JP2009116267A - ペリクル付きフォトマスクのリペア方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ガス混合機5によりチャンバー2内に収容されたペリクル付きフォトマスク1の内部空間および外部空間に活性ガスと不活性ガスとの混合ガスを供給し、これによりペリクル付きフォトマスク1の異物を反応させて溶解させる。さらに、光照射装置3によりペリクル付きフォトマスク1および活性ガスに低波長の光を照射し、異物の反応性を高め、混合ガスの気流によりペリクル付きフォトマスク1の異物を除去する。
【選択図】図1
Description
また、本発明のペリクル付きフォトマスクのリペア装置は、フォトマスクとペリクルとから構成され、前記ペリクルは、ペリクル膜と、前記ペリクル膜が取着されるフレームとを有し、前記フレームに、前記ペリクルと前記フォトマスクとで囲まれた内部空間と前記フレームの外方の外部空間とを連通する吸気口および排気口が設けられたペリクル付きフォトマスクに存在する異物を除去するペリクル付きフォトマスクのリペア装置であって、
前記ペリクル付きフォトマスクを収容するチャンバーと、前記チャンバーに設けられた第1の吸気口、第2の吸気口、第1の排気口、第2の排気口と、前記第1の吸気口を通して前記チャンバー内に前記異物と反応する活性ガスと不活性ガスとの混合ガスを供給し、前記チャンバー内を前記混合ガスで置換して前記第1の排気口から前記混合ガスを流出させるとともに、前記第2の吸気口を通して前記内部空間に前記混合ガスを供給し、前記内部空間を前記混合ガスで置換して前記第2の排気口から前記混合ガスを流出させる混合ガス供給装置と、前記チャンバー内に収容された前記ペリクル付きフォトマスクに短波長の光を照射する光照射装置とを備えたことを特徴とする。
本発明は、ペリクル付きフォトマスクのペリクル上およびマスク上に生成した成長性異物の除去を行うため、ペリクル付きフォトマスクを適度な湿度を持った雰囲気ガス(不活性ガスおよび活性ガス)に暴露することで成長性異物を溶解し、さらに成長性異物および活性ガスに照射エネルギーを与えることで反応性を促進し、雰囲気ガスの気流によりマスク上およびペリクル上から除去してしまうものである。これにより、ペリクル付きフォトマスクのペリクルを剥がすことなく成長性異物を除去できる。
図1に示すように、リペア装置は、ペリクル付きフォトマスク1を収容するチャンバー2と、チャンバー2内に収容されたペリクル付きフォトマスク1に低波長の光を照射する光照射装置3と、光照射装置3により照射された光の露光面積を変えるためのアパーチャー4と、雰囲気ガスを混合し、チャンバー2内およびペリクル付きフォトマスク1の内部空間1h(後述)供給するガス混合機5とを備える。
図2に示すように、ペリクル付きフォトマスク1は、フォトマスク1aにペリクルを取着したものである。ペリクルは、ペリクルフレーム1cにメンブレン(ペリクル膜)1b
を接着剤1dで貼り付けたものであり、接着剤1eを用いてフォトマスク1aに貼り付けられる。ペリクルフレーム1cには、フォトマスク1aとペリクルに囲まれた内部空間1hにガスを流せるようガス吸気口1fとガス排気口1gが設けられている。ガス吸気口1fは図1に示される混合ガス送り配管52と接続される。
チャンバー2は、部材自身からガスを発しないよう、また部材自身の劣化強度の点からみても金属および石英が望ましい。金属を用いる場合、チャンバー2を金属の本体部と光照射装置2からの光を透過する窓部とで構成し、窓部を石英で構成する必要がある。窓部の材料には石英の他にAl、Mg、Caなどの金属酸化物や金属フッ化物を使用しても良い。
図3に示すように、アパーチャー4は、遮光板をXY方向に自在に動かせる方式のもの4aを使用しても良いし、あらかじめ照射エリアを設定形状、設定サイズにくり貫いた遮光板4bを差し替えられるような構造をとっても良い。
成長性異物として無機塩がマスク1a上に検出されたペリクル付きフォトマスク1をチャンバー2内にセットし、ペリクルのガス吸気口1fに混合ガス送り配管52を接続し、ガス排気口1gに排気用配管62を接続した。また、チャンバー2の給気口2aに混合ガス送り配管51を排気口2bに排気用配管61を接続した。
Claims (10)
- フォトマスクとペリクルとから構成され、
前記ペリクルは、ペリクル膜と、前記ペリクル膜が取着されるフレームとを有し、
前記フレームに、前記ペリクルと前記フォトマスクとで囲まれた内部空間と前記フレームの外方の外部空間とを連通する吸気口および排気口が設けられたペリクル付きフォトマスクに存在する異物を除去するペリクル付きフォトマスクのリペア方法であって、
前記ペリクル付きフォトマスクをチャンバー内に収容する収容工程と、
前記収容工程の後、前記チャンバー内に前記異物と反応する活性ガスと不活性ガスとの混合ガスを供給し、前記チャンバー内を前記混合ガスで置換して前記チャンバー内から前記混合ガスを流出させるとともに、前記チャンバー内に収容された前記ペリクル付きフォトマスクの前記吸気口から前記内部空間に前記混合ガスを供給し、前記内部空間を前記混合ガスで置換して前記排気口から前記混合ガスを流出させる混合ガス供給工程と、
前記混合ガス供給工程で前記チャンバー内および前記内部空間が前記混合ガスで置換された後、前記ペリクル付きフォトマスクに低波長の光を照射する光照射工程と、
を含むことを特徴とするペリクル付きフォトマスクのリペア方法。 - 前記光照射工程の後、前記チャンバー内に不活性ガスを供給し、前記チャンバー内を前記不活性ガスで置換して前記チャンバー内から前記不活性ガスを流出させるとともに、前記チャンバー内に収容された前記ペリクル付きフォトマスクの前記吸気口から前記内部空間に前記不活性ガスを供給し、前記内部空間を前記不活性ガスで置換して前記排気口から前記不活性ガスを流出させる不活性ガス供給工程を含むことを特徴とする請求項1記載のペリクル付きフォトマスクのリペア方法。
- 前記活性ガスは、H2Oおよび/またはO2を含むことを特徴とする請求項1または2記載のペリクル付きフォトマスクのリペア方法。
- 前記不活性ガスは、N2および/または希ガスを含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載のペリクル付きフォトマスクのリペア方法。
- 前記低波長の光は、波長が500nm以下の光であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載のペリクル付きフォトマスクのリペア方法。
- フォトマスクとペリクルとから構成され、
前記ペリクルは、ペリクル膜と、前記ペリクル膜が取着されるフレームとを有し、
前記フレームに、前記ペリクルと前記フォトマスクとで囲まれた内部空間と前記フレームの外方の外部空間とを連通する吸気口および排気口が設けられたペリクル付きフォトマスクに存在する異物を除去するペリクル付きフォトマスクのリペア装置であって、
前記ペリクル付きフォトマスクを収容するチャンバーと、
前記チャンバーに設けられた第1の吸気口、第2の吸気口、第1の排気口、第2の排気口と、
前記第1の吸気口を通して前記チャンバー内に前記異物と反応する活性ガスと不活性ガスとの混合ガスを供給し、前記チャンバー内を前記混合ガスで置換して前記第1の排気口から前記混合ガスを流出させるとともに、前記第2の吸気口を通して前記内部空間に前記混合ガスを供給し、前記内部空間を前記混合ガスで置換して前記第2の排気口から前記混合ガスを流出させる混合ガス供給装置と、
前記チャンバー内に収容された前記ペリクル付きフォトマスクに短波長の光を照射する光照射装置と、
を備えたことを特徴とするペリクル付きフォトマスクのリペア装置。 - 前記混合ガス供給装置は、前記照射装置により前記ペリクル付きフォトマスクに短波長の光が照射された後、前記第1の吸気口を通して前記チャンバー内に不活性ガスを供給し、前記チャンバー内を前記不活性ガスで置換して前記第1の排気口から前記不活性ガスを流出させるとともに、前記第2の吸気口を通して前記内部空間に前記不活性ガスを供給し、前記内部空間を前記不活性ガスで置換して前記第2の排気口から前記不活性ガスを流出させることを特徴とする請求項6記載のペリクル付きフォトマスクのリペア装置。
- 前記混合ガス供給装置は、前記チャンバー内および前記内部空間に供給すべき前記混合ガスの流量、圧力および温度を制御可能に構成されることを特徴とする請求項6または7記載のペリクル付きフォトマスクのリペア装置。
- 前記チャンバーは、本体部と、前記光照射装置からの光を透過する窓部とを有し、
前記本体部は、金属または石英からなり、
前記窓部は、石英、Al、MgもしくはCaの金属酸化物または金属フッ化物からなることを特徴とする請求項6〜8のいずれか1項記載のペリクル付きフォトマスクのリペア装置。 - 前記光照射装置は、その露光面積を可変に構成されることを特徴とする請求項6〜9のいずれか1項記載のペリクル付きフォトマスクのリペア装置。
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