JP2009141071A - 静電気保護用半導体素子 - Google Patents
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Abstract
【課題】面積を増大させることなく、サージ耐量を向上させた静電気保護用半導体素子を提供することを課題とする。
【解決手段】
素子領域は、トレンチ形状のトレンチ絶縁膜5およびポリシリコン膜11により、他の素子とは完全に絶縁分離されている。また、素子領域の上には、熱酸化処理によってLocos酸化膜12が形成されており、このLocos酸化層12の上には層間絶縁膜13が形成され、層間絶縁膜13を貫通するコレクタ電極14、ベース電極15、エミッタ電極16が接続されている。ポリシリコン膜11には、トレンチバイアス用電極17が接続されており、トレンチバイアス用電極17には、電源18から負バイアスが印加される。この負バイアスにより、トレンチ絶縁膜5に近いn+型埋め込み領域3及びn型半導体層4内に正孔が偏在し、これにより電子の流れの中心はpn接合の中心だけではなく、トレンチ絶縁膜5側にシフトする。
【選択図】図1
【解決手段】
素子領域は、トレンチ形状のトレンチ絶縁膜5およびポリシリコン膜11により、他の素子とは完全に絶縁分離されている。また、素子領域の上には、熱酸化処理によってLocos酸化膜12が形成されており、このLocos酸化層12の上には層間絶縁膜13が形成され、層間絶縁膜13を貫通するコレクタ電極14、ベース電極15、エミッタ電極16が接続されている。ポリシリコン膜11には、トレンチバイアス用電極17が接続されており、トレンチバイアス用電極17には、電源18から負バイアスが印加される。この負バイアスにより、トレンチ絶縁膜5に近いn+型埋め込み領域3及びn型半導体層4内に正孔が偏在し、これにより電子の流れの中心はpn接合の中心だけではなく、トレンチ絶縁膜5側にシフトする。
【選択図】図1
Description
本発明は、他のトランジスタ回路や集積回路の入力端子に接続され、それらを静電気から保護するための静電気保護用半導体素子に関する。
従来より、自動車用途のIC(Integrated Circuit)としてデジタル回路・アナログ回路・パワー素子などを混載した複合ICが用いられている。このような複合ICは、バイポーラ、横型MOS(Metal Oxide Semiconductor)トランジスタやCMOS(Complementary MOS)トランジスタ等を含んでおり、サージノイズの印加される厳しい車載環境での正常動作が要求されるため、トレンチ絶縁分離技術により回路間が完全に絶縁分離されるSOI(Silicon On Insulator)基板により製造される。
また、自動車用複合ICではESD(Electrostatic-Discharge)に対する耐量(サージ耐量)の要求も厳しく、10KV〜15KVの高いESD耐量保障が要求される。ESD用保護素子には複合ICを構成するデバイスを基に設計されるトランジスタ素子が用いられている。
このようなESD用保護素子としてのトランジスタは、クランプトランジスタとして用いる場合が多い。クランプトランジスタの過電圧は、コレクタからベースへのアバランシェ電流をもたらし、ベースエミッタの順方向バイアスはコレクタ電流をさらに増大させるため、スナップバックと呼ばれる状態が発生する。
このスナップバック特性を利用すると、ESD時におけるクランプトランジスタのクランプ電圧を低くできるため、ESD保護動作時において、保護すべき内部回路を構成するCMOS素子などのゲート破壊を起こす危険を防止できるESD保護素子として適している(例えば、特許文献1参照)。
特開2007−194509号公報
ところで、ESD用保護素子としてのトランジスタでは、サージ耐量を向上させるために不純物濃度の高い埋込層が電流経路として用いられている。
しかしながら、埋込層とドレインとの境界にあるpn接合部では、サージ電流が均一な幅で流れず、エミッタ領域の幅の中央部に偏って流れるため、pn接合部の極一部分が発熱源となり、素子破壊に至るという課題があった。
また、pn接合部の面積を拡大することによって電流を分散し、これによりサージ耐量を向上させることができるが、大面積化は生産性の低下を招き、コストの増大に繋がるという課題があった。
そこで、本発明は、面積を増大させることなくサージ耐量を向上させた静電気保護用半導体素子を提供することを目的とする。
本発明の一局面の静電気保護用半導体素子は、トレンチ絶縁膜及びポリシリコン膜を含む側面絶縁膜と、底面絶縁膜とにより、周囲と底面とが区画され、他の素子と電気的に絶縁分離されて、他の素子の静電破壊を防止するための静電気保護用半導体素子において、前記底面絶縁膜上に形成される第1導電型の埋め込み領域と、前記埋め込み領域の上に形成され、前記埋め込み領域よりも低キャリア濃度の第1導電型の半導体領域と、前記半導体領域の表面部に形成される第1導電型のコレクタ領域と、前記コレクタ領域とは離間して前記半導体領域の表面部に形成される第2導電型のベース領域と、前記第2導電型のベース領域の表面部に形成される第1導電型のエミッタ領域とを含み、前記ポリシリコン膜には、前記半導体領域内の小数キャリアを引き寄せ得る極性の電位が印加される。
また、前記ポリシリコン膜に印加される電位は、前記半導体領域内の多数キャリアが前記小数キャリアと結合することにより、前記ベース領域と前記埋め込み領域との境界での発熱温度がシリコンの融点よりも低くなるように設定されてもよい。
また、前記ポリシリコン膜に印加される電位は、前記トレンチ絶縁膜の耐圧よりも低いバイアスであってもよい。
本発明によれば、面積を増大させることなく、サージ耐量を向上させた静電気保護用半導体素子を提供できるという特有の効果が得られる。
以下、本発明の静電気保護用半導体素子を適用した実施の形態について説明する。
図1は、本実施の形態の静電気保護用半導体素子の構造を示す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)のA−A矢視断面図である。
図1(b)に示すように、p型の半導体基板1の上には、埋め込み絶縁膜2、n+型埋め込み領域3、及びn型半導体層4が形成されている。この図1には、1つの静電気保護用半導体素子のみを示す。この静電気保護用半導体素子の素子領域は、側面のトレンチに形成されたトレンチ絶縁膜5で区画されるとともに、トレンチ絶縁膜5と埋め込み絶縁膜2とにより、静電気から保護すべき他の素子と絶縁分離されている。
n+型埋め込み領域3は、n型半導体層4の埋め込み絶縁膜2に平行に形成される高電子濃度のn+型埋め込み領域3であり、不純物(典型的にはホスフィン(P))を注入することにより、不純物濃度が1×1020/cm3程度に設定されている。
n型半導体層4は、不純物(典型的にはホスフィン(P))を注入することにより、不純物濃度が1×1015/cm3程度に設定される半導体層である。
素子領域は、n+型埋め込み領域3とn型半導体層4に形成されており、素子領域内には、n+型コレクタシンク領域6とp型ベースシンク領域7が形成されている。n+型コレクタシンク領域6は、n型半導体層4の表面から不純物(典型的にはホスフィン(P))を注入することにより、不純物濃度が1×1020/cm3程度に設定されている。また、p型ベースシンク領域7は、n型半導体層4の表面から不純物(典型的には、ボロン(B))を注入することにより、導電型がp型にされているベースシンク領域である。このp型ベースシンク領域7の不純物注入度は、1×1017/cm3程度に設定されている。
n+型コレクタシンク領域6の表面部には、高電子濃度のn+型コレクタ領域8が形成され、p型ベースシンク領域7の表面部には、高電子濃度のn+型エミッタ領域9と高正孔濃度のp+型ベース領域10が間隙を隔てて形成されている。
n+型コレクタ領域8及びn+型エミッタ領域9は、n+型コレクタシンク領域6の表面から不純物(典型的にはホスフィン(P))を注入することにより、ともに不純物濃度が1×1020/cm3程度に設定されている。
n+型埋め込み領域3とn+型コレクタ領域8は、n+型コレクタシンク領域6によって低抵抗で接続される。
p型ベースシンク領域7は、表面部でn+型エミッタ領域9とp+型ベース領域10を内包するとともに、底面部でn+型埋め込み領域3に接続されている。
このような構成の素子領域は、トレンチ形状のトレンチ絶縁膜5およびポリシリコン膜11により、他の素子とは完全に絶縁分離されている。
また、素子領域の上には、熱酸化処理によってLocos酸化膜12が形成されており、このLocos酸化層12の上には層間絶縁膜13が形成されている。
Locos酸化層12は、n+型コレクタ領域8、n+型エミッタ領域9、及びp+型ベース領域10の上には形成されておらず、n+型コレクタ領域8、n+型エミッタ領域9、及びp+型ベース領域10には、層間絶縁膜13を貫通するコレクタ電極14、ベース電極15、エミッタ電極16が接続されている。
また、ポリシリコン膜11には、Locos酸化層12及び層間絶縁膜13を貫通するトレンチバイアス用電極17が接続されている。このトレンチバイアス用電極17には、電源18が接続されており、負バイアスVtrenchが印加されるように構成されている。
以上のような断面構造を有する本実施の形態の静電気保護用半導体素子は、平面視では図1(a)に示すような構造であり、周囲がトレンチ絶縁膜5に囲まれたLocos酸化層12内に、n+型コレクタシンク領域6とp型ベースシンク領域7があり、n+型コレクタシンク領域6内にはn+型コレクタ領域8が内包され、p型ベースシンク領域7内にはn+型エミッタ領域9とp+型ベース領域10が内包されている。なお、図1(a)に示す矢印については後述する。
「動作」
エミッタ電極16を接地した状態でコレクタ電極14にESD電圧として3000(V)を印加すると、エミッタ電極16、n+型コレクタ領域8、n+型コレクタシンク領域6、n+型埋め込み領域3、p型ベースシンク領域7、及びn+型エミッタ領域9を通じて、エミッタ電極16に電流が流れる。この電流は、n+型埋め込み領域3とp型ベースシンク領域7とのpn接合を通じて流れる。このとき、トレンチバイアス用電極17に印加される負バイアスは、図1(a)に矢印で示すようにトレンチ絶縁膜5を介してp型ベースシンク領域7に向けて印加される。この負バイアスにより、トレンチ絶縁膜5に近いn+型埋め込み領域3及びn型半導体層4内に正孔が偏在し、これにより電子の流れの中心はpn接合の中心だけではなく、トレンチ絶縁膜5側にシフトする。
エミッタ電極16を接地した状態でコレクタ電極14にESD電圧として3000(V)を印加すると、エミッタ電極16、n+型コレクタ領域8、n+型コレクタシンク領域6、n+型埋め込み領域3、p型ベースシンク領域7、及びn+型エミッタ領域9を通じて、エミッタ電極16に電流が流れる。この電流は、n+型埋め込み領域3とp型ベースシンク領域7とのpn接合を通じて流れる。このとき、トレンチバイアス用電極17に印加される負バイアスは、図1(a)に矢印で示すようにトレンチ絶縁膜5を介してp型ベースシンク領域7に向けて印加される。この負バイアスにより、トレンチ絶縁膜5に近いn+型埋め込み領域3及びn型半導体層4内に正孔が偏在し、これにより電子の流れの中心はpn接合の中心だけではなく、トレンチ絶縁膜5側にシフトする。
図2は、トレンチバイアス用電極17に印加される電圧Vtrenchと、n+型埋め込み領域3及びp型ベースシンク領域7のpn接合の中心における格子温度(Lattice Temperature)との関係を示すシミュレーション結果である。このシミュレーション結果は、図1に示す静電気保護半導体素子によって得られるものである。
図2に示すように、電圧Vtrenchの値が0(V)から−400(V)に低下するに従って、格子温度が約1220(K)から約1130(K)まで低下していることが分かる。
図3は、HBM(Human Body Model)によるESD電圧をコレクタ電極14に印加した場合の最大格子温度分布を示すシミュレーション結果であり、(a)は図1(b)に示す本実施の形態の静電気保護用半導体素子の構造、(b)は電圧Vtrenchが−400(V)の場合の結果、(c)は電圧Vtrenchが0(V)の場合の結果を示す。
図3(c)に示すように、電圧Vtrenchが0(V)の場合は、発熱中心がn+型埋め込み領域3とp型ベースシンク領域7とのpn接合の中心に集中している。これに対して、電圧Vtrenchが−400(V)の場合は、図3(b)に示されるように、発熱中心がn+型埋め込み領域3とp型ベースシンク領域7とのpn接合の中心だけではなく、トレンチ絶縁膜5の方にも分散していることが分かる。
これは、ポリシリコン膜11に負バイアス(Vtrench=−400(V))を印加したことにより、トレンチ絶縁膜5に小数キャリアである正孔が引き寄せられ、n+型埋め込み領域3内を流れる電子がトレンチ絶縁膜5付近の正孔と結合したため、Vtrench=0(V)の場合よりもn+型埋め込み領域3とp型ベースシンク領域7とのpn接合の中心に集中する電子が減少したためである。
このように、トレンチバイアス用電極17に電圧Vtrenchとして負バイアスを印加すると、発熱中心が発熱中心がn+型埋め込み領域3とp型ベースシンク領域7とのpn接合の中心だけではなく、トレンチ絶縁膜5の方にも分散するため、図2に示すように、n+型埋め込み領域3及びp型ベースシンク領域7のpn接合の中心における格子温度が低下する。
本実施の形態によれば、上述のようにn+型埋め込み領域3とp型ベースシンク領域7とのpn接合の中心に集中する電子が減少させることができるため、素子破壊に対する耐性を向上させた静電気保護用半導体素子を提供することができる。
また、n+型埋め込み領域3及びp型ベースシンク領域7のpn接合の中心における格子温度が低下されるので、従来よりもサージ耐量を向上させることができる。
さらに、サージ耐量の向上を面積の増大を伴わずに実現できるため、製造コストの上昇を抑制することができる。
以上により、従来の静電気保護用半導体素子に比べて、ESD耐量を2〜3倍向上できる。
なお、以上では、npn型のトランジスタを静電気保護用半導体素子として用いる場合について説明したが、pnp型を用いる場合は、各領域等の導電型を反転させればよい。また、この場合、トレンチバイアス用電極17には、小数キャリアである電子を引き寄せうるように正バイアスを印加すればよい。
なお、半導体基板1、埋め込み絶縁膜2、及びn型半導体基板4は、SOI(Silicon On Insulator)ウェハであってもよい。
以上、本発明の例示的な実施の形態の静電気保護用半導体素子について説明したが、本発明は、具体的に開示された実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲から逸脱することなく、種々の変形や変更が可能である。
1 半導体基板
2 埋め込み絶縁膜
3 n+型埋め込み領域
4 n型半導体基板
5 トレンチ絶縁膜
6 n+型コレクタシンク領域
7 p型ベースシンク領域
8 n+型コレクタ領域
9 n+型エミッタ領域
10 p+型ベース領域
11 ポリシリコン膜
12 Locos酸化膜
13 層間絶縁膜
14 コレクタ電極
15 ベース電極
16 エミッタ電極
17 トレンチバイアス用電極
18 電源
2 埋め込み絶縁膜
3 n+型埋め込み領域
4 n型半導体基板
5 トレンチ絶縁膜
6 n+型コレクタシンク領域
7 p型ベースシンク領域
8 n+型コレクタ領域
9 n+型エミッタ領域
10 p+型ベース領域
11 ポリシリコン膜
12 Locos酸化膜
13 層間絶縁膜
14 コレクタ電極
15 ベース電極
16 エミッタ電極
17 トレンチバイアス用電極
18 電源
Claims (3)
- トレンチ絶縁膜及びポリシリコン膜を含む側面絶縁膜と、底面絶縁膜とにより、周囲と底面とが区画され、他の素子と電気的に絶縁分離されて、他の素子の静電破壊を防止するための静電気保護用半導体素子において、
前記底面絶縁膜上に形成される第1導電型の埋め込み領域と、
前記埋め込み領域の上に形成され、前記埋め込み領域よりも低キャリア濃度の第1導電型の半導体領域と、
前記半導体領域の表面部に形成される第1導電型のコレクタ領域と、
前記コレクタ領域とは離間して前記半導体領域の表面部に形成される第2導電型のベース領域と、
前記第2導電型のベース領域の表面部に形成される第1導電型のエミッタ領域と
を含み、前記ポリシリコン膜には、前記半導体領域内の小数キャリアを引き寄せ得る極性の電位が印加される、静電気保護用半導体素子。 - 前記ポリシリコン膜に印加される電位は、前記半導体領域内の多数キャリアが前記小数キャリアと結合することにより、前記ベース領域と前記埋め込み領域との境界での発熱温度がシリコンの融点よりも低くなるように設定される、請求項1に記載の静電気保護用半導体素子。
- 前記ポリシリコン膜に印加される電位は、前記トレンチ絶縁膜の耐圧よりも低いバイアスである、請求項1又は2に記載の静電気保護用半導体素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007315046A JP2009141071A (ja) | 2007-12-05 | 2007-12-05 | 静電気保護用半導体素子 |
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JP2007315046A JP2009141071A (ja) | 2007-12-05 | 2007-12-05 | 静電気保護用半導体素子 |
Publications (1)
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JP (1) | JP2009141071A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013026335A (ja) * | 2011-07-19 | 2013-02-04 | Toyota Motor Corp | 半導体素子の製造方法、esd保護素子の製造方法 |
CN109326591A (zh) * | 2018-10-08 | 2019-02-12 | 深圳市南硕明泰科技有限公司 | 一种功率器件防护芯片及其制造方法 |
-
2007
- 2007-12-05 JP JP2007315046A patent/JP2009141071A/ja active Pending
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