JP2009160713A - Conveyance device and conveying method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conveyance device with a simple structure, in which a substrate as a conveying target is not stuck on the other substrate when conveying. <P>SOLUTION: The conveyance device 1 comprises a suction pad for performing vacuum-suction of the substrate 31, a push rod 7 for pushing the substrate 31, an air cylinder 17 for driving the push rod 7, and a vacuum generator 15 connected with the air cylinder 17 and the suction pad. When conveying the substrate 31a by using the conveyance device 1, the suction pad is brought into contact with the upper surface of the substrate 31a. Then, negative pressure is generated by supplying air to the vacuum generator 15, and the suction pad carries out vacuum-suction of the substrate 31a with the generated negative pressure. When the suction pad carries out vacuum-suction of the substrate 31a, the substrate 31 is pushed and deformed by moving the push rod 7 with the air cylinder 17 so as to peel off the substrate brought into contact with the substrate 31a by using the air discharged from the vacuum generator 15 while lifting up the substrate 31a. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板を搬送する搬送装置および搬送装置を用いた、搬送方法に関する。   The present invention relates to a transport apparatus that transports a substrate and a transport method using the transport apparatus.

近年、電子機器の小型化、高性能化に伴い、電子機器に用いられる半導体素子の高集積化、小型化が進んでいる。   In recent years, along with miniaturization and high performance of electronic devices, semiconductor elements used in electronic devices have been highly integrated and miniaturized.

そのため、半導体装置の製造に用いられる半導体ウェハ、リードフレーム、あるいは半導体素子を搭載する配線基板等の基板の薄型化も進行している。   For this reason, thinning of a substrate such as a semiconductor wafer, a lead frame, or a wiring board on which a semiconductor element is mounted used for manufacturing a semiconductor device is also progressing.

これら個々の基板は製造工程において、複数の基板が積み重ねられた状態(積層された状態)、あるいは保護基板上に載置された状態から、搬送装置を用いて最上面の基板が分離されて次工程に搬送される。   In the manufacturing process, these individual substrates are separated from the state in which a plurality of substrates are stacked (stacked state) or placed on a protective substrate by separating the uppermost substrate using a transfer device. It is conveyed to the process.

搬送装置の構造としては、基板の表面(上面)を真空吸着して保持し、搬送する構造が一般的である。   As a structure of the transport apparatus, a structure in which the surface (upper surface) of the substrate is held by vacuum suction and transported is generally used.

例えば、特許文献1の図4には、積層されたリードフレームのうち、最上面のリードフレームをバキュームパッドにより真空吸着して搬送する装置が開示されている。   For example, FIG. 4 of Patent Document 1 discloses an apparatus that conveys the uppermost lead frame of the stacked lead frames by vacuum suction using a vacuum pad.

一方、このような構造では、最上面の基板の下面に、他の基板が張り付いた状態で、2枚以上の基板を同時に搬送してしまう場合がある。   On the other hand, in such a structure, in some cases, two or more substrates may be transferred simultaneously with another substrate attached to the lower surface of the uppermost substrate.

このような状態では、下面に張り付いた他の基板は、搬送中に剥がれ落ちて落下したり、次工程の装置と接触し、剥がれ落ちて落下したりして、不良品となるおそれがある。   In such a state, the other substrate attached to the lower surface may be peeled off and dropped during transportation, or may come into contact with the next process device and fall off and fall, resulting in a defective product. .

そのため、搬送装置には、搬送時に最上面の基板の下面に他の基板が張り付かないような構造が求められる。   For this reason, the transfer device is required to have a structure that prevents other substrates from sticking to the lower surface of the uppermost substrate during transfer.

このような張り付き防止構造としては、吸着時に最上面の基板を変形させながら真空吸着することにより、最上面の基板から他の基板を剥離する構造が知られている。   As such a sticking prevention structure, a structure is known in which another substrate is peeled off from the uppermost substrate by vacuum suction while deforming the uppermost substrate during suction.

例えば特許文献2の図3には、積層されたリードフレームの最上面を側面から押圧することにより変形させ、他のリードフレームと剥離する装置が開示されている。   For example, FIG. 3 of Patent Document 2 discloses an apparatus for deforming a laminated lead frame by pressing it from the side and peeling it from other lead frames.

また、特許文献3の図1には、積層されたリードフレームの最上面の上面を押し棒の自重により押圧して変形させ、他のリードフレームと剥離する装置が開示されている。   Further, FIG. 1 of Patent Document 3 discloses an apparatus that presses and deforms the uppermost surface of the stacked lead frames by the weight of the push rod and peels them from other lead frames.

特開平01−96933号公報Japanese Patent Laid-Open No. 01-96933 特開平02−251151号公報Japanese Patent Laid-Open No. 02-251151 特開平06−140443号公報Japanese Patent Laid-Open No. 06-140443

しかしながら、特許文献2のような側面から基板を押圧する構造では、基板の厚さによっては、破壊を伴わずに基板を変形させるのが困難であるという問題があり、特に配線基板のように、リードフレームよりも厚い基板には適用が困難であった。   However, in the structure in which the substrate is pressed from the side as in Patent Document 2, depending on the thickness of the substrate, there is a problem that it is difficult to deform the substrate without causing breakage. It was difficult to apply to a substrate thicker than the lead frame.

また、押圧と吸着を別の装置が行っているため、装置全体が複雑化し、装置の駆動が非効率であるという問題があった。   In addition, since another device performs pressing and suction, there is a problem that the entire device is complicated and the driving of the device is inefficient.

一方、特許文献3のような構造では、押し棒の自重で基板を押圧するため、押圧力や押圧のタイミングの調節が困難であるという問題があった。   On the other hand, the structure as in Patent Document 3 has a problem in that it is difficult to adjust the pressing force and the timing of pressing because the substrate is pressed by its own weight.

本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的は、構造が簡易で、搬送時に搬送対象とする基板に、他の基板が張り付かないような構造の搬送装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a transport apparatus having a structure that is simple in structure and that prevents other substrates from sticking to a substrate to be transported during transport. There is.

前述した目的を達成するために、第1の発明は、基板を搬送する搬送装置であって、前記基板の上面の上面の両端を真空吸着する吸着手段と、前記基板の上面を押圧して変形させる押圧手段と、前記吸着手段および前記押圧手段を駆動する駆動手段と、を有し、前記駆動手段は、エアが供給されるエア供給部と、前記押圧手段に接続され、供給されたエアが排気される排気部と、前記吸着手段に接続され、前記エア供給部より供給されたエアの流れにより真空を発生させる真空発生部と、を有するエジェクタ式の真空発生装置であり、前記エア供給部よりエアの供給を受けて前記排気部へエアを排気することにより、前記真空発生部に真空を発生させて前記吸着手段を駆動し、前記排気部へ排気したエアの圧力により前記押圧手段を駆動することを特徴とする搬送装置である。   In order to achieve the above-described object, the first invention is a transport device for transporting a substrate, wherein suction means for vacuum-sucking both ends of the upper surface of the upper surface of the substrate, and deformation by pressing the upper surface of the substrate Pressing means, and suction means and driving means for driving the pressing means. The driving means is connected to the pressing means and an air supply unit to which air is supplied. An ejector-type vacuum generator having an exhaust section to be exhausted and a vacuum generation section that is connected to the suction means and generates a vacuum by the flow of air supplied from the air supply section, the air supply section By receiving the supply of air and exhausting the air to the exhaust part, a vacuum is generated in the vacuum generation part to drive the suction means, and the pressing means is driven by the pressure of the air exhausted to the exhaust part Do A conveying apparatus characterized and.

第2の発明は、第1の発明に記載の搬送装置を用いた基板の搬送方法であって、
前記駆動手段を駆動させ、前記基板を真空吸着する工程(a)と、前記駆動手段の排気したエアを用いて前記押圧手段を駆動させ、前記基板の上面を押圧して変形させる工程(b)と、前記基板を搬送する工程(c)と、を有することを特徴とする基板の搬送方法である。
A second invention is a method of transporting a substrate using the transport device according to the first invention,
A step (a) of driving the driving means to vacuum-suck the substrate; and a step (b) of driving the pressing means using the air exhausted from the driving means to press and deform the upper surface of the substrate. And a step (c) of transporting the substrate.

本発明によれば、構造が簡易で、搬送時に搬送対象とする基板に、他の基板が張り付かないような構造の搬送装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a transport apparatus having a simple structure and a structure in which another substrate does not stick to a substrate to be transported during transport.

以下、図面に基づいて本発明に好適な実施例を詳細に説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

まず、図1を参照して、本発明の第1の実施形態に係る搬送装置1の概略構成を説明する。   First, with reference to FIG. 1, a schematic configuration of a transport apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention will be described.

ここでは、搬送装置1として、半導体装置の配線基板である基板31を搬送する搬送装置1が図示されている。   Here, as the transfer apparatus 1, a transfer apparatus 1 that transfers a substrate 31 that is a wiring board of a semiconductor device is illustrated.

図1に示すように、搬送装置1は、平面形状が矩形の板状のフレーム3、フレーム3の一方の面の4隅に設けられ、後述する基板31を真空吸着する吸着手段としての吸着パッド5a、5b、5c、5dを有している。   As shown in FIG. 1, the transport device 1 is provided with a plate-like frame 3 having a rectangular planar shape, and suction pads as suction means for vacuum-sucking a substrate 31 to be described later, provided at four corners of one surface of the frame 3. 5a, 5b, 5c, 5d.

搬送装置1は、さらに、フレーム3の中心に設けられ、基板31を押圧する押圧手段としての押し棒7、押し棒7の一方の端部に連結され、押し棒7を駆動するエアシリンダ17、エアシリンダ17および吸着パッド5a、5b、5c、5dに接続された真空発生器15を有している。   The transport device 1 is further provided at the center of the frame 3, and is connected to one end of the push rod 7 as a pushing means for pushing the substrate 31, an air cylinder 17 that drives the push rod 7, The vacuum generator 15 is connected to the air cylinder 17 and the suction pads 5a, 5b, 5c, and 5d.

図1および図2を参照して、搬送装置1の構成をさらに詳細に説明する。   With reference to FIG. 1 and FIG. 2, the structure of the conveying apparatus 1 is demonstrated in detail.

図1および図2に示すように、フレーム3は、一方の面の4隅に凸状の台座27a、27b、27c、27dが設けられ、また中心に凸状の台座27eが設けられている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the frame 3 is provided with convex pedestals 27a, 27b, 27c, and 27d at the four corners of one surface, and a convex pedestal 27e at the center.

台座27a、27b、27c、27dには吸着パッド5a、5b、5c、5cが設けられている。   The pedestals 27a, 27b, 27c, and 27d are provided with suction pads 5a, 5b, 5c, and 5c.

なお、図2では吸着パッドを4つ設けているが、吸着パッドの数は図2の構成に限定されるものではなく、搬送される基板31の大きさや厚さ等により、適宜選択されるものである。   In FIG. 2, four suction pads are provided. However, the number of suction pads is not limited to the configuration shown in FIG. 2, and is appropriately selected depending on the size and thickness of the substrate 31 to be transported. It is.

吸着パッド5a、5b、5c、5cには配管11a、11b、11c(図示せず)、11d(図示せず)が接続されており、配管11a、11b、11c、11dは配管13に接続されている。   Piping 11a, 11b, 11c (not shown) and 11d (not shown) are connected to the suction pads 5a, 5b, 5c and 5c, and the piping 11a, 11b, 11c and 11d are connected to the piping 13. Yes.

押し棒7は、台座27eを貫通して設けられており、押し棒7の他の端部には、押圧の際に、基板31に傷がついたり、パターンが断線したりするのを防ぐための緩衝材9が設けられている。   The push rod 7 is provided so as to penetrate the pedestal 27e, and the other end portion of the push rod 7 is prevented from being damaged or the pattern being disconnected when pressed. The buffer material 9 is provided.

緩衝材9を構成する材料は、押圧の際に基板31の破損を防ぐことが可能であるとともに、押圧時の基板31への静電気の帯電を防止する材料であることが望ましい。   The material constituting the cushioning material 9 is desirably a material that can prevent the substrate 31 from being damaged during pressing and also prevents static electricity from being charged to the substrate 31 during pressing.

このような要求を満たす材料としては、例えば導電性ゴムが挙げられる。   An example of a material that satisfies such a requirement is conductive rubber.

エアシリンダ17には配管19が接続されている。   A pipe 19 is connected to the air cylinder 17.

一方、真空発生器15はエアが供給されるエア供給部21、エアが排気されるエア排気部23、真空を発生する真空発生部25を有している。   On the other hand, the vacuum generator 15 includes an air supply unit 21 to which air is supplied, an air exhaust unit 23 from which air is exhausted, and a vacuum generation unit 25 that generates vacuum.

エア供給部21には図示しないコンプレッサ等が接続されている。   A compressor or the like (not shown) is connected to the air supply unit 21.

エア排気部23には配管19が接続され、真空発生部25には配管13が接続されている。   A pipe 19 is connected to the air exhaust part 23, and a pipe 13 is connected to the vacuum generation part 25.

なお、フレーム3には図示しないアクチュエータが設けられており、吸着パッド5a、5b、5c、5dと一体となって、図1および図2のB1、B2、C1、C2、C3、C4の向きに移動可能である。   The frame 3 is provided with an actuator (not shown), and is integrated with the suction pads 5a, 5b, 5c, and 5d in the directions of B1, B2, C1, C2, C3, and C4 in FIGS. It is movable.

即ち、フレーム3はいわゆるXYZ方向に3次元移動が可能である。   That is, the frame 3 can be moved three-dimensionally in the so-called XYZ direction.

ここで、真空発生器15の構造および動作について、図2を参照して説明する。   Here, the structure and operation of the vacuum generator 15 will be described with reference to FIG.

まず真空発生器15の構造について説明する。   First, the structure of the vacuum generator 15 will be described.

図2に示すように、真空発生器15は本体15aを有し、本体15aには管状のエア供給部21およびエア排気部23が設けられている。   As shown in FIG. 2, the vacuum generator 15 has a main body 15a, and a tubular air supply part 21 and an air exhaust part 23 are provided in the main body 15a.

また、本体15aの内部には、エア供給部21およびエア排気部23を連結するように真空発生部25が設けられている。   In addition, a vacuum generation unit 25 is provided inside the main body 15 a so as to connect the air supply unit 21 and the air exhaust unit 23.

次に、真空発生器15の動作について説明する。   Next, the operation of the vacuum generator 15 will be described.

真空発生器15を動作させる場合は、まず、図示しないコンプレッサ等を用いて、エア供給部21にエアを供給する。   When operating the vacuum generator 15, first, air is supplied to the air supply unit 21 using a compressor or the like (not shown).

供給されたエアは図1および図2のDの向きに流れ、エア排気部23より排気される。   The supplied air flows in the direction D in FIGS. 1 and 2 and is exhausted from the air exhaust unit 23.

この際、真空発生器15内は、エアの流れにより圧力が低下し、E3の向きに負圧が生じる。   At this time, the pressure in the vacuum generator 15 is reduced by the air flow, and a negative pressure is generated in the direction E3.

このように、真空発生器15は、エアの流れにより真空を発生させる構造となっており、いわゆるエジェクタ式の真空発生器である。   Thus, the vacuum generator 15 has a structure for generating a vacuum by the flow of air, and is a so-called ejector type vacuum generator.

次に、搬送装置1を用いて基板31aを搬送する際の搬送装置1の動作について図1〜図6を用いて説明する。   Next, operation | movement of the conveying apparatus 1 at the time of conveying the board | substrate 31a using the conveying apparatus 1 is demonstrated using FIGS.

ここでは、図1に示すように、箱型の収納部29内に積層されて収納された基板31から、最上面の基板31aを真空吸着して、図示しない処理部(ボンディング部)に搬送する際の搬送装置1の動作について説明する。   Here, as shown in FIG. 1, the uppermost substrate 31a is vacuum-sucked from a substrate 31 stacked and stored in a box-shaped storage unit 29 and transported to a processing unit (bonding unit) not shown. The operation of the transport device 1 will be described.

まず、図示しないアクチュエータを用いて、フレーム3を図1および図2のC1、C2、C3、C4の向きに移動し、フレーム3を基板31の上方に配置する。   First, the frame 3 is moved in the directions of C1, C2, C3, and C4 in FIGS. 1 and 2 using an actuator (not shown), and the frame 3 is disposed above the substrate 31.

フレーム3が基板31の上方に配置されると、図示しないアクチュエータを用いて、フレーム3を図1のB2の向きに移動し、図3に示すように、吸着パッド5a、5b、5c(図示せず)、5d(図示せず)を、基板31aの上面の両端(この場合は4隅)に接触させる。   When the frame 3 is disposed above the substrate 31, the frame 3 is moved in the direction of B2 in FIG. 1 using an actuator (not shown), and suction pads 5a, 5b, 5c (not shown) are shown in FIG. And 5d (not shown) are brought into contact with both ends (four corners in this case) of the upper surface of the substrate 31a.

吸着パッド5a、5b、5c、5dが基板31aの上面に接触すると、図示しないコンプレッサを用いてエア供給部21にエアを供給する。   When the suction pads 5a, 5b, 5c, and 5d come into contact with the upper surface of the substrate 31a, air is supplied to the air supply unit 21 using a compressor (not shown).

供給されたエアは図2に示すように、Dの向きに流れ、真空発生器15内に負圧を発生させる。   As shown in FIG. 2, the supplied air flows in the direction D and generates a negative pressure in the vacuum generator 15.

発生した負圧により、配管11a、11b、11c、11d、13内には、吸着パッド5a、5b、5c、5d側から真空発生部25側の向き(図2ではE1、E2、E3の向き)にエアの流れが生じ、吸着パッド5a、5b、5c、5dは基板31aの上面の両端を真空吸着する。   In the pipes 11a, 11b, 11c, 11d, and 13 due to the generated negative pressure, the direction from the suction pads 5a, 5b, 5c, and 5d to the vacuum generation unit 25 side (directions E1, E2, and E3 in FIG. 2) Thus, the suction pads 5a, 5b, 5c, and 5d vacuum-suck both ends of the upper surface of the substrate 31a.

吸着パッド5a、5b、5c、5dが基板31aの上面の両端を真空吸着すると、図示しないアクチュエータを用いて、フレーム3を図1のB1の向きに移動し、基板31aを持ち上げて、積層された他の基板31から分離する。   When the suction pads 5a, 5b, 5c, and 5d vacuum-suck both ends of the upper surface of the substrate 31a, the frame 3 is moved in the direction of B1 in FIG. Separate from other substrate 31.

この際、エア排気部23より排気されたエアは配管19を介して、F2の向きにエアシリンダ17を押圧するため、エアシリンダ17は、押し棒7をB2の向きに移動させ、押し棒7の緩衝材9が基板31aに接触して、基板31aを押圧する。   At this time, since the air exhausted from the air exhaust part 23 presses the air cylinder 17 in the direction of F2 through the pipe 19, the air cylinder 17 moves the push rod 7 in the direction of B2, and the push rod 7 The buffer material 9 comes into contact with the substrate 31a and presses the substrate 31a.

押圧された基板31aは図4に示すように断面形状が弓状に変形する。なお、変形させる寸法34は例えば2mm程度である。   The pressed substrate 31a is deformed into a bow shape in cross section as shown in FIG. The dimension 34 to be deformed is about 2 mm, for example.

基板31aが変形すると、基板31aの下面と接触していた基板31bは、図6に示すように、基板31aから剥離される。   When the substrate 31a is deformed, the substrate 31b that has been in contact with the lower surface of the substrate 31a is peeled off from the substrate 31a as shown in FIG.

基板31aが剥離されると、基板31aが吸着パッド5a、5b、5c、5dに真空吸着された状態で、図示しないアクチュエータを用いてフレーム3を図1のC1、C2、C3、C4の向きに移動し、基板31aを図示しない処理部(ボンディング部)に搬送する。   When the substrate 31a is peeled off, the frame 3 is placed in the directions of C1, C2, C3, and C4 in FIG. 1 using an actuator (not shown) while the substrate 31a is vacuum-sucked to the suction pads 5a, 5b, 5c, and 5d. It moves and transports the substrate 31a to a processing unit (bonding unit) (not shown).

このように、搬送装置1では、基板31aの変形により基板31aから基板31bが剥離されるため、図5に示すように、基板31aの下面に基板31bが張り付いた状態で基板31aが持ち上げられそうになっても、張り付いた状態で搬送されることはない。   Thus, in the transfer apparatus 1, since the substrate 31b is peeled off from the substrate 31a due to the deformation of the substrate 31a, the substrate 31a is lifted with the substrate 31b attached to the lower surface of the substrate 31a as shown in FIG. Even then, it will not be transported in a sticking state.

そのため、搬送時に張り付いた基板31bが落下して不良品となるのを防止でき、品質歩留まりが上昇する。   Therefore, it is possible to prevent the substrate 31b attached during transportation from falling and becoming a defective product, and the quality yield is increased.

また、張り付いた基板31bが処理部(ボンディング部)に引っかかることがなくなり、稼働率が上昇し、製造コストも低減される。   Further, the stuck substrate 31b is not caught by the processing part (bonding part), the operating rate is increased, and the manufacturing cost is reduced.

さらに、搬送装置1は吸着パッド5a、5b、5c、5dおよび押し棒7の駆動を、真空発生器15が行うため、吸着パッド5a、5b、5c、5dと押し棒7を駆動するための装置を個別に用意する必要がなく、従来よりも構造が単純である。   Further, since the vacuum generator 15 drives the suction pads 5a, 5b, 5c, and 5d and the push rod 7, the transport device 1 is a device for driving the suction pads 5a, 5b, 5c, and 5d and the push rod 7. Need not be prepared separately, and the structure is simpler than before.

また、搬送装置1は従来の搬送装置と比べて、大きな装置構成の変更をすることなく、製造できる。   Further, the transfer device 1 can be manufactured without a large change in device configuration as compared with the conventional transfer device.

さらに、押し棒7の駆動は、エア排気部23より排気されたエアにより行われるため、基板31aへの押圧力の調整および押圧のタイミングの調整が容易である。即ち、エア排気部23または配管19に図示しない排気バルブを設け、排気バルブを制御することにより、エアシリンダ17への押圧力および押圧のタイミングが調整できる。   Further, since the push rod 7 is driven by the air exhausted from the air exhaust part 23, it is easy to adjust the pressing force to the substrate 31a and the timing of pressing. That is, by providing an exhaust valve (not shown) in the air exhaust part 23 or the pipe 19 and controlling the exhaust valve, the pressing force and the timing of pressing the air cylinder 17 can be adjusted.

このように、第1の実施形態によれば、搬送装置1はフレーム3、吸着パッド5a、5b、5c、5d、押し棒7、真空発生器15を有し、真空発生器15にエアを供給することにより、吸着パッド5a、5b、5c、5dが基板31aを真空吸着し、押し棒7が基板31aを押圧して変形させる。   Thus, according to 1st Embodiment, the conveying apparatus 1 has the flame | frame 3, the suction pads 5a, 5b, 5c, 5d, the push rod 7, and the vacuum generator 15, and supplies air to the vacuum generator 15. As a result, the suction pads 5a, 5b, 5c, and 5d vacuum-suck the substrate 31a, and the push rod 7 presses and deforms the substrate 31a.

そのため、基板31aの搬送時に、基板31aの下面に他の基板が張り付いた状態で搬送されることを防止でき、品質歩留まりおよび稼働率が上昇し、製造コストが低減される。   Therefore, when the substrate 31a is transported, it can be prevented that another substrate is adhered to the lower surface of the substrate 31a, the quality yield and the operation rate are increased, and the manufacturing cost is reduced.

また、第1の実施形態によれば、吸着パッド5a、5b、5c、5dおよび押し棒7の駆動を、真空発生器15が行うため、吸着パッド5a、5b、5c、5dと押し棒7を駆動するための装置を個別に用意する必要がなく、従来よりも構造が単純で、また、エアの排気を利用して押し棒7を駆動するため、駆動が効率的である。   Further, according to the first embodiment, since the vacuum generator 15 drives the suction pads 5a, 5b, 5c, 5d and the push rod 7, the suction pads 5a, 5b, 5c, 5d and the push rod 7 are connected to each other. It is not necessary to prepare a separate device for driving, the structure is simpler than in the past, and the push rod 7 is driven using air exhaust, so that the driving is efficient.

また、上記構造により、搬送装置1は従来の搬送装置と比べて、大きな装置構成の変更をすることなく、製造できる。   Moreover, the said structure can manufacture the conveying apparatus 1 without changing a big apparatus structure compared with the conventional conveying apparatus.

次に、第2の実施形態に係る搬送装置1aについて、図7を参照して説明する。   Next, a transport apparatus 1a according to the second embodiment will be described with reference to FIG.

第2の実施形態に係る搬送装置1aは、第1の実施形態に係る搬送装置1において、押圧手段として、押し棒7ではなく、エア排気部23から排気されたエアを基板31aに吹き付ける先端(ノズル)19bを設けたものである。   The transport apparatus 1a according to the second embodiment is a front end (not shown) that blows air exhausted from the air exhaust unit 23 to the substrate 31a as a pressing unit instead of the push bar 7 in the transport apparatus 1 according to the first embodiment. Nozzle) 19b is provided.

なお、第2の実施形態において、第1の実施形態と同様の機能を果たす要素には同一
の番号を付し、説明を省略する。
In the second embodiment, elements having the same functions as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図7に示すように、搬送装置1aは、エア排気部23には配管19aが設けられており、配管19aの先端(ノズル)19bはフレーム3の台座27eを貫通して台座27eが設けられた面側に突出している。   As shown in FIG. 7, in the transport apparatus 1 a, a pipe 19 a is provided in the air exhaust part 23, and a tip (nozzle) 19 b of the pipe 19 a passes through a base 27 e of the frame 3 and a base 27 e is provided. Projects to the surface side.

配管19aの先端(ノズル)19bからは、エア排気部23から排気されたエアが噴出す構造となっている。   From the tip (nozzle) 19b of the pipe 19a, the air exhausted from the air exhaust part 23 is ejected.

ここで、搬送装置1aを用いて基板31を搬送する際の搬送装置1aの動作について図7を参照して簡単に説明する。   Here, the operation of the transport apparatus 1a when transporting the substrate 31 using the transport apparatus 1a will be briefly described with reference to FIG.

まず、図示しないアクチュエータを用いて、フレーム3を基板31の上方に配置する。   First, the frame 3 is disposed above the substrate 31 using an actuator (not shown).

フレーム3が基板31の上方に配置されると、フレーム3を図1のB2の向きに移動し、吸着パッド5a、5b、5c、5dを、基板31aの上面の両端に接触させる。   When the frame 3 is disposed above the substrate 31, the frame 3 is moved in the direction B2 in FIG. 1, and the suction pads 5a, 5b, 5c, and 5d are brought into contact with both ends of the upper surface of the substrate 31a.

吸着パッド5a、5b、5c、5dが基板31aの上面の両端に接触すると、エア供給部21にエアを供給する。   When the suction pads 5a, 5b, 5c, and 5d come into contact with both ends of the upper surface of the substrate 31a, air is supplied to the air supply unit 21.

供給されたエアは真空発生器15内に負圧を発生させる。   The supplied air generates a negative pressure in the vacuum generator 15.

発生した負圧により、吸着パッド5a、5b、5c、5dは基板31aの上面の両端を真空吸着する。   Due to the generated negative pressure, the suction pads 5a, 5b, 5c, and 5d vacuum-suck both ends of the upper surface of the substrate 31a.

吸着パッド5a、5b、5c、5dが基板31aの上面を真空吸着すると、図示しないアクチュエータを用いて、フレーム3を図7のB1の向きに移動し、基板31aを持ち上げて、積層された他の基板31から分離する。   When the suction pads 5a, 5b, 5c, and 5d vacuum-suck the upper surface of the substrate 31a, the frame 3 is moved in the direction of B1 in FIG. Separate from the substrate 31.

この際、基板31aを持ち上げつつ、配管19aの先端(ノズル)19bからエアをB2の向きに噴きつけ、エアにより基板31の中央付近を押圧し、弓状に変形させる。   At this time, while lifting the substrate 31a, air is blown in the direction of B2 from the tip (nozzle) 19b of the pipe 19a, and the vicinity of the center of the substrate 31 is pressed by the air and deformed into an arcuate shape.

基板31aが変形すると、基板31aの下面と接触していた基板31bは基板31aから剥離される。   When the substrate 31a is deformed, the substrate 31b that has been in contact with the lower surface of the substrate 31a is peeled off from the substrate 31a.

基板31aが剥離されると、基板31aが吸着パッド5a、5b、5c、5dに真空吸着された状態で、フレーム3を図示しない処理部(ボンディング部)に搬送する。   When the substrate 31a is peeled off, the frame 3 is transferred to a processing unit (bonding unit) (not shown) in a state where the substrate 31a is vacuum-sucked by the suction pads 5a, 5b, 5c, and 5d.

このように、搬送装置1aでは、基板31aへの押圧を、エアの噴きつけにより行っているため、押圧手段としての先端(ノズル)19bが、基板31aと直接接触することがない。   As described above, in the transport apparatus 1a, the pressure on the substrate 31a is performed by blowing air, so that the tip (nozzle) 19b as the pressing means does not directly contact the substrate 31a.

そのため、押圧手段の接触による基板31aの破損を防止できる。   For this reason, it is possible to prevent the substrate 31a from being damaged by the contact of the pressing means.

このように、第2の実施形態によれば、搬送装置1aはフレーム3、吸着パッド5a、5b、5c、5d、先端(ノズル)19b、真空発生器15を有し、真空発生器15にエアを供給することにより、吸着パッド5a、5b、5c、5dが基板31aを真空吸着し、先端(ノズル)19bから噴出したエアが基板31aを押圧して変形させる。   As described above, according to the second embodiment, the transport device 1a includes the frame 3, the suction pads 5a, 5b, 5c, and 5d, the tip (nozzle) 19b, and the vacuum generator 15. , The suction pads 5a, 5b, 5c and 5d vacuum-suck the substrate 31a, and the air ejected from the tip (nozzle) 19b presses and deforms the substrate 31a.

従って、第1の実施形態と同様の効果を奏する。   Accordingly, the same effects as those of the first embodiment are obtained.

また、第2の実施形態によれば、搬送装置1aは基板31aへの押圧を、エアの噴きつけにより行っており、押圧手段としての先端(ノズル)19bが、基板31aと直接接触することがない。   Further, according to the second embodiment, the transfer device 1a presses the substrate 31a by blowing air, and the tip (nozzle) 19b as a pressing means can be in direct contact with the substrate 31a. Absent.

そのため、第1の実施形態と比べて、押圧手段の接触による基板31aの破損を、より確実に防止できる。   Therefore, as compared with the first embodiment, it is possible to more reliably prevent the substrate 31a from being damaged by the contact of the pressing unit.

次に、第3の実施形態に係る搬送装置1bについて、図8を参照して説明する。   Next, a transport device 1b according to a third embodiment will be described with reference to FIG.

第3の実施形態に係る搬送装置1bは、第1の実施形態において、台座27eに吸着パッド5eを設け、吸着パッド5eを吸着手段と押圧手段の両方として用いる構造としたものである。   In the first embodiment, the transport device 1b according to the third embodiment has a structure in which the suction pad 5e is provided on the pedestal 27e and the suction pad 5e is used as both the suction means and the pressing means.

なお、第3の実施形態において、第1の実施形態と同様の機能を果たす要素には同一の番号を付し、説明を省略する。   Note that in the third embodiment, elements that perform the same functions as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

図8に示すように、搬送装置1bは、フレーム3の台座27eに吸着パッド5eが設けられている。   As shown in FIG. 8, the transport device 1 b is provided with a suction pad 5 e on a pedestal 27 e of the frame 3.

吸着パッド5eには配管41が接続されており、配管41は配管13を介して真空発生器15の真空発生部25に接続されている。   A pipe 41 is connected to the suction pad 5 e, and the pipe 41 is connected to the vacuum generator 25 of the vacuum generator 15 through the pipe 13.

そのため、真空発生器15を駆動すると、吸着パッド5eは基板31aを真空吸着可能である。   Therefore, when the vacuum generator 15 is driven, the suction pad 5e can vacuum-suck the substrate 31a.

また、吸着パッド5eにはエアシリンダ17が設けられており、エアシリンダ17は、配管19を介して、真空発生器15のエア排気部23に接続されている。   The suction pad 5 e is provided with an air cylinder 17, and the air cylinder 17 is connected to the air exhaust part 23 of the vacuum generator 15 via a pipe 19.

そのため、真空発生器15を駆動すると、エアシリンダ17が吸着パッド5eを図8のF2の向きに押圧することにより、吸着パッド5eは図8のB2の向きに移動可能であり、移動により、基板31aの上面を押圧可能である。   Therefore, when the vacuum generator 15 is driven, the air cylinder 17 presses the suction pad 5e in the direction F2 in FIG. 8, so that the suction pad 5e can move in the direction B2 in FIG. The upper surface of 31a can be pressed.

即ち、吸着パッド5eは、吸着手段と押圧手段を兼ねた押圧吸着手段であり、このような構造とすることにより、吸着パッド5eは基板31aを押圧しながら真空吸着可能となり、搬送時の基板31aの落下を防止できる。   In other words, the suction pad 5e is a pressure suction means that serves as both a suction means and a pressure means. With such a structure, the suction pad 5e can be vacuum-sucked while pressing the substrate 31a, and the substrate 31a during transportation. Can be prevented from falling.

ここで、搬送装置1bを用いて基板31を搬送する際の搬送装置1bの動作について、図8を参照して簡単に説明する。   Here, the operation of the transport apparatus 1b when transporting the substrate 31 using the transport apparatus 1b will be briefly described with reference to FIG.

まず、図示しないアクチュエータを用いて、フレーム3を基板31の上方に配置する。   First, the frame 3 is disposed above the substrate 31 using an actuator (not shown).

フレーム3が基板31の上方に配置されると、フレーム3を図8のB2の向きに移動し、吸着パッド5a、5b、5c、5d、5eを、基板31aのの上面の両端に接触させる。   When the frame 3 is disposed above the substrate 31, the frame 3 is moved in the direction B2 in FIG. 8, and the suction pads 5a, 5b, 5c, 5d, and 5e are brought into contact with both ends of the upper surface of the substrate 31a.

吸着パッド5a、5b、5c、5d、5eが基板31aの上面の両端に接触すると、エア供給部21にエアを供給する。   When the suction pads 5a, 5b, 5c, 5d, and 5e come into contact with both ends of the upper surface of the substrate 31a, air is supplied to the air supply unit 21.

供給されたエアは真空発生器15内に負圧を発生させる。   The supplied air generates a negative pressure in the vacuum generator 15.

発生した負圧により、吸着パッド5a、5b、5c、5d、5eは基板31aの上面を真空吸着する。   Due to the generated negative pressure, the suction pads 5a, 5b, 5c, 5d, and 5e vacuum-suck the upper surface of the substrate 31a.

吸着パッド5a、5b、5c、5d、5eが基板31aの上面の両端を真空吸着すると、図示しないアクチュエータを用いて、フレーム3を図1のB1の向きに移動し、基板31aを持ち上げて、積層された他の基板31から分離する。   When the suction pads 5a, 5b, 5c, 5d, and 5e vacuum-suck both ends of the upper surface of the substrate 31a, the frame 3 is moved in the direction of B1 in FIG. Separated from the other substrate 31 formed.

この際、基板31aを持ち上げつつ、エア排気部23より排気されたエアを配管19内にF1の向きに導入し、F2の向きにエアシリンダ17を押圧させる。   At this time, while lifting the substrate 31a, the air exhausted from the air exhaust part 23 is introduced into the pipe 19 in the direction F1, and the air cylinder 17 is pressed in the direction F2.

押圧されたエアシリンダ17は、吸着パッド5eをB2の向きに移動させ、吸着パッド5eが基板31aの中央付近を押圧し、弓状に変形させる。   The pressed air cylinder 17 moves the suction pad 5e in the direction B2, and the suction pad 5e presses the vicinity of the center of the substrate 31a to deform it into an arcuate shape.

基板31aが変形すると、基板31aの下面と接触していた基板31bは基板31aから剥離される。   When the substrate 31a is deformed, the substrate 31b that has been in contact with the lower surface of the substrate 31a is peeled off from the substrate 31a.

基板31aが剥離されると、基板31aが吸着パッド5a、5b、5c、5d、5eに真空吸着された状態で、フレーム3を図示しない処理部(ボンディング部)に搬送する。   When the substrate 31a is peeled off, the frame 3 is transferred to a processing unit (bonding unit) (not shown) in a state where the substrate 31a is vacuum-sucked by the suction pads 5a, 5b, 5c, 5d, and 5e.

このように、第3の実施形態によれば、搬送装置1bはフレーム3、吸着パッド5a、5b、5c、5d、5e、真空発生器15を有し、真空発生器15にエアを供給することにより、吸着パッド5a、5b、5c、5d、5eが基板31aを真空吸着し、吸着パッド5eが基板31aを押圧して変形させる。   Thus, according to the third embodiment, the transport device 1b includes the frame 3, the suction pads 5a, 5b, 5c, 5d, and 5e, and the vacuum generator 15, and supplies air to the vacuum generator 15. Accordingly, the suction pads 5a, 5b, 5c, 5d, and 5e vacuum-suck the substrate 31a, and the suction pad 5e presses and deforms the substrate 31a.

従って、第1の実施形態と同様の効果を奏する。   Accordingly, the same effects as those of the first embodiment are obtained.

また、第3の実施形態によれば、搬送装置1bは吸着パッド5eが吸着手段が押圧手段を兼ねている。   Further, according to the third embodiment, in the transport apparatus 1b, the suction pad 5e serves as the pressing means as the suction means.

そのため、第1の実施形態と比べて、確実に基板31aを吸着でき、搬送時の基板31aの落下を、より確実に防止できる。   Therefore, as compared with the first embodiment, the substrate 31a can be reliably adsorbed, and the falling of the substrate 31a during transportation can be more reliably prevented.

上記した実施形態では、本発明を、積層された半導体装置の配線基板の1枚を真空吸着して、ボンディング部に搬送する搬送装置に適用した場合について説明したが、本発明は、何等、これに限定されることなく、複数の基板が積み重ねられた状態(積層された状態)、あるいは保護基板上に載置された状態から、最上面の基板を剥離して搬送する必要のあるすべての搬送装置に適用することができる。   In the above-described embodiments, the case where the present invention is applied to a transport apparatus that vacuum-sucks one of the wiring boards of the stacked semiconductor devices and transports them to the bonding unit has been described. All transports that require peeling and transporting the top substrate from a stacked state (stacked state) or a state where it is placed on a protective substrate. It can be applied to the device.

図1(a)は搬送装置1を示す断面図であって、図1(b)は図1(a)のA1方向矢視図である(なお、図1(a)は図1(b)のA2−A2断面図でもある)。FIG. 1A is a cross-sectional view showing the conveying device 1, and FIG. 1B is a view taken in the direction of the arrow A1 in FIG. 1A (note that FIG. 1A is FIG. 1B). This is also a cross-sectional view of A2-A2. 図1の真空発生器の内部構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the internal structure of the vacuum generator of FIG. 搬送装置1を用いて基板31aを搬送する際の搬送装置1の動作を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of the conveying apparatus 1 at the time of conveying the board | substrate 31a using the conveying apparatus 1. FIG. 搬送装置1を用いて基板31aを搬送する際の搬送装置1の動作を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of the conveying apparatus 1 at the time of conveying the board | substrate 31a using the conveying apparatus 1. FIG. 搬送装置1を用いて基板31aを搬送する際の搬送装置1の動作を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of the conveying apparatus 1 at the time of conveying the board | substrate 31a using the conveying apparatus 1. FIG. 搬送装置1を用いて基板31aを搬送する際の搬送装置1の動作を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of the conveying apparatus 1 at the time of conveying the board | substrate 31a using the conveying apparatus 1. FIG. 搬送装置1aを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the conveying apparatus 1a. 図8(a)は搬送装置1bを示す断面図であって、図8(b)は図8(a)のA3方向矢視図である(なお、図8(a)は図8(b)のA4−A4断面図でもある)。8A is a cross-sectional view showing the transport device 1b, and FIG. 8B is a view taken in the direction of the arrow A3 in FIG. 8A (note that FIG. 8A is FIG. A4-A4 cross-sectional view of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1…………搬送装置
1a………搬送装置
1b………搬送装置
3…………フレーム
5a………吸着パッド
5e………吸着パッド
7…………押し棒
9…………緩衝材
11a……配管
11b……配管
13………配管
15………真空発生器
17………エアシリンダ
19………配管
19a……配管
19b……先端(ノズル)
21………エア供給部
23………エア排気部
25………真空発生部
27a……台座
27e……台座
29………収納部
31………基板
31a……基板
31b……基板
34………寸法
41………配管
1 ………… Conveying device 1a ……… Conveying device 1b ……… Conveying device 3 ………… Frame 5a ……… Suction pad 5e ……… Suction pad 7 ………… Push bar 9 ………… Buffer Material 11a …… Piping 11b …… Piping 13 ……… Piping 15 ……… Vacuum generator 17 ……… Air cylinder 19 ……… Piping 19a …… Piping 19b …… Tip (nozzle)
21 ......... Air supply unit 23 ......... Air exhaust unit 25 ......... Vacuum generation unit 27a ... Pedestal 27e ... Pedestal 29 ......... Storage unit 31 ...... Substrate 31a ... Substrate 31b ... Substrate 34 ... …… Dimension 41 ……… Piping

Claims (8)

基板を搬送する搬送装置であって、
前記基板の上面の両端を真空吸着する吸着手段と、
前記基板の上面を押圧して変形させる押圧手段と、
前記吸着手段および前記押圧手段を駆動する駆動手段と、
を有し、
前記駆動手段は、
エアが供給されるエア供給部と、
前記押圧手段に接続され、供給されたエアが排気されるエア排気部と、
前記エア供給部および前記エア排気部を連結するように設けられ、かつ前記吸着手段に接続され、真空を発生させる真空発生部と、
を有するエジェクタ式の真空発生装置であり、
前記エア供給部よりエアの供給を受けて前記エア排気部へエアを排気することにより、前記真空発生部に真空を発生させて前記吸着手段を駆動し、
前記排気部へ排気したエアの圧力により前記押圧手段を駆動することを特徴とする搬送装置。
A transfer device for transferring a substrate,
Suction means for vacuum-sucking both ends of the upper surface of the substrate;
Pressing means for pressing and deforming the upper surface of the substrate;
Drive means for driving the suction means and the pressing means;
Have
The driving means includes
An air supply unit to which air is supplied;
An air exhaust unit connected to the pressing means and exhausting the supplied air;
A vacuum generating unit provided to connect the air supply unit and the air exhaust unit, and connected to the suction means, and generates a vacuum;
An ejector-type vacuum generator having
By receiving the supply of air from the air supply unit and exhausting the air to the air exhaust unit, the vacuum generation unit generates a vacuum to drive the suction means,
The conveying device, wherein the pressing means is driven by the pressure of air exhausted to the exhaust part.
前記押圧手段は、
前記駆動手段の排気したエアの圧力によって前記基板の上面を押圧して変形させる押し棒であることを特徴とする請求項1記載の搬送装置。
The pressing means is
2. The transfer device according to claim 1, wherein the transfer device is a push rod that presses and deforms the upper surface of the substrate by the pressure of the air exhausted by the driving means.
前記押し棒と前記排気部の間には、前記エアの圧力によって移動可能なシリンダが接続され、
前記排気部へ排気したエアの圧力により前記シリンダが移動し、
移動した前記シリンダが前記押し棒を押圧することによって前記押し棒が前記基板の上面を押圧して変形させることを特徴とする請求項2記載の搬送装置。
A cylinder movable by the pressure of the air is connected between the push rod and the exhaust part,
The cylinder moves by the pressure of the air exhausted to the exhaust part,
The conveying apparatus according to claim 2, wherein the cylinder that has moved presses the push rod, whereby the push rod presses and deforms the upper surface of the substrate.
前記押し棒は、
前記基板と接触する部分に緩衝材が設けられていることを特徴とする請求項3記載の搬送装置。
The push rod is
The transfer device according to claim 3, wherein a buffer material is provided in a portion in contact with the substrate.
前記押圧手段は、
前記駆動手段の排気したエアを前記基板の上面に吹き付けるノズルであり、
前記ノズルが吹き付けたエアが前記基板の上面を押圧して変形させることを特徴とする請求項1記載の搬送装置。
The pressing means is
A nozzle that blows air exhausted by the driving means onto the upper surface of the substrate;
The transport apparatus according to claim 1, wherein the air blown by the nozzle presses and deforms the upper surface of the substrate.
前記吸着手段は複数設けられ、
複数の前記吸着手段のうち、少なくとも1つは、前記押圧手段を兼ねた押圧吸着手段であり、
前記駆動手段の排気したエアの圧力によって、前記基板の上面を、押圧して変形させつつ吸着可能であることを特徴とする請求項1記載の搬送装置。
A plurality of the adsorption means are provided,
At least one of the plurality of suction means is a pressure suction means that also serves as the pressure means,
2. The transport apparatus according to claim 1, wherein the upper surface of the substrate can be adsorbed while being pressed and deformed by the pressure of the air exhausted by the driving means.
前記押圧吸着手段と前記排気部の間には、前記エアの圧力によって移動するシリンダが接続され、
前記排気部へ排気したエアの圧力により前記シリンダが移動し、
移動した前記シリンダが前記押圧吸着手段を押圧することによって前記押圧吸着手段が前記基板の上面を押圧して変形させることを特徴とする請求項6記載の搬送装置。
A cylinder that is moved by the pressure of the air is connected between the pressure adsorbing means and the exhaust part,
The cylinder moves by the pressure of the air exhausted to the exhaust part,
The transport apparatus according to claim 6, wherein the cylinder that has moved presses the pressure suction unit, and the pressure suction unit presses and deforms the upper surface of the substrate.
請求項1〜請求項7のいずれかに記載の搬送装置を用いた基板の搬送方法であって、
前記駆動手段を駆動させ、前記基板を真空吸着する工程(a)と、
前記駆動手段の排気したエアを用いて前記押圧手段を駆動させ、前記基板の上面を押圧して変形させる工程(b)と、
前記基板を搬送する工程(c)と、
を有することを特徴とする基板の搬送方法。
A substrate transfer method using the transfer apparatus according to claim 1,
A step (a) of driving the driving means to vacuum-suck the substrate;
A step (b) of driving the pressing means using the air exhausted by the driving means to press and deform the upper surface of the substrate;
A step (c) of conveying the substrate;
A method for transporting a substrate, comprising:
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102332487A (en) * 2011-05-25 2012-01-25 湖南红太阳光电科技有限公司 Transplanting and sucking device of full-automatic solar cell testing and separation equipment
JP2013208672A (en) * 2012-03-30 2013-10-10 Fujitsu Ltd Robot hand, robot and detaching method
KR101616464B1 (en) * 2014-11-18 2016-04-29 주식회사 엘지실트론 Apparatus for Loading Wafer of Polishing Wafer Equipment and Method of Calibrating Loading Position of Wafer
WO2023135690A1 (en) * 2022-01-12 2023-07-20 株式会社Pfu Object processing device

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2764407A (en) * 1951-10-03 1956-09-25 Roland Offsetmaschf Device for controlling the air in machines working with suction
US3294396A (en) * 1964-11-23 1966-12-27 Harris Intertype Corp Sheet feeding mechanism having a single control member for actuating a suction, air pressure, and pump means
JPH04324426A (en) * 1991-04-24 1992-11-13 Alps Electric Co Ltd Substrate for liquid crystal element and production thereof
JPH06263275A (en) * 1993-03-12 1994-09-20 Yokogawa Hewlett Packard Ltd One sheet taking off method and one sheet taking-off device for plate material
JP2003128279A (en) * 2001-10-30 2003-05-08 Sharp Corp Plate member taking-out hand and plate member taking- out method
JP2007114434A (en) * 2005-10-19 2007-05-10 Ricoh Co Ltd Developing unit and image forming apparatus

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2764407A (en) * 1951-10-03 1956-09-25 Roland Offsetmaschf Device for controlling the air in machines working with suction
US3294396A (en) * 1964-11-23 1966-12-27 Harris Intertype Corp Sheet feeding mechanism having a single control member for actuating a suction, air pressure, and pump means
JPH04324426A (en) * 1991-04-24 1992-11-13 Alps Electric Co Ltd Substrate for liquid crystal element and production thereof
JPH06263275A (en) * 1993-03-12 1994-09-20 Yokogawa Hewlett Packard Ltd One sheet taking off method and one sheet taking-off device for plate material
JP2003128279A (en) * 2001-10-30 2003-05-08 Sharp Corp Plate member taking-out hand and plate member taking- out method
JP2007114434A (en) * 2005-10-19 2007-05-10 Ricoh Co Ltd Developing unit and image forming apparatus

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102332487A (en) * 2011-05-25 2012-01-25 湖南红太阳光电科技有限公司 Transplanting and sucking device of full-automatic solar cell testing and separation equipment
JP2013208672A (en) * 2012-03-30 2013-10-10 Fujitsu Ltd Robot hand, robot and detaching method
KR101616464B1 (en) * 2014-11-18 2016-04-29 주식회사 엘지실트론 Apparatus for Loading Wafer of Polishing Wafer Equipment and Method of Calibrating Loading Position of Wafer
WO2016080629A1 (en) * 2014-11-18 2016-05-26 주식회사 엘지실트론 Wafer loading apparatus of wafer polishing equipment and method for adjusting wafer loading position
JP2017537479A (en) * 2014-11-18 2017-12-14 エルジー・シルトロン・インコーポレーテッド Wafer loading apparatus equipped with wafer polishing and wafer loading position adjusting method
US10068785B2 (en) 2014-11-18 2018-09-04 Sk Siltron Co., Ltd. Wafer loading apparatus of wafer polishing equipment and method for adjusting wafer loading position
WO2023135690A1 (en) * 2022-01-12 2023-07-20 株式会社Pfu Object processing device

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