JP2009107284A - 金型の製造方法および当該方法によって得られた金型を用いた防眩フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】高い防眩機能を示す防眩フィルムの製作に有用な、表面に微細な凹凸形状を有する金型の製造方法を提供し、その金型を用いて、優れた防眩機能を示しながら、白ちゃけによる視認性の低下が十分に防止され、高精細の画像表示装置の表面に配置したときにギラツキの発生しない防眩フィルムを製造する方法を提供する。
【解決手段】金型用基材の表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施す第１めっき工程と、第１めっき工程によってめっきが施された表面を研磨する研磨工程と、研磨された面に第一の微粒子をぶつけて凹凸を形成する凹凸形成工程と、第一の微粒子とは異なる大きさの第二の微粒子をぶつけて先に形成された凹凸形状を調整する凹凸調整工程と、第二の微粒子により調整された後の凹凸形状を鈍らせる加工を施す鈍化工程と、鈍らせた凹凸面にクロムめっきを施す第２めっき工程とを含む金型の製造方法、ならびにそれを用いた防眩フィルムの製造方法。
【選択図】図１

Description

本発明は、表面に微細な凹凸形状を有する金型の製造方法、ならびに、当該方法によって得られた金型を用いて、低ヘイズでありながら防眩特性に優れた防眩（アンチグレア）フィルムを製造する方法に関する。

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイパネル、ブラウン管（陰極線管：ＣＲＴ）ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイなどの画像表示装置は、その表示面に外光が映り込むと視認性が著しく損なわれてしまう。このような外光の映り込みを防止するために、画質を重視するテレビやパーソナルコンピュータ、外光の強い屋外で使用されるビデオカメラやデジタルカメラ、反射光を利用して表示を行う携帯電話などにおいては、従来から画像表示装置の表面に外光の映り込みを防止するフィルム層が設けられている。このフィルム層は、光学多層膜による干渉を利用した無反射処理が施されたフィルムからなるものと、表面に微細な凹凸を形成することにより入射光を散乱させて映り込み像をぼかす防眩処理が施されたフィルムからなるものとに大別される。このうち、前者の無反射フィルムは、均一な光学膜厚の多層膜を形成する必要があるため、コスト高になる。これに対して後者の防眩フィルムは、比較的安価に製造することができるため、大型のパーソナルコンピュータやモニタなどの用途に広く用いられている。

このような防眩フィルムは従来から、たとえばフィラーを分散させた樹脂溶液を基材シート上に塗布し、塗布膜厚を調整してフィラーを塗布膜表面に露出させることでランダムな凹凸をシート上に形成する方法などによって製造されている。しかしながら、このようなフィラーを分散させることにより製造された防眩フィルムは、樹脂溶液中のフィラーの分散状態や塗布状態などによって凹凸の配置や形状が左右されてしまうため、意図したとおりの凹凸を得ることが困難であり、ヘイズが低いものでは十分な防眩効果が得られないという問題があった。さらに、このような従来の防眩フィルムを画像表示装置の表面に配置した場合、散乱光によって表示面全体が白っぽくなり、表示が濁った色になる、いわゆる「白ちゃけ」が発生しやすいという問題があった。また、最近の画像表示装置の高精細化に伴って、画像表示装置の画素と防眩フィルムの表面凹凸形状とが干渉し、結果として輝度分布が発生して見えにくくなる、いわゆる「ギラツキ」現象が発生しやすいという問題もあった。

一方、フィラーを含有させずに、透明樹脂層の表面に形成された微細な凹凸だけで防眩性を発現させる試みもある。たとえば、特開２００２−１８９１０６号公報（特許文献１）には、エンボス鋳型と透明樹脂フィルムとの間に電離放射線硬化性樹脂を挟んだ状態で当該電離放射線硬化性樹脂を硬化させることにより、三次元１０点平均粗さおよび三次元粗さ基準面上における隣接する凸部どうしの平均距離が、それぞれ所定値を満足する微細な凹凸を形成させ、その凹凸が形成された電離放射線硬化性樹脂層を前記透明樹脂フィルム上に設けたかたちの防眩フィルムが開示されている。

また、表示装置の表示面に配置される防眩フィルムではなく、液晶表示装置の背面側に配置される光拡散層として、表面に微細な凹凸が形成されたフィルムを用いることも、たとえば特開平６−３４９６１号公報（特許文献２）、特開２００４−４５４７１号公報（特許文献３）、特開２００４−４５４７２号公報（特許文献４）などに開示されている。このうち特許文献３、４には、フィルムの表面に凹凸を形成する手法として、凹凸を反転させた形状を有するエンボスロールに電離放射線硬化性樹脂液を充填し、充填された樹脂にロール凹版の回転方向に同期して走行する透明基材を接触させ、透明基材がロール凹版に接触しているときに、ロール凹版と透明基材との間にある樹脂を硬化させ、硬化と同時に硬化樹脂と透明基材とを密着させた後、硬化後の樹脂と透明基材との積層体をロール凹版から剥離する方法が開示されている。

しかしながらこのような特許文献３、４に開示された方法では、用いることのできる電離放射線硬化性樹脂液の組成が限られ、また溶媒で希釈して塗布したときのようなレベリングが期待できないことから、膜厚の均一性に課題があることが予想される。さらに、特許文献３、４に開示された方法では、エンボスロール凹版に直接樹脂液を充填する必要があることから、凹凸面の均一性を確保するためには、エンボスロール凹版に高い機械精度が要求され、エンボスロールの作製が難しいという課題があった。

次に、表面に凹凸を有するフィルムの作製に用いられるロールの作製方法としては、たとえば、上述した特許文献２には、金属などを用いて円筒体を作り、その表面に電子彫刻、エッチング、サンドブラストなどの手法により凹凸を形成する方法が開示されている。また、特開２００４−２９２４０号公報（特許文献５）には、ビーズショット法によってエンボスロールを作製する方法が開示されており、特開２００４−９０１８７号公報（特許文献６）には、エンボスロールの表面に金属めっき層を形成する工程、金属めっき層の表面を鏡面研磨する工程、さらに必要に応じてピーニング処理をする工程を経て、エンボスロールを作製する方法が開示されている。

しかしながら、このようにエンボスロールの表面にブラスト処理を施したままの状態では、ブラスト粒子の粒径分布に起因する凹凸径の分布が生じるとともに、ブラストにより得られるくぼみの深さを制御することが困難であり、防眩機能に優れた凹凸の形状を再現性よく得ることに課題があった。

また、上述した特許文献１には、好ましくは鉄の表面にクロムめっきしたローラを用い、サンドブラスト法やビーズショット法により凹凸型面を形成することが記載されている。さらに、このように凹凸が形成された型面には、使用時の耐久性を向上させる目的で、クロムめっきなどを施してから使用することが好ましく、それにより硬膜化および腐食防止を図ることができる旨の記載もある。一方、上述した特許文献３、４のそれぞれの実施例には、鉄芯表面にクロムめっきし、＃２５０の液体サンドブラスト処理をした後に、再度クロムめっき処理して、表面に微細な凹凸形状を形成することが記載されている。

しかしながら、このようなエンボスロールの作製法では、硬度の高いクロムめっきの上にブラストやショットを行うため、凹凸が形成されにくく、しかも形成された凹凸の形状を精密に制御することが困難であった。また、特開２００４−２９６７２号公報（特許文献７）にも記載されるとおり、クロムめっきは、下地となる材質およびその形状に依存して表面が荒れることが多く、ブラストにより形成された凹凸上にクロムめっきで生じた細かいクラックが形成されるため、どのような凹凸ができるかの設計が難しいという課題があった。さらに、クロムめっきで生じる細かいクラックがあるため、最終的に得られる防眩フィルムの散乱特性が好ましくない方向に変化するという課題もあった。さらには、エンボスロール母材表面の材質とめっき種の組み合わせにより、仕上がりのロール表面が多種多様に変化するため、必要とする表面凹凸形状を精度よく得るためには、適切なロール表面の材質と適切なめっき種を選択しなければならないという課題もあった。さらにまた、望む表面凹凸形状が得られたとしても、めっき種によっては使用時の耐久性が不十分となることもあった。

特開２０００−２８４１０６号公報（特許文献８）には、基材にサンドブラスト加工を施した後、エッチング工程および／または薄膜の積層工程を施すことが記載されているが、サンドブラスト工程前に金属めっき層を設けることについては記載も示唆もされていない。一方で、特開２００７−２３７５４１号公報（特許文献９）には、基材表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施し、そのめっき表面を研磨し、その研磨面に微粒子をぶつけて凹凸を形成し、その凹凸形状を鈍らせる加工を施した後、その凹凸面にクロムめっきを施すことにより防眩フィルム用の金型を製造することが開示されている。
特開２００２−１８９１０６号公報 特開平６−３４９６１号公報 特開２００４−４５４７１号公報 特開２００４−４５４７２号公報 特開２００４−２９２４０号公報 特開２００４−９０１８７号公報 特開２００４−２９６７２号公報 特開２０００−２８４１０６号公報 特開２００７−２３７５４１号公報

本発明は、高い防眩機能を示す防眩フィルムの製作に有用な、表面に微細な凹凸形状を有する金型の製造方法を提供し、さらに、その金型を用いて、優れた防眩機能を示しながら、白ちゃけによる視認性の低下が十分に防止され、高精細の画像表示装置の表面に配置したときにギラツキの発生しない防眩フィルムを製造する方法を提供することを目的とする。

本発明はまた、金型表面へのめっきとして、硬度や表面光沢などに優れるクロムめっきを採用しながら、そのクロムめっき面に荒れを生じさせずに、防眩フィルムの製作に好適な金型を製造し、それを用いて優れた防眩機能を示す防眩フィルムを製造することも目的とする。

本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、金型となる基材表面に下地めっきとして銅めっきまたはニッケルめっきを施し、そのめっき表面に第一の微粒子をぶつけることにより凹凸を形成した後、さらに第一の微粒子とは大きさの異なる第二の微粒子をその凹凸形状にぶつけることによってめっき表面の凹凸形状を微調整し、その後、凹凸形状を鈍らせる加工を施した後、その凹凸面にクロムめっきを施して金型とすれば、表面に所望の微細な凹凸形状を有する金型が再現性よく得られることを見出した。また、その金型の凹凸面を透明樹脂フィルムに転写して得られる凹凸面付き防眩フィルムは、低ヘイズでありながら十分な防眩性能を有し、画像表示装置に適用したときにも、白ちゃけやギラツキなどが発生せず、良好な視認性を示すという、従来品では兼備していなかった性能が発現されることを見出した。すなわち、本発明は以下のとおりである。

本発明の金型の製造方法は、金型用基材の表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施す第１めっき工程と、第１めっき工程によってめっきが施された表面を研磨する研磨工程と、研磨された面に第一の微粒子をぶつけて凹凸を形成する凹凸形成工程と、第一の微粒子とは異なる大きさの第二の微粒子をぶつけて凹凸形成工程で形成された凹凸形状を調整する凹凸調整工程と、第二の微粒子により調整された後の凹凸形状を鈍らせる加工を施す鈍化工程と、鈍らせた凹凸面にクロムめっきを施す第２めっき工程とを含む。

本発明の金型の製造方法における第一の微粒子および第二の微粒子は、平均粒径１０〜２００μｍの真球であることが、好ましい。

本発明の金型の製造方法において、第一の微粒子の平均粒径は第二の微粒子の平均粒径よりも大きいことが好ましい。

本発明の金型の製造方法における凹凸形状を鈍らせる加工はエッチング処理であることが好ましく、この場合、エッチング量が１〜６μｍであることがより好ましい。

本発明の金型の製造方法における凹凸形状を鈍らせる加工は銅めっきであってもよく、この場合、銅めっきにより形成された銅めっき層が１〜６μｍの厚みを有することがより好ましい。

本発明の金型の製造方法では、クロムめっきを施した後、表面を研磨せず、そのままクロムめっき面を金型の凹凸面として用いることが好ましい。

本発明の金型の製造方法はまた、クロムめっきにより形成されたクロムめっき層が１〜１０μｍの厚みを有することが、好ましい。

本発明はまた、上述した本発明の金型の製造方法によって製造された金型の凹凸面を透明樹脂フィルムに転写する工程と、金型の凹凸面が転写された透明樹脂フィルムを金型から剥がす工程とを含む防眩フィルムの製造方法についても提供する。

本発明の金型の製造方法によれば、表面に微細な凹凸形状が形成されていることから、高い防眩機能を示す防眩フィルムの製造に有用なものとなる金型を再現性よく、殆ど欠陥が存在しない状態で製造できる。さらに、本発明の防眩フィルムの製造方法によれば、ヘイズが低く、表示画像の明るさを保ちながら、映り込み防止や反射防止、白ちゃけの抑制、ギラツキ発生防止など、防眩性能に優れた防眩フィルムを工業的有利に製造することができる。

＜金型の製造方法＞
図１は、本発明の金型の製造方法の前半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。本発明の金型の製造方法は、〔１〕第１めっき工程と、〔２〕研磨工程と、〔３〕凹凸形成工程と、〔４〕凹凸調整工程と、〔５〕鈍化工程と、〔６〕第２めっき工程とを基本的に含む。以下、図１を参照しながら、本発明の金型の製造方法の各工程について詳細に説明する。

〔１〕第１めっき工程
本発明の金型の製造方法ではまず、金型に用いる基材の表面に、銅めっきまたはニッケルめっきを施す。このように、金型用基材の表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施すことにより、後の第２めっき工程におけるクロムめっきの密着性や光沢性を上げることができる。すなわち、背景技術として上述したように、鉄などの表面にクロムめっきを施した場合、あるいはクロムめっき表面にサンドブラスト法やビーズショット法などで凹凸を形成してから再度クロムめっきを施した場合には、表面が荒れやすく、細かいクラックが生じて、金型の表面の凹凸形状が制御しにくくなる。これに対して、まず、基材表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施しておくことにより、このような不都合をなくすことができる。これは、銅めっきまたはニッケルめっきは、被覆性が高く、また平滑化作用が強いことから、金属基材の微小な凹凸や巣などを埋めて平坦で光沢のある表面を形成するためである。これらの銅めっきまたはニッケルめっきの特性によって、後述する第２めっき工程においてクロムめっきを施したとしても、基材に存在していた微小な凹凸や巣に起因すると思われるクロムめっき表面の荒れが解消され、また、銅めっきまたはニッケルめっきの被覆性の高さから、細かいクラックの発生が低減される。

第１めっき工程において用いられる銅またはニッケルとしては、それぞれの純金属であることができるほか、銅を主体とする合金、またはニッケルを主体とする合金であってもよく、したがって、本明細書でいう銅は、銅および銅合金を含む意味であり、またニッケルは、ニッケルおよびニッケル合金を含む意味である。銅めっきおよびニッケルめっきは、それぞれ電解めっきで行っても無電解めっきで行ってもよいが、通常は電解めっきが採用される。

銅めっきまたはニッケルめっきを施す際には、めっき層が余り薄いと、下地表面の影響が排除しきれないことから、その厚みは１０μｍ以上であるのが好ましい。めっき層厚みの上限は臨界的でないが、コストなどとのからみから、一般的には５００μｍ程度までで十分である。

なお、本発明の金型の製造方法において、基材の形成に好適に用いられる金属材料としては、コストの観点からアルミニウム、鉄などが挙げられる。さらに取扱いの利便性から、軽量なアルミニウムがより好ましい。ここでいうアルミニウムや鉄も、それぞれ純金属であることができるほか、アルミニウムまたは鉄を主体とする合金であってもよい。

また、基材の形状は、当分野において従来より採用されている適宜の形状であれば特に制限されず、平板状であってもよいし、円柱状または円筒状のロールであってもよい。ロール状の基材を用いて金型を作製すれば、防眩フィルムを連続的なロール状で製造することができるという利点がある。

〔２〕研磨工程
続く研磨工程では、上述した第１めっき工程にて銅めっきまたはニッケルめっきが施された基材表面を研磨する。当該工程を経て、基材表面は、鏡面に近い状態に研磨されることが好ましい。これは、基材となる金属板や金属ロールは、所望の精度にするために、切削や研削などの機械加工が施されていることが多く、それにより基材表面に加工目が残っており、銅めっきまたはニッケルめっきが施された状態でも、それらの加工目が残ることがあるし、また、めっきした状態で、表面が完全に平滑になるとは限らないためである。すなわち、このような深い加工目などが残った表面に後述する凹凸形成工程や凹凸調整工程を施したとしても、微粒子により形成される凹凸よりも加工目などの凹凸の方が深いことがあり、加工目などの影響が残る可能性があり、そのような金型を用いて防眩フィルムを製造した場合には、光学特性に予期できない影響を及ぼすことがある。図１（ａ）には、平板状の金型用基材１が、第１めっき工程において銅めっきまたはニッケルめっきをその表面に施され（当該工程で形成した銅めっきまたはニッケルめっきの層については図示せず）、さらに研磨工程によって鏡面研磨された表面２を有するようにされた状態を模式的に示している。

銅めっきまたはニッケルめっきが施された基材表面を研磨する方法については特に制限されるものではなく、機械研磨法、電解研磨法、化学研磨法のいずれも使用できる。機械研磨法としては、超仕上げ法、ラッピング、流体研磨法、バフ研磨法などが例示される。研磨後の表面粗度は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１の規定に準拠した中心線平均粗さＲａが０．５μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以下であることがより好ましくい。研磨後の中心線平均粗さＲａが０．５μｍより大きいと、微粒子をぶつけて金属の表面を変形させても、変形前の表面粗度の影響が残る可能性があるので好ましくない。また、中心線平均粗さＲａの下限については特に制限されず、加工時間や加工コストの観点から、おのずと限界があるので、特に指定する必要性はない。

〔３〕凹凸形成工程
続く凹凸形成工程では、上述した研磨工程によって鏡面研磨を施した基材１の表面２に、第一の微粒子をぶつけて凹凸を形成する。図１（ｂ）には、当該工程で第一の微粒子がぶつけられることで、部分球面状の微細な凹面３が形成された状態が示されている。基材１の表面２に第一の微粒子をぶつける方法としては、特に制限されないが、噴射加工法が好適に用いられる。噴射加工法には、サンドブラスト法、ショットブラスト法、液体ホーニング法などがある。これらの加工に用いられる微粒子としては、鋭い角があるような形状よりは、球形に近い形状である方が好ましく、また加工中に粉砕されて鋭い角が出ないような、硬い材質の微粒子が好ましい。これらの条件を満たす微粒子として、セラミックス系の微粒子では、球形ジルコニアのビーズや、アルミナのビーズが好ましく用いられる。また金属系の微粒子では、スチールやステンレススチール製のビーズが好ましい。さらには、樹脂バインダにセラミックスや金属の粒子を担持させた微粒子を用いてもよい。

当該工程で用いられる第一の微粒子は、平均粒径が１０〜２００μｍの範囲内のものを用いることが好ましく、５０〜１５０μｍの範囲内のものを用いることがより好ましい。第一の微粒子の平均粒径が１０μｍより小さいと、基材の表面に十分な凹凸を形成することが困難となり、得られた金型を用いて製造された防眩フィルムにおいて十分な防眩性能が得られにくくなる傾向にある。一方、第一の微粒子の平均粒径が２００μｍより大きいと、表面凹凸が粗くなり、ギラツキが発生したり、質感が低下したりする場合がある。このような範囲内の平均粒径を有し、特には球状の微粒子を用いた場合には、得られた金型を用いることで、優れた防眩性能を示す防眩フィルムを作製することができる。ここで、平均粒径が１５μｍ以下の第一の微粒子を用いる場合には、当該微粒子が静電気などで凝集しないよう、適当な分散媒に分散させて加工する湿式ブラスト法を採用することが好ましい。なお、上述した第一の微粒子の平均粒径は、たとえばコールター法、レーザ回折散乱法、動的光散乱法などによって測定された粒度分布から得られる重量平均粒径を指す。

また、第一の微粒子をぶつける際の圧力や微粒子の使用量も、加工後の凹凸形状、ひいては防眩フィルムの表面形状に影響するが、一般には、ゲージ圧で０．０１〜０．５ＭＰａ程度の圧力、また処理される金属の表面積１ｃｍ²あたり２〜３０ｇ程度の微粒子量から、用いる微粒子の種類や粒径、金属の種類、所望の凹凸形状などに応じて、適宜選択すればよい。

当該工程で形成された凹凸形状は、任意の断面曲線の算術平均高さＰａが０．０２〜０．５μｍであり、その断面曲線における算術平均高さＰａと平均長さＰＳｍの比Ｐａ／ＰＳｍが０．００５〜０．０３であることが好ましい。第一の微粒子をぶつけた後の算術平均高さＰａが０．０２μｍより小さいかまたは比Ｐａ／ＰＳｍが０．００５より小さい場合には、後述する鈍化工程において凹凸形状を鈍らせる加工を施した際に、凹凸表面がほぼ平坦面となってしまい、望む表面形状の金型が得られない場合がある。また、第一の微粒子をぶつけた後の算術平均高さＰａが０．５μｍより大きいかまたは比Ｐａ／ＰＳｍが０．０３より大きい場合には、後述する鈍化工程における凹凸形状を鈍らせる加工を強い条件で行わなけれなならず、表面形状の制御が困難なものとなる虞がある。

〔４〕凹凸調整工程
続く凹凸調整工程では、第一の微粒子とは異なる大きさの第二の微粒子をぶつけて、凹凸形成工程で形成された凹凸形状を調整する。図１（ｃ）には、当該工程で第二の微粒子がぶつけられることで、第一の微粒子によって形成された凹凸形状の鋭利な箇所が除去された表面４が形成された状態が模式的に示されている。凹凸形状が形成された基材の表面に第二の微粒子をぶつける方法としては、第一の微粒子について上述したのと同様に、サンドブラスト法、ショットブラスト法、液体ホーニング法などの噴射加工法が好適に用いられる。また、第二の微粒子としても、上述した第一の微粒子と同様に硬い材質の微粒子が用いられ、第一の微粒子について上述した中で、第一の微粒子と同じ材質の微粒子を用いても互いに異なる材質の微粒子を用いもよい。

当該工程において用いられる第二の微粒子は、上述した第一の微粒子とは大きさの異なるものが用いられる。第一の微粒子と第二の微粒子の大きさが等しい場合には、結果として一種類の微粒子のみをぶつけて表面凹凸形状を作製することと同じこととなり、第一の微粒子をぶつけることによって形成された表面凹凸形状の鋭利な箇所を除去する効果が第二の微粒子をぶつけた際に発現されないので好ましくない。

第二の微粒子の平均粒径は、上述した第一の微粒子の場合と同様の理由から１０〜２００μｍの範囲内であることが好ましいが、当該平均粒径の範囲内でも、第一の微粒子とは異なる大きさのものを用いるようにする。第二の微粒子は、第一の微粒子と大きさの異なるものであれば、第一の微粒子より大きいものであっても第一の微粒子より小さいものであってもよいが、第一の微粒子よりも小さな平均粒径を有するものを用いることがより好ましく、平均粒径として２０〜５０μｍの範囲内のものを用いることが好ましい。ここで、図２は、凹凸調整工程において、凹凸形成工程で用いた第一の微粒子よりも大きな平均粒径を有する第二の微粒子を用いた場合の基材の表面形状を模式的に示す図である。図２に示すように、第一の微粒子よりも大きな平均粒径を有する第二の微粒子を用いて凹凸調整工程を行った場合には、基材２１の表面に、第一の微粒子によって形成された鋭利な箇所２２（図中、点線で示されている）が除去されるだけに留まらず、第二の微粒子の大きさに支配された表面形状が形成され、さらには鋭利な箇所２３も形成されてしまう場合があるため好ましくない。なお、第二の微粒子の平均粒径は、上述した第一の微粒子の平均粒径と同様の方法で測定された値を指す。

第二の微粒子についても、得られた金型を用いて優れた防眩性能を示す防眩フィルムを作製することができることから、球状の微粒子を用いることが好ましく、また、平均粒径が１５μｍ以下の第二の微粒子を用いる場合には湿式ブラスト法を採用することが好ましい。また、第二の微粒子をぶつける際の圧力や微粒子の使用量も、上述した第一の微粒子の場合と同様、ゲージ圧で０．０１〜０．５ＭＰａ程度の圧力、また処理される金属の表面積１ｃｍ²あたり２〜３０ｇ程度の微粒子量から、用いる微粒子の種類や粒径、金属の種類、所望の凹凸形状などに応じて、適宜選択すればよい。

当該工程において、第二の微粒子をぶつけることによって微調整された後の基材表面の凹凸形状は、任意の断面曲線における算術平均高さＰａが０．０２〜０．５μｍであり、その断面曲線における算術平均高さＰａと平均長さＰＳｍの比Ｐａ／ＰＳｍが０．００５〜０．０３であることが好ましい。ここで、第一の微粒子によって形成された凹凸形状と、その凹凸形状に第一の微粒子とは大きさの異なる第二の微粒子をぶつけた後の凹凸形状とで、算術平均高さＰａと比Ｐａ／ＰＳｍに変化がない。これは第二の微粒子をぶつけることによる表面凹凸形状の微調整が、第一の微粒子をぶつけることによって形成された表面凹凸形状の鋭利な箇所を除去する程度のわずかな変化であり、算術平均高さＰａや平均長さＰＳｍに顕著な差が現れないことを示している。第二の微粒子をぶつけた後の算術平均高さＰａが０．０２μｍより小さいかまたは比Ｐａ／ＰＳｍが０．００５より小さい場合には、後述する鈍化工程において凹凸形状を鈍らせる加工を施した際に、凹凸表面がほぼ平坦面となってしまい、望む表面形状の金型が得られない場合がある。また、第二の微粒子をぶつけた後の算術平均高さＰａが０．５μｍより大きいかまたは比Ｐａ／ＰＳｍが０．０３より大きい場合には、後述する鈍化工程における凹凸形状を鈍らせる加工を強い条件で行わなければならず、表面形状の制御が困難なものとなる虞がある。

なお、このような凹凸調整工程を行わない場合には、最終的な金型として必要とする表面凹凸形状を得るために、第一の微粒子によって形成された凹凸形状に存在する鋭利な箇所も後述するエッチングまたは銅めっきによって鈍らせる必要が生じることとなり、これによって得られた金型の欠陥が増加することとなる。

〔５〕鈍化工程
ここで、図３は、本発明の金型の製造方法の後半部分の好ましい一例を模式的に示す図であり、図４は、本発明の金型の製造方法の後半部分の好ましい他の例を模式的に示す図である。続く鈍化工程では、第二の微粒子により調整された後の凹凸形状を鈍らせる加工を施す。当該工程において凹凸形状を鈍らせる加工としては、エッチング処理または銅めっきが好ましい。エッチング処理を行う場合には、第一の微粒子をぶつけて形成した凹凸形状の鋭利な部分がなくなるため、得られた金型を用いて製造された防眩フィルムの光学特性が好ましい方向へと変化するという利点がある。また銅めっきを行う場合には、銅めっきはその強い平滑化作用により後述するクロムめっきよりも凹凸形状を鈍らせる効果が高いことによって、やはり、得られた金型を用いて製造された防眩フィルムの光学特性が好ましい方向へと変化するという利点がある。図３（ａ）には、エッチング処理によって、基材１の表面の凹面３（図１（ｂ））および鋭角的な突起が削られて、部分球面状の鋭角的な突起が鈍らされた形状を有する表面５が形成された状態が示されており、また、図４（ａ）には、銅めっきによって、基材１の表面の凹面３（図１（ｂ））上に銅めっき層６が形成され、これによって部分球面状の鋭角的な突起が鈍らされた形状を有する表面７が形成された状態が示されている。

鈍らせる加工としてエッチング処理を採用する場合、通常、塩化第二鉄（ＦｅＣｌ₃）液、塩化第二銅（ＣｕＣｌ₂）液、アルカリエッチング液（Ｃｕ（ＮＨ₃）₄Ｃｌ₂）などを用い、表面を腐食させることによって行われるが、塩酸や硫酸などの強酸を用いることもできるし、電解めっき時と逆の電位をかけることによる逆電解エッチングを用いることもできる。エッチング処理を施した後の凹凸のなまり具合は、下地金属の種類、ブラストなどの手法により得られた凹凸のサイズと深さなどによって異なるため、一概にはいえないが、なまり具合を制御する上で最も大きな因子は、エッチング量である。ここでいうエッチング量とは、エッチングにより削られる基材の厚みである。エッチング量が小さいと、ブラストなどの手法により得られた凹凸の表面形状を鈍らせる効果が不十分であり、その凹凸形状を透明フィルムに転写して得られる防眩フィルムの光学特性があまり良くならない。一方で、エッチング量が大きすぎると、凹凸形状がほとんどなくなってしまい、ほぼ平坦な金型となってしまうので、防眩性を示さなくなってしまう。さらには、エッチング量が大きい場合には、エッチングが所定のエッチング量以上に行われた箇所と、エッチング量が所定のエッチング以下にしか行われなかった箇所が発生し、結果として金型上の欠陥となるため好ましくない。そこで、エッチング量は１〜６μｍの範囲内であることが好ましい。

また鈍らせる加工として銅めっきを採用する場合、上述した第１めっき工程において銅めっきを施す場合と同様にして加工を施せばよい。銅めっきを施した後の凹凸のなまり具合は、下地金属の種類、ブラストなどの手法により得られた凹凸のサイズと深さ、まためっきの種類や厚みなどによって異なるため、一概にはいえないが、なまり具合を制御するうえで最も大きな因子はめっき厚みである。銅めっき層の厚みが薄いと、ブラストなどの手法により得られた凹凸の表面形状を鈍らせる効果が不十分であり、その凹凸形状を透明フィルムに転写して得られる防眩フィルムの光学特性があまり良くならない。一方でめっき厚みが厚すぎると、生産性が悪くなるうえ、凹凸形状がほとんどなくなってしまうので、防眩性を示さなくなってしまう。さらに、銅めっき層が厚すぎると、ノジュールと呼ばれる突起状のめっき欠陥が発生してしまうため好ましくない。そこで、銅めっき層の厚みは１〜６μｍの範囲内とすることが好ましい。

なお、このような鈍化工程を経ない場合には、微粒子をぶつけて作製した凹凸形状の鋭利な部分を十分に鈍らせるために、後述する第２めっき工程におけるクロムめっきを厚くしなくてはならない。しかしながら、クロムめっきの厚みを厚くしすぎると、ノジュールが発生しやすくなるので、好ましくない。また、クロムめっきの厚みを薄くした場合には、微粒子をぶつけて作製した凹凸形状を十分に鈍らせることができず、望む表面形状の金型が得られないことから、その金型を用いて作製した防眩フィルムも優れた防眩性能を示さない。

背景技術において上述したように、特許文献１には、鉄の表面にクロムめっきしたローラにサンドブラスト法やビーズショット法により凹凸表面を形成した後、クロムめっきを施すことが記載され、特許文献２には金属表面にエッチング、サンドブラストなどの手法によって凹凸を形成することが記載され、特許文献５、６には、ロール表面にビーズショット法やブラスト処理を施すことが記載されている。しかし、本発明に示した方法のように微粒子をぶつけて凹凸形状を形成した後に、表面形状を積極的に鈍らせる加工を施したうえで、クロムめっき加工を施して表面凹凸形状を鈍らせる方法について言及したものはない。

〔６〕第２めっき工程
続いて、クロムめっきを施すことによって、表面の凹凸形状をさらに鈍らせる。図３（ｂ）には、上述したようにエッチング処理によって鈍らせる加工を施した後にクロムめっき層１１を形成し、さらに表面１２を鈍らせた状態が示されており、図４（ｂ）には、上述したように銅めっき層６の形成によって鈍らせる加工を施した後にクロムめっき層１１を形成し、さらに表面１２を鈍らせた状態が示されている。

図３（ｂ）に示すように、鈍化工程における加工としてエッチング処理を採用した場合、エッチング処理により鈍らされた状態の表面５の上にクロムめっき層１１が形成され、その表面１２は、図３（ａ）に示す状態の表面５と比較して、クロムめっきによりさらに鈍った状態、換言すれば凹凸形状が緩和された状態になっている。

また図４（ｂ）に示すように、鈍化工程における加工として銅めっきを採用した場合、基材１の表面に銅めっき層６が形成され、さらにその上にクロムめっき層１１が形成されており、その表面１２は、クロムめっきにより、図４（ａ）に示す状態の表面７と比較してさらに鈍った状態、換言すれば凹凸形状が緩和された状態となっている。

本発明では、平板やロールなどの表面に、光沢があって、硬度が高く、摩擦係数が小さく、良好な離型性を与え得るクロムめっきを採用する。クロムめっきの種類は特に制限されないが、いわゆる光沢クロムめっきや装飾用クロムめっきなどと呼ばれる、良好な光沢を発現するクロムめっきを用いることが好ましい。クロムめっきは通常、電解によって行われ、そのめっき浴としては、無水クロム酸（ＣｒＯ₃）と少量の硫酸を含む水溶液が用いられる。電流密度と電解時間を調節することにより、クロムめっきの厚みを制御することができる。

上述した特許文献１、４、６などには、クロムめっきを採用することが開示されているが、金型のめっき前の下地とクロムめっきの種類によっては、めっき後に表面が荒れたり、クロムめっきによる微小なクラックが多数発生したりすることが多く、その結果、作製される防眩フィルムの光学特性が好ましくない方向へと進む。めっき表面が荒れた状態の金型は、防眩フィルムの製造用に適していない。何故ならば、一般的にざらつきを消すためにクロムめっき後にめっき表面を研磨することが行われているが、後述するように、本発明ではめっき後の表面の研磨が好ましくないからである。本発明では、下地金属に銅めっきまたはニッケルめっきを施すことにより、クロムめっきで生じ易いこのような不都合を解消している。

なお、第２めっき工程において、クロムめっき以外のめっきを施すことは好ましくない。何故なら、クロム以外のめっきでは、硬度や耐摩耗性が低くなるため、金型としての耐久性が低下し、使用中に凹凸が磨り減ったり、金型が損傷したりする。そのような金型から得られた防眩フィルムでは、十分な防眩機能が得られにくい可能性が高く、また、フィルム上に欠陥が発生する可能性も高くなる。

また、上述した特許文献６などに開示されているような、めっき後の表面を研磨することも、やはり本発明では好ましくない。研磨することにより、最表面に平坦な部分が生じるため、光学特性の悪化を招く可能性があること、また、形状の制御因子が増えるため、再現性のよい形状制御が困難になることなどの理由による。

このように本発明では、上述した鈍化工程により凹凸形状を鈍らせる加工が施された表面にクロムめっきを施すことにより、凹凸形状がより一層鈍らせられるとともに、その表面硬度が高められた金型が得られる。この際の凹凸の鈍り具合も、下地金属の種類、ブラストなどの手法により得られた凹凸のサイズと深さ、まためっきの種類や厚みなどによって異なるため、一概にはいえないが、鈍り具合を制御するうえで最も大きな因子は、やはりめっき厚みである。クロムめっきの厚みが薄いと、クロムめっき加工前に得られた凹凸の表面形状を鈍らせる効果が不十分であり、その凹凸形状を透明フィルムに転写して得られる防眩フィルムの光学特性があまり良くならない。一方で、めっき厚みが厚すぎると、生産性が悪くなるうえに、ノジュールと呼ばれる突起状のめっき欠陥が発生してしまうため好ましくない。そこで、クロムめっきの厚みは１〜１０μｍの範囲内であるのが好ましく、３〜６μｍの範囲内であるのがより好ましい。

当該第２めっき工程で形成されるクロムめっき層は、ビッカース硬度が８００以上となるように形成されていることが好ましく、１０００以上となるように形成されていることがより好ましい。クロムめっき層のビッカース硬度が８００未満である場合には、金型使用時の耐久性が低下するうえに、クロムめっきで硬化が低下することはめっき処理時にめっき浴組成、電解条件などに異常が発生している可能性が高く、欠陥の発生状況についても好ましくない影響を与える可能性が高いためである。

このようにして、実質的に平坦部がない金型を得ることができる。このように実質的に平坦部がない金型は、好ましい光学特性を示す防眩フィルムを得るのに好適に用いられる。なお、本発明の製造方法で得られた金型は、凹凸表面の任意の断面曲線における算術平均高さＰａが０．０１〜０．２μｍであり、かつ、その断面曲線における算術平均高さＰａと平均長さＰＳｍの比Ｐａ／ＰＳｍが０．００２〜０．０１であることが好ましい。金型の上記算術平均高さＰａが０．０１μｍより小さいか、または、上記比Ｐａ／ＰＳｍが０．００２より小さい場合には、この金型を使用して作製した防眩フィルムの表面形状がほぼ平坦なものとなり、十分な防眩性能を示さなくなる傾向にある。また、上記算術平均高さＰａが０．２μｍより大きいか、または、上記比Ｐａ／ＰＳｍが０．０１より大きい場合には、この金型を使用して作製した防眩フィルムが白ちゃけたり、ギラツキが発生したり、質感が低下したりする傾向にある。

＜防眩フィルムの製造方法＞
本発明はまた、上述した本発明の金型の製造方法で得られた金型を用いた防眩フィルムの製造方法についても提供する。すなわち、本発明の防眩フィルムの製造方法は、本発明の金型の製造方法で製造された金型の凹凸面を透明樹脂フィルムに転写する工程と、金型の凹凸面が転写された透明樹脂フィルムを金型から剥がす工程とを含む。このような本発明の防眩フィルムの製造方法によって、好ましい光学特性を示す防眩フィルムが好適に製造される。

金型形状のフィルムへの転写は、エンボスにより行うことが好ましい。エンボスとしては、光硬化性樹脂を用いるＵＶエンボス法、熱可塑性樹脂を用いるホットエンボス法が例示され、中でも、生産性の観点から、ＵＶエンボス法が好ましい。

ＵＶエンボス法は、透明樹脂フィルムの表面に光硬化性樹脂層を形成し、その光硬化性樹脂層を金型の凹凸面に押し付けながら硬化させることで、金型の凹凸面が光硬化性樹脂層に転写される方法である。具体的には、透明樹脂フィルム上に紫外線硬化型樹脂を塗工し、塗工した紫外線硬化型樹脂を金型の凹凸面に密着させた状態で透明樹脂フィルム側から紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂を硬化させ、その後金型から、硬化後の紫外線硬化型樹脂層が形成された透明樹脂フィルムを剥離することにより、金型の形状を紫外線硬化型樹脂に転写する。

ＵＶエンボス法を用いる場合、透明樹脂フィルムとしては、実質的に光学的に透明なフィルムであればよく、たとえばトリアセチルセルロースフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルムなどの樹脂フィルムが挙げられる。

またＵＶエンボス法を用いる場合における紫外線硬化型樹脂の種類は特に限定されないが、市販の適宜のものを用いることができる。また、紫外線硬化型樹脂に適宜選択された光開始剤を組み合わせて、紫外線より波長の長い可視光でも硬化が可能な樹脂を用いることも可能である。具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどの多官能アクリレートをそれぞれ単独で、あるいはそれら２種以上を混合して用い、それと、イルガキュアー９０７（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製）、ルシリンＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）などの光重合開始剤とを混合したものを好適に用いることができる。

一方、ホットエンボス法は、熱可塑性樹脂で形成された透明樹脂フィルムを加熱状態で金型に押し付け、金型の表面形状を透明樹脂フィルムに転写する方法である。ホットエンボス法に用いる透明樹脂フィルムとしては、実質的に透明なものであればいかなるものであってもよく、たとえば、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ノルボルネン系化合物をモノマーとする非晶性環状ポリオレフィンなどの熱可塑性樹脂の溶剤キャストフィルムや押出フィルムなどを用いることができる。これらの透明樹脂フィルムはまた、上で説明したＵＶエンボス法における紫外線硬化型樹脂を塗工するための基材フィルムとしても好適に用いることができる。

以下に実施例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。

＜実施例１＞
直径２００ｍｍの鉄ロール（ＪＩＳによるＳＴＫＭ１３Ａ）の表面に銅バラードめっきが施されたものを用意した。銅バラードめっきは、銅めっき層／薄い銀めっき層／表面銅めっき層からなるものであり、めっき層全体の厚みは、約２００μｍであった。その銅めっき表面を鏡面研磨し、さらにその研磨面に、ブラスト装置（（株）不二製作所製）を用いて、第一の微粒子としてジルコニアビーズＴＺ−Ｂ１２５（東ソー（株）製、平均粒径：１２５μｍ）を、ブラスト圧力０．０５ＭＰａ（ゲージ圧、以下同じ）、ビーズ使用量６ｇ／ｃｍ²（ロールの表面積１ｃｍ²あたりの使用量、以下同じ）でブラストし、表面に凹凸を形成した。その凹凸面に、ブラスト装置（（株）不二製作所製）を用いて、第二の微粒子としてジルコニアビーズＴＺ−ＳＸ−１７（東ソー（株）製、平均粒径：２０μｍ）を、ブラスト圧力０．０５ＭＰａ、ビーズ使用量３ｇ／ｃｍ²でブラストし、表面凹凸を微調整した。得られた凹凸つき銅めっき鉄ロールに対し、塩化第二銅液でエッチング処理を行った。その際のエッチング量は３μｍとなるように設定した。その後、クロムめっき加工を行い、金型を作製した。このとき、クロムめっき厚みが４μｍとなるように設定した。得られた金型のクロムめっき面のビッカース硬度は１０００であった。なお、ビッカース硬度は、超音波硬度計ＭＩＣ１０（Ｋｒａｕｔｋｒａｍｅｒ社製）を用い、ＪＩＳ Ｚ ２２４４に準拠して測定した（以下の例においてもビッカース硬度の測定法は同じ）。

＜実施例２＞
第一の微粒子によるブラストをブラスト量４ｇ／ｃｍ²で行い、第二の微粒子によるブラストをブラスト量４ｇ／ｃｍ²で行ったこと以外は実施例１と同様にして金型を作製した。得られた金型のクロムめっき面のビッカース硬度は１０００であった。

＜実施例３＞
第一の微粒子によるブラストをブラスト量４ｇ／ｃｍ²で行い、第二の微粒子によるブラストをブラスト量４ｇ／ｃｍ²、ブラスト圧０．０１ＭＰａで行ったこと以外は実施例１と同様にして金型を作製した。得られた金型のクロムめっき面のビッカース硬度は１０００であった。

＜実施例４＞
第一の微粒子としてジルコニアビーズＴＺ−ＳＸ−１７（東ソー（株）製、平均粒径：２０μｍ）を用い、ブラスト量３ｇ／ｃｍ²、ブラスト圧０．１０ＭＰａでブラストを行い、第二の微粒子としてジルコニアビーズＴＺ−Ｂ１２５（東ソー（株）製、平均粒径：１２５μｍ）を用い、ブラスト量４ｇ／ｃｍ²、ブラスト圧０．０５ＭＰａでブラストを行ったこと以外は実施例１と同様にして金型を作製した。得られた金型のクロムめっき面のビッカース硬度は１０００であった。

＜実施例５＞
第一の微粒子としてジルコニアビーズＴＺ−ＳＸ−１７（東ソー（株）製、平均粒径：２０μｍ）を用い、ブラスト量３ｇ／ｃｍ²、ブラスト圧０．０５ＭＰａでブラストを行い、第二の微粒子としてジルコニアビーズＴＺ−Ｂ１２５（東ソー（株）製、平均粒径：１２５μｍ）を用い、ブラスト量４ｇ／ｃｍ²、ブラスト圧０．０５ＭＰａでブラストを行ったこと以外は実施例１と同様にして金型を作製した。得られた金型のクロムめっき面のビッカース硬度は１０００であった。

＜比較例１、２＞
実施例１で用いたのと同じ銅バラードめっきが施された直径２００ｍｍの鉄ロールの銅めっき表面を鏡面研磨し、さらにその研磨面に、ブラスト装置（（株）不二製作所製）を用いて、ジルコニアビーズＴＺ−Ｂ１２５（東ソー（株）製、平均粒径：１２５μｍ）を、ブラスト圧力０．０５ＭＰａ、ビーズ使用量８ｇ／ｃｍ²でブラストし、表面に凹凸をつけた。得られた凹凸つき銅めっき鉄ロールに対し、塩化第二銅液でエッチング処理を行った。その際のエッチング量は比較例１では１０μｍとなるように設定し、比較例２では６μｍとなるように設定した。その後、クロムめっき加工を行い、金型を作製した。このとき、クロムめっき厚みが４μｍとなるように設定した。得られた金型のクロムめっき面のビッカース硬度は、比較例１、比較例２ともに１０００であった。

＜評価試験１＞
実施例１〜５、比較例１、２で得られた各金型について、第一の微粒子により凹凸形状を形成した時点、第二の微粒子により凹凸形状を調整した時点（実施例のみ）、最終的に得られたロール状の金型の表面形状について評価した。各表面形状を直接測定することは困難であるため、各時点での金型を用いて、後述する実施例６〜１０、比較例３、４と同様にして防眩フィルムのサンプルを作製し、このサンプルの表面形状を測定して金型の表面形状として評価した。なお、防眩フィルム上の断面曲線は、金型上の断面曲線の上下が反転したものになるが、算術平均高さＰａおよび平均長さＰＳｍは両者で同じになる。表面形状の測定にあたっては、共焦点顕微鏡ＰＬμ２３００（Ｓｅｎｓｏｆａｒ社製）を用い、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。測定の際、対物レンズの倍率は５０倍とした。測定データをもとに、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に準拠した方法で計算することにより、算術平均高さＰａおよび平均長さＰＳｍを算出し、さらにその断面曲線における算術平均高さＰａと平均長さＰＳｍの比Ｐａ／ＰＳｍを算出した。結果を表１に示す。

＜評価試験２＞
実施例１〜５、比較例１、２で得られた各金型について、高輝度の照明を用いて照らし、反射光を目視で観察することによって金型上の欠陥を評価した。金型上の欠陥は主に微細な突起状欠陥もしくは凹状欠陥として存在するため、高輝度の照明で照らして反射光を観察した際には輝点として観察される。目視で発見された輝点を、デジタルマイクロスコープＶＨＸ−５００（（株）キーエンス製）を用いて観察することによって欠陥の大きさを評価し、大きさが１５０μｍを超えるものを欠陥としてカウントした。ここで高輝度の照明としてはビデオライトＶＬ−５０１（（株）エル・ピー・エル製）を用いた。

＜実施例６〜１０、比較例３、４＞
光硬化性樹脂組成物ＧＲＡＮＤＩＣ ８０６Ｔ（大日本インキ化学工業（株）製）を酢酸エチルにて溶解して、５０重量％濃度の溶液とし、さらに、光重合開始剤であるルシフェリンＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製、化学名：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド）を、硬化性樹脂成分１００重量部あたり５重量部添加して塗布液を調製した。厚み８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に、この塗布液を乾燥後の塗布厚みが５μｍとなるように塗布し、６０℃に設定した乾燥機中で３分間乾燥させた。乾燥後のフィルムを、実施例１〜５、比較例１、２でそれぞれ得られた金型の凹凸面に、光硬化性樹脂組成物層が金型側となるようにゴムロールで押し付けて密着させた。この状態でＴＡＣフィルム側より、強度２０ｍＷ／ｃｍ²の高圧水銀灯からの光をｈ線換算光量で２００ｍＪ／ｃｍ²となるように照射して、光硬化性樹脂組成物層を硬化させた。この後、ＴＡＣフィルムを硬化樹脂ごと金型から剥離して、表面に凹凸を有する硬化樹脂とＴＡＣフィルムとの積層体からなる、実施例６〜１０、比較例３、４の透明な防眩フィルムをそれぞれ得た。

＜評価試験３＞
得られた実施例６〜１０、比較例３、４の各防眩フィルムについて、以下のような光学特性および防眩性能の評価を行った。

（１）光学特性の評価１：ヘイズの測定
防眩フィルムのヘイズは、ＪＩＳ Ｋ ７１３６に規定される方法で測定した。具体的には、この規格に準拠したヘイズメータＨＭ−１５０型（村上色彩技術研究所製）を用いてヘイズを測定した。防眩フィルムの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。一般的にヘイズが大きくなると、画像表示装置に適用したときに画像が暗くなり、その結果、正面コントラストが低下しやすくなる。それ故に、ヘイズは低い方が好ましい。

（２）光学特性の評価２：反射鮮明度の測定
反射鮮明度は、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に規定される方法で測定した。具体的には、この規格に準拠した写像性測定器ＩＣＭ−ＩＤＰ（スガ試験機（株）製）を用いて、防眩フィルムの反射鮮明度を測定した。この規格では、像鮮明度測定に用いる光学くしとして、暗部と明部の幅の比が１：１で、その幅が０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍおよび２．０ｍｍである４種類が規定されている。このうち、幅０．１２５ｍｍの光学くしを用いた場合、本発明で規定する防眩フィルムにおいては、その測定値の誤差が大きくなることから、幅０．１２５ｍｍの光学くしを用いた場合の測定値は和に加えないこととし、幅が０．５ｍｍ、１．０ｍｍおよび２．０ｍｍである３種類の光学くしを用いて測定された像鮮明度の和をもって反射鮮明度と呼ぶことにした。この定義による場合の反射鮮明度の最大値は３００％である。この定義による反射鮮明度があまり大きくなると、光源などの像が映り込んで、防眩性が低下する傾向になりやすいため、１００％以下であることが好ましく、５０％以下であることがさらに好ましい。評価の際には、防眩フィルムの反りを防止するため、および裏面からの反射を防止するために、光学的に透明な粘着剤を用いて、防眩フィルムの凹凸面が表面となるように２ｍｍ厚みの黒色アクリル樹脂板に貼合してから、測定に供した。この状態で防眩フィルム側から光を入射させ、測定を行った。

（３）光学特性の評価３：６０度光沢度の測定
６０度光沢度は、ＪＩＳ Ｚ ８７４１に規定される方法で測定した。具体的には、この規格に準拠した光沢計ＰＧ−１Ｍ（日本電色工業（株）製）を用いて、防眩フィルムの光沢度を測定した。この場合も、防眩フィルムの反りを防止するため、および裏面からの反射を防止するために、光学的に透明な粘着剤を用いて、防眩フィルムを凹凸面が表面となるように２ｍｍ厚みの黒色アクリル樹脂板に貼合してから、測定に供した。この状態で防眩フィルム側から光を入射させ、測定を行った。一般的に６０度光沢度が小さいことは、サンプル表面が曇っていることを意味し、その結果、白ちゃけが発生しやすくなる。それ故に、光沢度は高い方が好ましいが、光沢度が高すぎると映り込みが生じ、防眩性が低下するため、３０〜９０％程度の値が好ましい。

（４）防眩性能の評価１：映り込みの目視評価
防眩フィルムの裏面からの反射を防止するために、凹凸面が表面となるように黒色アクリル樹脂板に防眩フィルムを貼合し、蛍光灯のついた明るい室内で凹凸面側から目視で観察し、蛍光灯の映り込みの有無を、目視にて次の基準で３段階に評価した。

１：映り込みが観察されない
２：映り込みが少し観察される
３：映り込みが明瞭に観察される
（５）防眩性能の評価２：白ちゃけの目視評価
防眩フィルムの裏面からの反射を防止するために、凹凸面が表面となるように黒色アクリル樹脂板に防眩フィルムを貼合し、蛍光灯のついた明るい室内で凹凸面側から目視で観察し、白ちゃけの程度を、目視にて次の基準で３段階に評価した。

１：白ちゃけが観察されない
２：白ちゃけが少し観察される
３：白ちゃけが明瞭に観察される
（６）防眩性能の評価３：ギラツキの評価
まず、図５に平面図で示すようなユニットセル３１のパターンを有するフォトマスクを用意した。図５において、ユニットセル３１は、透明な基板上に、線幅１０μｍでカギ形のクロム遮光パターン３２が形成され、そのクロム遮光パターン３２の形成されていない部分が開口部３３となっている。次に、このフォトマスクを図６に示すように、フォトマスク４１のクロム遮光パターン３２を上にして、内部に光源４３が設けられたライトボックス４２に置き、１．１ｍｍ厚のガラス板４４に２０μｍ厚みの粘着剤で防眩フィルム５１を貼合したサンプルをフォトマスク４１上に置き、サンプルから約３０ｃｍ離れた場所から目視観察することにより、ギラツキの程度を７段階で官能評価した官能評価の７段階のうち、レベル１はギラツキが全く認められない状態、レベル７はひどくギラツキが観察される状態に該当し、レベル３はごくわずかにギラツキが観察される状態である。なお、フォトマスクのユニットセルは、図５におけるユニットセル縦×ユニットセル横が２８２μｍ×９４μｍ、したがって同図における開口部縦×開口部横が２７２μｍ×８４μｍのものを用いた。このセルは９０ｐｐｉ（ｐｉｘｅｌ ｐｅｒ ｉｎｃｈ）の画素密度に相当する。

結果を表２に示す。なお、表２中、たとえば実施例６の反射鮮明度の内訳は次のとおりである。

反射鮮明度
０．５ｍｍ光学くし： ９．７％
１．０ｍｍ光学くし： ９．９％
０．５ｍｍ光学くし：１４．５％
合計 ３４．１％

表１、２に示す結果から、本発明の製造方法によって、実施例１〜５のように欠陥が略存在しない状態で再現性よく金型を作製することができた。また、実施例１〜５の本発明の製造方法で得られた金型は、優れた防眩性能を示す防眩フィルムを製造できることが分かった。なお、比較例１、２のように、１種類の微粒子のみをぶつけて金型を作製する方法では、優れた防眩性能を示す防眩フィルムを得るためには鈍らせる加工を強化しなくてはならず、そのために欠陥の個数が実施例１〜５と比較して１０倍以上となった。

また、実施例４、５のように第一の微粒子の平均粒径が第二の微粒子の平均粒径よりも小さい場合には、それらの金型を用いて作製された防眩フィルムの反射鮮明度が５０％を超える結果となり、防眩性能も落ちた。このように第一の微粒子の平均粒径が第二の微粒子の平均粒径よりも小さい場合には、表面形状の微調整が困難であり、十分な防眩性能と欠陥が略存在しないことを両立することが難しくなる場合があることが分かる。

本発明の金型の製造方法の前半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。 凹凸調整工程において、凹凸形成工程で用いた第一の微粒子よりも大きな平均粒径を有する第二の微粒子を用いた場合の基材の表面形状を模式的に示す図である。 本発明の金型の製造方法の後半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。 本発明の金型の製造方法の後半部分の好ましい他の例を模式的に示す図である。 ギラツキ評価試験に用いられるフォトマスクにおけるユニットセル３１を模式的に示す平面図である。 ギラツキ評価試験を行っている様子を模式的に示す図である。

符号の説明

１ 基材、２，４，５，７，１２ 基材の表面、３ 凹面、６ 銅めっき層、１１ クロムめっき層。

Claims (10)

1. 金型用基材の表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施す第１めっき工程と、
   第１めっき工程によってめっきが施された表面を研磨する研磨工程と、
   研磨された面に第一の微粒子をぶつけて凹凸を形成する凹凸形成工程と、
   第一の微粒子とは異なる大きさの第二の微粒子をぶつけて凹凸形成工程で形成された凹凸形状を調整する凹凸調整工程と、
   第二の微粒子により調整された後の凹凸形状を鈍らせる加工を施す鈍化工程と、
   鈍らせた凹凸面にクロムめっきを施す第２めっき工程とを含む、金型の製造方法。
2. 第一の微粒子および第二の微粒子が平均粒径１０〜２００μｍの真球である、請求項１に記載の製造方法。
3. 第一の微粒子の平均粒径が第二の微粒子の平均粒径よりも大きい、請求項１または２に記載の製造方法。
4. 凹凸形状を鈍らせる加工がエッチング処理である、請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
5. エッチング量が１〜６μｍである、請求項４に記載の製造方法。
6. 凹凸形状を鈍らせる加工が銅めっきである、請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
7. 銅めっきにより形成された銅めっき層が１〜６μｍの厚みを有する請求項６に記載の製造方法。
8. クロムめっきを施した後、表面を研磨せず、そのままクロムめっき面を金型の凹凸面として用いる、請求項１〜６のいずれかに記載の製造方法。
9. クロムめっきにより形成されたクロムめっき層が１〜１０μｍの厚みを有する、請求項１〜８のいずれかに記載の製造方法。
10. 請求項１〜９のいずれかに記載の方法で製造された金型の凹凸面を透明樹脂フィルムに転写する工程と、
    金型の凹凸面が転写された透明樹脂フィルムを金型から剥がす工程とを含む、防眩フィルムの製造方法。

Images