JP2009094376A

JP2009094376A - Method for manufacturing aluminum electrode foil for use of electrolytic capacitor

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Publication number: JP2009094376A
Application number: JP2007265222A
Authority: JP
Inventors: Kiyoshi Narisawa; 清志成沢
Original assignee: Nichicon Corp
Current assignee: Nichicon Corp
Priority date: 2007-10-11
Filing date: 2007-10-11
Publication date: 2009-04-30

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing aluminum electrode foil (etched foil) for use of an electrolytic capacitor having a large electrostatic capacitance without lowering productivity, by improving a current waveform in AC etching. <P>SOLUTION: By the method for manufacturing aluminum electrode foil for use of an electrolytic capacitor, in an etching process which roughens both surfaces of aluminum foil by AC electrolysis of both surfaces of the aluminum foil in an etchant containing chlorine ion, AC current is applied between electrodes facing the both surfaces of the aluminum foil in the etchant. A waveform of the AC current includes a principal waveform 1 composed of AC waveform and an auxiliary waveform 2 keeping a zero state of a current level for a predetermined period, and, herein, the auxiliary waveform 2 appears with a period of (n+0.5) times of a period of the AC waveform 1, where n is a positive integer. It is preferable that the appearance period of the auxiliary waveform 2 is 0.05 to 2.0 seconds and n is 2 to 200. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、アルミニウム電解コンデンサ用電極箔（エッチド箔）の製造方法に関するものである。特にアルミニウム箔を交流エッチングする際の電流波形に関するものである。 The present invention relates to a method for producing an electrode foil (etched foil) for an aluminum electrolytic capacitor. In particular, the present invention relates to a current waveform when AC etching is performed on an aluminum foil.

一般にアルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造においては、その実効面積を拡大する目的でエッチング処理が施される。エッチング処理には、従来から化学エッチング、電解エッチングなどが採用されているが、低圧用の陽極箔や、陰極箔については、交流電流を用いた電解エッチングが広く行われている。 In general, in the production of an electrode foil for an aluminum electrolytic capacitor, an etching process is performed for the purpose of expanding the effective area. Conventionally, chemical etching, electrolytic etching, and the like have been adopted for the etching process, but electrolytic etching using an alternating current is widely performed for low-pressure anode foil and cathode foil.

交流電流を用いた電解エッチングでは、エッチング方法の創意・工夫により、有効拡面倍率が向上し、高容量エッチド箔の製造が可能となってきているが、近年、従来にも増して電解コンデンサの小形化の要求が厳しくなっており、更なる高容量化を図る必要がある。 In electrolytic etching using alternating current, the effective area expansion ratio has been improved and the production of high-capacity etched foil has become possible due to the inventiveness and ingenuity of the etching method. The demand for downsizing has become strict, and it is necessary to further increase the capacity.

エッチド箔の静電容量を高めるには、エッチング液組成の工夫や改善が行われる一方で、使用する交流電源の周波数や波形に関する発明が数多く行われている。例えば、商用周波数である５０Ｈｚや６０Ｈｚよりも低い周波数とした交流エッチングが提案されている（特許文献１参照）。 In order to increase the capacitance of the etched foil, the etching solution composition has been devised and improved, while many inventions relating to the frequency and waveform of the AC power supply used have been made. For example, AC etching with a frequency lower than the commercial frequency of 50 Hz or 60 Hz has been proposed (see Patent Document 1).

また、正弦波または矩形波等の単純波形以外の波形を有する交流電流を用いる方法や、エッチング工程を前段と後段とに分けて周波数を順次低くする方法や電流密度を順次高くする方法などが提案されている（特許文献２参照）。 Also proposed are methods that use alternating currents that have waveforms other than simple waveforms such as sine waves or rectangular waves, methods that sequentially reduce the frequency by dividing the etching process into the first and second stages, and methods that increase the current density sequentially. (See Patent Document 2).

また、一周期ごとに電流がゼロになる時間を有する交流電流を用いることにより、電流がゼロとなる期間において皮膜を溶解させることによりエッチング倍率の拡大を図ることが提案されている（特許文献３参照）。 Further, it has been proposed to increase the etching magnification by dissolving the film during a period when the current becomes zero by using an alternating current having a time when the current becomes zero every cycle (Patent Document 3). reference).

このような交流エッチングにおいては、正の半周期でアルミニウムが溶解され、負の半周期では水素の発生による局部的なｐＨの上昇により水和酸化皮膜が生成され、この皮膜の欠陥部から優先的に次の正の半周期においてアルミニウムが溶け出すとされている（例えば、非特許文献１）。 In such AC etching, aluminum is dissolved in the positive half cycle, and in the negative half cycle, a hydrated oxide film is generated due to a local increase in pH due to the generation of hydrogen. In the next positive half cycle, aluminum is supposed to melt (for example, Non-Patent Document 1).

特公昭５４―４３１７７号公報Japanese Examined Patent Publication No. 54-43177 特公昭５８−２２３９０号公報Japanese Patent Publication No.58-22390 特開平６−２７２０９７号公報JP-A-6-272097 永田伊佐也、「電解液陰極アルミニウム電解コンデンサ」、日本蓄電器工業株式会社、平成９年２月２４日、第２版第１刷、Ｐ２３６−２４０Isaya Nagata, “Electrolyte Cathode Aluminum Electrolytic Capacitor”, Nihon Denki Kogyo Kogyo Co., Ltd., February 24, 1997, Second Edition, First Printing, P236-240

しかしながら、交流エッチングにおいて、電流の周波数や波形形状を改良する方法は、アルミニウムの溶解量が増大するにつれて表面積が大きくなっていくが、ある点を境に溶解量が増大しても表面積はむしろ低下してしまう。
すなわち、エッチングの過程で生じる皮膜はエッチングの進行に深く関与しており、これらの皮膜は一般的な交流電流を用いたエッチング条件では、エッチングの進行に伴い皮膜量が変化していき、その結果、エッチングが進行するにつれて、電気を印加しても適切な欠陥点が形成されにくくなるからである。 However, in AC etching, the method of improving the frequency and waveform shape of the current increases the surface area as the amount of aluminum dissolved increases, but the surface area rather decreases as the amount of dissolution increases at a certain point. Resulting in.
In other words, the films formed during the etching process are deeply involved in the progress of etching, and these films change with the progress of etching under the etching conditions using general alternating current. This is because, as etching progresses, appropriate defect points are hardly formed even when electricity is applied.

このような問題を解決するために、エッチングの進行に伴い交流電解条件を変更する方法が提案されているが、単独の段による条件に比べると改善されるものの、エッチングの進行とともに表面積の増大が緩やかになる。
正側と負側の電流密度や印加時間を変えてエッチングを行い、皮膜の形成をコントロールする手法も提案されているが、アルミニウム箔に電流を直接印加する必要があり、大電流を流すことができないという欠点がある。 In order to solve such a problem, a method of changing the AC electrolysis conditions with the progress of etching has been proposed, but the surface area increases with the progress of etching although it is improved as compared with the condition with a single stage. Be gentle.
A method has also been proposed in which etching is performed by changing the current density and application time on the positive side and the negative side to control the formation of the film. However, it is necessary to apply a current directly to the aluminum foil, and a large current must flow. There is a disadvantage that it can not.

また、特許文献３に開示されている方法では、交流の一周期毎に電流がゼロになる期間を設けるため、エッチング電流密度が低下し、生産性が低下するという問題がある。
また、特許文献３に開示されている方法では、更なる高倍率化が必要とされる昨今の要望に対応できないという問題を有している。 In addition, the method disclosed in Patent Document 3 has a problem that the etching current density is lowered and the productivity is lowered because a period in which the current is zero is provided for each period of alternating current.
In addition, the method disclosed in Patent Document 3 has a problem that it cannot meet the recent demands for further higher magnification.

なお、エッチング工程の中間に陽極酸化や加熱酸化を施し、皮膜を付与する方法も検討されてはいるが、これらの方法にて形成された皮膜は均一性が高すぎたり、ムラが多すぎ、必ずしも効果的ではなかった。 In addition, although the method of giving an anodization and heat oxidation in the middle of an etching process and giving a film is also examined, the film formed by these methods is too high in uniformity or too much unevenness, It was not always effective.

以上の問題に鑑みて、本発明の課題は、交流エッチングにおける電流波形を改善することにより、生産性を低下させることなく、静電容量の高い低圧用陽極箔または陰極という電解コンデンサ用アルミニウム電極箔（エッチド箔）の製造方法を提供することにある。 In view of the above problems, an object of the present invention is to improve the current waveform in AC etching, thereby reducing the productivity and reducing the productivity of the low-voltage anode foil or cathode aluminum electrode foil for electrolytic capacitors. It is in providing the manufacturing method of (etched foil).

上記課題を解決するため、本願発明者は、交流エッチングにおいて、エッチング電流がゼロになる状態（ゼロ状態）を所定の間隔で出現させることを特徴とする波形を用い、かつ、このゼロ状態の間隔と時間を詳細に検討した。 In order to solve the above-mentioned problem, the present inventor uses a waveform characterized by causing a state in which an etching current becomes zero (zero state) to appear at a predetermined interval in AC etching, and the interval between the zero states. And examined the time in detail.

本発明は、かかる検討の結果、実現されたものであり、塩素イオンを含有するエッチング液中でアルミニウム箔（アルミニウム合金箔を含む）の両面を交流電解して当該アルミニウム箔の両面を粗面化するエッチング工程を有する電解コンデンサ用電極箔の製造方法において、前記エッチング液中では、前記アルミニウム箔の両面に対向する電極間に交流電流を印加し、前記交流電流の波形は、交流波形からなる主波形と、電流レベルがゼロの状態が所定期間持続される副波形とを含み、ｎを正の整数としたとき、前記副波形は、前記交流波形の周期の（ｎ+０．５）倍の周期で出現することを特徴とする。 The present invention has been realized as a result of such studies, and both surfaces of an aluminum foil (including aluminum alloy foil) are subjected to AC electrolysis in an etching solution containing chlorine ions to roughen both surfaces of the aluminum foil. In the method for manufacturing an electrode foil for an electrolytic capacitor having an etching step, an alternating current is applied between electrodes facing both surfaces of the aluminum foil in the etching solution, and the waveform of the alternating current is mainly composed of an alternating current waveform. Including a waveform and a sub-waveform in which the current level is zero for a predetermined period, where n is a positive integer, the sub-waveform is (n + 0.5) times the period of the AC waveform Appears in a cycle.

本発明では、主となる交流波形（主波形）の正または負の半周期後に、電流レベルがゼロの状態となる副波形を含み、ゼロ状態を所定の間隔で出現させる交流電流を用いてエッチングを行うようにしたものである。
このようなエッチング方法によれば、エッチング進行の主となる主波形の期間において形成される皮膜を、副波形の期間によって適切に改質・溶解させるため、静電容量の向上を図ることができる。
また、エッチング電流は、正・負対称の交流電流であるため、アルミニウム箔の両面に対向する電極間に交流電流を印加すればよく、アルミニウム箔に電流を直接印加する必要がないので、大電流を流すことができる。
さらに、ゼロ状態の副波形の割合は、主波形に比べて小さいため、平均電流密度が大きく低下することがなく、高い生産性を実現することができる。 In the present invention, etching is performed using an alternating current that includes a sub-waveform in which the current level is zero after a positive or negative half cycle of the main alternating current waveform (main waveform) and causes the zero state to appear at predetermined intervals. Is to do.
According to such an etching method, the film formed in the main waveform period, which is the main etching process, is appropriately modified and dissolved in the sub-waveform period, so that the capacitance can be improved. .
Moreover, since the etching current is a positive / negative symmetrical alternating current, it is only necessary to apply an alternating current between the electrodes facing both sides of the aluminum foil, and it is not necessary to directly apply the current to the aluminum foil. Can flow.
Furthermore, since the ratio of the sub-waveform in the zero state is smaller than that of the main waveform, the average current density is not greatly reduced, and high productivity can be realized.

本発明において、前記副波形の出現時間は、０．０５〜２．０秒であることが好ましい。 In the present invention, the appearance time of the sub waveform is preferably 0.05 to 2.0 seconds.

本発明において、ｎが２〜２００であることが好ましい。 In the present invention, n is preferably 2 to 200.

本発明を適用した電解コンデンサ用電極箔の製造方法において、エッチング工程では、交流電流として、主波形となる波形の正または負の半周期後にゼロ状態を所定の間隔で出現させる交流電流を用いてエッチングを行うため、単一の波形形状である交流電流を使用した場合に比べてエッチング倍率を高くすることができる。
また、正・負対称の交流電流であるため、アルミニウム箔の両面に対向する電極間に交流電流を印加すればよく、アルミニウム箔に電流を直接印加する必要がないので、大電流を流すことができる。
さらに、ゼロ状態の副波形の割合は、主波形に比べて小さいため、平均電流密度が大きく低下することがなく、高い生産性を実現することができる。 In the method for manufacturing an electrolytic capacitor electrode foil to which the present invention is applied, in the etching step, an alternating current that causes a zero state to appear at a predetermined interval after a positive or negative half cycle of the main waveform is used as an alternating current. Since etching is performed, the etching magnification can be increased as compared with the case where an alternating current having a single waveform shape is used.
Moreover, since it is a positive / negative symmetrical alternating current, it is only necessary to apply an alternating current between the electrodes facing both sides of the aluminum foil, and it is not necessary to apply a current directly to the aluminum foil. it can.
Furthermore, since the ratio of the sub-waveform in the zero state is smaller than that of the main waveform, the average current density is not greatly reduced, and high productivity can be realized.

図１は、本発明を適用した電解コンデンサ用電極箔の製造方法におけるエッチング工程で用いるエッチング波形を示す波形図である。 FIG. 1 is a waveform diagram showing an etching waveform used in an etching process in the method of manufacturing an electrolytic capacitor electrode foil to which the present invention is applied.

本発明を適用した電解コンデンサ用電極箔の製造方法では、塩素イオンを含有するエッチング液中でアルミニウム箔（アルミニウム合金箔を含む）の両面を交流電解してアルミニウム箔の両面を粗面化するエッチング工程を行う。その際、エッチング液中では、アルミニウム箔の両面に対向する電極間に、図１に示す交流電流を印加する。 In the method of manufacturing an electrode foil for an electrolytic capacitor to which the present invention is applied, etching is performed in which both surfaces of an aluminum foil (including an aluminum alloy foil) are AC-electrolyzed in an etching solution containing chlorine ions to roughen both surfaces of the aluminum foil. Perform the process. At that time, in the etching solution, an alternating current shown in FIG. 1 is applied between the electrodes facing both surfaces of the aluminum foil.

図１において、交流電流の波形は、交流波形からなる主波形１と、電流レベルがゼロの状態が所定期間持続される副波形２とを含んでおり、ｎを正の整数としたとき、副波形２は、主波形１における交流波形の周期の（ｎ+０．５）倍の周期で出現する。ここで、主波形１における交流波形は、例えば、正弦波であり、正側および負側で対称な波形を備えている。 In FIG. 1, the waveform of the alternating current includes a main waveform 1 made up of an alternating current waveform and a sub waveform 2 in which a state where the current level is zero is maintained for a predetermined period. When n is a positive integer, Waveform 2 appears at a period (n + 0.5) times the period of the AC waveform in main waveform 1. Here, the AC waveform in the main waveform 1 is, for example, a sine wave, and has a symmetrical waveform on the positive side and the negative side.

本発明において、エッチング液中では、アルミニウム箔の両面に対向する電極間に、図１に示す交流電流を印加する電極給電方式を採用しているため、アルミニウム箔に電流を直接印加する必要がないので、大電流を流すことができる。 In the present invention, in the etching solution, the electrode feeding method for applying the alternating current shown in FIG. 1 is adopted between the electrodes facing both surfaces of the aluminum foil, so that it is not necessary to directly apply the current to the aluminum foil. Therefore, a large current can flow.

また、副波形２（ゼロ状態）は正側の電流の直前に出現させるのが好ましいため、本発明では、副波形２が出現する周期は、図１に示すように、主波形１における交流波形の（ｎ＋０．５）倍周期に設定してある。
すなわち、主波形１のｎ倍周期毎に副波形２を出現させると、アルミニウム電極箔の一方の面に対しては常に正の周期の前に副波形２が出現する一方、他の一方の面に対しては、常に負の周期の前にゼロ状態が出現することになり、アルミニウム箔の表面状態が面により異なる結果、箔特性に悪影響を及ぼす。
しかるに本発明では、副波形２が出現する周期を、主波形１における交流波形の（ｎ＋０．５）倍周期に設定してあるので、アルミニウム箔の両面の各々において、正側の電流の直前にゼロ状態が出現する状態が交互に実現され、得られる電極箔のどちらの面も同様の状態となる。 Further, since the sub waveform 2 (zero state) preferably appears immediately before the positive current, in the present invention, the period in which the sub waveform 2 appears is the AC waveform in the main waveform 1 as shown in FIG. (N + 0.5) times the period.
That is, when the secondary waveform 2 appears every n times the main waveform 1, the secondary waveform 2 always appears before the positive cycle on one surface of the aluminum electrode foil, while the other surface On the other hand, the zero state always appears before the negative period, and the surface state of the aluminum foil varies depending on the surface, which adversely affects the foil characteristics.
However, in the present invention, the period in which the sub-waveform 2 appears is set to (n + 0.5) times the AC waveform in the main waveform 1, so that both sides of the aluminum foil immediately before the positive current. The state in which the zero state appears is alternately realized, and both surfaces of the obtained electrode foil are in the same state.

このように、本発明では、塩素イオンを含有するエッチング液中でアルミニウム箔に交流電流を印加して粗面化するエッチング工程において、交流電流として、主波形となる波形の正または負の半周期後にゼロ状態を所定の間隔で出現させる交流電流を用いてエッチングを行うため、単一の波形形状である交流電流を使用した場合に比べてエッチング倍率を高くすることができる。
また、単一の波形形状である交流電流を使用した場合、エッチングの進行に伴い皮膜量が変化してしまうが、波形に対して適切な間隔にてゼロ状態を出現させることにより、波形を印加中に生じた波形表面の皮膜を適切に溶解することができる。その結果、次の正の半周期においてピット発生が容易に進行するようになり、アルミニウムの溶解量が増大しても表面積の増大が低下しにくくなると理解される。
本発明を用いることでエッチング効率の高いエッチングが進行し、その結果アルミニウムの溶解量が増大しても表面積の増大が低下しにくくなると考えられ、主に陰極箔および低圧陽極箔として電解コンデンサの小形化に寄与する。 Thus, in the present invention, in an etching process in which an alternating current is applied to an aluminum foil in an etching solution containing chlorine ions to roughen the surface, the alternating current is a positive or negative half cycle of a waveform that becomes a main waveform. Since etching is performed using an alternating current that causes a zero state to appear at a predetermined interval later, the etching magnification can be increased as compared with the case where an alternating current having a single waveform shape is used.
In addition, when an alternating current with a single waveform shape is used, the coating amount changes as the etching progresses, but the waveform is applied by causing a zero state to appear at an appropriate interval with respect to the waveform. The film on the corrugated surface generated inside can be dissolved appropriately. As a result, it is understood that the generation of pits easily proceeds in the next positive half cycle, and the increase in surface area is less likely to decrease even if the amount of aluminum dissolved increases.
By using the present invention, etching with high etching efficiency proceeds, and as a result, even if the amount of aluminum dissolved increases, it is considered that the increase in surface area is less likely to decrease. Contributes to

本発明において、副波形２の出現時間は、０．０５〜２．０秒であることが好ましく、ｎは２〜２００であることが好ましい。副波形２の出現時間（ゼロ状態の時間）が０．０５秒より短いと、著しい効果はみられない。逆に、副波形２の出現時間が２．０秒を超えると、効果が得られる場合もあるが、生産性が低下してしまうため、適切ではない。 In the present invention, the appearance time of the sub waveform 2 is preferably 0.05 to 2.0 seconds, and n is preferably 2 to 200. When the appearance time of the sub waveform 2 (zero state time) is shorter than 0.05 seconds, no significant effect is observed. On the contrary, if the appearance time of the sub waveform 2 exceeds 2.0 seconds, an effect may be obtained, but the productivity is lowered, so that it is not appropriate.

本発明においては、エッチングが進行するについて、アルミニウム箔の表面状態が変化していくため、エッチングを複数段に分けて、各段毎に主波形１および副波形２の周期や期間などの条件を変更すると、更に効果的である。
具体的には、エッチングが進行する、すなわち後半の段になるにつれて、ゼロ状態を出現させる間隔を短くするのが効果的である。 In the present invention, as the etching progresses, the surface state of the aluminum foil changes, so the etching is divided into a plurality of stages, and the conditions such as the period and the period of the main waveform 1 and the sub waveform 2 are set for each stage. Changing it is more effective.
Specifically, it is effective to shorten the interval at which the zero state appears as the etching progresses, that is, the latter half of the stage.

以下、実施例１〜２４に基づいて、本発明をより具体的に説明する。まず、純度９９．８６％、厚さ５０μｍのアルミニウム箔の硬質材を用い、塩酸を７．０ｗｔ％、リン酸を１．０ｗｔ％、硝酸を１．０ｗｔ％を含むエッチング液中で液温が３０℃の条件にて交流エッチングを行った。 Hereinafter, based on Examples 1-24, this invention is demonstrated more concretely. First, an aluminum foil hard material having a purity of 99.86% and a thickness of 50 μm is used, and the liquid temperature is set in an etching solution containing 7.0 wt% hydrochloric acid, 1.0 wt% phosphoric acid, and 1.0 wt% nitric acid. AC etching was performed at 30 ° C.

交流電流としては、表１に示す条件の波形にてエッチングを行った。エッチング後、純水で洗浄し、次に、温度が４５℃の３．０ｗｔ％リン酸水溶液でケミカル洗浄処理を２分間行い、次に、純水で洗浄した。
次に、１０ｗｔ％アジピン酸アンモニウム水溶液中で２０Ｖ印加し、化成後の静電容量を測定した。その結果を表１に示す。 As the alternating current, etching was performed with a waveform having the conditions shown in Table 1. After etching, the substrate was washed with pure water, then subjected to a chemical cleaning treatment with a 3.0 wt% phosphoric acid aqueous solution having a temperature of 45 ° C. for 2 minutes, and then washed with pure water.
Next, 20 V was applied in a 10 wt% ammonium adipate aqueous solution, and the capacitance after formation was measured. The results are shown in Table 1.

表１の電解条件において、印加した電流の最大振幅や電気量については同一の条件である。また、図１で示す主波形１については正弦波を用いた。比較例１については、図１に示す単一な正弦波形のみからなる交流電流を用いた。 In the electrolysis conditions of Table 1, the maximum amplitude and the amount of electricity applied are the same conditions. A sine wave is used for the main waveform 1 shown in FIG. For Comparative Example 1, an alternating current consisting only of a single sine waveform shown in FIG. 1 was used.

その結果、表１から分かるように、例えば、本発明の実施例５では、単一な正弦波を交流電流とした比較例１に比べて、静電容量が約２６％高いことが分かる。 As a result, as can be seen from Table 1, for example, in Example 5 of the present invention, it can be seen that the capacitance is about 26% higher than Comparative Example 1 in which a single sine wave is an alternating current.

ここで、実施例１は、副波形２の出現周期が主波形１の交流電流の周期の１．５倍（ｎ＝１の場合）であり、効果が限定的であることが分かる。
また、実施例１９、２０は、副波形２の出現周期が主波形１の交流電流の周期の２２０．５倍（ｎ＝２２０の場合）であり、比較例１と同等の容量値であり、大きな効果が得られない。
このことから、副周期２の出現周期は、主波形１の交流波形の周期の２．５〜２００．５倍（ｎが２〜２００）の範囲が好ましい。 Here, in Example 1, it can be seen that the appearance period of the sub-waveform 2 is 1.5 times the AC current period of the main waveform 1 (when n = 1), and the effect is limited.
In Examples 19 and 20, the appearance period of the sub-waveform 2 is 220.5 times the period of the alternating current of the main waveform 1 (in the case of n = 220), and the capacitance value is the same as that of Comparative Example 1. A big effect cannot be obtained.
Therefore, the appearance period of the sub period 2 is preferably in a range of 2.5 to 200.5 times (n is 2 to 200) the period of the AC waveform of the main waveform 1.

比較例２は、副波形２の出現周期を１０としたものであるが、比較例１と比べて静電容量値が低くなる。このことから、副波形２が出現する周期については、主波形１における交流波形の（ｎ＋０．５）とする必要があることが分かる。 In Comparative Example 2, the appearance period of the sub-waveform 2 is set to 10, but the capacitance value is lower than that in Comparative Example 1. From this, it can be seen that the period in which the sub waveform 2 appears needs to be (n + 0.5) of the AC waveform in the main waveform 1.

実施例４〜１０は、副波形２の出現周期を主波形１の交流電流の周期の１０．５倍（ｎ＝１０）に設定して、副波形２の期間を変化させたものであり、副波形２の期間を変化させると静電容量変化がピークが出現することから、副波形２の期間については最適値が存在することが分かる。
これによると、副波形２の期間が０．０１秒である実施例４、および副波形２の期間が２．５秒である実施例１０は、比較例１と比べて、大きな効果がみられないことから、副波形２の期間は０．０５〜２．０秒の範囲が好適であるといえる。 In Examples 4 to 10, the appearance period of the sub waveform 2 is set to 10.5 times the period of the alternating current of the main waveform 1 (n = 10), and the period of the sub waveform 2 is changed. When the period of the sub-waveform 2 is changed, a peak of the capacitance change appears, so that it can be seen that an optimum value exists for the period of the sub-waveform 2.
According to this, Example 4 in which the period of the sub-waveform 2 is 0.01 seconds and Example 10 in which the period of the sub-waveform 2 is 2.5 seconds have a significant effect compared to the comparative example 1. Therefore, it can be said that the period of the sub waveform 2 is preferably in the range of 0.05 to 2.0 seconds.

（他の実施例）
本発明は実施例に限定されるものではなく、公知のエッチング方法や各種電流波形、多段化したエッチング方法に組み合わせてもよい。
例えば、上記形態では、主波形１の交流波形として正弦波を用いたが、正側および負側で対称な波形であれば、三角波、のこぎり波、矩形波、台形波など、正弦波以外の波形を採用してもよい。 (Other examples)
The present invention is not limited to the embodiments, and may be combined with known etching methods, various current waveforms, and multistage etching methods.
For example, in the above embodiment, a sine wave is used as the AC waveform of the main waveform 1. However, if the waveform is symmetrical on the positive side and the negative side, a waveform other than a sine wave such as a triangular wave, a sawtooth wave, a rectangular wave, or a trapezoidal wave is used. May be adopted.

本発明を適用した電解コンデンサ用電極箔の製造方法におけるエッチング工程で用いるエッチング波形を示す波形図である。It is a wave form diagram which shows the etching waveform used at the etching process in the manufacturing method of the electrode foil for electrolytic capacitors to which this invention is applied.

符号の説明Explanation of symbols

１主波形
２副波形 1 Main waveform 2 Sub waveform

Claims

塩素イオンを含有するエッチング液中でアルミニウム箔の両面を交流電解して当該アルミニウム箔の両面を粗面化するエッチング工程を有する電解コンデンサ用電極箔の製造方法において、
前記エッチング液中では、前記アルミニウム箔の両面に対向する電極間に交流電流を印加し、
前記交流電流の波形は、交流波形からなる主波形と、電流レベルがゼロの状態が所定期間持続される副波形とを含み、
ｎを正の整数としたとき、
前記副波形は、前記主波形における前記交流波形の周期の（ｎ+０．５）倍の周期で出現することを特徴とする電解コンデンサ用電極箔の製造方法。 In the method for producing an electrode foil for an electrolytic capacitor having an etching step in which both surfaces of an aluminum foil are subjected to AC electrolysis in an etching solution containing chlorine ions to roughen both surfaces of the aluminum foil,
In the etching solution, an alternating current is applied between the electrodes facing both surfaces of the aluminum foil,
The waveform of the alternating current includes a main waveform composed of an alternating current waveform and a sub-waveform in which a state where the current level is zero is maintained for a predetermined period of time,
When n is a positive integer,
The method of manufacturing an electrode foil for an electrolytic capacitor, wherein the sub-waveform appears at a period (n + 0.5) times the period of the AC waveform in the main waveform.

前記副波形の出現時間は、０．０５〜２．０秒であることを特徴とする請求項１に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法。 The method for producing an electrode foil for an electrolytic capacitor according to claim 1, wherein the appearance time of the sub-waveform is 0.05 to 2.0 seconds.

ｎが２〜２００であることを特徴とする請求項１または２に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法。 n is 2 to 200, The manufacturing method of the electrode foil for electrolytic capacitors of Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned.