JP2009085682A - カラーフィルター基板の検査方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】セルギャップ調整層上のフォトスペーサーなどの立体構造物を具えた高機能、高精細なカラーフィルター基板の外観欠点の検出を容易にする検査方法を提供する。
【解決手段】カラーフィルター基板に検査用光線を照射し、該カラーフィルター基板からの反射光を光電変換素子で受光して電気信号に変換し、得られた電気信号を画像処理してカラーフィルター基板の欠陥検出を行うカラーフィルター基板の検査方法において、該検査用光線が該カラーフィルター基板上に形成された検査対象物の略補色となる波長を含むことを特徴とするカラーフィルター基板の検査方法。
【選択図】図1
【解決手段】カラーフィルター基板に検査用光線を照射し、該カラーフィルター基板からの反射光を光電変換素子で受光して電気信号に変換し、得られた電気信号を画像処理してカラーフィルター基板の欠陥検出を行うカラーフィルター基板の検査方法において、該検査用光線が該カラーフィルター基板上に形成された検査対象物の略補色となる波長を含むことを特徴とするカラーフィルター基板の検査方法。
【選択図】図1
Description
本発明は液晶表示素子用カラーフィルター基板の検査方法に関するもので、特にセルギャップ調整層上のフォトスペーサーなどの立体構造物が形成された高機能カラーフィルター基板の外観欠点の良否の選別を行うことが出来る外観検査方法に関する。
従来、高品位の画質を備える液晶表示技術として、薄膜トランジスタ(TFT)を画素のスイッチング素子として用いるアクティブマトリクス型液晶表示が知られており、薄型、軽量、低消費電力と言う特長を有するとともに、高いコントラストと高速応答が可能であることから、薄型テレビ、コンピューターのモニター、携帯電話やPDA等の小型表示装置等に幅広く使用されてきた。
液晶表示装置でカラー画像を表示するためには一般に液晶表示装置の前面にカラーフィルター基板を配置する必要がある。カラーフィルター基板は、透明基板上にブラックマトリクス(BM)とカラー表示を行う為の赤、青、緑3色の着色層(RGB画素)及び、必要により透明保護膜や透明電極が形成されている。
また、近年では液晶表示装置はその表示性能向上を目的として、VA(Vertical Alignment)方式の採用や高精細化、半透過方式の採用などが進んでいる。これによりカラーフィルター基板の構造も変化しており、液晶パネルのセルギャップの均一化を計るためのフォトスペーサー(Photo Spacer:PS)の形成、半透過方式の反射部の表示特性改善のための透明土台(セルギャップ調整層)の形成や画素へのライトホールの形成、RGB画素上へVA方式の視野角特性を向上させるための配向制御用突起の形成などが行われている。
カラーフィルター基板の製造工程において数μmの異物等が存在するとカラーフィルター基板に突起欠点や白ピン、黒ピンなどのパターン不良などの欠点を生じ、これらの欠点は規格値を超えると液晶表示装置の表示欠点となるため、従来からカラーフィルター基板製造工程において、これら欠点を検査により検出し、修正または排除することを実施してきた。この様な検査を行う場合には従来から自動検査装置を用いており、その自動検査装置は、カラーフィルター基板に対し光源装置より検査照明を表面または裏面より照射し、カラーフィルター基板により反射、またはカラーフィルター基板を透過した光を光電変換素子にて受光して電気信号に変換し、該電気信号を画像処理して欠陥検出を行うように構成されている。しかし、近年の表示性能向上を目的としてPSやセルギャップ調整層などの構造物を設けたカラーフィルター基板において、これらの構造物の欠陥を検査することを目的として従来同様の自動検査を行った場合、カラーフィルター基板に照射された検査光は、透明なこれら構造物を透過し、これらの構造物の下地となるガラス基板、BM、RGB画素、透明保護膜、透明電極などからの強い反射光がノイズとなり、被検査体となる前記構造物からの反射光の信号がこのノイズに埋もれて、欠点の検出感度が低下する。また、この様な構造物を設けたカラーフィルター基板基板の表面形状は従来のものよりも凹凸が大きくなるため、この形状に起因して乱反射が起こり光電変換素子に迷光として受光されるため、同様に欠点の検出感度低下の要因となる。
更に最近では、液晶表示装置の高解像度化が進み、画素ピッチが狭くなり、従来は1画素の幅が100μm前後であったものが、例えば、携帯電話用途のVGA品種では25μm程度にまで狭くなり、カラーフィルター基板上に形成させるBMの線幅も、従来は20〜30μmであったものが6μmあるいはそれ以下になっている。この様な変化に伴い、前記構造物のサイズも小さくなり、例えばPSの場合には、従来は上底が20μm×20μm以上の角錐台であったものが、上底10μm×10μm以下にまで小さくなり、S/N比はさらに低下し、PSの欠損といった欠点の検出感度を益々低下させている。
反射検査において下地と被検査体とのS/N比を上げ、欠点検出感度を上げる手段として、カラーフィルター基板以外の検査対象物に対しては幾つかの事例が既に開示されているため、最初にこの適用を検討した。
カラーフィルター基板同様に下地の上にパターンが形成されている回路基板での検査事例として、特許文献1では、回路基板の表面に形成された半田バンプの検査を行う装置で、その下半分に塗布された補強樹脂の略補色の光線を使用する方法が記載されている。本文献は表面が鏡面である半田バンプを検査するという特殊な事情を利用したもので、半田バンプからの良好な反射光に対して、補強樹脂に対しては補色を用いており、光が吸収されるため、その境界をより際立たせようとするものである。また、特許文献2はフレキシブルプリント基板の外観検査の事例で、この中では、ベースとなる有色半透明のフィルムの補色を検査光源として用い、透過照明として用いることでフィルムの有るところと無いところのコントラストを出すことが記載されている。
これらの事例をそのままカラーフィルター基板に適用した場合、PS、セルギャップ調整層などの構造物は透明性が高く、これらの構造物を通過した後に下地から反射される光がノイズと成るため、十分な効果が得られない。また、カラーフィルター基板の場合には下地となる層は1つに規定できない為、補色となる色を1つに定めることはできないことも、効果が十分にでない原因となった。また、これらの事例は検査光源に赤色や青色といった原色を用いているが、検査光を原色、例えば青色にしてしまうと、カラーフィルター基板のRGB画素のうちB画素からの反射光が極端に低下し、B画素上に発生した異物欠陥などに対する検出感度が十分に得られなくなる。同様に検査光を赤色にした場合はR画素、緑色にした場合はG画素上の欠陥に対する検出感度が十分に得られなくなる。そのため検査装置の用途がPSパターンの検査のみとなり、著しく汎用性に欠ける。また更に、あまりに検査光の波長域を狭くすると、カラーフィルター基板の表面、例えば透明保護膜で干渉を起こしやすくなり、製品異常とならないわずかな透明保護膜の膜厚変化まで過剰に検出してしまうことが考えられたため、ある程度の波長域の広さは必要である。よってこれらの事例のように検査光源に原色を用いる方法では、カラーフィルター基板の欠陥検査には適さない。
特開2000− 65543号公報
特開2006−118896号公報
また、近年では液晶表示装置はその表示性能向上を目的として、VA(Vertical Alignment)方式の採用や高精細化、半透過方式の採用などが進んでいる。これによりカラーフィルター基板の構造も変化しており、液晶パネルのセルギャップの均一化を計るためのフォトスペーサー(Photo Spacer:PS)の形成、半透過方式の反射部の表示特性改善のための透明土台(セルギャップ調整層)の形成や画素へのライトホールの形成、RGB画素上へVA方式の視野角特性を向上させるための配向制御用突起の形成などが行われている。
カラーフィルター基板の製造工程において数μmの異物等が存在するとカラーフィルター基板に突起欠点や白ピン、黒ピンなどのパターン不良などの欠点を生じ、これらの欠点は規格値を超えると液晶表示装置の表示欠点となるため、従来からカラーフィルター基板製造工程において、これら欠点を検査により検出し、修正または排除することを実施してきた。この様な検査を行う場合には従来から自動検査装置を用いており、その自動検査装置は、カラーフィルター基板に対し光源装置より検査照明を表面または裏面より照射し、カラーフィルター基板により反射、またはカラーフィルター基板を透過した光を光電変換素子にて受光して電気信号に変換し、該電気信号を画像処理して欠陥検出を行うように構成されている。しかし、近年の表示性能向上を目的としてPSやセルギャップ調整層などの構造物を設けたカラーフィルター基板において、これらの構造物の欠陥を検査することを目的として従来同様の自動検査を行った場合、カラーフィルター基板に照射された検査光は、透明なこれら構造物を透過し、これらの構造物の下地となるガラス基板、BM、RGB画素、透明保護膜、透明電極などからの強い反射光がノイズとなり、被検査体となる前記構造物からの反射光の信号がこのノイズに埋もれて、欠点の検出感度が低下する。また、この様な構造物を設けたカラーフィルター基板基板の表面形状は従来のものよりも凹凸が大きくなるため、この形状に起因して乱反射が起こり光電変換素子に迷光として受光されるため、同様に欠点の検出感度低下の要因となる。
更に最近では、液晶表示装置の高解像度化が進み、画素ピッチが狭くなり、従来は1画素の幅が100μm前後であったものが、例えば、携帯電話用途のVGA品種では25μm程度にまで狭くなり、カラーフィルター基板上に形成させるBMの線幅も、従来は20〜30μmであったものが6μmあるいはそれ以下になっている。この様な変化に伴い、前記構造物のサイズも小さくなり、例えばPSの場合には、従来は上底が20μm×20μm以上の角錐台であったものが、上底10μm×10μm以下にまで小さくなり、S/N比はさらに低下し、PSの欠損といった欠点の検出感度を益々低下させている。
反射検査において下地と被検査体とのS/N比を上げ、欠点検出感度を上げる手段として、カラーフィルター基板以外の検査対象物に対しては幾つかの事例が既に開示されているため、最初にこの適用を検討した。
カラーフィルター基板同様に下地の上にパターンが形成されている回路基板での検査事例として、特許文献1では、回路基板の表面に形成された半田バンプの検査を行う装置で、その下半分に塗布された補強樹脂の略補色の光線を使用する方法が記載されている。本文献は表面が鏡面である半田バンプを検査するという特殊な事情を利用したもので、半田バンプからの良好な反射光に対して、補強樹脂に対しては補色を用いており、光が吸収されるため、その境界をより際立たせようとするものである。また、特許文献2はフレキシブルプリント基板の外観検査の事例で、この中では、ベースとなる有色半透明のフィルムの補色を検査光源として用い、透過照明として用いることでフィルムの有るところと無いところのコントラストを出すことが記載されている。
これらの事例をそのままカラーフィルター基板に適用した場合、PS、セルギャップ調整層などの構造物は透明性が高く、これらの構造物を通過した後に下地から反射される光がノイズと成るため、十分な効果が得られない。また、カラーフィルター基板の場合には下地となる層は1つに規定できない為、補色となる色を1つに定めることはできないことも、効果が十分にでない原因となった。また、これらの事例は検査光源に赤色や青色といった原色を用いているが、検査光を原色、例えば青色にしてしまうと、カラーフィルター基板のRGB画素のうちB画素からの反射光が極端に低下し、B画素上に発生した異物欠陥などに対する検出感度が十分に得られなくなる。同様に検査光を赤色にした場合はR画素、緑色にした場合はG画素上の欠陥に対する検出感度が十分に得られなくなる。そのため検査装置の用途がPSパターンの検査のみとなり、著しく汎用性に欠ける。また更に、あまりに検査光の波長域を狭くすると、カラーフィルター基板の表面、例えば透明保護膜で干渉を起こしやすくなり、製品異常とならないわずかな透明保護膜の膜厚変化まで過剰に検出してしまうことが考えられたため、ある程度の波長域の広さは必要である。よってこれらの事例のように検査光源に原色を用いる方法では、カラーフィルター基板の欠陥検査には適さない。
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたもので、セルギャップ調整層上のフォトスペーサーなどの立体構造物を具えた高機能、高精細なカラーフィルター基板の外観欠点の検出を容易にする検査方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明は以下の構成からなる。
すなわち、カラーフィルター基板に検査用光線を照射し、該カラーフィルター基板からの反射光を光電変換素子で受光して電気信号に変換し、得られた電気信号を画像処理してカラーフィルター基板の欠陥検出を行うカラーフィルター基板の検査方法において、該検査用光線が該カラーフィルター基板基板上に形成された検査対象物の略補色となる波長を含むことを特徴とするカラーフィルター基板の検査方法である。
上記のように、本発明の検査方法によれば、下地からの反射光によるノイズを低減し、複雑な多層構造の膜からなるパターンの欠陥をより感度良く検出できる。また、本発明の検査方法を用いることでより多層化しているカラーフィルター基板のパターン検査が高感度になり、品質および歩留まり向上が可能となる。
本発明の検査装置の形態を以下に説明する。
本発明の構成としては特に限定されるものではないが、被検査体であるカラーフィルター基板に検査照明を照射するための検査光源を有し、検査用光線が検査対象物により反射した光を受光し電気信号に変換するための光電変換素子を有し、該電気信号を処理する信号処理装置を有するものである。
ここで、光電変換素子としては、信号処理が簡便で、最も一般的に利用されているCCDラインセンサを用いるのが好ましい。また、光学系の構成としては、設備費を安価にするため、また管理の簡便さから、一対の光学系で構成することが好ましい。光学系は反射型とし、検査対象物により、同軸落射照明系、正反射照明系、軸ずらし照明系など好適な方法を選ぶことが出来る。
信号処理の方法としては、比較検査法が用いられることが多いが特にこれに限定されない。カラーフィルター基板はブラックマトリクス(BM)および赤、青、緑の着色層(RGB画素)がそれぞれ等ピッチの間隔でかつ同じ周期で規則正しく配列されている。この様なカラーフィルター基板に検査光を照射し、反射された光を光電変換素子で受光すると、輝度変化も等ピッチでかつ同じ周期の波形が得られる。比較検査法では、BMおよびRGB画素の配列ピッチに対応した比較ピッチで前方の画素と後方の画素の輝度の比較を行い(差分処理)、その差分後の輝度がしきい値を越えたときに欠陥であると判別する。
検査光源としては、ハロゲンランプが好適に用いられるが、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光灯、レーザー等を用いてもよい。本発明では被検査体に照射される検査光には、被検査体の略補色となる波長を含む波長域の検査光を用いる。検査光の波長を略補色となる波長を含む波長域とするためには、検査光源と被検査体との間に特定の波長のみを透過させる光学フィルタを用いる方法が好ましいが、この他にも、白色光源と被検査体との間に分光器を使用する方法を用いても良い。
以下に、被検査物体として、カラーフィルター基板に形成されたセルギャップ調整層上のフォトスペーサー(PS)の欠点を検査する場合について詳細に説明する。図2に被検査物体となるPS付きカラーフィルター基板の概略断面図を記している。透明基板上にBM、RGB画素を形成し、その上に平坦化を目的とした透明保護膜が形成され、その上にセルギャップ調整層が形成され、その上にITO(=Indium Tin Oxide)からなる透明電極が形成され、最表層にPSが形成されている。PSは感光性アクリル材料をフォトリソ法を用いて形成しており、白色光のもとで観察すると黄色みを帯びている。黄色の補色は青色であり、本発明で用いる検査装置では、検査光源の波長を被検査体の略補色となる波長を含む波長域とするため、検査光源の波長を黄色の補色である波長435〜480nmの青色を含む波長域、具体的には400〜600nmの波長域、色で言えばシアンの検査光源がPSの検査には適している。
本発明の構成としては特に限定されるものではないが、被検査体であるカラーフィルター基板に検査照明を照射するための検査光源を有し、検査用光線が検査対象物により反射した光を受光し電気信号に変換するための光電変換素子を有し、該電気信号を処理する信号処理装置を有するものである。
ここで、光電変換素子としては、信号処理が簡便で、最も一般的に利用されているCCDラインセンサを用いるのが好ましい。また、光学系の構成としては、設備費を安価にするため、また管理の簡便さから、一対の光学系で構成することが好ましい。光学系は反射型とし、検査対象物により、同軸落射照明系、正反射照明系、軸ずらし照明系など好適な方法を選ぶことが出来る。
信号処理の方法としては、比較検査法が用いられることが多いが特にこれに限定されない。カラーフィルター基板はブラックマトリクス(BM)および赤、青、緑の着色層(RGB画素)がそれぞれ等ピッチの間隔でかつ同じ周期で規則正しく配列されている。この様なカラーフィルター基板に検査光を照射し、反射された光を光電変換素子で受光すると、輝度変化も等ピッチでかつ同じ周期の波形が得られる。比較検査法では、BMおよびRGB画素の配列ピッチに対応した比較ピッチで前方の画素と後方の画素の輝度の比較を行い(差分処理)、その差分後の輝度がしきい値を越えたときに欠陥であると判別する。
検査光源としては、ハロゲンランプが好適に用いられるが、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光灯、レーザー等を用いてもよい。本発明では被検査体に照射される検査光には、被検査体の略補色となる波長を含む波長域の検査光を用いる。検査光の波長を略補色となる波長を含む波長域とするためには、検査光源と被検査体との間に特定の波長のみを透過させる光学フィルタを用いる方法が好ましいが、この他にも、白色光源と被検査体との間に分光器を使用する方法を用いても良い。
以下に、被検査物体として、カラーフィルター基板に形成されたセルギャップ調整層上のフォトスペーサー(PS)の欠点を検査する場合について詳細に説明する。図2に被検査物体となるPS付きカラーフィルター基板の概略断面図を記している。透明基板上にBM、RGB画素を形成し、その上に平坦化を目的とした透明保護膜が形成され、その上にセルギャップ調整層が形成され、その上にITO(=Indium Tin Oxide)からなる透明電極が形成され、最表層にPSが形成されている。PSは感光性アクリル材料をフォトリソ法を用いて形成しており、白色光のもとで観察すると黄色みを帯びている。黄色の補色は青色であり、本発明で用いる検査装置では、検査光源の波長を被検査体の略補色となる波長を含む波長域とするため、検査光源の波長を黄色の補色である波長435〜480nmの青色を含む波長域、具体的には400〜600nmの波長域、色で言えばシアンの検査光源がPSの検査には適している。
次に、略補色の波長を含む波長域の検査光を用いる効果について説明する。カラーフィルター基板に形成されたセルギャップ調整層上のPSなどの構造物の欠点を検査する場合で、従来の白色光を検査光としてカラーフィルター基板に照射した場合、被検査体となるカラーフィルター基板上の構造物からの反射光の以外に、検査光が被検査体である構造物を透過した後に、その下地である透明電極、透明保護膜、RGB画素、BMから反射する光が混じり、これがノイズとなるため、被検査体が存在しない領域の下地からの反射光とのS/N比が低下し、欠点検出感度が低下させる。これに対し、検査光を被検査体の補色となる波長を含む波長域とした場合、被検査体となるカラーフィルター基板上の構造物で検査光がある程度吸収されるため、その下地に到達する光量が低下し、更に下地より反射される光も被検査体である構造物による吸収で低下するため、下地からの反射光の影響を低減させることができ、S/N比を上げることが可能となる。これらの効果は、被検査体が透明かつ、ある波長の光を吸収し、被検査体の下地となるカラーフィルター基板が赤、青、緑を初めとする複数の色を有し、反射率が被検査体で有る構造物よりも大きいという構成であるという環境のもとで有効に発現されるもので、先に述べた特許文献とはまったく異なるものである。
また検査光に略補色を用いる副効果として、色収差の影響を低減することがある。色収差とは、レンズやハーフミラーなどを光が通過する際に、光の波長によって屈折率が異なり、焦点位置が波長によって異なることから、像の大きさや位置に差を生じ、いわゆるピンぼけを生じてしまうことであるが、検査光を略補色にするために光の波長が限定されるため、白色光を用いた場合よりこの色収差の影響が低減されることになる。
以下、好ましい実施例に基づいて本発明をさらに詳しく説明するが、下記実施例によって本発明の効力は何ら制限されるものではない。
実施例1
図1は実施例の検出方法を実施する概略構成図で、CCDラインセンサにより欠陥を自動検査する装置を記している。11は被検査体となるカラーフィルター基板である。12は光源であり、メタルハライドランプ(住田化学製LS-M180-4000゜K)を用い、13のハーフミラーを介してカラーフィルター基板の真上から照射し、同軸照明を成している。14はCCDラインセンサ(クロック120MHz、有効画素数5000pix)である。15は画像処理装置(タカノ製MP74100)である。16は検査光源から被検査体に照射する際に特定の波長のみを透過させる補色フィルタである。図2(a)は、被検査体となるPSが形成された、カラーフィルター基板の概略断面図を記している。厚み0.5mmのガラス基板1上に、ブラックマトリクス2、赤3R、青3B、緑3Gの着色層(RGB画素)3をフォトリソ法にて形成し、その上に厚み1.5μmの透明保護膜4をスリットコータにて塗布し、その上にアクリル系樹脂をフォトリソ法にて高さ2μm、幅80μmのギャップ調整層7を形成し、ITO(=Indium Tin Oxide)からなる透明電極5をスパッタリング形成し、最表層にアクリル系樹脂をフォトリソ法にて、高さ2μm、頂上部の直径φ11μmのフォトスペーサー(PS)6を形成したものである。なおPSの配置は、図2(b)に記した、PSが形成されたカラーフィルター基板の平面図の通り、RGB画素の一部に配置されているセルギャップ調整層の上に、RGB画素と等ピッチで配置されている。このPSを部分的に欠落させてパターン欠落部を故意に作成し、この欠落部を図1に示す構成のカラーフィルター基板検査装置にて検査した。その際、補色フィルタ16にはシアンフィルタ(kenko製ダイクロイックフィルターシアン、DF−C)を用いて検査光の波長域を400〜600nmに限定し、被検査体であるPSの略補色の波長を含む波長域の検査光を生成するようにした。検査装置の検出信号を256階調に分解後、比較検査法による差分処理を行い、差分処理後の輝度が150を越えたものを検出するようにしきい値を設定した。本発明の検査方法によれば、図3(a)に記す通り、PSのパターン欠落部の差分処理後の輝度は155でしきい値以上となり、PSのパターン欠落部を検出できることを確認した。
比較例1
図1に記すカラーフィルター基板検査装置の構成にて、補色フィルタを用いず、すなわち白色光で、実施例1と同様にPSのパターン欠落部を検査したところ、図3(b)に示すとおり、PSのパターン欠落部の差分処理後の輝度は136でしきい値以下となったため、PSのパターン欠落部を検出することができなかった。
図1は実施例の検出方法を実施する概略構成図で、CCDラインセンサにより欠陥を自動検査する装置を記している。11は被検査体となるカラーフィルター基板である。12は光源であり、メタルハライドランプ(住田化学製LS-M180-4000゜K)を用い、13のハーフミラーを介してカラーフィルター基板の真上から照射し、同軸照明を成している。14はCCDラインセンサ(クロック120MHz、有効画素数5000pix)である。15は画像処理装置(タカノ製MP74100)である。16は検査光源から被検査体に照射する際に特定の波長のみを透過させる補色フィルタである。図2(a)は、被検査体となるPSが形成された、カラーフィルター基板の概略断面図を記している。厚み0.5mmのガラス基板1上に、ブラックマトリクス2、赤3R、青3B、緑3Gの着色層(RGB画素)3をフォトリソ法にて形成し、その上に厚み1.5μmの透明保護膜4をスリットコータにて塗布し、その上にアクリル系樹脂をフォトリソ法にて高さ2μm、幅80μmのギャップ調整層7を形成し、ITO(=Indium Tin Oxide)からなる透明電極5をスパッタリング形成し、最表層にアクリル系樹脂をフォトリソ法にて、高さ2μm、頂上部の直径φ11μmのフォトスペーサー(PS)6を形成したものである。なおPSの配置は、図2(b)に記した、PSが形成されたカラーフィルター基板の平面図の通り、RGB画素の一部に配置されているセルギャップ調整層の上に、RGB画素と等ピッチで配置されている。このPSを部分的に欠落させてパターン欠落部を故意に作成し、この欠落部を図1に示す構成のカラーフィルター基板検査装置にて検査した。その際、補色フィルタ16にはシアンフィルタ(kenko製ダイクロイックフィルターシアン、DF−C)を用いて検査光の波長域を400〜600nmに限定し、被検査体であるPSの略補色の波長を含む波長域の検査光を生成するようにした。検査装置の検出信号を256階調に分解後、比較検査法による差分処理を行い、差分処理後の輝度が150を越えたものを検出するようにしきい値を設定した。本発明の検査方法によれば、図3(a)に記す通り、PSのパターン欠落部の差分処理後の輝度は155でしきい値以上となり、PSのパターン欠落部を検出できることを確認した。
比較例1
図1に記すカラーフィルター基板検査装置の構成にて、補色フィルタを用いず、すなわち白色光で、実施例1と同様にPSのパターン欠落部を検査したところ、図3(b)に示すとおり、PSのパターン欠落部の差分処理後の輝度は136でしきい値以下となったため、PSのパターン欠落部を検出することができなかった。
1:ガラス基板
2:ブラックマトリクス
3:着色層(RGB画素)
3R:着色層の赤(R)
3G:着色層の緑(G)
3B:着色層の青(B)
4:透明保護膜
5:透明電極
6:フォトスペーサー(PS)
7:セルギャップ調整層
11:カラーフィルター基板
12:光源
13:ハーフミラー
14:CCDラインセンサ
15:画像処理装置
16:補色フィルタ
2:ブラックマトリクス
3:着色層(RGB画素)
3R:着色層の赤(R)
3G:着色層の緑(G)
3B:着色層の青(B)
4:透明保護膜
5:透明電極
6:フォトスペーサー(PS)
7:セルギャップ調整層
11:カラーフィルター基板
12:光源
13:ハーフミラー
14:CCDラインセンサ
15:画像処理装置
16:補色フィルタ
Claims (3)
- カラーフィルター基板に検査用光線を照射し、該カラーフィルター基板からの反射光を光電変換素子で受光して電気信号に変換し、得られた電気信号を画像処理してカラーフィルター基板の欠陥検出を行うカラーフィルター基板の検査方法において、該検査用光線が該カラーフィルター基板上に形成された検査対象物の略補色となる波長を含むことを特徴とするカラーフィルター基板の検査方法。
- 前記光線の波長域が400〜600nmである請求項1に記載のカラーフィルター基板の検査方法。
- 前記検査対象物がカラーフィルター基板に形成されたセルギャップ調整用のフォトスペーサーである請求項1に記載の検査方法。
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JP (1) | JP2009085682A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104344944A (zh) * | 2014-10-23 | 2015-02-11 | 上海维锐智能科技有限公司 | 一种led数码管的光电检测***及其方法 |
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2007
- 2007-09-28 JP JP2007253733A patent/JP2009085682A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN104344944A (zh) * | 2014-10-23 | 2015-02-11 | 上海维锐智能科技有限公司 | 一种led数码管的光电检测***及其方法 |
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