JP2009085865A - Substrate inspection device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ウェハや液晶ガラス基板等の検査に用いられる基板検査装置に関する。 The present invention relates to a substrate inspection apparatus used for inspection of wafers, liquid crystal glass substrates, and the like.
フラットパネルディスプレイ(FPD)などの製造工程においては、ガラス基板の外観を観察する検査(マクロ検査)が行われている。この検査工程では、搬送装置でガラス基板を搬送しながら検査ヘッドで基板表面の画像を取得する基板検査装置を用いることが知られている。この種の基板検査装置に用いられる搬送装置としては、ガラス基板をエアー浮上させると共に、ガラス基板の側部を保持して移動するステージを備え、ガラス基板を非接触で搬送するように構成したものがある。 In a manufacturing process of a flat panel display (FPD) or the like, an inspection (macro inspection) for observing the appearance of a glass substrate is performed. In this inspection process, it is known to use a substrate inspection apparatus that acquires an image of the substrate surface with an inspection head while conveying a glass substrate with a conveyance apparatus. As a transfer device used for this type of substrate inspection device, a glass substrate is levitated in air and equipped with a stage that moves while holding the side of the glass substrate, and is configured to convey the glass substrate in a non-contact manner. There is.
ここで、近年では、ガラス基板のサイズが大型化し、1辺の長さが例えば3mに達することもある。このようなサイズのガラス基板の略全面の画像データを取得するためには、搬送装置はガラス基板を少なくとも1辺の2倍(1辺が3mの場合には6m)の距離搬送しなければならない。このため、従来の基板検査装置では、搬送方向に複数の搬送装置を設け、隣り合う搬送装置の間でガラス基板を受け渡しながら、大型のガラス基板の検査を行うようにしている。搬送方向で隣り合う2つの搬送装置は、搬送軸同士や、ステージ同士が干渉しないように、隣り合う2つの搬送装置を搬送方向に直交する幅方向にずらして設置される(例えば、特許文献1参照)。搬送装置ごとに搬送軸を設けることで、1つ1つの搬送軸を短くでき、直線度を確保し易くなっていた。また、設置の際にも水平度の調整が容易になるというメリットもあった。
しかしながら、従来では、ステージの干渉を防止するために隣り合う搬送装置の搬送軸をずらして敷設し、搬送装置が幅方向に互い違いに突出させていたので、基板検査装置の幅が大きくなり、工場の限られたスペースに設置することが困難になっていた。
さらに、従来では、2つの搬送装置の間でガラス基板を受け渡すときに位置ずれが生じないように、受け渡し元となる搬送装置でガラス基板を保持している間に、別の保持手段でガラス基板を保持させ、受け渡し元となる搬送装置の保持を解除した後、受け渡し先となる搬送装置に保持させていた。別の保持手段を設けることで装置構成が複雑化し、装置コストを増大させる原因になっていた。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、搬送装置間で基板を受け渡しながら検査を行う構成において、装置を小型化かつ構造を簡略化することを主な目的とする。
However, in the past, in order to prevent the interference of the stage, the transport axis of the adjacent transport device was shifted and laid, and the transport device protruded alternately in the width direction, so the width of the substrate inspection device increased, and the factory It was difficult to install in a limited space.
Furthermore, conventionally, glass glass is held by another holding means while the glass substrate is held by the transfer device serving as a transfer source so that no positional deviation occurs when the glass substrate is transferred between the two transfer devices. After holding the substrate and releasing the holding of the transfer device as the delivery source, the substrate is held by the transfer device as the delivery destination. Providing another holding means complicates the apparatus configuration and increases the apparatus cost.
The present invention has been made in view of such circumstances, and it is a main object of the present invention to reduce the size of the apparatus and simplify the structure in a configuration in which inspection is performed while delivering a substrate between transfer apparatuses.
上記の課題を解決する本発明は、浮上ステージで浮上させた基板を保持して搬送する基板搬送部を搬送方向に複数設け、複数の前記基板搬送部の間で基板を受け渡しながら基板の検査を行う基板検査装置において、前記複数の基板搬送部が搬送方向に平行な同一のライン上に配置されると共に、基板の底面に当接して搬送方向に隣り合う2つの前記基板搬送部の間で基板を移動させる回転部材を備えることを特徴とする基板検査装置とした。 The present invention that solves the above-mentioned problems is provided with a plurality of substrate transport sections in the transport direction for holding and transporting a substrate levitated on a levitation stage, and inspecting the substrate while delivering the substrate between the plurality of substrate transport sections. In the substrate inspection apparatus to be performed, the plurality of substrate transfer units are arranged on the same line parallel to the transfer direction, and the substrate is in contact with the bottom surface of the substrate between the two substrate transfer units adjacent to each other in the transfer direction. A substrate inspection apparatus comprising a rotating member that moves the substrate.
本発明によれば、基板搬送部が搬送方向に直交する方向に互い違いに突出することがなくなって、複数の基板搬送部を設置するために必要なスペースが少なく済む。このため、装置を小型化できる。回転部材を利用して基板搬送部間で基板を受け渡すことで位置ずれを防止したので、位置調整のための装置を別に設ける必要がなくなって装置構成を簡略化できる。 According to the present invention, the substrate transport portions do not protrude alternately in the direction orthogonal to the transport direction, and the space required for installing the plurality of substrate transport portions can be reduced. For this reason, an apparatus can be reduced in size. Since the positional deviation is prevented by transferring the substrate between the substrate transfer units using the rotating member, it is not necessary to provide a separate device for position adjustment, and the device configuration can be simplified.
本発明を実施するための最良の形態について図面を参照して詳細に説明する。なお、各実施の形態で同じ構成要素には同一の符号を付してある。また、各実施の形態で重複する説明は省略する。 The best mode for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that the same reference numerals are given to the same components in each embodiment. In addition, a description overlapping in each embodiment is omitted.
(第1の実施の形態)
図1に示すように、基板検査装置1は、ベース2上にガラス基板Wを1軸方向に搬送する基板搬送装置3が敷設され、基板搬送装置3の搬送方向に第1の検査部4と、第2の検査部5とが離間して配設されている。各部の制御は、制御装置6で行われている。制御装置6には、検査者が操作する操作部や検査結果などを表示する表示装置を設けられている。なお、検査対象は、ガラス基板に限定されず、その他の基板でも良い。
(First embodiment)
As shown in FIG. 1, in the substrate inspection apparatus 1, a substrate transfer device 3 that transfers a glass substrate W in a uniaxial direction is laid on a
基板搬送装置3は、ガラス基板Wをエアー浮上させる浮上ステージ11と、搬送方向の上流側、つまりガラス基板Wの搬入側に敷設された第1の搬送部12と、搬送方向の下流側、つまりガラス基板Wの搬出側に敷設された第2の搬送部13と、これら2つの搬送部12,13の間でガラス基板Wを受け渡すために使用されるローラ式搬送部14とを備える。
The substrate transport device 3 includes a
浮上ステージ11は、多数の浮上プレート21を有する。これら浮上プレート21は、搬送方向に平行に敷設されている。各浮上プレート21は、上面が水平になるように支持されており、上面にはエアー噴き出し孔22が多数設けられている。これら浮上プレート21は、不図示のエアー供給源に接続されており、各浮上プレートの各エアー噴き出し孔22からエアーを上向きに噴出させることができるようになっている。エアー噴き出し孔22は、ガラス基板Wの略全体を下方から浮上させるのに十分な数及び配置になっている。隣り合う2つの浮上プレート21の間には、隙間23が形成されているが、この隙間23は、エアー浮上に影響を与えない程度の大きさにしてある。この浮上ステージ11は、搬送方向に複数本の浮上プレート21を繋ぎ合わせてある。浮上プレート21を繋ぎ合わせた接合部11Aは、第2の搬送部13内で第2の検査部5より上流側に設けられており、僅かな隙間を有する。
The
ここで、浮上プレート21の接合部11Aに合わせて、1列の乗り越し用のローラ24が設けられている。ローラ24は、浮上プレート21の隙間23に配置され、不図示の支持部に回転自在に支持されたフリーローラである。ローラ24を有することで、接合部11Aでの浮上力低下によるガラス基板Wの撓みなどを防止できる。また、ローラ24があることによって、接合される上流側と下流側の各浮上プレート21の高さを厳密に一致させなくてもガラス基板Wをスムーズに搬送できるようになる。浮上プレート21の接合位置に合わせてベース2も接合しても良い。なお、浮上ステージ11が接合部11Aを有しない場合には、このローラ24を設けない。
Here, in line with the
また、浮上プレート21の搬入端及び搬出端のそれぞれの隙間23には、ガラス基板Wに搬送力を伝える自走式の搬入ローラ26と搬出ローラ27が挿入されている。これらローラ26,27は、ガラス基板Wを他の装置から基板検査装置1に搬入したり、搬出したりする際に使用される。ガラス基板Wの搬入出時以外には、ローラ26,27を浮上したガラス基板Wの裏面に接触しないように浮上プレート21の上面より下がった位置まで退避できるようにする。
In addition, a self-propelled carry-in
第1の搬送部12は、浮上ステージ11の両側に沿って平行に敷設されている。各第1の搬送部12は、搬送方向に平行に敷設された搬送ガイドレール31と、搬送ガイドレール31に沿って移動するスライダ32と、スライダ32を駆動させる駆動部であるリニアモータ33と、スライダ32に搭載されてガラス基板Wを吸着保持する基板保持部34とを備える。
図1及び図2に示すように、駆動部には、リニアモータ33が用いられているが、ボールネジとモータを組み合わせた直線移動機構でも良い。搬送ガイドレール31は、リニアモータ33を挟むように一対設けられている。リニアモータ33及び搬送ガイドレール31の長さは、ガラス基板Wの1辺の長さよりは大きいが、1辺の2倍よりは小さい。基板保持部34は、ガラス基板Wの外縁部の裏面に当接させられる吸着パッド35を昇降自在に備えている。吸着パッド35の上面には、不図示の吸引孔が開口しており、これを吸引源に接続することで、ガラス基板Wを吸着保持することができる。吸着パッド35は、ガラス基板Wを傷付けない程度の硬度と、十分な耐摩耗性を有する材料から製造されている。なお、吸着パッド35を首振り動作できるようにしておけば、ガラス基板Wを吸着し易くなる。
The
As shown in FIGS. 1 and 2, a
図1に示すように、第2の搬送部13は、第1の搬送部12と同様の構成になっている。搬送方向に直交する幅方向において、第2の搬送部13の設置位置は、第1の搬送部12の設置位置に一致させてある。つまり、同じ側方の2つの搬送部12,13のスライダ32が同軸上に配置されており、2つの搬送部12,13が同一ライン上に、幅方向にずれることなく一直線状に設置されている。各搬送部12,13の搬送ガイドレール31及びリニアモータ33は、独立しているので、スライダ32及び基板保持部34が互いに干渉することはない。
As shown in FIG. 1, the
図1及び図2に示すように、ローラ式搬送部14は、第1の搬送部13の搬送経路内の下流側で、浮上プレート21の隙間23に設置された2列の自走式ローラ機構を備える。自走式ローラ機構は、軸受支持部43に回転自在に支持された回転軸42にローラ41が固定される。回転軸42及び軸受支持部43は、モータステージ44に昇降自在に支持されている。自走式ローラ機構としては、例えば、図3に示すように、回転軸42に減速機構部45を介してモータ46に連結した構成があげられる。シリンダ47は、矢印に示すように軸受支持部43、モータ46、ローラ41を一体に上下方向に移動させる昇降機構を構成している。この昇降機構によって、ローラ41を浮上プレート21の上面に対して突没させることができる。ローラ41の突出量は、エアー浮上させているガラス基板Wの下面にローラ41を当接させるのに必要な基板浮上高さと同等の大きさである。ローラ41は、1列でも良く、3列以上でも良い。なお、前記した搬入搬出用のローラ26,27を昇降させときの機構も同様のものを使用できる。接合部11Aの乗り越し用のローラ24を昇降させるときも同様である。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
第1の検査部4は、搬入ローラ26より下流側、かつローラ式搬送部14より上流側に配置されており、浮上ステージ11及び第1の搬送部12を幅方向で跨ぐようにベース2に固定された門型フレーム(ガントリともいう)51と、門型フレーム51の水平梁51Aに固定された不図示のライン照明装置と、ラインセンサカメラからなる複数の検査ヘッド53を備えるマクロ検査装置である。ライン照明装置は、幅方向にスリット状のライン照明光を照射し、下方に設定された検査位置にあるガラス基板Wの表面に斜めに入射するように構成されている。検査ヘッド53は、幅方向に配列されたスリット状の検査領域の画像データを取得する撮像素子を備える。例えば、正反射の画像を取得する場合には、ガラス基板Wで正反射した光の光路上に検査ヘッド53が設置される。なお、検査位置を中心とする検査ヘッド53の設置角度を変更可能な角度調整機構を設けると、暗視野での画像データや回折光の画像データを取得することも可能になる。
The
第2の検査部5は、ローラ式搬送部14及び乗り越し用ローラ24より下流側、かつ搬出用ローラ27より上流側に配置されており、浮上ステージ11及び第2の搬送部13を幅方向で跨ぐようにベース2に固定された門型フレーム(ガントリともいう)61と、門型フレーム61の水平梁61Aに敷設され、幅方向に敷設された軸に沿って移動可能なスライダ62と、スライダ62に搭載された顕微鏡63とを備え、ミクロ検査装置又はレビュー装置と呼ばれる。顕微鏡63には、落射照明が用いられており、ガラス基板Wの表面の顕微鏡画像を取得して画像データを出力する撮像素子が設けられている。なお、浮上プレート21の下方にライン状の照明を設け、透過照明によってガラス基板Wの表面観察を行っても良い。この場合は、浮上プレートに照明光を通すための狭いスリットが形成される。
The second inspection unit 5 is disposed on the downstream side of the roller-
次に、この基板検査装置1の動作について説明する。
最初に、第1、第2の搬送部12,13のそれぞれのスライダ32を上流側に移動させ待機させる。各基板保持部34は、吸着パッドの吸着面がガラス基板Wの裏面に接触しない位置まで降下させておく。浮上プレート21のエアー吹き出し孔22からはエアーを噴き出させておく。
ラインの上流側でアライメントされたガラス基板Wが搬入されると、最初に搬入ローラ26によってガラス基板Wが浮上ステージ11上に案内される。基板検査装置1に搬入されたガラス基板Wは、エアー浮上させられるので、第1の搬送部12の基板保持部34を上昇させて、ガラス基板Wを吸着パッド35で吸着保持する。基板保持部34は、ガラス基板Wの下流側の端部を吸着保持する。
Next, the operation of the substrate inspection apparatus 1 will be described.
First, the
When the glass substrate W aligned on the upstream side of the line is carried in, the glass substrate W is first guided onto the floating
リニアモータ33でスライダ32を下流に向かって移動させる。スライダ32に搭載されている基板保持部34に吸着保持されているガラス基板Wが下流に向かって搬送される。
このとき、ガラス基板Wの先端が第1の検査部4の検査位置に達したら、マクロ検査が開始される。すなわち、照明装置で照明されたガラス基板Wの表面の画像が検査ヘッド53によって取得される。制御装置6は、各検査ヘッド53が出力する画像データからガラス基板Wの表面画像を作成する。この画像は、ライン状の画像になるので、第1の搬送部12でガラス基板Wを搬送しながら撮像を繰り返し、画像データを足し合わせることでガラス基板Wの略全面についての表面画像のデータが得られる。このようにして得られた画像データに基づいて検査者が目視で欠陥の有無を調べたり、予め制御装置6に登録しておいた欠陥の無い画像データとパターンマッチングして欠陥の抽出をしたりする。欠陥の位置や種類を調べたデータは、欠陥データとして制御装置6の記憶装置に保存される。
The
At this time, when the tip of the glass substrate W reaches the inspection position of the
第1の搬送部12が基板保持部34を最も下流側まで移動させてから停止させると、ガラス基板Wの下流側の端部がローラ式搬送部14の2列のローラ41の上方に案内される。モータステージ44でローラ41を上昇させ、ガラス基板Wの裏面に当接させる。吸着パッド35の吸着を解除してからモータ46を駆動させてローラ41を回転させると、ガラス基板Wが下流に向かって搬送される。第2の搬送部13の基板保持部34が吸着パッド35でガラス基板Wを吸着保持するのに十分な量だけガラス基板Wが第2の搬送部13に送り込まれたところでローラ41の回転を停止させる。ローラ式搬送部14によるガラス基板Wの送り量Lは、図1に示す受け渡し時の基板保持部34間の距離に相当する。
When the
第2の搬送部13は、基板保持部34を上昇させて吸着パッド35でガラス基板Wの端部を吸着保持する。吸着を確認したら、ローラ式搬送部14のローラ41を浮上プレート21より下方まで下げる。これによって、2つの搬送部12,13間でのガラス基板Wの受け渡しが完了する。この間、ガラス基板Wのはりつきを防止するために、エアー浮上は継続して行われる。また、エアー浮上を継続させることで、少ない力でガラス基板Wを第2の搬送部13に向けて搬送することができ、ローラ41の数を少なくできる。
The
第2の搬送部13でガラス基板Wを吸着保持したら、スライダ32を下流に向かって移動させる。ガラス基板Wが浮上プレート21上を搬送される。ガラス基板Wが第2の検査部5の検査位置に達したら、ミクロ検査が開始される。すなわち、顕微鏡63が幅方向に移動しながら、ガラス基板Wの表面の顕微鏡画像を取得し、制御装置6に出力する。顕微鏡観察を行うポイントは、第1の検査部4におけるマクロ検査で欠陥として抽出された位置である。制御装置6は、第2の搬送部13でのガラス基板Wの送り量と、顕微鏡63の幅方向の移動量から欠陥データとして登録されている位置に顕微鏡63を合わせさせる。顕微鏡画像は、制御装置6の記憶装置に記憶させたり、画面表示させたりされる。検査者は、画面表示された顕微鏡画像から欠陥を評価し、必要な処置を講じる。
When the glass substrate W is sucked and held by the
ミクロ検査が完了し、第2の搬送部13がガラス基板Wを浮上ステージ11の下流側の端部まで搬送したら、吸着を解除する。搬出用のローラ27を上昇させ、ローラ搬送によってガラス基板Wを搬出させる。ミクロ検査を実施している間、第1の搬送部12は基板保持部34を上流側に戻して、次のガラス基板Wの搬入に備える。このため、マクロ検査やミクロ検査が完了したら直ぐに次のガラス基板Wのマクロ検査やミクロ検査を開始できるようになってタクトタイムを短くできる。
When the micro inspection is completed and the
この実施の形態によれば、第1の搬送部12から第2の搬送部13にガラス基板Wを受け渡すときに、自走式のローラ41でガラス基板Wを第2の搬送部13に向けて搬送するようにしたので、搬送部12,13の位置を幅方向にずらす必要がなくなる。このため、装置の幅を従来の比べて小さくできる。ローラ41がガラス基板Wに接触することで発生する抵抗によってガラス基板Wの位置ずれが防止されるので、搬送部12,13間の受け渡し時に位置ずれを防止するための新たな機構を設ける必要がなくなって装置構成を簡略化できる。
According to this embodiment, when the glass substrate W is transferred from the
なお、第1の搬送部12がガラス基板Wを吸着保持する場所を端部より中央寄りにすれば、基板保持部34を最も下流側に移動させたときに、ガラス基板Wの一部が第2の搬送部13に進入するようになるので、ローラ式搬送部14の送り量を少なくできる。
If the place where the
(第2の実施の形態)
図4及び図5に示すように、この基板検査装置80は、ベース2上に基板搬送装置81として、浮上ステージ11を有し、さらに幅方向の略中央で浮上ステージ11に重なるように第1の搬送部82と第2の搬送部83が同一ライン上に設けられている。
第1の搬送部82は、搬送方向に沿って架設されたフレーム部91に敷設された搬送ガイドレール31及び駆動部であるリニアモータ33と、リニアモータ33によって移動するスライダ32に搭載された基板保持部92とを備える。
(Second Embodiment)
As shown in FIGS. 4 and 5, the
The
図6に示すように、基板保持部92は、スライダ32上に固定されたテーブル93を有する。テーブル93には、シリンダ94を介してベース95が昇降自在に支持されている。ベース95には細長のステージ96が取り付けられている。ステージ96には吸着パッド35が長手方向に沿って3つ搭載されている。吸着パッド35は、ステージ96の幅方向の中心位置と、これを挟んで対称な位置のそれぞれに1つずつ配置されている。吸着パッド35は、浮上プレート21の隙間23に1つずつ挿入可能で、浮上プレート21の上面から突没させることができるように配置されている。
As shown in FIG. 6, the
図4及び図5に示すように、第1の搬送部82の搬送ガイドレール31及びリニアモータ33は、第1の検査部4の下流側で、第2の検査部5の手前まで延びている。第1の搬送部82の搬送経路内で、下流側の位置には、ローラ式搬送部101が設けられている。ローラ式搬送部101は、第1の搬送部82の敷設位置を避けるように左右に振り分けて配置されている。その構成は、第1の実施の形態と同様であって、モータステージ44によってローラ41を浮上プレート21の隙間23に突没させることができ、さらにモータ46によってローラ41を回転させることができる。なお、搬入側のローラ26と、搬出側のローラ27も搬送部82,83を避けて左右に振り分けて設置されている。
As shown in FIGS. 4 and 5, the
第2の搬送部83は、第1の搬送部82と同様の構成になっている。第2の搬送部83の搬送ガイドレール31及びリニアモータ33は、上流側では第2の検査部5で使用するライン照明102よりも下流側から搬出端に至るまで敷設されている。各搬送部82,83の搬送ガイドレール31及びリニアモータ33は、独立しているので、スライダ32及び基板保持部92が互いに干渉することはない。
The
図4に示すように、第2の検査部5は、門型フレーム61の水平梁61Aに移動自在に取り付けられた顕微鏡63と、顕微鏡63の下方に配置されたライン照明102とを有する。ライン照明102は、光源103と、光源103の光を伝達すると共に上方に向けて光をライン状に放射する細長のライトガイド部材104とを有する。浮上ステージ11は、ライン照明102の照明光を通過させるために、浮上プレート21にスリット106を設けて照明光が通過できるようにしてある。
As shown in FIG. 4, the second inspection unit 5 includes a
この基板検査装置80の動作について説明する。
最初にエアーの噴き出しを開始する。各搬送部82,83の基板保持部92を上流側に移動させ、吸着パッド35を浮上プレート21よりも下げておく。
ガラス基板Wが搬入されたら、基板保持部92のシリンダ94を伸長させてベース95を上昇させる。3つの吸着パッド35が浮上プレート21の隙間23から突出してガラス基板Wの裏面に当接するので、吸引を開始するとガラス基板Wが吸着保持される。スライダ32を搬送ガイドレール31に沿って移動させると、基板保持部92に吸着されたガラス基板Wが下流に向かって搬送される。基板搬送を行いながら第1の検査部5で第1の実施の形態と同様にマクロ検査を行う。
The operation of the
First, the air blowout is started. The
When the glass substrate W is carried in, the
マクロ検査が終了し、ガラス基板Wを第1の搬送部82の最も下流側の部分まで搬送する。ローラ式搬送部101のローラ41を上昇させ、ガラス基板Wの裏面に当接させる。吸着パッド35の吸着を解除させ、シリンダ94を収縮させてベース95を下降させ、吸着パッド35をガラス基板Wから離す。
ローラ41を回転させると、ガラス基板Wが下流側に向かって搬送される。ローラ式搬送部101は、ガラス基板Wの端部が第2の搬送部83の吸着パッド35の上方に到達するまで搬送を行う。つまり、このときの送り量は、受け渡し時で最も近接状態にある基板保持部92間の距離に相当する。
The macro inspection is completed, and the glass substrate W is transported to the most downstream portion of the
When the
ローラ搬送が完了したら、第2の搬送部83の基板保持部92がガラス基板Wを吸着保持する。吸着保持の手順は、第1の搬送部82と同じであり、移載はガラス基板Wをエアー浮上させた状態で実施する。スライダ32を搬送ガイドレール31に沿って移動させると、基板保持部92に吸着されたガラス基板Wが下流に向けて搬送される。基板搬送を行いながら第2の検査部5でミクロ検査を行う。ミクロ検査は、透過照明を使用する以外は、第1の実施の形態と同様である。
When the roller conveyance is completed, the
この実施の形態によれば、幅方向の中央部分に2つの搬送部82,83を同軸に配置したので、装置の幅を小さくできる。第1の搬送部82と第2の搬送部83に分割されるので、各検査部4,5の検査軸に対して搬送ガイドレール31の直角度の調整などが容易になる。2つの搬送部82,83で独立に基板搬送もできるので、検査のタクトタイムを減少できる。ローラ式搬送部101を有する効果は、第1の実施の形態と同様である。
According to this embodiment, since the two conveying
なお、本発明は、前記の各実施の形態に限定されずに広く応用することができる。
例えば、基板搬送装置は、搬送部12,13,82,83を3つ以上有しても良い。
検査部4,5は、1つでも良く、3つ以上でも良い。搬送経路中に欠陥の修正を行うリペア装置などの処理装置を設けても良い。
第2の実施の形態において、ガラス基板Wの位置を補正する必要があるときは、スライダ32に対してテーブル93を幅方向に移動させる機構と、ステージ96を中央の吸着パッド35を中心に回動させる機構を設けたりすると良い。
The present invention can be widely applied without being limited to the above-described embodiments.
For example, the substrate transfer apparatus may have three or
The number of
In the second embodiment, when it is necessary to correct the position of the glass substrate W, a mechanism for moving the table 93 in the width direction with respect to the
1,80 基板検査装置
3,81 基板搬送装置
4 第1の検査部
5 第2の検査部
11 浮上ステージ
12,82 第1の搬送部(基板搬送部)
13,83 第2の搬送部(基板搬送部)
14,101 ローラ式搬送部
21 浮上プレート
24 乗り越し用のローラ
41 ローラ(回転部材)
34,92 基板保持部
W ガラス基板
DESCRIPTION OF
13, 83 Second transport unit (substrate transport unit)
14, 101 Roller-
34,92 Substrate holding part W Glass substrate
Claims (5)
前記複数の基板搬送部が搬送方向に平行な同一のライン上に配置されると共に、基板の底面に当接して搬送方向に隣り合う2つの前記基板搬送部の間で基板を移動させる回転部材を備えることを特徴とする基板検査装置。 In a substrate inspection apparatus for inspecting a substrate while providing a plurality of substrate conveyance units in the conveyance direction for holding and conveying the substrate lifted by a levitation stage, and delivering the substrate between the plurality of substrate conveyance units,
The plurality of substrate transport units are arranged on the same line parallel to the transport direction, and a rotating member that contacts the bottom surface of the substrate and moves the substrate between the two substrate transport units adjacent in the transport direction. A board inspection apparatus comprising:
Priority Applications (1)
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011207539A (en) * | 2010-03-29 | 2011-10-20 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Substrate processing device |
JP2012096920A (en) * | 2010-11-05 | 2012-05-24 | Hitachi High-Technologies Corp | Glass substrate defect inspection device and glass substrate defect inspection method and glass substrate defect inspection system |
JP2012189402A (en) * | 2011-03-10 | 2012-10-04 | Toray Eng Co Ltd | Device and method for substrate inspection |
CN103293160A (en) * | 2012-02-22 | 2013-09-11 | 郭上鲲 | An optical inspection device |
JP2014112725A (en) * | 2010-01-12 | 2014-06-19 | Semes Co Ltd | Substrate processing apparatus |
JP5983810B1 (en) * | 2015-04-02 | 2016-09-06 | ウシオ電機株式会社 | Light irradiation device |
JP2017142522A (en) * | 2009-08-20 | 2017-08-17 | 株式会社ニコン | Transfer device, exposure device, method for producing flat panel display, method for producing device, and exposure method |
KR101853798B1 (en) | 2011-10-28 | 2018-05-03 | 세메스 주식회사 | Substrate transferring apparatus |
KR101996345B1 (en) * | 2018-11-22 | 2019-07-03 | (주)제이티에스 | Visual inspection equipment of seperator sheet and Inspection system using the same |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0496679A (en) * | 1990-08-08 | 1992-03-30 | Omron Corp | Combustion controller |
JP2004331319A (en) * | 2003-05-07 | 2004-11-25 | Olympus Corp | Floating conveying device |
JP2005062819A (en) * | 2003-08-08 | 2005-03-10 | Photon Dynamics Inc | High-precision gas bearing axially divided stage for conveyance and restraint of large-sized flat-plate flexible medium in processing |
JP2006242679A (en) * | 2005-03-02 | 2006-09-14 | Olympus Corp | Substrate inspection device and assembling method of same |
JP2006258727A (en) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Olympus Corp | Substrate-inspecting apparatus |
JP2007248291A (en) * | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Olympus Corp | Substrate inspecting apparatus |
-
2007
- 2007-10-02 JP JP2007258526A patent/JP2009085865A/en active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0496679A (en) * | 1990-08-08 | 1992-03-30 | Omron Corp | Combustion controller |
JP2004331319A (en) * | 2003-05-07 | 2004-11-25 | Olympus Corp | Floating conveying device |
JP2005062819A (en) * | 2003-08-08 | 2005-03-10 | Photon Dynamics Inc | High-precision gas bearing axially divided stage for conveyance and restraint of large-sized flat-plate flexible medium in processing |
JP2006242679A (en) * | 2005-03-02 | 2006-09-14 | Olympus Corp | Substrate inspection device and assembling method of same |
JP2006258727A (en) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Olympus Corp | Substrate-inspecting apparatus |
JP2007248291A (en) * | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Olympus Corp | Substrate inspecting apparatus |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017142522A (en) * | 2009-08-20 | 2017-08-17 | 株式会社ニコン | Transfer device, exposure device, method for producing flat panel display, method for producing device, and exposure method |
JP2017142523A (en) * | 2009-08-20 | 2017-08-17 | 株式会社ニコン | Transfer device, object treatment device, method for producing flat panel display, device production method, and carrying method |
KR20190131146A (en) * | 2009-08-20 | 2019-11-25 | 가부시키가이샤 니콘 | Object processing apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method |
KR102184248B1 (en) | 2009-08-20 | 2020-11-30 | 가부시키가이샤 니콘 | Object processing apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method |
JP2014112725A (en) * | 2010-01-12 | 2014-06-19 | Semes Co Ltd | Substrate processing apparatus |
JP2011207539A (en) * | 2010-03-29 | 2011-10-20 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Substrate processing device |
JP2012096920A (en) * | 2010-11-05 | 2012-05-24 | Hitachi High-Technologies Corp | Glass substrate defect inspection device and glass substrate defect inspection method and glass substrate defect inspection system |
JP2012189402A (en) * | 2011-03-10 | 2012-10-04 | Toray Eng Co Ltd | Device and method for substrate inspection |
KR101853798B1 (en) | 2011-10-28 | 2018-05-03 | 세메스 주식회사 | Substrate transferring apparatus |
CN103293160A (en) * | 2012-02-22 | 2013-09-11 | 郭上鲲 | An optical inspection device |
JP5983810B1 (en) * | 2015-04-02 | 2016-09-06 | ウシオ電機株式会社 | Light irradiation device |
KR101996345B1 (en) * | 2018-11-22 | 2019-07-03 | (주)제이티에스 | Visual inspection equipment of seperator sheet and Inspection system using the same |
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