JP2009071278A - Radio wave absorber - Google Patents

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Koji Aoki
幸治 青木
Fuminori Watanabe
文範 渡辺
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a λ/4 type radio wave absorber having a desired absorption frequency bandwidth. <P>SOLUTION: The radio wave absorber 1 includes a dielectric layer having a first surface and a second surface opposed to the first surface, a conductor layer formed on the first surface of the dielectric layer, and a resistance pattern layer 2 having a plurality of patterns formed on the second surface of the dielectric layer and having a sheet resistance value, which is 2.8358R-11.734 to 0.0028R<SP>2</SP>+3.7387R+6.2943, where R is the ratio of the area of the resistance pattern layer 2 to the area of the dielectric layer. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は電波吸収体に関し、特に、λ/4型電波吸収体に関する。   The present invention relates to a radio wave absorber, and more particularly to a λ / 4 type radio wave absorber.

近年の携帯電話、無線LANなどの無線通信の発達に伴い、通信情報の漏洩や電磁干渉を防止するため、オフィスビル等の壁材や間仕切りなどに電波吸収体が利用されている。電波吸収体は、磁性損失、誘電体損失、抵抗損失などの材料特性を利用して、電磁波エネルギーを熱に変換し、消費する。   With the development of wireless communication such as cellular phones and wireless LANs in recent years, radio wave absorbers are used for wall materials and partitions of office buildings and the like in order to prevent leakage of communication information and electromagnetic interference. A radio wave absorber uses material characteristics such as magnetic loss, dielectric loss, and resistance loss to convert electromagnetic energy into heat and consume it.

そのため、種々の構成の電波吸収体が知られているが、その一つにλ/4型電波吸収体がある。一般的なλ/4型電波吸収体は、誘電体層の片面全体に導体膜を、誘電体層の反対側の面全体に空気のインピーダンス377Ωに近い値のシート抵抗を有する抵抗膜を備えた構成を有する。このような構成により、誘電体層の厚さが波長の1/4に等しくなる周波数の電磁波は反射されずに全て吸収されるため、λ/4型電波吸収体と呼ばれる。   Therefore, various types of wave absorbers are known, and one of them is a λ / 4 type wave absorber. A general λ / 4 type wave absorber is provided with a conductor film on one entire surface of a dielectric layer and a resistance film having a sheet resistance with a value close to air impedance of 377Ω on the entire opposite surface of the dielectric layer. It has a configuration. With such a configuration, an electromagnetic wave having a frequency at which the thickness of the dielectric layer is equal to ¼ of the wavelength is absorbed without being reflected, and thus is called a λ / 4 type wave absorber.

ところで、日本の携帯電話は第2世代から第3世代への移行に伴い、使用周波数の確保が重要な課題となっている。第3世代では、主に800MHz帯(815〜850MHz)及び2GHz帯(1.92〜1.98GHz)が使用されているが、上記問題に対処するため、一部では、1.7GHz帯(1.75〜1.88GHz)も使用されている。さらに、第2世代で使用されている1.5GHz帯(1.43〜1.53GHz)の第3世代での使用も検討されている。こうした背景から、1つの電波吸収体で広帯域の電波を吸収し、マルチパスによる通信品質劣化を防止する必要性が生じてきた。   By the way, with the shift from the 2nd generation to the 3rd generation of Japanese mobile phones, it is important to ensure the frequency used. In the third generation, an 800 MHz band (815 to 850 MHz) and a 2 GHz band (1.92 to 1.98 GHz) are mainly used. However, in order to cope with the above problem, a 1.7 GHz band (1 .75 to 1.88 GHz) are also used. Furthermore, use in the third generation of the 1.5 GHz band (1.43 to 1.53 GHz) used in the second generation is also being studied. From such a background, it has become necessary to absorb broadband radio waves with one radio wave absorber to prevent deterioration of communication quality due to multipath.

上記λ/4型電波吸収体は、構成が簡易であるという長所を有する反面、吸収できる周波数帯域幅が狭いという短所を有する。例えば、無線LAN用2.45GHz帯向けのλ/4電波吸収体では、吸収量−15dBにおける吸収周波数帯域幅が1.92〜2.98GHzであり、2.45GHz帯(2.4〜2.5GHz)の他、第3世代携帯電話用の2GHz帯(1.92〜2.2GHz)及びWimax(Worldwide Interoperability for Microwave Access)の2.5GHz帯(2.55〜2.63GHz)などしか包含することができない。これに対し、誘電体層の片面全体に形成された抵抗膜に代えて、当該片面上の抵抗膜をパターニングし、吸収周波数帯域を広げたλ/4型電波吸収体が開示されている(特許文献1〜3参照)。また、関連する先行技術文献として特許文献4を挙げることができる。
特開2006−203147号公報 特開2006−73924号公報 特開2006−336416号公報 米国特許第7256753号公報
The λ / 4 type wave absorber has an advantage that the configuration is simple, but has a disadvantage that a frequency bandwidth that can be absorbed is narrow. For example, in a λ / 4 radio wave absorber for a wireless LAN 2.45 GHz band, the absorption frequency bandwidth at an absorption of −15 dB is 1.92 to 2.98 GHz, and the 2.45 GHz band (2.4 to 2.2. In addition to 5 GHz), 2 GHz band (1.92-2.2 GHz) for third-generation mobile phones and 2.5 GHz band (2.55-2.63 GHz) of Wimax (Worldwide Interoperability for Microwave Access) are included. I can't. On the other hand, instead of a resistive film formed on one side of a dielectric layer, a λ / 4 type wave absorber is disclosed in which the resistive film on the one side is patterned to broaden the absorption frequency band (patent) References 1-3). Moreover, patent document 4 can be mentioned as related prior art literature.
JP 2006-203147 A JP 2006-73924 A JP 2006-336416 A US Pat. No. 7,256,753

しかしながら、いずれの特許文献においても、所望の吸収周波数帯域幅を実現するために必要な抵抗体のパターンサイズやシート抵抗値等のパラメータは開示されていない。そのため、所望の吸収周波数帯域幅を有するλ/4型電波吸収体を得ることができなかった。   However, none of the patent documents disclose parameters such as a resistor pattern size and a sheet resistance value necessary for realizing a desired absorption frequency bandwidth. Therefore, a λ / 4 type wave absorber having a desired absorption frequency bandwidth cannot be obtained.

本発明はこのような問題に鑑みてなされたものであり、所望の吸収周波数帯域幅を有するλ/4型電波吸収体を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such problems, and an object thereof is to provide a λ / 4 type wave absorber having a desired absorption frequency bandwidth.

本発明の態様1に係る電波吸収体は、第1面及び前記第1面に対向する第2面を有する誘電体層と、前記誘電体層の前記第1面に形成される導体層と、前記誘電体層の前記第2面に形成された複数のパターンからなり、シート抵抗値を有する抵抗パターン層とを備えた電磁波吸収体であって、前記誘電体層の面積に対する前記抵抗パターン層の面積の比をRとすると、前記シート抵抗値は、2.8358R−11.734以上0.0028R+3.7387R+6.2943以下であることを特徴とするものである。 A radio wave absorber according to aspect 1 of the present invention includes a dielectric layer having a first surface and a second surface facing the first surface, a conductor layer formed on the first surface of the dielectric layer, An electromagnetic wave absorber comprising a plurality of patterns formed on the second surface of the dielectric layer and having a resistance pattern layer having a sheet resistance value, wherein the resistance pattern layer has an area of the dielectric layer. When the area ratio is R, the sheet resistance value is 2.8358R-11.734 or more and 0.0028R 2 + 3.7387R + 6.2943 or less.

本発明の態様2に係る電波吸収体は、上記発明の態様において、前記パターンは幾何学図形であることを特徴とするものである。   The radio wave absorber according to aspect 2 of the present invention is characterized in that, in the above aspect of the invention, the pattern is a geometric figure.

本発明の態様3に係る電波吸収体は、上記発明の態様において、前記幾何学図形は十文字形状であることを特徴とするものである。   The radio wave absorber according to aspect 3 of the present invention is characterized in that, in the aspect of the invention described above, the geometric figure is a cross shape.

本発明の態様4に係る電波吸収体は、誘電体層と、前記誘電体層の第1の面の略全面に形成された導体層と、前記誘電体層の第2の面に互いに離間して複数形成された抵抗体パターンからなり、前記第2の面の一部を被覆するパターン層とを備えたλ/4型電波吸収体であって、前記抵抗体パターンの形状、前記抵抗体パターンのシート抵抗、及び前記第2の面全体の面積に対する前記パターン層により被覆された領域の面積比に基づいて、吸収される周波数帯域幅を80%以上としたものである。   The radio wave absorber according to aspect 4 of the present invention is separated from the dielectric layer, the conductor layer formed on substantially the entire first surface of the dielectric layer, and the second surface of the dielectric layer. A λ / 4 type wave absorber comprising a plurality of resistor patterns and a pattern layer covering a part of the second surface, the shape of the resistor pattern, the resistor pattern Based on the sheet resistance and the area ratio of the region covered with the pattern layer to the area of the entire second surface, the absorbed frequency bandwidth is 80% or more.

本発明によれば、所望の吸収周波数帯域幅を有するλ/4型電波吸収体を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a λ / 4 type wave absorber having a desired absorption frequency bandwidth.

以下に、本発明の実施の形態について説明する。ただし、本発明が以下の実施の形態に限定される訳ではない。また、説明を明確にするため、以下の記載及び図面は、適宜、簡略化されている。   Embodiments of the present invention will be described below. However, the present invention is not limited to the following embodiment. In addition, for clarity of explanation, the following description and drawings are simplified as appropriate.

実施の形態1
図1及び2を用いて、本発明の実施の形態について説明する。図1は、本発明の実施の形態に係るλ/4型電波吸収体の平面図である。図2は、図1におけるII−II切断線による断面図である。図1に示すように、実施の形態に係るλ/4型電波吸収体は、誘電体層1、抵抗体パターン層2、導体層3を備える。
Embodiment 1
An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a plan view of a λ / 4 type wave absorber according to an embodiment of the present invention. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II in FIG. As shown in FIG. 1, the λ / 4 type wave absorber according to the embodiment includes a dielectric layer 1, a resistor pattern layer 2, and a conductor layer 3.

誘電体層1は、絶縁材料からなり、抵抗体パターン層2および導体層3を支持できるものであれば、特に制限されない。例えば、ガラス、プラスチック、ゴム、ウレタンなどの絶縁材料やこれらの複合材料を用いることができる。また、難燃性の材料を用いることが好ましい。さらに、硬質のものだけではなく軟質のものを用いることもできる。例えば、ガラス繊維からなるシートなどを用いてもよい。   The dielectric layer 1 is not particularly limited as long as it is made of an insulating material and can support the resistor pattern layer 2 and the conductor layer 3. For example, an insulating material such as glass, plastic, rubber, urethane, or a composite material thereof can be used. Moreover, it is preferable to use a flame-retardant material. Furthermore, not only a hard thing but a soft thing can also be used. For example, a sheet made of glass fiber or the like may be used.

抵抗体パターン層2は、1〜400Ω/□程度のシート抵抗が得られる導電材料からなる。この程度のシート抵抗を得ることができる材料であれば、特に制限されない。ここで、シート抵抗は、材料固有の比抵抗ρと抵抗体パターン層2の厚さtを用いて、ρ/tで表される。すなわち、抵抗体パターン層2の厚さtと比抵抗ρとを制御することによって、所望のシート抵抗を得ることができる。例えば、厚さ100μm、比抵抗1×10−2Ωmの材料を用いた場合、シート抵抗は100Ω/□となる。現実的には、ある程度の厚さtが必要であるから、上記シート抵抗を得るには、比較的比抵抗の大きい導電材料を用いる必要がある。具体的には、抵抗体パターン層2として、酸化インジウム(In)、酸化錫(SnO)、これらの混合物である酸化インジウム錫(ITO:Indium Tin Oxide)、フッ素ドープ酸化錫(FTO)、酸化亜鉛(ZnO)などからなる透明導電膜やカーボン膜などを用いることができる。 The resistor pattern layer 2 is made of a conductive material that provides a sheet resistance of about 1 to 400 Ω / □. The material is not particularly limited as long as the material can obtain such a sheet resistance. Here, the sheet resistance is represented by ρ / t using the specific resistance ρ inherent to the material and the thickness t of the resistor pattern layer 2. That is, a desired sheet resistance can be obtained by controlling the thickness t and the specific resistance ρ of the resistor pattern layer 2. For example, when a material having a thickness of 100 μm and a specific resistance of 1 × 10 −2 Ωm is used, the sheet resistance is 100 Ω / □. Actually, since a certain thickness t is necessary, it is necessary to use a conductive material having a relatively large specific resistance in order to obtain the sheet resistance. Specifically, as the resistor pattern layer 2, indium oxide (In 2 O 3 ), tin oxide (SnO 2 ), indium tin oxide (ITO) which is a mixture thereof, fluorine-doped tin oxide (FTO) ), Zinc oxide (ZnO), or the like, a transparent conductive film, a carbon film, or the like can be used.

抵抗体パターン層2は、フォトリソグラフィ法、スクリーン印刷、マスクを用いたスパッタリングや真空蒸着などにより形成することができる。また、抵抗体パターン層2を誘電体層1に直接形成せずに、樹脂膜上にパターンを形成し、その樹脂膜を誘電体層1に貼り付けてもよい。   The resistor pattern layer 2 can be formed by photolithography, screen printing, sputtering using a mask, vacuum deposition, or the like. Alternatively, instead of directly forming the resistor pattern layer 2 on the dielectric layer 1, a pattern may be formed on the resin film, and the resin film may be attached to the dielectric layer 1.

抵抗体パターン層2は、複数の同一形状の抵抗体パターンから構成されている。本実施の形態では、各パターンは十字形状に形成されている。ここで、この隣接する抵抗体パターン層2同士は所定の点を対称の中心として点対称である。より詳細には、抵抗体パターン層2a、2b、2cに注目すると、横方向に隣接する抵抗体パターン層2aと2bとはP1を対称の中心として点対称である。縦方向に隣接する抵抗体パターン層2bと2cとはP2を対称の中心として点対称である。また、斜め方向に隣接する抵抗体パターン層2aと2cとはP3を対称の中心として点対称である。このように対称性を有する抵抗体パターンの配置とすることで、吸収周波数帯域幅を制御しやすくなる。図1に示すように、各十字パターンは長さL、幅Wの2つの長方形が直角に交差した形状を有している。そして、この各十字パターンを構成するL×Wの長方形が、縦方向及び横方向の両方向において、長手方向に一直線上に3個ずつ等間隔Gで配列されている。すなわち、縦横3個ずつ合計9個の十字パターンが形成されている。当然のことながら、上記個数はこれに限定されるものではない。また、中央部において、正方形状の点線で囲まれた領域は単位セル4を意味し、この単位セル4が繰り返し配列されている。つまり、図1に示した電波吸収体は9個の単位セル4から構成されている。   The resistor pattern layer 2 is composed of a plurality of resistor patterns having the same shape. In the present embodiment, each pattern is formed in a cross shape. Here, the adjacent resistor pattern layers 2 are point-symmetric with a predetermined point as the center of symmetry. More specifically, when attention is paid to the resistor pattern layers 2a, 2b, and 2c, the resistor pattern layers 2a and 2b adjacent in the horizontal direction are point-symmetric with respect to P1 as the center of symmetry. The resistor pattern layers 2b and 2c adjacent in the vertical direction are point-symmetric with respect to P2. The resistor pattern layers 2a and 2c adjacent in the oblique direction are point-symmetric with respect to P3 as the center of symmetry. The arrangement of the resistor patterns having symmetry as described above makes it easy to control the absorption frequency bandwidth. As shown in FIG. 1, each cross pattern has a shape in which two rectangles of length L and width W intersect at right angles. Then, three L × W rectangles constituting each cross pattern are arranged at equal intervals G on a straight line in the longitudinal direction in the longitudinal direction and the lateral direction. In other words, a total of nine cross patterns are formed, three vertically and three horizontally. As a matter of course, the number is not limited to this. In the central portion, a region surrounded by a square dotted line means a unit cell 4, and the unit cells 4 are repeatedly arranged. That is, the radio wave absorber shown in FIG. 1 includes nine unit cells 4.

ここで、単位セル4の一辺の長さは(L+G)であるから、単位セル4の面積S=(L+G)である。一方、1つの十字パターンの面積S={(L−W)/2×W}×4+Wとなる。よって、抵抗体パターン層2の形成領域を含む誘電体層1全体の面積に対する抵抗体パターン層2形成領域の面積比S/S×100%を求めることができる。 Here, since the length of one side of the unit cell 4 is (L + G), the area S 1 of the unit cell 4 is (L + G) 2 . On the other hand, the area S 2 of one cross pattern is {(L−W) / 2 × W} × 4 + W 2 . Therefore, the area ratio S 2 / S 1 × 100% of the resistor pattern layer 2 formation region to the entire area of the dielectric layer 1 including the resistor pattern layer 2 formation region can be obtained.

導体層3は、比抵抗10−8〜10−5Ωmの導電材料体からなり、誘電体層1の片面の略前面に形成されている。金属であれば、上記比抵抗を満たすため、特に制限されない。特に、金、銀、銅、アルミニウムなど比抵抗の小さい金属からなる薄膜を用いることが好ましい。導体層3は、めっき、スパッタリング、真空蒸着などにより形成することができる。 The conductor layer 3 is made of a conductive material body having a specific resistance of 10 −8 to 10 −5 Ωm, and is formed on a substantially front surface on one side of the dielectric layer 1. If it is a metal, in order to satisfy | fill the said specific resistance, it does not restrict | limit in particular. In particular, it is preferable to use a thin film made of a metal having a small specific resistance such as gold, silver, copper, or aluminum. The conductor layer 3 can be formed by plating, sputtering, vacuum deposition or the like.

次に、本発明に係る電波吸収体により吸収される周波数帯域幅について説明する。発明者らは、鋭意研究の結果、上述した「誘電体層1に対する抵抗体パターン層2の面積比」と「抵抗体パターン層2のシート抵抗」とを最適化することにより、所望の吸収周波数帯域幅を得ることができることを見出した。すなわち、所望の吸収周波数帯域幅が得られる「誘電体層1に対する抵抗体パターン層2の面積比」と「抵抗体パターン層2のシート抵抗」との範囲を実験により見出した。   Next, the frequency bandwidth absorbed by the radio wave absorber according to the present invention will be described. As a result of diligent research, the inventors have optimized the above-described “area ratio of the resistor pattern layer 2 to the dielectric layer 1” and “sheet resistance of the resistor pattern layer 2” to obtain a desired absorption frequency. It has been found that bandwidth can be obtained. That is, the range of “the area ratio of the resistor pattern layer 2 to the dielectric layer 1” and “the sheet resistance of the resistor pattern layer 2” in which a desired absorption frequency bandwidth can be obtained was found by experiments.

ここで、吸収周波数帯域幅bwとは、吸収量−15dBにおける、最大吸収周波数fと最小吸収周波数fとの差であり、次式で表される。
bw=f−f
また、中心周波数f=(f+f)/2との比を用いて吸収周波数帯域幅BW(%)表示される。すなわち、次式で表される。
BW(%)=bw/f×100
=(f−f)/{(f+f)/2}×100
=2×(f−f)/(f+f)×100
Here, the absorption frequency bandwidth bw, in absorption -15 dB, the difference between the maximum absorption frequency f U and minimum absorption frequency f L, is expressed by the following equation.
bw = f U −f L
Further, the absorption frequency bandwidth BW (%) is displayed using the ratio of the center frequency f C = (f U + f L ) / 2. That is, it is expressed by the following formula.
BW (%) = bw / f C × 100
= (F U -f L) / {(f U + f L) / 2} × 100
= 2 × (f U −f L ) / (f U + f L ) × 100

次に、実験条件について説明する。全ての実験は、FIT(Finite Integration Theory:有限積分法)を利用した電磁界シミュレーションソフトを用いて行った。図1に示した単位セル4を無限周期配列させ、時間領域ソルバにより計算した。周波数範囲は0〜20GHzとし、計算ポイント数は1001点とした。パターン化されていない全面抵抗膜を備える従来の2.45GHz帯向けλ/4電波吸収体における中心周波数fC0は、fC0=2.45GHzであり、これに対応する中心波長λC0は、λC0=122mmである。この中心波長λC0により規格化すると、本実験では、誘電体層1の厚さt=0.25λC0、パターン長さL=0.50λC0とした。また、その比誘電率ε=1とした。そして、抵抗体パターン層2の厚さは1mmとした。導体層3の厚さは1mmとし、その電気抵抗はゼロとした。当然のことながら、これら諸条件は、これらに限定されるものではない。また、中心周波数が2.45GHz近傍になるような条件とした。このような条件下、「誘電体層1に対する抵抗体パターン層2の面積比」と「抵抗体パターン層2のシート抵抗」とを変化させ、所望の吸収周波数帯域幅が得られる範囲を見出した。具体的には、パターン間隔G及びパターン幅Wを変化させ、「誘電体層1に対する抵抗体パターン層2の面積比」を変化させた。 Next, experimental conditions will be described. All experiments were performed using electromagnetic field simulation software using FIT (Finite Integration Theory). The unit cells 4 shown in FIG. 1 were arranged in an infinite period and calculated by a time domain solver. The frequency range was 0 to 20 GHz, and the number of calculation points was 1001 points. The center frequency f C0 in a conventional λ / 4 wave absorber for a 2.45 GHz band including an unpatterned full-surface resistive film is f C0 = 2.45 GHz, and the corresponding center wavelength λ C0 is λ C0 = 122 mm. Normalized by this center wavelength λ C0 , in this experiment, the thickness t of the dielectric layer 1 was set to 0.25λ C0 and the pattern length L = 0.50λ C0 . Further, the relative dielectric constant ε r = 1. And the thickness of the resistor pattern layer 2 was 1 mm. The thickness of the conductor layer 3 was 1 mm, and its electric resistance was zero. Of course, these conditions are not limited to these. Further, the condition was set such that the center frequency was in the vicinity of 2.45 GHz. Under such conditions, the “area ratio of the resistor pattern layer 2 to the dielectric layer 1” and the “sheet resistance of the resistor pattern layer 2” were changed, and a range in which a desired absorption frequency bandwidth was obtained was found. . Specifically, the pattern interval G and the pattern width W were changed, and the “area ratio of the resistor pattern layer 2 to the dielectric layer 1” was changed.

抵抗体膜が誘電体層1の全面に形成された従来のλ/4型電波吸収体では、吸収できる周波数帯域幅が狭かった。具体的には、無線LAN用2.45GHz帯向けλ/4電波吸収体では、吸収周波数帯域幅が43%(1.92〜2.98GHz)であり、2.45GHz帯(2.4〜2.5GHz)の他、第3世代携帯電話用の2GHz帯(1.92〜2.2GHz)及びWimax(Worldwide Interoperability for Microwave Access)の2.5GHz帯(2.55〜2.63GHz)などしか包含することができなかった。ここで、吸収周波数帯域幅を60%(1.72〜3.19GHz)とすることができれば、1.7GHz帯を完全に包含することができる。さらに、吸収周波数帯域幅を80%(1.47〜3.43GHz)にすることができれば、1.5GHz帯をほぼ包含することができる。   In the conventional λ / 4 type wave absorber in which the resistor film is formed on the entire surface of the dielectric layer 1, the frequency bandwidth that can be absorbed is narrow. Specifically, in the λ / 4 wave absorber for wireless LAN 2.45 GHz band, the absorption frequency bandwidth is 43% (1.92 to 2.98 GHz), and the 2.45 GHz band (2.4 to 2). In addition to 2 GHz band (1.92-2.2 GHz) for 3rd generation mobile phones and 2.5 GHz band (2.55-2.63 GHz) of Wimax (Worldwide Interoperability for Microwave Access). I couldn't. Here, if the absorption frequency bandwidth can be set to 60% (1.72 to 3.19 GHz), the 1.7 GHz band can be completely included. Furthermore, if the absorption frequency bandwidth can be 80% (1.47 to 3.43 GHz), the 1.5 GHz band can be substantially included.

図3は、吸収周波数帯域幅43%以上を満足する範囲を示すグラフである。横軸がパターン面積比%、縦軸がシート抵抗Ω/□を示す。そして、図中、実線がシート抵抗の上限を、破線がシート抵抗の下限を示す。すなわち両者に挟まれた領域において吸収周波数帯域幅43%以上を満足する。具他的には、誘電体層1に対する抵抗体パターン層2の面積比をR[%]とすると、シート抵抗上限=0.0028R+3.7387R+6.2943とRの二次関数で近似できる。一方、シート抵抗下限=2.8358R−11.734とRの一次関数で近似できる。すなわち、抵抗体のシート抵抗が50〜400Ω/□の範囲であり、誘電体層1に対する抵抗体パターン層2の面積比が15〜97%の範囲である。
ここで、図中の6つのプロットにおける吸収周波数帯域幅などの値を下記の表1に示す。表1から明らかなように、上述した一次関数及び二次関数に挟まれた領域に位置するプロット(1)及び(2)の帯域幅は51%若しくは52%であり、周波数帯域幅43%を満たすことがわかる。一方、2つの関数で挟まれていない領域に位置するプロット(3)〜(6)の帯域幅は40%以下であり、周波数帯域幅43%を満たさないことがわかる。ここで、以下のパターンサイズは、2.45GHzの波長λco=122mmで計算した。

Figure 2009071278
FIG. 3 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 43% or more. The horizontal axis represents the pattern area ratio%, and the vertical axis represents the sheet resistance Ω / □. In the figure, the solid line indicates the upper limit of the sheet resistance, and the broken line indicates the lower limit of the sheet resistance. That is, the absorption frequency bandwidth of 43% or more is satisfied in the region between the two. Specifically, assuming that the area ratio of the resistor pattern layer 2 to the dielectric layer 1 is R [%], the upper limit of sheet resistance = 0.0028R 2 + 3.7387R + 6.2943, which can be approximated by a quadratic function of R. On the other hand, sheet resistance lower limit = 2.8358R-11.734 and can be approximated by a linear function of R. That is, the sheet resistance of the resistor is in the range of 50 to 400Ω / □, and the area ratio of the resistor pattern layer 2 to the dielectric layer 1 is in the range of 15 to 97%.
Here, Table 1 below shows values such as the absorption frequency bandwidth in the six plots in the figure. As apparent from Table 1, the bandwidths of the plots (1) and (2) located in the region sandwiched between the linear function and the quadratic function described above are 51% or 52%, and the frequency bandwidth is 43%. You can see that it meets. On the other hand, it can be seen that the bandwidths of plots (3) to (6) located in the region not sandwiched between the two functions are 40% or less and do not satisfy the frequency bandwidth 43%. Here, the following pattern sizes were calculated at a wavelength λco = 122 mm of 2.45 GHz.
Figure 2009071278

ここで、図3のプロット(1)における帯域幅が51%であることを具体的に説明する。図4(a)は、図3において◆(プロット(1))で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。横軸が電波周波数GHz、縦軸が吸収量dBを示す。図中、破線が当該測定点の特性を、実線が比較例の特性を示している。当該測定点の条件は、上述したように、パターン長さL=0.50λC0、パターン幅W=0.29λC0、パターン間隔G=0.49λC0すなわちパターン面積比=21%であり、これとシート抵抗=70Ω/□から、シミュレーションにより吸収周波数帯域幅51%を得た。そして、図4(a)において、破線が−15dBである電波周波数をグラフから読み取った。読み取った値のうち大きい値を最大吸収周波数f=3.2とした。また、読み取った値のうち小さい値を最小吸収周波数f=1.9とした。これを上述した帯域幅BWの式に代入すると、2×(3.2−1.9)/(3.2+1.9)×100=50.9となり、帯域幅51%を得た。なお、比較例は、空気のインピーダンスに等しいシート抵抗377Ω/□を有する抵抗体膜が誘電体層1の全面に形成された電波吸収体である。
次に、図3のプロット(3)における帯域幅が0%であることを具体的に説明する。図4(b)は、図3において×(プロット(3))で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。横軸が電波周波数GHz、縦軸が吸収量dBを示す。図中、破線が当該測定点の特性を、実線が比較例の特性を示している。当該測定点の条件は、上述したように、パターン長さL=0.50λC0、パターン幅W=0.33λC0、パターン間隔G=0.25λC0すなわちパターン面積比=40%であり、これとシート抵抗=200Ω/□から、シミュレーションにより吸収周波数帯域幅0%を得た。ここで、図4(b)において、破線が−15dBの場合がないので、最大及び最小吸収周波数は、いずれも0であり、吸収周波数帯域幅は0%である。なお、比較例は、空気のインピーダンスに等しいシート抵抗377Ω/□を有する抵抗体膜が誘電体層1の全面に形成された電波吸収体である。
Here, it will be specifically described that the bandwidth in the plot (1) in FIG. 3 is 51%. FIG. 4A is a graph showing the absorption characteristics of the measurement points indicated by ◆ (plot (1)) in FIG. The horizontal axis indicates the radio frequency GHz, and the vertical axis indicates the amount of absorption dB. In the figure, the broken line indicates the characteristic of the measurement point, and the solid line indicates the characteristic of the comparative example. As described above, the conditions of the measurement points are the pattern length L = 0.50λ C0 , the pattern width W = 0.29λ C0 , the pattern interval G = 0.49λ C0, that is, the pattern area ratio = 21%. From the sheet resistance = 70Ω / □, an absorption frequency bandwidth of 51% was obtained by simulation. Then, in FIG. 4A, the radio frequency whose broken line is −15 dB was read from the graph. The larger value among the read values was taken as the maximum absorption frequency f U = 3.2. Moreover, the smallest value among the read values was set to the minimum absorption frequency f L = 1.9. Substituting this into the formula for the bandwidth BW described above yielded 2 × (3.2-1.9) / (3.2 + 1.9) × 100 = 50.9, and a bandwidth of 51% was obtained. The comparative example is a radio wave absorber in which a resistor film having a sheet resistance 377Ω / □ equal to the impedance of air is formed on the entire surface of the dielectric layer 1.
Next, it will be specifically described that the bandwidth in the plot (3) in FIG. 3 is 0%. FIG. 4B is a graph showing the absorption characteristics at the measurement points indicated by x (plot (3)) in FIG. The horizontal axis indicates the radio frequency GHz, and the vertical axis indicates the amount of absorption dB. In the figure, the broken line indicates the characteristic of the measurement point, and the solid line indicates the characteristic of the comparative example. As described above, the measurement point conditions are pattern length L = 0.50λ C0 , pattern width W = 0.33λ C0 , pattern interval G = 0.25λ C0, that is, pattern area ratio = 40%. From the sheet resistance = 200Ω / □, an absorption frequency bandwidth of 0% was obtained by simulation. Here, in FIG. 4B, since there is no case where the broken line is −15 dB, the maximum and minimum absorption frequencies are both 0, and the absorption frequency bandwidth is 0%. The comparative example is a radio wave absorber in which a resistor film having a sheet resistance 377Ω / □ equal to the impedance of air is formed on the entire surface of the dielectric layer 1.

図5は、吸収周波数帯域幅60%以上を満足する範囲を示すグラフである。横軸がパターン面積比%、縦軸がシート抵抗Ω/□を示す。そして、図中、実線がシート抵抗の上限を、破線がシート抵抗の下限を示す。すなわち両者に挟まれた領域において吸収周波数帯域幅60%以上を満足する。具他的には、誘電体層1に対する抵抗体パターン層2の面積比をR[%]とすると、シート抵抗上限=−0.0021R+4.8382R−19.595とRの二次関数で近似できる。一方、シート抵抗下限=2.8279R−12.522とRの一次関数で近似できる。また、抵抗体のシート抵抗が50〜230Ω/□の範囲であり、誘電体層1に対する抵抗体パターン層2の面積比が20〜75%の範囲である。 FIG. 5 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 60% or more. The horizontal axis represents the pattern area ratio%, and the vertical axis represents the sheet resistance Ω / □. In the figure, the solid line indicates the upper limit of the sheet resistance, and the broken line indicates the lower limit of the sheet resistance. That is, the absorption frequency bandwidth of 60% or more is satisfied in the region sandwiched between the two. Specifically, assuming that the area ratio of the resistor pattern layer 2 to the dielectric layer 1 is R [%], the sheet resistance upper limit = −0.0021R 2 + 4.8382R−19.595, which is a quadratic function of R. Can be approximated. On the other hand, sheet resistance lower limit = 2.8279R-12.522 and can be approximated by a linear function of R. Further, the sheet resistance of the resistor is in the range of 50 to 230 Ω / □, and the area ratio of the resistor pattern layer 2 to the dielectric layer 1 is in the range of 20 to 75%.

図6は、図5において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。横軸が電波周波数GHz、縦軸が吸収量dBを示す。図中、破線が当該測定点の特性を、実線が比較例の特性を示している。当該測定点の条件は、パターン長さL=0.50λC0、パターン幅W=0.33λC0、パターン間隔G=0.49λC0すなわちパターン面積比=22%であり、これとシート抵抗=70Ω/□から、吸収周波数帯域幅65%を実現することができる。 FIG. 6 is a graph showing the absorption characteristics at the measurement points indicated by ♦ in FIG. The horizontal axis indicates the radio frequency GHz, and the vertical axis indicates the amount of absorption dB. In the figure, the broken line indicates the characteristic of the measurement point, and the solid line indicates the characteristic of the comparative example. The conditions of the measurement points are: pattern length L = 0.50λ C0 , pattern width W = 0.33λ C0 , pattern interval G = 0.49λ C0, that is, pattern area ratio = 22%, and sheet resistance = 70Ω / □, an absorption frequency bandwidth of 65% can be realized.

図7は、吸収周波数帯域幅70%以上を満足する範囲を示すグラフである。横軸がパターン面積比%、縦軸がシート抵抗Ω/□を示す。そして、図中、実線がシート抵抗の上限を、破線がシート抵抗の下限を示す。すなわち両者に挟まれた領域において吸収周波数帯域幅70%以上を満足する。具他的には、誘電体層1に対する抵抗体パターン層2の面積比をR[%]とすると、シート抵抗上限=−0.1209R+11.506R−138.11とRの二次関数で近似できる。一方、シート抵抗下限=2.9452R−18.948とRの一次関数で近似できる。すなわち、抵抗体のシート抵抗が50〜140Ω/□の範囲であり、誘電体層1に対する抵抗体パターン層2の面積比が20〜45%の範囲である。 FIG. 7 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 70% or more. The horizontal axis represents the pattern area ratio%, and the vertical axis represents the sheet resistance Ω / □. In the figure, the solid line indicates the upper limit of the sheet resistance, and the broken line indicates the lower limit of the sheet resistance. That is, the absorption frequency bandwidth of 70% or more is satisfied in the region sandwiched between the two. Specifically, when the area ratio of the resistor pattern layer 2 to the dielectric layer 1 is R [%], the sheet resistance upper limit = −0.1209R 2 + 11.506R−138.11 and a quadratic function of R Can be approximated. On the other hand, the lower limit of sheet resistance = 2.945R-18.948 can be approximated by a linear function of R. That is, the sheet resistance of the resistor is in the range of 50 to 140 Ω / □, and the area ratio of the resistor pattern layer 2 to the dielectric layer 1 is in the range of 20 to 45%.

図8は、図7において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。横軸が電波周波数GHz、縦軸が吸収量dBを示す。図中、破線が当該測定点の特性を、実線が比較例の特性を示している。当該測定点の条件は、パターン長さL=0.50λC0、パターン幅W=0.41λC0、パターン間隔G=0.41λC0すなわちパターン面積比=29%であり、これとシート抵抗=80Ω/□から、吸収周波数帯域幅77%を実現することができる。 FIG. 8 is a graph showing the absorption characteristics at the measurement points indicated by ♦ in FIG. The horizontal axis indicates the radio frequency GHz, and the vertical axis indicates the amount of absorption dB. In the figure, the broken line indicates the characteristic of the measurement point, and the solid line indicates the characteristic of the comparative example. The conditions of the measurement points are pattern length L = 0.50λ C0 , pattern width W = 0.41λ C0 , pattern interval G = 0.41λ C0, that is, pattern area ratio = 29%, and sheet resistance = 80Ω. / □, an absorption frequency bandwidth of 77% can be realized.

図9は、吸収周波数帯域幅80%以上を満足する範囲を示すグラフである。横軸がパターン面積比%、縦軸がシート抵抗Ω/□を示す。そして、実線がシート抵抗の上限を、破線がシート抵抗の下限を示す。すなわち両者に挟まれた領域において吸収周波数帯域幅80%以上を満足する。具他的には、誘電体層1に対する抵抗体パターン層2の面積比をR[%]とすると、シート抵抗上限=−0.487R+35.734R−551.55とRの二次関数で近似できる。一方、シート抵抗下限=2.6537R−11.157とRの一次関数で近似できる。また、抵抗体のシート抵抗が60〜110Ω/□の範囲であり、誘電体層1に対する抵抗体パターン層2の面積比が25〜40%の範囲である。 FIG. 9 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 80% or more. The horizontal axis represents the pattern area ratio%, and the vertical axis represents the sheet resistance Ω / □. The solid line indicates the upper limit of the sheet resistance, and the broken line indicates the lower limit of the sheet resistance. That is, the absorption frequency bandwidth of 80% or more is satisfied in the region between the two. Specifically, assuming that the area ratio of the resistor pattern layer 2 to the dielectric layer 1 is R [%], the sheet resistance upper limit = −0.487R 2 + 35.734R−551.55, which is a quadratic function of R. Can be approximated. On the other hand, the sheet resistance lower limit = 2.657R-11.157 can be approximated by a linear function of R. Further, the sheet resistance of the resistor is in the range of 60 to 110 Ω / □, and the area ratio of the resistor pattern layer 2 to the dielectric layer 1 is in the range of 25 to 40%.

図10は、図9において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。横軸が電波周波数GHz、縦軸が吸収量dBを示す。図中、破線が当該測定点の特性を、実線が比較例の特性を示している。当該測定点の条件は、パターン長さL=0.50λC0、パターン幅W=0.41λC0、パターン間隔G=0.33λC0すなわちパターン面積比=35%であり、これとシート抵抗=85Ω/□から、吸収周波数帯域幅87%を実現することができる。 FIG. 10 is a graph showing the absorption characteristics at the measurement points indicated by ♦ in FIG. The horizontal axis indicates the radio frequency GHz, and the vertical axis indicates the amount of absorption dB. In the figure, the broken line indicates the characteristic of the measurement point, and the solid line indicates the characteristic of the comparative example. The conditions of the measurement points are pattern length L = 0.50λ C0 , pattern width W = 0.41λ C0 , pattern interval G = 0.33λ C0, that is, pattern area ratio = 35%, and sheet resistance = 85Ω. / □, an absorption frequency bandwidth of 87% can be realized.

ここで以上に示した、吸収周波数帯域幅43%以上、吸収周波数帯域幅60%以上、吸収周波数帯域幅70%以上、吸収周波数帯域幅80%以上を満足する、パターン間隔G、パターン幅W、面積比R及びシート抵抗の範囲を表2にまとめて示す。

Figure 2009071278
The pattern interval G, the pattern width W, satisfying the absorption frequency bandwidth of 43% or more, the absorption frequency bandwidth of 60% or more, the absorption frequency bandwidth of 70% or more, and the absorption frequency bandwidth of 80% or more shown above. Table 2 summarizes the area ratio R and the sheet resistance range.
Figure 2009071278

実施の形態2
次に、他の実施の形態について説明する。図11に本発明の実施の形態2に係るλ/4型電波吸収体の抵抗体パターン層2を示す。実施の形態1では、抵抗体パターン層2が十字形状であるのに対し、実施の形態2では、1つの十字に対し45°回転したもう1つの十字が重なった米印形状である点が異なる。言い換えると、この実施の形態の抵抗体パターンの形状は、それぞれの中点(若しくは重心)が一致した4つの長方形によって構成されている。ここで、この隣接する抵抗体パターン層2同士は所定の点P1を対称の中心として点対称である。ここでは、当該米印形状を便宜的に「*」形状と記す。それ以外の構成及び条件は、実施の形態1と同様である。
Embodiment 2
Next, another embodiment will be described. FIG. 11 shows a resistor pattern layer 2 of a λ / 4 type wave absorber according to Embodiment 2 of the present invention. In the first embodiment, the resistor pattern layer 2 has a cross shape, whereas in the second embodiment, the second cross shape rotated by 45 ° with respect to one cross has a US mark shape in which the other cross overlaps. . In other words, the shape of the resistor pattern of this embodiment is constituted by four rectangles having the same midpoint (or center of gravity). Here, the adjacent resistor pattern layers 2 are point-symmetric with a predetermined point P1 as the center of symmetry. Here, the US mark shape is referred to as an “*” shape for convenience. Other configurations and conditions are the same as those in the first embodiment.

本実施形態において、パターン長さL=0.49λC0、パターン幅W=0.025λC0、パターン間隔G=0.033λC0とするとパターン面積比R=16%となる。これとシート抵抗=27Ω/□から、吸収周波数帯域幅83%を実現することができる。図12は、この条件における吸収特性を示すグラフであり、横軸が電波周波数GHz、縦軸が吸収量dBを示す。 In the present embodiment, the pattern length L = 0.49λ C0, the pattern width W = 0.025λ C0, the pattern area ratio R = 16% when the pattern spacing G = 0.033λ C0. From this and the sheet resistance = 27Ω / □, an absorption frequency bandwidth of 83% can be realized. FIG. 12 is a graph showing the absorption characteristics under these conditions, where the horizontal axis represents the radio frequency GHz and the vertical axis represents the amount of absorption dB.

帯域幅BWが43%、60%、70%、80%以上となるパターン間隔G、パターン幅W、面積比R、シート抵抗を表3に示す。表記方法は無線LANの周波数2.45GHzの波長λC0(=122mm)で規格化している。なお、このときのパターン長Lは0.50λC0である。

Figure 2009071278
Table 3 shows the pattern interval G, the pattern width W, the area ratio R, and the sheet resistance at which the bandwidth BW is 43%, 60%, 70%, and 80% or more. The notation method is standardized at a wavelength λ C0 (= 122 mm) of a wireless LAN frequency of 2.45 GHz. At this time, the pattern length L is 0.50λ C0 .
Figure 2009071278

図19は、吸収周波数帯域幅43%以上を満足する範囲を示すグラフである。シート抵抗上限=0.0445R+0.4856R+12.74で近似でき、シート抵抗下限=0.0325R+0.073R+9.5636で近似できる。 FIG. 19 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 43% or more. The sheet resistance upper limit can be approximated by 0.0445R 2 + 0.4856R + 12.74, and the sheet resistance lower limit = 0.0325R 2 + 0.073R + 9.5636 can be approximated.

図20は、図19において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。当該測定点の条件は、パターン長さL=0.50λC0、パターン幅W=0.049λC0、パターン間隔G=0.0082λC0すなわちパターン面積比=34%であり、これとシート抵抗=75Ω/□から、吸収周波数帯域幅56%を実現することができる。なお、比較例は、空気のインピーダンスに等しいシート抵抗377Ω/□を有する抵抗体膜が誘電体層の全面に形成された電波吸収体である。 FIG. 20 is a graph showing the absorption characteristics at the measurement points indicated by ♦ in FIG. The conditions of the measurement points are pattern length L = 0.50λ C0 , pattern width W = 0.049λ C0 , pattern interval G = 0.0081λ C0, that is, pattern area ratio = 34%, and sheet resistance = 75Ω. / □, an absorption frequency bandwidth of 56% can be realized. The comparative example is a radio wave absorber in which a resistor film having a sheet resistance 377Ω / □ equal to the impedance of air is formed on the entire surface of the dielectric layer.

図21は、吸収周波数帯域幅60%以上を満足する範囲を示すグラフである。シート抵抗上限=0.0106R+1.8392R−0.8519で近似でき、シート抵抗下限=0.0272R+0.258R+8.7723で近似できる。 FIG. 21 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 60% or more. The sheet resistance upper limit can be approximated by 0.0106R 2 + 1.8392R−0.8519, and the sheet resistance lower limit can be approximated by 0.0272R 2 + 0.258R + 8.7723.

図22は、図21において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。当該測定点の条件は、パターン長さL=0.50λC0、パターン幅W=0.049λC0、パターン間隔G=0.016λC0すなわちパターン面積比=33%であり、これとシート抵抗=68Ω/□から、吸収周波数帯域幅66%を実現することができる。 FIG. 22 is a graph showing the absorption characteristics at the measurement points indicated by ♦ in FIG. The conditions of the measurement points are pattern length L = 0.50λ C0 , pattern width W = 0.049λ C0 , pattern interval G = 0.016λ C0, that is, pattern area ratio = 33%, and sheet resistance = 68Ω. / □, an absorption frequency bandwidth of 66% can be realized.

図23は、吸収周波数帯域幅70%以上を満足する範囲を示すグラフである。シート抵抗上限=0.0004R+2.135R−5.6797で近似でき、シート抵抗下限=0.0118R+0.9583R+3.4408で近似できる。 FIG. 23 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 70% or more. The upper limit of the sheet resistance can be approximated by 0.0004R 2 + 2.135R−5.66797, and the lower limit of the sheet resistance = 0.118R 2 + 0.9583R + 3.4408.

図24は、図23において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。当該測定点の条件は、パターン長さL=0.50λC0、パターン幅W=0.033λC0、パターン間隔G=0.033λC0すなわちパターン面積比=21%であり、これとシート抵抗=38Ω/□から、吸収周波数帯域幅77%を実現することができる。 FIG. 24 is a graph showing the absorption characteristics at the measurement points indicated by ♦ in FIG. The conditions of the measurement points are pattern length L = 0.50λ C0 , pattern width W = 0.033λ C0 , pattern interval G = 0.033λ C0, that is, pattern area ratio = 21%, and sheet resistance = 38Ω. / □, an absorption frequency bandwidth of 77% can be realized.

図25は、吸収周波数帯域幅80%以上を満足する範囲を示すグラフである。シート抵抗上限=0.0009R+1.8774R−4.9647で近似でき、シート抵抗下限=0.0152R+0.6994R+7.1435で近似できる。 FIG. 25 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 80% or more. The upper limit of the sheet resistance can be approximated by 0.0009R 2 + 1.8774R−4.9647, and the lower limit of the sheet resistance can be approximated by 0.0152R 2 + 0.6994R + 7.1435.

図26は、図25において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。当該測定点の条件は、パターン長さL=0.50λC0、パターン幅W=0.025λC0、パターン間隔G=0.016λC0すなわちパターン面積比=17%であり、これとシート抵抗=27Ω/□から、吸収周波数帯域幅84%を実現することができる。 FIG. 26 is a graph showing the absorption characteristics at the measurement points indicated by ◆ in FIG. Conditions of the measurement point, the pattern length L = 0.50λ C0, the pattern width W = 0.025λ C0, a pattern interval G = 0.016λ C0 or pattern area ratio = 17%, which the sheet resistance = 27 Ohms / □, an absorption frequency bandwidth of 84% can be realized.

実施の形態3
次に、他の実施の形態について説明する。図13に本発明の実施の形態3に係るλ/4型電波吸収体の抵抗体パターン層2を示す。実施の形態1では、抵抗体パターン層2が十字形状であるのに対し、実施の形態2では、一定の幅Wを有する「□」形状である点が異なる。ここで、この隣接する抵抗体パターン層2同士は所定の点P1を対称の中心として点対称である。それ以外の構成及び条件は、実施の形態1と同様である。
Embodiment 3
Next, another embodiment will be described. FIG. 13 shows a resistor pattern layer 2 of a λ / 4 type wave absorber according to Embodiment 3 of the present invention. In the first embodiment, the resistor pattern layer 2 has a cross shape, whereas in the second embodiment, the resistor pattern layer 2 has a “□” shape having a certain width W. Here, the adjacent resistor pattern layers 2 are point-symmetric with a predetermined point P1 as the center of symmetry. Other configurations and conditions are the same as those in the first embodiment.

本実施形態において、パターン長さL=0.43λC0、パターン幅W=0.058λC0、パターン間隔G=0.16λC0とするとパターン面積比R=24%となる。これとシート抵抗=32Ω/□から吸収周波数帯域幅90%を実現することができる。図14は、この条件における吸収特性を示すグラフであり、横軸が電波周波数GHz、縦軸が吸収量dBを示す。 In this embodiment, when the pattern length L = 0.43λ C0 , the pattern width W = 0.58λ C0 , and the pattern interval G = 0.16λ C0 , the pattern area ratio R = 24%. From this and the sheet resistance = 32Ω / □, an absorption frequency bandwidth of 90% can be realized. FIG. 14 is a graph showing the absorption characteristics under these conditions, in which the horizontal axis represents the radio frequency GHz and the vertical axis represents the amount of absorption dB.

帯域幅BWが43%、60%、70%、80%以上となるパターン長L、パターン間隔G、パターン幅W、面積比R、シート抵抗を表4に示す。

Figure 2009071278
Table 4 shows the pattern length L, the pattern interval G, the pattern width W, the area ratio R, and the sheet resistance at which the bandwidth BW is 43%, 60%, 70%, and 80% or more.
Figure 2009071278

図27は、吸収周波数帯域幅43%以上を満足する範囲を示すグラフである。シート抵抗上限=0.0278R+0.9446R+8.8869で近似でき、シート抵抗下限=0.0237R+0.0499R+15.072で近似できる。 FIG. 27 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 43% or more. Sheet resistance upper limit = 0.0278R 2 + 0.9446R + 8.8869 can be approximated, and sheet resistance lower limit = 0.0237R 2 + 0.0499R + 15.072 can be approximated.

図28は、図27において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。当該測定点の条件は、パターン長さL=0.43λC0、パターン幅W=0.066λC0、パターン間隔G=0.12λC0すなわちパターン面積比=31%であり、これとシート抵抗=60Ω/□から、吸収周波数帯域幅59%を実現することができる。 FIG. 28 is a graph showing the absorption characteristics at the measurement points indicated by ◆ in FIG. The conditions of the measurement points are pattern length L = 0.43λ C0 , pattern width W = 0.066λ C0 , pattern interval G = 0.12λ C0, that is, pattern area ratio = 31%, and sheet resistance = 60Ω. / □, an absorption frequency bandwidth of 59% can be realized.

図29は、吸収周波数帯域幅60%以上を満足する範囲を示すグラフである。シート抵抗上限=−0.0016R+2.1794R−7.3834で近似でき、シート抵抗下限=0.0195R+0.2286R+14.316で近似できる。 FIG. 29 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 60% or more. The upper limit of sheet resistance can be approximated by −0.0016R 2 + 2.1794R−7.3834, and the lower limit of sheet resistance can be approximated by 0.0195R 2 + 0.2286R + 14.316.

図30は、図29において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。当該測定点の条件は、パターン長さL=0.43λC0、パターン幅W=0.066λC0、パターン間隔G=0.20λC0すなわちパターン面積比=24%であり、これとシート抵抗=42Ω/□から、吸収周波数帯域幅%を実現することができる。 FIG. 30 is a graph showing the absorption characteristics at the measurement points indicated by ◆ in FIG. The conditions of the measurement point are: pattern length L = 0.43λ C0 , pattern width W = 0.066λ C0 , pattern interval G = 0.20λ C0, that is, pattern area ratio = 24%, and sheet resistance = 42Ω. / □, an absorption frequency bandwidth% can be realized.

図31は、吸収周波数帯域幅70%以上を満足する範囲を示すグラフである。シート抵抗上限=−0.0103R+2.3975R−11.507で近似でき、シート抵抗下限=0.0076R+0.7571R+8.4538で近似できる。 FIG. 31 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 70% or more. The sheet resistance upper limit can be approximated by −0.0103R 2 + 2.3975R-11.507, and the sheet resistance lower limit can be approximated by 0.0076R 2 + 0.7571R + 8.4538.

図32は、図31において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。当該測定点の条件は、パターン長さL=0.43λC0、パターン幅W=0.066λC0、パターン間隔G=0.20λC0すなわちパターン面積比=24%であり、これとシート抵抗=38Ω/□から、吸収周波数帯域幅78%を実現することができる。 FIG. 32 is a graph showing the absorption characteristics at the measurement points indicated by ♦ in FIG. The conditions of the measurement points are pattern length L = 0.43λ C0 , pattern width W = 0.066λ C0 , pattern interval G = 0.20λ C0, that is, pattern area ratio = 24%, and sheet resistance = 38Ω. / □, an absorption frequency bandwidth of 78% can be realized.

図33は、吸収周波数帯域幅80%以上を満足する範囲を示すグラフである。シート抵抗上限=−0.0103R+2.2256R−11.703で近似でき、シート抵抗下限=0.0082R+0.748R+7.8178で近似できる。 FIG. 33 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 80% or more. The upper limit of the sheet resistance can be approximated by −0.0103R 2 + 2.2256R-11.703, and the lower limit of the sheet resistance can be approximated by 0.0082R 2 + 0.748R + 7.8178.

図34は、図33において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。当該測定点の条件は、パターン長さL=0.43λC0、パターン幅W=0.057λC0、パターン間隔G=0.16λC0すなわちパターン面積比=24%であり、これとシート抵抗=32Ω/□から、吸収周波数帯域幅91%を実現することができる。 FIG. 34 is a graph showing the absorption characteristics at the measurement points indicated by ◆ in FIG. The conditions of the measurement points are pattern length L = 0.43λ C0 , pattern width W = 0.57λ C0 , pattern interval G = 0.16λ C0, that is, pattern area ratio = 24%, and sheet resistance = 32Ω. / □, an absorption frequency bandwidth of 91% can be realized.

実施の形態4
次に、他の実施の形態について説明する。図15に本発明の実施の形態4に係るλ/4型電波吸収体の抵抗体パターン層2を示す。実施の形態1では、抵抗体パターン層2が十字形状であるのに対し、実施の形態2では、一定の幅を有する「○」形状である点が異なる。ここで、この隣接する抵抗体パターン層2同士は所定の点P1を対称の中心として点対称である。それ以外の構成及び条件は、実施の形態1と同様である。
Embodiment 4
Next, another embodiment will be described. FIG. 15 shows a resistor pattern layer 2 of a λ / 4 type wave absorber according to Embodiment 4 of the present invention. In the first embodiment, the resistor pattern layer 2 has a cross shape, whereas in the second embodiment, the resistor pattern layer 2 has a “o” shape having a certain width. Here, the adjacent resistor pattern layers 2 are point-symmetric with a predetermined point P1 as the center of symmetry. Other configurations and conditions are the same as those in the first embodiment.

本実施形態において、パターン内径L=0.16λC0、パターン外径L=0.18λC0、パターン間隔G=0.033λC0とするとパターン面積比R=11%となる。これとシート抵抗=17Ω/□から吸収周波数帯域幅94%を実現することができる。図16は、この条件における吸収特性を示すグラフであり、横軸が電波周波数GHz、縦軸が吸収量dBを示す。 In this embodiment, if the pattern inner diameter L 1 = 0.16λ C0 , the pattern outer diameter L 2 = 0.18λ C0 , and the pattern interval G = 0.033λ C0 , the pattern area ratio R = 11%. From this and the sheet resistance = 17Ω / □, an absorption frequency bandwidth of 94% can be realized. FIG. 16 is a graph showing the absorption characteristics under these conditions, where the horizontal axis indicates the radio frequency GHz and the vertical axis indicates the absorption amount dB.

実施の形態5
次に、他の実施の形態について説明する。図17に本発明の実施の形態5に係るλ/4型電波吸収体の抵抗体パターン層2を示す。実施の形態1では、抵抗体パターン層2が十字形状であるのに対し、実施の形態2では、一定の幅Wを有する「田」形状である点が異なる。ここで、この隣接する抵抗体パターン層2同士は所定の点P1を対称の中心として点対称である。それ以外の構成及び条件は、実施の形態1と同様である。
Embodiment 5
Next, another embodiment will be described. FIG. 17 shows the resistor pattern layer 2 of the λ / 4 type wave absorber according to the fifth embodiment of the present invention. In the first embodiment, the resistor pattern layer 2 has a cross shape, whereas in the second embodiment, the resistor pattern layer 2 has a “field” shape having a certain width W. Here, the adjacent resistor pattern layers 2 are point-symmetric with a predetermined point P1 as the center of symmetry. Other configurations and conditions are the same as those in the first embodiment.

本実施形態において、パターン長さL=0.47λC0、パターン幅W=0.058λC0、パターン間隔G=0.33λC0とするとパターン面積比R=21%となる。これとシート抵抗=37Ω/□から吸収周波数帯域幅81%を実現することができる。図18は、この条件における吸収特性を示すグラフであり、横軸が電波周波数GHz、縦軸が吸収量dBを示す。 In this embodiment, if the pattern length L = 0.47λ C0 , the pattern width W = 0.58λ C0 , and the pattern interval G = 0.33λ C0 , the pattern area ratio R = 21%. From this and the sheet resistance = 37Ω / □, an absorption frequency bandwidth of 81% can be realized. FIG. 18 is a graph showing the absorption characteristics under these conditions, where the horizontal axis represents the radio frequency GHz and the vertical axis represents the amount of absorption dB.

上記のように、抵抗体パターン層2の形状、抵抗体のシート抵抗及び誘電体層1に対する抵抗体パターン層2の面積比に基づいて吸収される周波数帯域幅を80%以上とすることができる。   As described above, the frequency bandwidth absorbed based on the shape of the resistor pattern layer 2, the sheet resistance of the resistor, and the area ratio of the resistor pattern layer 2 to the dielectric layer 1 can be 80% or more. .

実施の形態6
次に、他の実施の形態について説明する。図35に本発明の実施の形態6に係るλ/4型電波吸収体の抵抗体パターン層2を示す。実施の形態1と同様に、抵抗体パターン層2は十字形状である。一方、実施の形態1では、図1に示すように、1つの「十」字の抵抗体パターン層2の周囲の縦横斜め8方向すべてに隣接する「十」字の抵抗体パターン層2が配置されている。これに対し、実施の形態6では、図35に示すように、縦横方向には配置されておらず4つの斜め方向のみに隣接する「十」字の抵抗体パターン層2が配置されている。それ以外の構成及び条件は、実施の形態1と同様である。ここで、この隣接する抵抗体パターン層2同士は所定の点を対称の中心として点対称である。より詳細には、抵抗体パターン層2a、2b、2c、2dに注目すると、横方向に隣接する抵抗体パターン層2aと2bとはP1を対称の中心として点対称である。縦方向に隣接する抵抗体パターン層2bと2cとはP2を対称の中心として点対称である。また、斜め方向に隣接する抵抗体パターン層2bと2dとはP3を対称の中心として点対称である。このように対称性を有する抵抗体パターンの配置とすることで、吸収周波数帯域幅を制御しやすくなる。
Embodiment 6
Next, another embodiment will be described. FIG. 35 shows a resistor pattern layer 2 of a λ / 4 type wave absorber according to the sixth embodiment of the present invention. Similar to the first embodiment, the resistor pattern layer 2 has a cross shape. On the other hand, in the first embodiment, as shown in FIG. 1, the “ten” -shaped resistor pattern layer 2 adjacent to all eight directions in the vertical and horizontal directions around one “ten” -shaped resistor pattern layer 2 is arranged. Has been. On the other hand, in the sixth embodiment, as shown in FIG. 35, the “ten” -shaped resistor pattern layers 2 that are not arranged in the vertical and horizontal directions but are adjacent to only four oblique directions are arranged. Other configurations and conditions are the same as those in the first embodiment. Here, the adjacent resistor pattern layers 2 are point-symmetric with a predetermined point as the center of symmetry. More specifically, when attention is paid to the resistor pattern layers 2a, 2b, 2c, and 2d, the resistor pattern layers 2a and 2b adjacent in the horizontal direction are point-symmetric with respect to P1 as the center of symmetry. The resistor pattern layers 2b and 2c adjacent in the vertical direction are point-symmetric with respect to P2. The resistor pattern layers 2b and 2d adjacent in the oblique direction are point-symmetric with respect to P3 as the center of symmetry. The arrangement of the resistor patterns having symmetry as described above makes it easy to control the absorption frequency bandwidth.

帯域幅BWが43%、60%、70%、80%以上となるパターン間隔G、パターン幅W、面積比R、シート抵抗を表5に示す。

Figure 2009071278
Table 5 shows the pattern interval G, the pattern width W, the area ratio R, and the sheet resistance at which the bandwidth BW is 43%, 60%, 70%, and 80% or more.
Figure 2009071278

図36は、吸収周波数帯域幅43%以上を満足する範囲を示すグラフである。シート抵抗上限=−0.0248R+5.7881R−28.76で近似でき、シート抵抗下限=2.544R−2.7847で近似できる。 FIG. 36 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 43% or more. Sheet resistance upper limit = −0.0248R 2 + 5.7881R−28.76 can be approximated, and sheet resistance lower limit = 2.544R−2.7847 can be approximated.

図37は、図36において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。当該測定点の条件は、パターン長さL=0.50λC0、パターン幅W=0.29λC0、パターン間隔G=0.66λC0すなわちパターン面積比=31%であり、これとシート抵抗=110Ω/□から、吸収周波数帯域幅57%を実現することができる。 FIG. 37 is a graph showing the absorption characteristics at the measurement points indicated by ◆ in FIG. The conditions of the measurement points are pattern length L = 0.50λ C0 , pattern width W = 0.29λ C0 , pattern interval G = 0.66λ C0, that is, pattern area ratio = 31%, and sheet resistance = 110Ω. / □, an absorption frequency bandwidth of 57% can be realized.

図38は、吸収周波数帯域幅60%以上を満足する範囲を示すグラフである。シート抵抗上限=−0.0589R+7.8585R−76.813で近似でき、シート抵抗下限=2.6958R−8.6で近似できる。 FIG. 38 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 60% or more. Sheet resistance upper limit = −0.0589R 2 + 7.8585R−76.813 can be approximated, and sheet resistance lower limit = 2.6958R−8.6.

図39は、図38において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。当該測定点の条件は、パターン長さL=0.50λC0、パターン幅W=0.33λC0、パターン間隔G=0.82λC0すなわちパターン面積比=25%であり、これとシート抵抗=70Ω/□から、吸収周波数帯域幅63%を実現することができる。 FIG. 39 is a graph showing the absorption characteristics at the measurement points indicated by ◆ in FIG. The conditions of the measurement points are pattern length L = 0.50λ C0 , pattern width W = 0.33λ C0 , pattern interval G = 0.82λ C0, that is, pattern area ratio = 25%, and sheet resistance = 70Ω. / □, an absorption frequency bandwidth of 63% can be realized.

図40は、吸収周波数帯域幅70%以上を満足する範囲を示すグラフである。シート抵抗上限=−0.1145R+11.716R−154.74で近似でき、シート抵抗下限=3.0536R−23.306で近似できる。 FIG. 40 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 70% or more. The upper limit of the sheet resistance can be approximated by −0.1145R 2 + 11.716R−154.74, and the lower limit of the sheet resistance can be approximated by 3.0536R−23.306.

図41は、図40において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。当該測定点の条件は、パターン長さL=0.50λC0、パターン幅W=0.37λC0、パターン間隔G=0.74λC0すなわちパターン面積比=30%であり、これとシート抵抗=80Ω/□から、吸収周波数帯域幅76%を実現することができる。 FIG. 41 is a graph showing the absorption characteristics at the measurement points indicated by ♦ in FIG. The conditions of the measurement points are pattern length L = 0.50λ C0 , pattern width W = 0.37λ C0 , pattern interval G = 0.74λ C0, that is, pattern area ratio = 30%, and sheet resistance = 80Ω. / □, an absorption frequency bandwidth of 76% can be realized.

図42は、吸収周波数帯域幅80%以上を満足する範囲を示すグラフである。シート抵抗上限=−0.6051R+46.316R−779.39で近似でき、シート抵抗下限=2.4403R−4.289で近似できる。 FIG. 42 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 80% or more. Sheet resistance upper limit = −0.6051R 2 + 46.316R-779.39 can be approximated, and sheet resistance lower limit = 2.4403R−4.289 can be approximated.

図43は、図42において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。当該測定点の条件は、パターン長さL=0.50λC0、パターン幅W=0.41λC0、パターン間隔G=0.66λC0すなわちパターン面積比=36%であり、これとシート抵抗=90Ω/□から、吸収周波数帯域幅86%を実現することができる。 FIG. 43 is a graph showing the absorption characteristics at the measurement points indicated by ◆ in FIG. The conditions of the measurement point are: pattern length L = 0.50λ C0 , pattern width W = 0.41λ C0 , pattern interval G = 0.66λ C0, that is, pattern area ratio = 36%, and sheet resistance = 90Ω / □, an absorption frequency bandwidth of 86% can be realized.

実施の形態1に係る電波吸収体の平面図である。3 is a plan view of the radio wave absorber according to Embodiment 1. FIG. 図1のII−II切断線による断面図である。It is sectional drawing by the II-II cutting line of FIG. 実施の形態1に係る電波吸収体において、吸収周波数帯域幅43%以上を満足する範囲を示すグラフである。4 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 43% or more in the radio wave absorber according to the first embodiment. 図3において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。It is a graph which shows the absorption characteristic of the measurement point shown by * in FIG. 実施の形態1に係る電波吸収体において、吸収周波数帯域幅60%以上を満足する範囲を示すグラフである。4 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 60% or more in the radio wave absorber according to the first embodiment. 図5において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。It is a graph which shows the absorption characteristic of the measurement point shown by * in FIG. 実施の形態1に係る電波吸収体において、吸収周波数帯域幅70%以上を満足する範囲を示すグラフである。4 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 70% or more in the radio wave absorber according to the first embodiment. 図7において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。It is a graph which shows the absorption characteristic of the measurement point shown by * in FIG. 実施の形態1に係る電波吸収体において、吸収周波数帯域幅80%以上を満足する範囲を示すグラフである。4 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 80% or more in the radio wave absorber according to the first embodiment. 図9において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。10 is a graph showing absorption characteristics at measurement points indicated by ◆ in FIG. 9. 実施の形態2に係る電波吸収体の抵抗体パターン層2を示す平面図である。6 is a plan view showing a resistor pattern layer 2 of a radio wave absorber according to Embodiment 2. FIG. 実施の形態2に係る電波吸収体の吸収特性を示すグラフである。6 is a graph showing the absorption characteristics of a radio wave absorber according to Embodiment 2. 実施の形態3に係る電波吸収体の抵抗体パターン層2を示す平面図である。6 is a plan view showing a resistor pattern layer 2 of a radio wave absorber according to Embodiment 3. FIG. 実施の形態3に係る電波吸収体の吸収特性を示すグラフである。6 is a graph showing the absorption characteristics of a radio wave absorber according to Embodiment 3. 実施の形態4に係る電波吸収体の抵抗体パターン層2を示す平面図である。6 is a plan view showing a resistor pattern layer 2 of a radio wave absorber according to Embodiment 4. FIG. 実施の形態4に係る電波吸収体の吸収特性を示すグラフである。6 is a graph showing absorption characteristics of a radio wave absorber according to Embodiment 4. 実施の形態5に係る電波吸収体の抵抗体パターン層2を示す平面図である。6 is a plan view showing a resistor pattern layer 2 of a radio wave absorber according to Embodiment 5. FIG. 実施の形態5に係る電波吸収体の吸収特性を示すグラフである。6 is a graph showing the absorption characteristics of a radio wave absorber according to a fifth embodiment. 実施の形態2に係る電波吸収体において、吸収周波数帯域幅43%以上を満足する範囲を示すグラフである。6 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 43% or more in the radio wave absorber according to the second embodiment. 図19において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。It is a graph which shows the absorption characteristic of the measurement point shown by * in FIG. 実施の形態2に係る電波吸収体において、吸収周波数帯域幅60%以上を満足する範囲を示すグラフである。6 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 60% or more in the radio wave absorber according to the second embodiment. 図21において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。It is a graph which shows the absorption characteristic of the measurement point shown by * in FIG. 実施の形態2に係る電波吸収体において、吸収周波数帯域幅70%以上を満足する範囲を示すグラフである。6 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 70% or more in the radio wave absorber according to the second embodiment. 図23において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。It is a graph which shows the absorption characteristic of the measurement point shown by * in FIG. 実施の形態2に係る電波吸収体において、吸収周波数帯域幅80%以上を満足する範囲を示すグラフである。6 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 80% or more in the radio wave absorber according to the second embodiment. 図25において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。It is a graph which shows the absorption characteristic of the measurement point shown by * in FIG. 実施の形態3に係る電波吸収体において、吸収周波数帯域幅43%以上を満足する範囲を示すグラフである。6 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 43% or more in the radio wave absorber according to the third embodiment. 図27において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。It is a graph which shows the absorption characteristic of the measurement point shown by * in FIG. 実施の形態3に係る電波吸収体において、吸収周波数帯域幅60%以上を満足する範囲を示すグラフである。6 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 60% or more in the radio wave absorber according to the third embodiment. 図29において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。It is a graph which shows the absorption characteristic of the measurement point shown by * in FIG. 実施の形態3に係る電波吸収体において、吸収周波数帯域幅70%以上を満足する範囲を示すグラフである。6 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 70% or more in the radio wave absorber according to the third embodiment. 図31において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。It is a graph which shows the absorption characteristic of the measurement point shown by * in FIG. 実施の形態3に係る電波吸収体において、吸収周波数帯域幅80%以上を満足する範囲を示すグラフである。6 is a graph showing a range satisfying an absorption frequency bandwidth of 80% or more in the radio wave absorber according to the third embodiment. 図33において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。It is a graph which shows the absorption characteristic of the measurement point shown by ♦ in FIG. 実施の形態6に係る電波吸収体の抵抗体パターン層2を示す平面図である。10 is a plan view showing a resistor pattern layer 2 of a radio wave absorber according to Embodiment 6. FIG. 実施の形態6に係る電波吸収体において、吸収周波数帯域幅43%以上を満足する範囲を示すグラフである。In the electromagnetic wave absorber which concerns on Embodiment 6, it is a graph which shows the range which satisfies 43% or more of absorption frequency bandwidths. 図36において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。It is a graph which shows the absorption characteristic of the measurement point shown by * in FIG. 実施の形態6に係る電波吸収体において、吸収周波数帯域幅60%以上を満足する範囲を示すグラフである。In the electromagnetic wave absorber which concerns on Embodiment 6, it is a graph which shows the range which satisfies 60% or more of absorption frequency bandwidths. 図38において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。It is a graph which shows the absorption characteristic of the measurement point shown by * in FIG. 実施の形態6に係る電波吸収体において、吸収周波数帯域幅70%以上を満足する範囲を示すグラフである。In the electromagnetic wave absorber which concerns on Embodiment 6, it is a graph which shows the range which satisfies 70% or more of absorption frequency bandwidths. 図40において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。It is a graph which shows the absorption characteristic of the measurement point shown by * in FIG. 実施の形態6に係る電波吸収体において、吸収周波数帯域幅80%以上を満足する範囲を示すグラフである。In the electromagnetic wave absorber which concerns on Embodiment 6, it is a graph which shows the range which satisfies 80% or more of absorption frequency bandwidth. 図42において◆で示した測定点の吸収特性を示すグラフである。It is a graph which shows the absorption characteristic of the measurement point shown by * in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 誘電体層
2 抵抗体パターン層
3 導体層
4 単位セル
1 Dielectric layer 2 Resistor pattern layer 3 Conductor layer 4 Unit cell

Claims (4)

第1面及び前記第1面に対向する第2面を有する誘電体層と、
前記誘電体層の前記第1面に形成される導体層と、
前記誘電体層の前記第2面に形成された複数のパターンからなり、シート抵抗値を有する抵抗パターン層とを備えた電磁波吸収体であって、
前記誘電体層の面積に対する前記抵抗パターン層の面積の比をRとすると、前記シート抵抗値は、2.8358R−11.734以上0.0028R+3.7387R+6.2943以下であることを特徴とする電磁波吸収体。
A dielectric layer having a first surface and a second surface opposite the first surface;
A conductor layer formed on the first surface of the dielectric layer;
An electromagnetic wave absorber comprising a plurality of patterns formed on the second surface of the dielectric layer and having a resistance pattern layer having a sheet resistance value,
When the ratio of the area of the resistive pattern layer to the area of the dielectric layer is R, the sheet resistance value is 2.8358R-11.734 or more and 0.0028R 2 + 3.7387R + 6.2943 or less. Electromagnetic wave absorber.
前記パターンは幾何学図形であることを特徴とする請求項1に記載の電磁波吸収体。   The electromagnetic wave absorber according to claim 1, wherein the pattern is a geometric figure. 前記幾何学図形は十文字形状であることを特徴とする請求項2に記載の電磁波吸収体。   The electromagnetic wave absorber according to claim 2, wherein the geometric figure is a cross shape. 誘電体層と、
前記誘電体層の第1の面の略全面に形成された導体層と、
前記誘電体層の第2の面に互いに離間して複数形成された抵抗体パターンからなり、前記第2の面の一部を被覆するパターン層とを備えたλ/4型電波吸収体であって、
前記抵抗体パターンの形状、前記抵抗体パターンのシート抵抗、及び前記第2の面全体の面積に対する前記パターン層により被覆された領域の面積比に基づいて、吸収される周波数帯域幅を80%以上とした電波吸収体。
A dielectric layer;
A conductor layer formed on substantially the entire first surface of the dielectric layer;
A λ / 4 type wave absorber comprising a plurality of resistor patterns formed on the second surface of the dielectric layer so as to be spaced apart from each other, and comprising a pattern layer covering a part of the second surface. And
80% or more of the absorbed frequency bandwidth based on the shape of the resistor pattern, the sheet resistance of the resistor pattern, and the area ratio of the region covered by the pattern layer to the entire area of the second surface Radio wave absorber.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101437279B1 (en) 2013-04-24 2014-09-05 한양대학교 산학협력단 Broadband Electromagnetic Wave Absorber
KR101532359B1 (en) * 2014-01-27 2015-06-29 한양대학교 산학협력단 Polarization-independent and absorbing dual electromagnetic waves absorber using metamaterial
CN105336384A (en) * 2015-11-24 2016-02-17 海南大学 Radiation preventing plate and manufacturing method thereof
EP3267775A4 (en) * 2015-12-14 2018-01-24 Nitto Denko Corporation Electromagnetic wave absorber and molded article provided with said electromagnetic wave absorber
WO2018230092A1 (en) * 2017-06-13 2018-12-20 日東電工株式会社 Electromagnetic-wave absorber and molded article provided with electromagnetic-wave absorber
WO2018230094A1 (en) * 2017-06-13 2018-12-20 日東電工株式会社 Electromagnetic-wave absorber and molded article provided with electromagnetic-wave absorber
WO2018230093A1 (en) * 2017-06-13 2018-12-20 日東電工株式会社 Electromagnetic-wave absorber and molded article provided with electromagnetic-wave absorber
WO2021261390A1 (en) * 2020-06-23 2021-12-30 大日本印刷株式会社 Radio wave absorbing sheet and communication device
WO2022224484A1 (en) * 2021-04-19 2022-10-27 京セラ株式会社 Radio wave absorbing element and assembly

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101437279B1 (en) 2013-04-24 2014-09-05 한양대학교 산학협력단 Broadband Electromagnetic Wave Absorber
KR101532359B1 (en) * 2014-01-27 2015-06-29 한양대학교 산학협력단 Polarization-independent and absorbing dual electromagnetic waves absorber using metamaterial
CN105336384A (en) * 2015-11-24 2016-02-17 海南大学 Radiation preventing plate and manufacturing method thereof
US10701848B2 (en) 2015-12-14 2020-06-30 Nitto Denko Corporation Electromagnetic wave absorber and molded article equipped with electromagnetic wave absorber
EP3267775A4 (en) * 2015-12-14 2018-01-24 Nitto Denko Corporation Electromagnetic wave absorber and molded article provided with said electromagnetic wave absorber
WO2018230092A1 (en) * 2017-06-13 2018-12-20 日東電工株式会社 Electromagnetic-wave absorber and molded article provided with electromagnetic-wave absorber
WO2018230093A1 (en) * 2017-06-13 2018-12-20 日東電工株式会社 Electromagnetic-wave absorber and molded article provided with electromagnetic-wave absorber
CN110741744A (en) * 2017-06-13 2020-01-31 日东电工株式会社 Electromagnetic wave absorber and molded article with electromagnetic wave absorber
WO2018230094A1 (en) * 2017-06-13 2018-12-20 日東電工株式会社 Electromagnetic-wave absorber and molded article provided with electromagnetic-wave absorber
CN110741744B (en) * 2017-06-13 2021-02-19 日东电工株式会社 Electromagnetic wave absorber and molded article with electromagnetic wave absorber
US11622482B2 (en) 2017-06-13 2023-04-04 Nitto Denko Corporation Electromagnetic wave absorber and electromagnetic wave absorber-attached molded article
US11806980B2 (en) 2017-06-13 2023-11-07 Nitto Denko Corporation Electromagnetic wave absorber and electromagnetic wave absorber-attached molded article
WO2021261390A1 (en) * 2020-06-23 2021-12-30 大日本印刷株式会社 Radio wave absorbing sheet and communication device
JP2022003665A (en) * 2020-06-23 2022-01-11 大日本印刷株式会社 Radio wave absorption sheet and communication device
JP7261395B2 (en) 2020-06-23 2023-04-20 大日本印刷株式会社 Radio wave absorption sheet and communication device
WO2022224484A1 (en) * 2021-04-19 2022-10-27 京セラ株式会社 Radio wave absorbing element and assembly

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