JP2009117231A - 有機el表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】蒸着を終わったマスク210はクリーニング準備室201に移動し、その後、大気圧であるクリーニング室202に移動する。クリーニング室202において、マスクにレーザを照射し、これによって生じた衝撃波によってマスク210に付着した堆積物を剥離する。剥離した堆積物はクリーナ208によって除去される。その後、マスク210はフラッシング室203に移動し、クリーニング室202で除去しきれなかった剥離物をマスク210から除去する。その後マスク210はマスク排出室204に移動し、次の蒸着を行う。
【選択図】図2
Description
(1) 蒸着マスク交換の判定を行い、交換する場合には、これまでの蒸着マスクを排出し、新しい蒸着マスクを蒸着室に搬入する。
(2) 素子基板を蒸着室内に搬入して、素子基板と蒸着マスクのアライメントを行って合体する。
(3) 蒸着法を用いて、有機膜を蒸着マスクを通して素子基板上に堆積させ、有機膜のパターニングを行う。
(4) 有機膜の堆積が済んだ素子基板と蒸着マスクを解体し、素子基板を蒸着室から排出させる。
(5) 蒸着マスクの使用回数が設定回数を超えた場合、蒸着マスクを排出し、上記(1)の工程に戻る。
上記工程の中で、(3)以外の工程においては、シャッター等により素子基板や蒸着マスクには有機膜が堆積されないようにする。
(1) 搬送トレイ上で、蒸着マスクと素子基板を合体する。
(2) 素子基板と蒸着マスクのアライメントを行う。
(3) 合体した蒸着マスクと素子基板を搭載したトレイを蒸着室内を移動させ、蒸着法を用いて、有機膜を素子基板上に蒸着マスクを通して堆積させ、有機膜のパターニングを行う。
(4) 蒸着マイクと素子基板を搭載したトレイを蒸着室から排出し、有機膜の堆積が済んだ素子基板を蒸着マスクから解体する。素子基板は次のプロセスへ送られ、蒸着マスクは次の素子基板と合体するため、アライメント前の工程に戻される。
(5) 蒸着マスクの使用回数が設定回数を超えた場合、蒸着マスクを排出し、新規の蒸着マスクを搬入して上記(1)の工程に戻る。
上記プロセスで大きなポイントは薄膜片の除去工程とフラッシング工程を設けたことである。これにより、蒸着工程における蒸着マスクに起因した異物の発生を防止でき、インラインでの蒸着マスククリーニングを可能にしている。
Claims (16)
- 蒸着マスクのクリーニング方法であって、(A)蒸着マスクの堆積物が存在する面とその反対側の面のいずれかにレーザ光を照射することによって前記蒸着マスクに衝撃波を誘起し、該衝撃波により前記堆積物を剥離する工程と、 (B)レーザ光を照射した蒸着マスクに付着した前記堆積物の剥離片を除去する工程とがインラインで行われることを特徴とする蒸着マスクのクリーニング方法。
- 前記蒸着マスクに付着した前記堆積物の剥離片を除去する前記工程(B)が、前記蒸着マスクの静電除去工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスクのクリーニング方法。
- 前記蒸着マスクに付着した前記堆積物の剥離片を除去する前記工程(B)が、前記堆積物の剥離片を剥離用シートによって除去することを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスクのクリーニング方法。
- 前記剥離用シートが帯電していることを特徴とする請求項3に記載の蒸着マスクのクリーニング方法。
- 前記剥離片を除去した蒸着マスクを所定のプロセス室に入れ、該プロセス室へのガス導入と真空排気を少なくとも1サイクル以上行うことを特徴とした請求項1に記載の蒸着マスクのクリーニング方法。
- 前記堆積物が有機EL層を形成する有機膜であることを特徴とする請求項1乃至5に記載の蒸着マスクのクリーニング方法。
- 前記堆積物が、少なくともIZO、ITO、ZnOのいずれかであることを特徴とする請求項1乃至5に記載の蒸着マスクのクリーニング方法。
- 前記堆積物が、少なくともAl、Cu、Crのいずれかであることを特徴とする請求項1乃至5に記載の蒸着マスクのクリーニング方法。
- 前記クリーニングした蒸着マスクを液体を用いて洗浄することを特徴とする請求項1乃至5に記載の蒸着マスクのクリーニング方法。
- 前記液体として、少なくともアルコール、HFEのいずれかを用いることを特徴とする請求項9に記載の蒸着マスクのクリーニング方法。
- 前記液体を用いて洗浄する工程において、超音波洗浄を併用することを特徴とする請求項9に記載の蒸着マスクのクリーニング方法。
- 蒸発源の上方あるいは横を移動することによって素子基板上に有機EL層を、蒸着マスクを用いてマトリクス状に蒸着する工程を含む有機EL表示装置の製造方法であって、
前記蒸着マスクのクリーニング工程は、(A)蒸着マスクの堆積物が存在する面とその反対側の面のいずれかにレーザ光を照射することによって前記蒸着マスクに衝撃波を誘起し、該衝撃波により前記堆積物を剥離する工程と、 (B)レーザ光を照射した蒸着マスクに付着した前記堆積物の剥離片を除去する工程とがインラインで行われることを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。 - 前記蒸着マスクを用いて前記素子基板に対して蒸着をした後、前記蒸着マスクは他の素子基板の蒸着に使用されるまでの間に、前記(A)および(B)の工程を経ることを特徴とする請求項12に記載の有機EL表示装置の製造方法。
- 蒸発源の上方あるいは横を移動することによって、素子基板上にマトリクス状に形成された有機EL層の上に、上部電極を蒸着マスクを用いて蒸着する工程を含む有機EL表示装置の製造方法であって、
前記蒸着マスクのクリーニング工程は、(A)蒸着マスクの堆積物が存在する面とその反対側の面のいずれかにレーザ光を照射することによって前記蒸着マスクに衝撃波を誘起し、該衝撃波により前記堆積物を剥離する工程と、 (B)レーザ光を照射した蒸着マスクに付着した前記堆積物の剥離片を除去する工程とがインラインで行われることを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。 - 前記蒸着マスクを用いて前記素子基板に対して蒸着をした後、前記蒸着マスクは他の素子基板の蒸着に使用されるまでの間に、前記(A)および(B)の工程を経ることを特徴とする請求項14に記載の有機EL表示装置の製造方法。
- 請求項12乃至15に記載の有機EL表示装置の製造方法において、前記(B)の工程の前後のいずれかにおいて静電除去を行なうことを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。
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