形成する。
F)上面側にて二つあるいは三つの側で流管を露出させる。
G)スペーサとして機能する厚いフォトレジスト層を必要に応じ形成する。
H)第二金属層を供給そしてパターン形成する。
I)エッチング、例えば等方性エッチングあるいは異方性エッチングプロセスで、流管を露出させるためにエッチングマスクを供給する。
J)ウェハーからチップを分離する。 - 丸みをもつ曲部を有するループ状流管を形成することとする請求項11に記載の流量計のためのシステムチップの製造方法。
- 一つの同じ工程で電気センサ構造が基体に形成されることとする請求項11に記載の流量計のためのシステムチップの製造方法。
- 電気センサ構造が圧力センサを有することとする請求項11に記載の流量計のためのシステムチップの製造方法。
- 圧力センサがピラニ圧力センサであることとする請求項11に記載の流量計のためのシステムチップの製造方法。
- 窒化シリコン流管がコリオリ流量センサあるいは熱型流量センサの部分をなしていることとする請求項1に記載の流量計。
- 第一窒化シリコン流管がコリオリ流量センサの部分をそして第二窒化シリコン流管が熱型流量センサの部分をなしていることとする請求項1に記載の流量計。
- 流管は二つの平行な脚部を有するループ状をなし、ローレンツアクチュエータが一直線上に配された二つの磁界発生手段であることとする請求項5に記載の流量計。
- 流管は二つの平行な脚部を有するループ状をなし、ローレンツアクチュエータが脚部の外方で一直線上に端磁極を備えたマグネットヨークを有していることとする請求項5に記載の流量計。
- 開口部が形成されて該開口部に窒化シリコン検出管が配されたシリコン基体を有し、上記検出管が流入端と流出端とを有し、これら両端が開口部の壁を経てシリコン基体内の窒化シリコンでコーティングされた流路に集まっていることとする測定システムのためのシステムチップ。
- 単結晶シリコン基体が供給され、ここへのSiN蒸着工程と、部分的なエッチングによるキャビティ形成工程と、エッチングによる部分的な露出工程が、マイクロシステム技術(MST)を用いてなされ、少なくとも一側が固定で他側が自由支持構造の流管を得る請求項22に記載の測定システムのためのシステムチップの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL1034905A NL1034905C2 (nl) | 2008-01-11 | 2008-01-11 | Stromingsmeetapparaat. |
NL1034905 | 2008-01-11 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009168805A true JP2009168805A (ja) | 2009-07-30 |
JP5537025B2 JP5537025B2 (ja) | 2014-07-02 |
Family
ID=39638767
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008331938A Active JP5537025B2 (ja) | 2008-01-11 | 2008-12-26 | 流量計、流量計のためのシステムチップ及びその製造方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7895905B2 (ja) |
EP (1) | EP2078936B1 (ja) |
JP (1) | JP5537025B2 (ja) |
AT (1) | ATE498117T1 (ja) |
DE (1) | DE602008004881D1 (ja) |
DK (1) | DK2078936T3 (ja) |
ES (1) | ES2358161T3 (ja) |
NL (1) | NL1034905C2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013033026A (ja) * | 2011-06-03 | 2013-02-14 | Berkin Bv | 媒体の流量を定量するための流量計及びその使用、並びに定量方法 |
JP2014526704A (ja) * | 2011-09-22 | 2014-10-06 | テヒニッシェ・ウニヴェルジテート・イルメナウ | 導電性流体の質量流量又は体積流量の非接触式測定方法及び装置 |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102006029443B3 (de) * | 2006-06-21 | 2008-01-31 | Siemens Ag | Sensor in mikromechanischer Bauweise zum Messen des Massendurchflusses nach dem Coriolis-Prinzip |
JP5580415B2 (ja) * | 2009-07-22 | 2014-08-27 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | 短レスポンス時間及び高感度を持つ熱流センサ集積回路 |
DE102009046839A1 (de) * | 2009-11-18 | 2011-05-19 | Endress + Hauser Flowtec Ag | Meßsystem mit einer zwei parallel durchströmte Meßrohre aufweisenden Rohranordnung sowie Verfahren zu deren Überwachung |
JP2012247372A (ja) * | 2011-05-30 | 2012-12-13 | Nippon Mektron Ltd | 圧力センサ及びその製造方法並びに圧力検出モジュール |
NL2010064C2 (nl) * | 2012-12-27 | 2014-06-30 | Berkin Bv | Inrichting en werkwijze voor het bepalen van de verbrandingswaarde van een brandstof. |
NL2010798C2 (nl) | 2013-05-14 | 2014-11-24 | Berkin Bv | Stromingsmeetapparaat voor het meten van een stroming van een medium. |
US9151652B2 (en) | 2013-09-20 | 2015-10-06 | Teledyne Instruments, Inc. | Coriolis flow sensor fabricated with laminated films processes |
US20160202101A1 (en) * | 2015-01-12 | 2016-07-14 | Douglas Ray Sparks | Sensor structures and methods of forming using three-dimensional printing techniques |
JP6345890B1 (ja) * | 2015-05-20 | 2018-06-20 | フィリップス ライティング ホールディング ビー ヴィ | 照明デバイス、レンズ及び方法 |
NL2016092B1 (en) * | 2016-01-14 | 2017-07-24 | Berkin Bv | Coriolis flowsensor. |
DE102016104551A1 (de) * | 2016-03-11 | 2017-09-14 | Krohne Ag | Verfahren zur Ausstattung eines Coriolis-Massedurchflussmessgeräts mit elektrischen Verbindungen |
US10409295B2 (en) * | 2016-12-31 | 2019-09-10 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for enhanced flow detection repeatability of thermal-based mass flow controllers (MFCS) |
NL2019560B1 (en) | 2017-09-15 | 2019-03-28 | Berkin Bv | Method of fabricating a micro machined channel |
WO2019143239A1 (en) | 2018-01-18 | 2019-07-25 | Berkin B.V. | Coriolis flow sensor |
NL2020298B1 (en) * | 2018-01-19 | 2019-07-29 | Berkin Bv | Coriolis flowsensor |
DE102018119332A1 (de) * | 2018-08-08 | 2020-02-13 | Endress+Hauser Flowtec Ag | Messaufnehmer und Messgerät |
DE102019105736B3 (de) * | 2019-03-07 | 2020-06-25 | Endress+Hauser Flowtec Ag | Coriolis-Messaufnehmer und Coriolis-Messgerät mit Coriolis-Messaufnehmer |
US11280651B2 (en) * | 2019-03-25 | 2022-03-22 | Flo Technologies, Inc. | Thin film thermal mass flow sensor in fluid applications |
NL2023872B1 (en) | 2019-09-20 | 2021-05-27 | Berkin Bv | Microelectromechanical system component comprising a free-hanging or free-standing microchannel |
US11262226B2 (en) * | 2020-02-17 | 2022-03-01 | GWU Design | Hybrid mass flow sensor including a thermal and coriolis principle measurement arrangements |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58165623U (ja) * | 1982-04-13 | 1983-11-04 | 横河電機株式会社 | 質量流量計 |
JPS59105522A (ja) * | 1982-12-08 | 1984-06-18 | Horiba Ltd | 流量センサ−及びその製造方法 |
US6477901B1 (en) * | 1999-12-21 | 2002-11-12 | Integrated Sensing Systems, Inc. | Micromachined fluidic apparatus |
JP2006313154A (ja) * | 2005-05-02 | 2006-11-16 | Berkin Bv | コリオリ型質量流量計 |
WO2007136069A1 (ja) * | 2006-05-22 | 2007-11-29 | Kazumasa Ohnishi | コリオリ流量計 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5233213A (en) * | 1990-07-14 | 1993-08-03 | Robert Bosch Gmbh | Silicon-mass angular acceleration sensor |
NL1001674C2 (nl) * | 1995-11-17 | 1997-05-21 | Berkin Bv | Debietmeter. |
WO2001088486A1 (fr) | 2000-05-19 | 2001-11-22 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Element de detection de debit de type thermosensible et dispositif de retenue correspondant |
US7351603B2 (en) * | 2004-08-20 | 2008-04-01 | Integrated Sensing Systems, Inc. | Process of making a microtube and microfluidic devices formed therewith |
NL1028938C2 (nl) * | 2005-05-02 | 2006-11-03 | Berkin Bv | Massa flowmeter van het Coriolistype. |
DE102006029443B3 (de) * | 2006-06-21 | 2008-01-31 | Siemens Ag | Sensor in mikromechanischer Bauweise zum Messen des Massendurchflusses nach dem Coriolis-Prinzip |
-
2008
- 2008-01-11 NL NL1034905A patent/NL1034905C2/nl not_active IP Right Cessation
- 2008-12-02 AT AT08075910T patent/ATE498117T1/de active
- 2008-12-02 DE DE602008004881T patent/DE602008004881D1/de active Active
- 2008-12-02 EP EP08075910A patent/EP2078936B1/en active Active
- 2008-12-02 ES ES08075910T patent/ES2358161T3/es active Active
- 2008-12-02 DK DK08075910.3T patent/DK2078936T3/da active
- 2008-12-15 US US12/335,045 patent/US7895905B2/en active Active
- 2008-12-26 JP JP2008331938A patent/JP5537025B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58165623U (ja) * | 1982-04-13 | 1983-11-04 | 横河電機株式会社 | 質量流量計 |
JPS59105522A (ja) * | 1982-12-08 | 1984-06-18 | Horiba Ltd | 流量センサ−及びその製造方法 |
US6477901B1 (en) * | 1999-12-21 | 2002-11-12 | Integrated Sensing Systems, Inc. | Micromachined fluidic apparatus |
JP2006313154A (ja) * | 2005-05-02 | 2006-11-16 | Berkin Bv | コリオリ型質量流量計 |
WO2007136069A1 (ja) * | 2006-05-22 | 2007-11-29 | Kazumasa Ohnishi | コリオリ流量計 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013033026A (ja) * | 2011-06-03 | 2013-02-14 | Berkin Bv | 媒体の流量を定量するための流量計及びその使用、並びに定量方法 |
JP2014526704A (ja) * | 2011-09-22 | 2014-10-06 | テヒニッシェ・ウニヴェルジテート・イルメナウ | 導電性流体の質量流量又は体積流量の非接触式測定方法及び装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7895905B2 (en) | 2011-03-01 |
JP5537025B2 (ja) | 2014-07-02 |
NL1034905C2 (nl) | 2009-07-14 |
EP2078936A1 (en) | 2009-07-15 |
DK2078936T3 (da) | 2011-04-18 |
ES2358161T3 (es) | 2011-05-06 |
ATE498117T1 (de) | 2011-02-15 |
EP2078936B1 (en) | 2011-02-09 |
US20090308177A1 (en) | 2009-12-17 |
DE602008004881D1 (de) | 2011-03-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5537025B2 (ja) | 流量計、流量計のためのシステムチップ及びその製造方法 | |
US6647778B2 (en) | Integrated microtube sensing device | |
US8272274B2 (en) | Microfluidic device and methods of operation and making | |
JP7389194B2 (ja) | 光モジュール | |
JP4913490B2 (ja) | 容量式電磁流量計 | |
JP4082907B2 (ja) | 振動形圧力センサ | |
GB2221302A (en) | Coriolis-effect fluid mass flow and density sensor made by a micromachining method | |
JP4903029B2 (ja) | ピラニ真空計および圧力測定方法 | |
Beeby et al. | Micromachined silicon resonant strain gauges fabricated using SOI wafer technology | |
JP2011117944A (ja) | 加速度センサー | |
KR101743668B1 (ko) | 열대류형 가속도 센서 및 이의 제조방법 | |
JP6771036B2 (ja) | コリオリ流量計 | |
JP5857161B2 (ja) | ラプラス力を用いた磁場計測装置 | |
JPS58156826A (ja) | 圧力周波数変換器 | |
Hornung et al. | Micromachined ultrasound-based Proximity sensors | |
JP5248218B2 (ja) | 圧力測定装置、圧力測定方法 | |
WO2019143239A1 (en) | Coriolis flow sensor | |
RU2522760C2 (ru) | Анемометрический датчик | |
CN116625346A (zh) | 一种独立敏感式mems热膨胀流陀螺 | |
Arslan | MEMS electro thermal actuators: modeling and simulation | |
JPH05333036A (ja) | フローセンサ | |
JP2017009562A (ja) | 圧力センサ | |
JP2010025891A (ja) | 加速度センサ及びサーボ型加速度計 | |
KR20070074202A (ko) | 동작 주파수의 측정이 가능한 마이크로 액츄에이터 | |
BRPI0103431B1 (pt) | Coriolis mass flow sensor |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110629 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130228 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130529 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130603 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130626 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140414 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140425 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5537025 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |