JP2009069615A - Electro-optical device and electronic equipment - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electro-optical device and electronic equipment capable of preventing defective display from being generated in a display area inside a peripheral light shielding film. <P>SOLUTION: This electro-optical device 100 is formed with the peripheral light shielding film 53 provided in the periphery of the display area A1 of the electro-optical device 100, on the first substrate 20, and is formed a color filter C having a plurality of coloring material layers of different colors, in the display area A1. The first overcoat layer 16 for coating the color filter C is formed in the display area A1, and an outer edge 16a of the first overcoat layer 16 is formed to contact with an inner edge 53a of the peripheral light shielding film 53, or in an inner side of the inner edge 53a. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

この発明は、電気光学装置および電子機器に関するものである。   The present invention relates to an electro-optical device and an electronic apparatus.

従来から、液晶層を挟持する一対の基板と、基板の間隔を規定するスペーサを備え、基板上に遮光膜が設けられた液晶表示装置が知られている。このような液晶表示装置としては、表示ムラの発生を防止するものが開示されている（例えば、特許文献１参照）。
特開２０００−６６０１８号公報 2. Description of the Related Art Conventionally, there has been known a liquid crystal display device that includes a pair of substrates that sandwich a liquid crystal layer and a spacer that defines a distance between the substrates, and is provided with a light shielding film on the substrate. As such a liquid crystal display device, a device that prevents the occurrence of display unevenness is disclosed (for example, see Patent Document 1).
JP 2000-66018 A

しかしながら、上記従来の液晶表示装置では、表示部の周縁部に額縁状に形成された遮光膜（以下、周辺遮光膜という）と表示部との境界において、液晶層の層厚に急峻な変動が生じ、液晶パネルの点灯時に額縁状の表示ムラが発生するという課題がある。
従来の液晶表示装置の一例として図９に半透過反射型の液晶表示装置５００を示す。液晶表示装置５００は一対の対向する基板１０，２０を備え、基板１０，２０間に挟持された液晶層５０はシール材５２によって基板１０，２０間に封止されている。 However, in the conventional liquid crystal display device, the thickness of the liquid crystal layer varies sharply at the boundary between the light shielding film (hereinafter referred to as the peripheral light shielding film) formed in a frame shape on the periphery of the display portion and the display portion. As a result, there is a problem that frame-shaped display unevenness occurs when the liquid crystal panel is turned on.
As an example of a conventional liquid crystal display device, a transflective liquid crystal display device 500 is shown in FIG. The liquid crystal display device 500 includes a pair of opposing substrates 10 and 20, and the liquid crystal layer 50 sandwiched between the substrates 10 and 20 is sealed between the substrates 10 and 20 by a sealing material 52.

この例では、一方の基板２０上には金属膜１７が形成され、金属膜１７と金属膜１７上に積層された３原色の色材層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂにより周辺遮光膜５３が形成されている。周辺遮光膜５３の内側の領域が表示領域Ａ１であり、その外側の領域が非表示領域Ａ２となっている。基板２０上の表示領域Ａ１には、光散乱層２２が形成されている。光散乱層２２上の反射表示領域Ｒには反射膜１２が形成されている。光散乱層２２上には、反射膜１２を覆うよう反射表示領域Ｒおよび透過表示領域Ｔに亘って、色材層１１Ｂが設けられている。そして、これらを覆うように、オーバーコート層ＯＶが形成されている。オーバーコート層ＯＶ上の反射表示領域Ｒに対応する領域には液晶層厚調整層１９が形成され、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの間で所謂マルチギャップ構造が実現されている。   In this example, a metal film 17 is formed on one substrate 20, and a peripheral light-shielding film 53 is formed by the three primary color material layers 11 R, 11 G, and 11 B laminated on the metal film 17 and the metal film 17. Yes. The area inside the peripheral light shielding film 53 is the display area A1, and the area outside thereof is the non-display area A2. A light scattering layer 22 is formed in the display area A1 on the substrate 20. A reflective film 12 is formed in the reflective display region R on the light scattering layer 22. On the light scattering layer 22, a color material layer 11 </ b> B is provided over the reflective display region R and the transmissive display region T so as to cover the reflective film 12. And overcoat layer OV is formed so that these may be covered. A liquid crystal layer thickness adjusting layer 19 is formed in a region corresponding to the reflective display region R on the overcoat layer OV, and a so-called multi-gap structure is realized between the reflective display region R and the transmissive display region T.

オーバーコート層ＯＶおよび液晶層厚調整層１９の表面には、走査線２１が形成され、さらに走査線２１上には配向膜２３が形成されている。配向膜２３の表面の液晶層厚調整層１９上には、他方の基板１０に当接して基板１０，２０間のギャップを保持するスペーサ２４が設けられている。他方の基板１０上には、画素電極９、ＴＦＤ１４等のスイッチング素子および配線等が設けられ、それらを覆うように略全面に配向膜１５が形成されている。このような従来の半透過反射型の液晶表示装置５００では、色材層１１Ｒ，１１Ｇ，１１ＢによりカラーフィルタＣを形成する工程と一括して周辺遮光膜５３の形成を行うことができ、製造コストを低下させることができる。   A scanning line 21 is formed on the surface of the overcoat layer OV and the liquid crystal layer thickness adjusting layer 19, and an alignment film 23 is formed on the scanning line 21. On the liquid crystal layer thickness adjusting layer 19 on the surface of the alignment film 23, a spacer 24 is provided that contacts the other substrate 10 and holds the gap between the substrates 10 and 20. On the other substrate 10, switching elements such as the pixel electrode 9 and the TFD 14, wirings, and the like are provided, and an alignment film 15 is formed on substantially the entire surface so as to cover them. In such a conventional transflective liquid crystal display device 500, the peripheral light-shielding film 53 can be formed at the same time as the step of forming the color filter C by the color material layers 11R, 11G, and 11B. Can be reduced.

しかし、複数の色材層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂを重ねる構造のため、周辺遮光膜５３の膜厚が表示領域Ａ１のカラーフィルタＣの膜厚よりも厚くなる。このため、周辺遮光膜５３と表示領域Ａ１との境界において、オーバーコート層ＯＶが平坦でなくなり、スペーサ２４の高さＨ３にばらつきを生じる。これにより、周辺遮光膜５３側のスペーサ２４が圧縮されたり、基板１０が湾曲されたりする。そして、基板１０，２０間の間隔Ｄが変動し、液晶層５０の層厚が変動することで表示不良が発生し、周辺遮光膜５３の内側の表示領域Ａ１に額縁状の表示ムラを発生させる要因となっていた。   However, since the plurality of color material layers 11R, 11G, and 11B are stacked, the thickness of the peripheral light shielding film 53 is larger than the thickness of the color filter C in the display area A1. For this reason, the overcoat layer OV is not flat at the boundary between the peripheral light-shielding film 53 and the display area A1, and the height H3 of the spacer 24 varies. As a result, the spacer 24 on the peripheral light shielding film 53 side is compressed or the substrate 10 is curved. Then, the interval D between the substrates 10 and 20 varies, and the layer thickness of the liquid crystal layer 50 varies, thereby causing a display defect and causing a frame-like display unevenness in the display area A1 inside the peripheral light shielding film 53. It was a factor.

そこで、この発明は、周辺遮光膜の内側の表示領域に表示不良が発生することを防止できる電気光学装置および電子機器を提供するものである。   Accordingly, the present invention provides an electro-optical device and an electronic apparatus that can prevent a display defect from occurring in a display region inside a peripheral light-shielding film.

上記の課題を解決するために、本発明の電気光学装置は、第一基板と第二基板との間に電気光学材料が封止された電気光学装置において、前記第一基板上に、前記電気光学装置の表示領域の周囲に設けられた周辺遮光膜が形成され、前記表示領域には異なる色の複数の色材層を有するカラーフィルタが形成され、前記表示領域には、前記カラーフィルタを覆う第一オーバーコート層が形成され、前記第一オーバーコート層の外縁が、前記周辺遮光膜の内縁に接するかまたは前記内縁よりも内側に形成されていることを特徴とする。
このように構成することで、周辺遮光膜の層厚と、表示領域のカラーフィルタの層厚との差異を、第一オーバーコート層によって埋めることができる。また、第一オーバーコート層の外縁が周辺遮光膜上に乗り上げることが防止される。このため、周辺遮光膜の表面と第一オーバーコート層の表面とを従来よりも平坦に形成できる。これにより、第一基板の第二基板に対向する面を平坦にすることができ、第一基板と第二基板との間隔を均一にすることができる。
したがって、本発明の電気光学装置によれば、周辺遮光膜と表示領域との境界における電気光学材料層の層厚の変動が防止され、周辺遮光膜の内側の表示領域に表示不良が発生することを防止できる。 In order to solve the above problems, an electro-optical device according to the present invention is an electro-optical device in which an electro-optical material is sealed between a first substrate and a second substrate. A peripheral light shielding film provided around the display area of the optical device is formed, a color filter having a plurality of color material layers of different colors is formed in the display area, and the color filter is covered in the display area A first overcoat layer is formed, and an outer edge of the first overcoat layer is in contact with an inner edge of the peripheral light-shielding film or inside the inner edge.
With this configuration, the difference between the layer thickness of the peripheral light shielding film and the layer thickness of the color filter in the display region can be filled with the first overcoat layer. Further, the outer edge of the first overcoat layer is prevented from running on the peripheral light shielding film. For this reason, the surface of the peripheral light shielding film and the surface of the first overcoat layer can be formed flatter than before. Thereby, the surface which opposes the 2nd board | substrate of a 1st board | substrate can be made flat, and the space | interval of a 1st board | substrate and a 2nd board | substrate can be made uniform.
Therefore, according to the electro-optical device of the present invention, variation in the thickness of the electro-optical material layer at the boundary between the peripheral light-shielding film and the display region is prevented, and display defects occur in the display region inside the peripheral light-shielding film. Can be prevented.

また、本発明の電気光学装置は、前記周辺遮光膜の少なくとも一部は、前記色材層により形成されていることを特徴とする。
このように構成することで、カラーフィルタの形成と一括して周辺遮光膜を形成することができ、生産性を向上させることができる。 In the electro-optical device according to the aspect of the invention, at least a part of the peripheral light-shielding film is formed by the color material layer.
With this configuration, the peripheral light-shielding film can be formed together with the formation of the color filter, and productivity can be improved.

また、本発明の電気光学装置は、前記第一基板の表面から前記周辺遮光膜の表面までの高さと前記第一オーバーコート層の表面までの高さが略等しいことを特徴とする。
このように構成することで、第一基板の第二基板に対向する面をより平坦にすることができ、第一基板と第二基板との間隔をより均一にすることができる。 In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the height from the surface of the first substrate to the surface of the peripheral light-shielding film may be substantially equal to the height from the surface of the first overcoat layer.
By comprising in this way, the surface which opposes the 2nd board | substrate of a 1st board | substrate can be made more flat, and the space | interval of a 1st board | substrate and a 2nd board | substrate can be made more uniform.

また、本発明の電気光学装置は、前記周辺遮光膜は第二オーバーコート層によって覆われると共に、前記第一オーバーコート層上の少なくとも一部には前記第二オーバーコート層が形成されていることを特徴とする。
第二オーバーコート層は、平坦に形成された周辺遮光膜および第一オーバーコート層上に形成されるので、周辺遮光膜の内側の表示領域と周辺遮光膜が形成された非表示領域に亘って平坦に形成される。これにより、第一基板の第二基板に対向する面をより平坦にすることができ、第一基板と第二基板との間隔をより均一にすることができる。 In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the peripheral light-shielding film is covered with a second overcoat layer, and the second overcoat layer is formed on at least a part of the first overcoat layer. It is characterized by.
Since the second overcoat layer is formed on the flat peripheral light shielding film and the first overcoat layer, it extends over the display area inside the peripheral light shielding film and the non-display area where the peripheral light shielding film is formed. It is formed flat. Thereby, the surface which opposes the 2nd board | substrate of a 1st board | substrate can be made flat, and the space | interval of a 1st board | substrate and a 2nd board | substrate can be made more uniform.

また、本発明の電気光学装置は、前記電気光学材料は液晶であり、前記表示領域には透過表示領域と、反射表示領域と、が形成され、前記透過表示領域の前記第二オーバーコート層には開口部が形成され、前記反射表示領域の前記第二オーバーコート層が液晶層厚調整層として形成されていることを特徴とする。
このように構成することで、反射表示領域の液晶層に視認側から入射して液晶層を透過した光は、反射膜によって反射され、再び液晶層を透過して視認側に射出される。また、透過表示領域の液晶層に視認側とは逆側から入射した光は、液晶層を透過して視認側に射出される。このとき、反射表示領域に入射した光が液晶層を透過する距離は、液晶層厚調整層の層厚によって調整される。これにより、反射表示領域の反射膜に反射されて視認側に射出される光と、透過表示領域から視認側に射出される光との位相差を調整することができる。したがって、リタデーションを最適化するため、透過表示領域と反射表示領域の光学設計をそれぞれ最適化することができる。また、液晶層厚調整層を別個に形成する必要が無いので、電気光学装置の生産性を向上させることができる。 In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the electro-optical material is a liquid crystal, a transmissive display region and a reflective display region are formed in the display region, and the second overcoat layer of the transmissive display region is formed on the second overcoat layer. Has an opening, and the second overcoat layer in the reflective display region is formed as a liquid crystal layer thickness adjusting layer.
With this configuration, light that has entered the liquid crystal layer in the reflective display region from the viewing side and transmitted through the liquid crystal layer is reflected by the reflective film, and is again transmitted through the liquid crystal layer and emitted to the viewing side. Further, light incident on the liquid crystal layer in the transmissive display area from the side opposite to the viewing side is transmitted through the liquid crystal layer and emitted to the viewing side. At this time, the distance that the light incident on the reflective display region passes through the liquid crystal layer is adjusted by the thickness of the liquid crystal layer thickness adjusting layer. Thereby, the phase difference between the light reflected by the reflective film in the reflective display region and emitted toward the viewer side and the light emitted from the transmissive display region to the viewer side can be adjusted. Therefore, the optical design of the transmissive display area and the reflective display area can be optimized in order to optimize the retardation. In addition, since it is not necessary to separately form the liquid crystal layer thickness adjusting layer, the productivity of the electro-optical device can be improved.

また、本発明の電気光学装置は、前記表示領域の前記第二オーバーコート層上には、前記第一基板と前記第二基板との間隔を規定するスペーサが形成されていることを特徴とする。
このように構成することで、平坦な第二オーバーコート層上にスペーサを配置し、スペーサの高さを均一にすることができる。これにより、周辺遮光膜と表示領域との境界における液晶層の層厚の変動を防止して、周辺遮光膜の内側の表示領域に表示不良が発生することを防止できる。
また、表示領域の外側にはスペーサが設けられていないので、万一、周辺遮光膜と表示領域との境界において段差が発生した場合であっても、表示領域の均一な高さのスペーサによって第一基板と第二基板との間隔を均一に規定し、表示領域に表示不良が発生することを防止することができる。 In the electro-optical device according to the aspect of the invention, a spacer that defines an interval between the first substrate and the second substrate is formed on the second overcoat layer in the display region. .
By comprising in this way, a spacer can be arrange | positioned on a flat 2nd overcoat layer, and the height of a spacer can be made uniform. As a result, it is possible to prevent fluctuations in the thickness of the liquid crystal layer at the boundary between the peripheral light shielding film and the display area, and to prevent display defects from occurring in the display area inside the peripheral light shielding film.
In addition, since no spacer is provided outside the display area, even if a step occurs at the boundary between the peripheral light-shielding film and the display area, the display area has a uniform height. The distance between the one substrate and the second substrate can be defined uniformly, and display defects can be prevented from occurring in the display area.

また、本発明の電気光学装置は、前記周辺遮光膜は、赤、緑、青の三色の異なる色の前記色材層のうちのいずれか二層が積層されて形成されていることを特徴とする。
このように構成することで、従来の三層が積層された周辺遮光膜と比較して、周辺遮光膜の膜厚を薄くし、表示領域のカラーフィルタの層厚との差異を小さくすることができる。 In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the peripheral light-shielding film may be formed by stacking any two of the color material layers of three different colors of red, green, and blue. And
With this configuration, it is possible to reduce the thickness of the peripheral light-shielding film and the difference from the color filter layer thickness in the display area, compared to the conventional peripheral light-shielding film in which three layers are stacked. it can.

また、本発明の電気光学装置は、前記周辺遮光膜は、赤および青の二色の前記色材層が積層されて形成されていることを特徴とする。
このように構成することで、明度の高い緑色の色材層を用いる場合と比較して周辺遮光膜をより暗色に近づけることができ、周辺遮光膜の遮光性を向上させることができる。 In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the peripheral light shielding film may be formed by stacking the color material layers of two colors of red and blue.
With this configuration, the peripheral light shielding film can be made closer to a darker color than when a green color material layer with high brightness is used, and the light shielding property of the peripheral light shielding film can be improved.

また、本発明の電気光学装置は、前記周辺遮光膜と前記カラーフィルタとの間に間隙が形成されていることを特徴とする。
このように構成することで、第一オーバーコート層は、カラーフィルタと周辺遮光膜との間隙によって形成された第一基板上の凹部に入り込む。このため、第一オーバーコート層の表面は、第一基板側に下がった状態となる。これにより、第一オーバーコート層が周辺遮光膜上に乗り上げることを防止することができる。 In the electro-optical device according to the aspect of the invention, a gap may be formed between the peripheral light shielding film and the color filter.
With this configuration, the first overcoat layer enters the recess on the first substrate formed by the gap between the color filter and the peripheral light shielding film. For this reason, the surface of the first overcoat layer is in a state of being lowered toward the first substrate. Thereby, it is possible to prevent the first overcoat layer from running on the peripheral light shielding film.

また、本発明の電気光学装置は、前記カラーフィルタの前記第一基板側には光散乱層が設けられていることを特徴とする。
このように構成することで、電気光学装置の視認側に射出される光を光散乱層によって散乱させ、電気光学装置の視野角を拡大することができる。 In the electro-optical device according to the aspect of the invention, a light scattering layer may be provided on the first substrate side of the color filter.
With this configuration, the light emitted to the viewing side of the electro-optical device can be scattered by the light scattering layer, and the viewing angle of the electro-optical device can be expanded.

また、本発明の電気光学装置は、前記周辺遮光膜と前記光散乱層との間に間隙が形成されていることを特徴とする。
このように構成することで、カラーフィルタ層および第一オーバーコート層は、周辺遮光膜と光散乱層との間隙によって形成された第一基板上の凹部に入り込む。このため、第一オーバーコート層の表面は、第一基板側に下がった状態となる。これにより、第一オーバーコート層が周辺遮光膜上に乗り上げることを防止することができる。
また、周辺遮光膜とカラーフィルタ層との間に間隙が形成されている場合には、第一オーバーコート層は、周辺遮光膜、カラーフィルタおよび光散乱層の非形成領域である第一基板上の凹部に入り込む。このため、第一オーバーコート層の表面は、第一基板側により下がった状態となる。これにより、第一オーバーコート層が周辺遮光膜上に乗り上げることをより確実に防止することができる。 In the electro-optical device according to the aspect of the invention, a gap may be formed between the peripheral light shielding film and the light scattering layer.
By configuring in this way, the color filter layer and the first overcoat layer enter a recess on the first substrate formed by the gap between the peripheral light shielding film and the light scattering layer. For this reason, the surface of the first overcoat layer is in a state of being lowered toward the first substrate. Thereby, it is possible to prevent the first overcoat layer from running on the peripheral light shielding film.
In addition, when a gap is formed between the peripheral light shielding film and the color filter layer, the first overcoat layer is formed on the first substrate which is a non-formation region of the peripheral light shielding film, the color filter, and the light scattering layer. Get into the recess. For this reason, the surface of the first overcoat layer is in a state of being lowered by the first substrate side. Thereby, it can prevent more reliably that a 1st overcoat layer runs on a surrounding light shielding film.

また、本発明の電子機器は、上記のいずれかの電気光学装置を備えることを特徴とする。
このように構成することで、電子機器には表示領域に表示不良が発生することが防止された電気光学装置が搭載される。したがって、本発明の電子機器によれば、表示不良が防止され、表示品質が改善された電子機器を提供することができる。 According to another aspect of the invention, an electronic apparatus includes any one of the above electro-optical devices.
With this configuration, the electro-optical device in which display defects are prevented from occurring in the display area is mounted on the electronic apparatus. Therefore, according to the electronic device of the present invention, it is possible to provide an electronic device in which display defects are prevented and display quality is improved.

＜第一実施形態＞
以下、本発明の第一実施形態について図面を参照して説明する。本実施形態では、アクティブマトリクス方式の液晶装置の例を挙げて説明する。なお、以下の各図面では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を適宜変更している。
図１は本実施形態の液晶装置１００を各構成要素とともに対向基板２０の側から見た平面図、図２は図１のＡ−Ａ’線に沿う断面図である。 <First embodiment>
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In this embodiment, an example of an active matrix liquid crystal device will be described. In the following drawings, the scale is appropriately changed for each layer and each member so that each layer and each member can be recognized on the drawing.
FIG. 1 is a plan view of the liquid crystal device 100 according to the present embodiment as viewed from the counter substrate 20 side together with each component, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG.

本実施形態の液晶装置１００は、図１、図２に示すように、ＴＦＤアレイ基板１０と対向基板２０とがシール材５２によって貼り合わされ、このシール材５２によって区画された領域内に液晶層５０が封入されている。シール材５２の形成領域の内側の領域には、周辺遮光膜５３が形成されている。周辺遮光膜５３が形成された領域よりも内側の領域を表示領域Ａ１、周辺遮光膜５３の形成領域とその外側の領域を非表示領域Ａ２と称する。   As shown in FIGS. 1 and 2, the liquid crystal device 100 according to the present embodiment has a TFD array substrate 10 and a counter substrate 20 bonded together by a sealing material 52, and a liquid crystal layer 50 in a region partitioned by the sealing material 52. Is enclosed. A peripheral light shielding film 53 is formed in a region inside the region where the sealing material 52 is formed. A region inside the region where the peripheral light shielding film 53 is formed is referred to as a display region A1, and a region where the peripheral light shielding film 53 is formed and a region outside thereof are referred to as a non-display region A2.

シール材５２の外側の周辺回路領域には、第一駆動回路２０１および外部回路実装端子２０２がＴＦＤアレイ基板１０の１辺に沿って形成されており、この１辺に隣接する２辺に沿って第二駆動回路１０４が形成されている。ＴＦＤアレイ基板１０の残る一辺には、表示領域Ａ１の両側に設けられた第二駆動回路１０４間を接続するための複数の配線１０５が設けられている。また、対向基板２０の角部においては、ＴＦＤアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的導通をとるための基板間導通材１０６が配設されている。
ＴＦＤアレイ基板１０の液晶層５０側の面には画素電極９が形成される一方、対向基板２０の液晶層５０側の面には走査線２１が形成されている。 In the peripheral circuit area outside the sealing material 52, the first drive circuit 201 and the external circuit mounting terminal 202 are formed along one side of the TFD array substrate 10, and along two sides adjacent to this one side. A second drive circuit 104 is formed. On the remaining side of the TFD array substrate 10, a plurality of wirings 105 are provided for connecting the second drive circuits 104 provided on both sides of the display area A1. In addition, an inter-substrate conductive material 106 for providing electrical continuity between the TFD array substrate 10 and the counter substrate 20 is disposed at a corner portion of the counter substrate 20.
The pixel electrode 9 is formed on the surface of the TFD array substrate 10 on the liquid crystal layer 50 side, while the scanning line 21 is formed on the surface of the counter substrate 20 on the liquid crystal layer 50 side.

図３は、図１の点線Ａ３によって囲まれた部分の平面図である。図４は、図３のＢ−Ｂ’線に沿う断面図である。
周辺遮光膜５３の内側の表示領域Ａ１においては、図３に示すように、カラーフィルタＣの赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各色材層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂが配置されている。また、反射表示領域Ｒには反射膜１２が形成されている。反射膜１２は、例えば、Ａｌ等の反射性に優れた金属膜により形成されている。反射膜１２はカラーフィルタＣによって覆われている。反射膜１２の非形成領域は、透過表示領域Ｔとなっている。各色の色材層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂが形成された隣接する透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとによってサブ画素が構成されている。そして、異なる色の色材層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂを備えた三つのサブ画素によって一つの画素が形成され、複数の画素がマトリクス状に配列されている。カラーフィルタＣ（色材層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂ）および反射膜１２と周辺遮光膜５３との間には、間隙Ｓが形成されている。 FIG. 3 is a plan view of a portion surrounded by a dotted line A3 in FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line BB ′ of FIG.
In the display area A1 inside the peripheral light shielding film 53, as shown in FIG. 3, the color material layers 11R, 11G, and 11B of red (R), green (G), and blue (B) of the color filter C are arranged. ing. A reflective film 12 is formed in the reflective display region R. The reflective film 12 is formed of a metal film having excellent reflectivity, such as Al. The reflective film 12 is covered with the color filter C. A non-formation region of the reflective film 12 is a transmissive display region T. Sub-pixels are configured by the transmissive display area T and the reflective display area R adjacent to each other where the color material layers 11R, 11G, and 11B of the respective colors are formed. One pixel is formed by three sub-pixels having different color material layers 11R, 11G, and 11B, and a plurality of pixels are arranged in a matrix. A gap S is formed between the color filter C (the color material layers 11R, 11G, and 11B) and the reflective film 12 and the peripheral light shielding film 53.

図４に示すように、ＴＦＤアレイ基板１０の液晶層５０側の面には、画素電極９、画素スイッチング用のＴＦＤ１４等が形成されている。また、図示は省略するが、複数のデータ線がストライプ状に形成され、各データ線に複数のＴＦＤ１４および画素電極９が接続されている。各画素電極９はデータ線とデータ配線との間に形成され、ＴＦＤ１４を介してデータ線に接続されている。複数の画素電極９はマトリクス状に配列されている。ＴＦＤアレイ基板１０の液晶層５０側の略全面に配向膜１５が形成されている。   As shown in FIG. 4, on the surface of the TFD array substrate 10 on the liquid crystal layer 50 side, a pixel electrode 9, a TFD 14 for pixel switching, and the like are formed. Although not shown, a plurality of data lines are formed in a stripe shape, and a plurality of TFDs 14 and pixel electrodes 9 are connected to each data line. Each pixel electrode 9 is formed between the data line and the data line, and is connected to the data line via the TFD 14. The plurality of pixel electrodes 9 are arranged in a matrix. An alignment film 15 is formed on substantially the entire surface of the TFD array substrate 10 on the liquid crystal layer 50 side.

画素電極９は、例えば、多結晶化されたＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を材料としてフォトリソグラフィー処理及びエッチング処理によって形成される。また、配向膜１５は、例えば、ポリイミド溶液を塗布及び焼成して形成したり、オフセット印刷によって形成したりする。この配向膜１５は、ラビング処理等といった配向処理を受け、この配向処理により配向膜１５の近傍の液晶分子の配向が決められる。   The pixel electrode 9 is formed by, for example, a photolithography process and an etching process using polycrystalline ITO (Indium Tin Oxide) as a material. The alignment film 15 is formed by applying and baking a polyimide solution, or by offset printing, for example. The alignment film 15 is subjected to an alignment process such as a rubbing process, and the alignment process determines the alignment of liquid crystal molecules in the vicinity of the alignment film 15.

一方、対向基板２０の液晶層５０側の面には、表示領域Ａ１において、光散乱層２２が形成されている。光散乱層２２は、例えば、樹脂材料等により形成され入射した光を散乱させるように構成されている。光散乱層は、例えば、約１．３μｍ程度の層厚に形成されている。光散乱層２２上には、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色材層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂが設けられ（図３参照）、カラーフィルタＣを構成している。ここで、各色材層の層厚は、それぞれ、例えば約０．５μｍ〜１．５μｍ程度に形成されている。また、反射表示領域Ｒに形成された反射膜１２の膜厚は、例えば、約０．１５μｍ程度に形成されている。反射膜１２およびカラーフィルタＣを覆うように第一オーバーコート層１６が形成されている。第一オーバーコート層１６は、例えば、アクリル等の樹脂材料により形成されている。   On the other hand, a light scattering layer 22 is formed on the surface of the counter substrate 20 on the liquid crystal layer 50 side in the display area A1. The light scattering layer 22 is formed of, for example, a resin material and configured to scatter incident light. The light scattering layer is formed with a layer thickness of about 1.3 μm, for example. On the light scattering layer 22, R, G, and B color material layers 11 R, 11 G, and 11 B are provided (see FIG. 3) to constitute a color filter C. Here, the thickness of each color material layer is, for example, about 0.5 μm to 1.5 μm. Further, the thickness of the reflective film 12 formed in the reflective display region R is, for example, about 0.15 μm. A first overcoat layer 16 is formed so as to cover the reflective film 12 and the color filter C. The first overcoat layer 16 is formed of a resin material such as acrylic, for example.

非表示領域Ａ２においては、周辺遮光膜５３が設けられている。周辺遮光膜５３は、例えば、Ａｌ等によって形成された金属膜１７上に、２種類の色材層（例えばＲ，Ｂの色材層１１Ｒ，１１Ｂ）が積層されて構成されている。周辺遮光膜５３と、光散乱層２２およびカラーフィルタＣとの間には間隙Ｓが形成されている。第一オーバーコート層１６は、その外縁１６ａが周辺遮光膜５３の内縁５３ａに接するように形成されている。対向基板２０表面の第一オーバーコート層１６の表面までの高さＨ１は、周辺遮光膜５３の表面までの高さＨ２と略等しくなるように形成されている。   A peripheral light shielding film 53 is provided in the non-display area A2. The peripheral light shielding film 53 is configured by, for example, laminating two kinds of color material layers (for example, R and B color material layers 11R and 11B) on a metal film 17 formed of Al or the like. A gap S is formed between the peripheral light shielding film 53 and the light scattering layer 22 and the color filter C. The first overcoat layer 16 is formed so that the outer edge 16 a thereof is in contact with the inner edge 53 a of the peripheral light shielding film 53. The height H1 of the surface of the counter substrate 20 to the surface of the first overcoat layer 16 is formed to be substantially equal to the height H2 to the surface of the peripheral light shielding film 53.

周辺遮光膜５３は第二オーバーコート層１８によって覆われている。第二オーバーコート層１８は、例えば、第一オーバーコート層１６と同様の樹脂材料により形成されている。第一オーバーコート層１６上の一部にも第二オーバーコート層１８が形成され、透過表示領域Ｔに対応する領域には開口部１８ａが形成されている。これにより、第一オーバーコート層１６上の反射表示領域Ｒに第二オーバーコート層１８が液晶層厚調整層１９として形成されている。また、周辺遮光膜５３上の第二オーバーコート層１８は、周辺遮光膜５３の内縁５３ａよりも内側の第一オーバーコート層１８上にやや被さるように形成されている。   The peripheral light shielding film 53 is covered with the second overcoat layer 18. The second overcoat layer 18 is formed of, for example, the same resin material as that of the first overcoat layer 16. A second overcoat layer 18 is also formed on a part of the first overcoat layer 16, and an opening 18 a is formed in a region corresponding to the transmissive display region T. Thereby, the second overcoat layer 18 is formed as the liquid crystal layer thickness adjusting layer 19 in the reflective display region R on the first overcoat layer 16. The second overcoat layer 18 on the peripheral light shielding film 53 is formed so as to slightly cover the first overcoat layer 18 inside the inner edge 53 a of the peripheral light shielding film 53.

第二オーバーコート層１８の表面（液晶層厚調整層１９の表面を含む）と開口部１８ａによって露出された第一オーバーコート層１６の表面に沿って、走査線２１が形成されている。走査線２１は、データ線と同様にストライプ状に形成され、データ線と交差する方向に形成されている。走査線２１上には、配向膜２３が形成されている。
また、液晶層厚調整層１９上には、ＴＦＤアレイ基板１０と対向基板２０との間隔Ｄを規定するスペーサ２４が形成されている。スペーサ２４は、例えば、感光性樹脂によって形成され、感光性樹脂膜を成膜した後、フォトリソグラフィー、エッチング技術でパターニングして形成されている。なお、非表示領域Ａ２には、スペーサ２４は配置されていない。 A scanning line 21 is formed along the surface of the second overcoat layer 18 (including the surface of the liquid crystal layer thickness adjusting layer 19) and the surface of the first overcoat layer 16 exposed by the opening 18a. The scanning lines 21 are formed in a stripe shape like the data lines, and are formed in a direction crossing the data lines. An alignment film 23 is formed on the scanning line 21.
On the liquid crystal layer thickness adjusting layer 19, a spacer 24 that defines a distance D between the TFD array substrate 10 and the counter substrate 20 is formed. The spacer 24 is formed of, for example, a photosensitive resin, and after forming a photosensitive resin film, the spacer 24 is patterned by photolithography and etching techniques. Note that the spacer 24 is not disposed in the non-display area A2.

次に、この実施の形態の作用について説明する。
図４に示すように、カラーフィルタＣを覆うように第一オーバーコート層１６を形成することで、周辺遮光膜５３の層厚と、表示領域Ａ１のカラーフィルタＣの層厚との差異を、第一オーバーコート層１６によって埋めることができる。また、カラーフィルタＣを覆う第一オーバーコート層１６の外縁１６ａが、周辺遮光膜５３の内縁５３ａに接するように形成されているので、第一オーバーコート層１６の外縁１６ａが周辺遮光膜５３上に乗り上げることが防止される。これにより、周辺遮光膜５３の表面と第一オーバーコート層１６の表面とを従来と比較して段差なく平坦に形成できる。 Next, the operation of this embodiment will be described.
As shown in FIG. 4, by forming the first overcoat layer 16 so as to cover the color filter C, the difference between the layer thickness of the peripheral light shielding film 53 and the layer thickness of the color filter C in the display area A1 is It can be filled with the first overcoat layer 16. In addition, since the outer edge 16 a of the first overcoat layer 16 covering the color filter C is formed so as to contact the inner edge 53 a of the peripheral light shielding film 53, the outer edge 16 a of the first overcoat layer 16 is on the peripheral light shielding film 53. Is prevented from riding on. Thereby, the surface of the peripheral light-shielding film 53 and the surface of the first overcoat layer 16 can be formed flat without a step as compared with the conventional case.

また周辺遮光膜５３とカラーフィルタＣとの間には間隙Ｓが形成されている。同様に、周辺遮光膜５３と光散乱層２２との間にも間隙Ｓが形成されている。これにより、第一オーバーコート層１６は、周辺遮光膜５３、カラーフィルタＣおよび光散乱層２２の非形成領域である対向基板２０上の凹部に入り込む。このため、この間隙Ｓにおいて、第一オーバーコート層１６の表面は、対向基板２０側に下がった状態となる。これにより、第一オーバーコート層１６が周辺遮光膜５３上に乗り上げることを確実に防止し、周辺遮光膜５３の表面と第一オーバーコート層１６の表面とをより平坦に形成できる。   A gap S is formed between the peripheral light shielding film 53 and the color filter C. Similarly, a gap S is also formed between the peripheral light shielding film 53 and the light scattering layer 22. As a result, the first overcoat layer 16 enters a recess on the counter substrate 20, which is a region where the peripheral light shielding film 53, the color filter C and the light scattering layer 22 are not formed. For this reason, in the gap S, the surface of the first overcoat layer 16 is lowered to the counter substrate 20 side. Thereby, it is possible to reliably prevent the first overcoat layer 16 from running on the peripheral light shielding film 53, and the surface of the peripheral light shielding film 53 and the surface of the first overcoat layer 16 can be formed more flatly.

また、周辺遮光膜５３は、色材層１１Ｒ，１１Ｂが二層積層されて形成されているので、従来の三層が積層された周辺遮光膜５３と比較して、周辺遮光膜５３の膜厚を薄くし、表示領域Ａ１のカラーフィルタＣの層厚との差異を小さくすることができる。これにより、第一オーバーコート層１６をカラーフィルタＣ上に形成して第一オーバーコート層１６の表面と周辺遮光膜５３の表面とを平坦に形成することが容易になる。   Further, since the peripheral light shielding film 53 is formed by laminating two color material layers 11R and 11B, the film thickness of the peripheral light shielding film 53 is compared with the peripheral light shielding film 53 in which three conventional layers are laminated. And the difference from the layer thickness of the color filter C in the display area A1 can be reduced. Thereby, it becomes easy to form the first overcoat layer 16 on the color filter C and form the surface of the first overcoat layer 16 and the surface of the peripheral light shielding film 53 flat.

また、平坦に形成された周辺遮光膜５３および第一オーバーコート層１６上に、さらに第二オーバーコート層１８を形成することで、第二オーバーコート層１８を周辺遮光膜５３の内側の表示領域Ａ１と周辺遮光膜５３が形成された非表示領域Ａ２に亘って平坦に形成することができる。また、周辺遮光膜５３を第二オーバーコート層１６によって覆うことで、周辺遮光膜１６から顔料が流出することを防止できる。
また、対向基板２０上の周辺遮光膜５３の表面までの高さＨ１と第一オーバーコート層１６の表面までの高さＨ２が略等しくなるように形成されているので、周辺遮光膜５３上および第一オーバーコート層１６上に第二オーバーコート層１８をより平坦に形成することができる。 Further, the second overcoat layer 18 is further formed on the peripheral light shielding film 53 and the first overcoat layer 16 that are formed flat, so that the second overcoat layer 18 is displayed inside the peripheral light shielding film 53. A1 and the non-display area A2 where the peripheral light shielding film 53 is formed can be formed flat. Further, by covering the peripheral light shielding film 53 with the second overcoat layer 16, it is possible to prevent the pigment from flowing out from the peripheral light shielding film 16.
Further, since the height H1 to the surface of the peripheral light shielding film 53 on the counter substrate 20 and the height H2 to the surface of the first overcoat layer 16 are substantially equal, The second overcoat layer 18 can be formed more flat on the first overcoat layer 16.

また、第二オーバーコート層１８には開口部１８ａが形成され、反射表示領域Ｒに対応する領域の第二オーバーコート層１８が液晶層厚調整層１９として形成されている。このように、第二オーバーコート層１８を液晶層厚調整層１９として形成することで、平坦な液晶層厚調整層１９上にスペーサ２４を配置し、スペーサ２４の高さＨ３を均一にすることができる。これにより、ＴＦＤアレイ基板１０と対向基板２０との間隔Ｄを、表示領域Ａ１から非表示領域Ａ２に亘って均一にすることができ、周辺遮光膜５３と表示領域Ａ１との境界における液晶層５０の層厚の変動を防止することができる。   An opening 18 a is formed in the second overcoat layer 18, and the second overcoat layer 18 in a region corresponding to the reflective display region R is formed as the liquid crystal layer thickness adjusting layer 19. Thus, by forming the second overcoat layer 18 as the liquid crystal layer thickness adjusting layer 19, the spacer 24 is disposed on the flat liquid crystal layer thickness adjusting layer 19, and the height H3 of the spacer 24 is made uniform. Can do. Thereby, the distance D between the TFD array substrate 10 and the counter substrate 20 can be made uniform from the display area A1 to the non-display area A2, and the liquid crystal layer 50 at the boundary between the peripheral light shielding film 53 and the display area A1. The fluctuation of the layer thickness can be prevented.

また、非表示領域Ａ２にはスペーサ２４が配置されていないので、万一、周辺遮光膜５３と表示領域Ａ１との境界において段差が発生した場合であっても、表示領域Ａ１の均一な高さＨ３のスペーサ２４によってＴＦＤアレイ基板１０と対向基板２０との間隔Ｄを均一に規定し、表示領域Ａ１に表示不良が発生することを防止することができる。
したがって、本実施形態の液晶装置１００によれば、周辺遮光膜５３と表示領域Ａ１との境界における液晶層５０の層厚の変動が防止され、周辺遮光膜５３の内側の表示領域Ａ１に表示不良が発生することを防止できる。 Further, since the spacer 24 is not disposed in the non-display area A2, even if a step occurs at the boundary between the peripheral light shielding film 53 and the display area A1, the display area A1 has a uniform height. The spacing D between the TFD array substrate 10 and the counter substrate 20 can be uniformly defined by the spacers 24 of H3, and display defects can be prevented from occurring in the display area A1.
Therefore, according to the liquid crystal device 100 of the present embodiment, fluctuations in the layer thickness of the liquid crystal layer 50 at the boundary between the peripheral light shielding film 53 and the display area A1 are prevented, and display defects appear in the display area A1 inside the peripheral light shielding film 53. Can be prevented.

また、第二オーバーコート層１８を液晶層厚調整層１９として形成することで、反射表示領域Ｒの液晶層５０に視認側（ＴＦＤアレイ基板１０側）から入射して液晶層５０を透過した光は、反射膜１２によって反射され、再び液晶層５０を透過して視認側に射出される。また、透過表示領域Ｔの液晶層５０に視認側とは逆側（対向基板２０側）から入射した光は、液晶層５０を透過して視認側に射出される。このとき、反射表示領域Ｒに入射した光が液晶層５０を透過する距離は、液晶層厚調整層１９の層厚によって調整される。これにより、反射表示領域Ｒの反射膜１２に反射されて視認側に射出される光と、透過表示領域Ｔを透過して視認側に射出される光との位相差を調整することができる。したがって、第二オーバーコート層１８を液晶層厚調整層１９として形成することで、液晶層厚調整層１８を別個に形成する場合と比較して、製造工程を簡略化し、生産性を向上させることができる。   Further, by forming the second overcoat layer 18 as the liquid crystal layer thickness adjusting layer 19, the light that has entered the liquid crystal layer 50 in the reflective display region R from the viewing side (the TFD array substrate 10 side) and has passed through the liquid crystal layer 50. Is reflected by the reflective film 12 and again passes through the liquid crystal layer 50 and is emitted to the viewing side. Further, light incident on the liquid crystal layer 50 in the transmissive display area T from the opposite side (opposite substrate 20 side) is transmitted through the liquid crystal layer 50 and emitted to the viewing side. At this time, the distance that the light incident on the reflective display region R passes through the liquid crystal layer 50 is adjusted by the layer thickness of the liquid crystal layer thickness adjusting layer 19. Thereby, the phase difference between the light reflected by the reflective film 12 in the reflective display region R and emitted toward the viewer side and the light transmitted through the transmissive display region T and emitted toward the viewer side can be adjusted. Therefore, by forming the second overcoat layer 18 as the liquid crystal layer thickness adjusting layer 19, the manufacturing process can be simplified and the productivity can be improved as compared with the case where the liquid crystal layer thickness adjusting layer 18 is formed separately. Can do.

また、周辺遮光膜５３は、赤および青の二色の色材層１１Ｒ，１１Ｂが積層されて形成されているので、明度の高い緑色の色材層１１Ｇを用いる場合と比較して周辺遮光膜５３をより暗色に近づけることができ、周辺遮光膜５３の遮光性を向上させることができる。
また、カラーフィルタＣの下層側には光散乱層２２が設けられているので、液晶装置の視認側に射出される光を光散乱層２２によって散乱させ、液晶装置１００の視野角を拡大することができる。 Further, since the peripheral light-shielding film 53 is formed by laminating the two color material layers 11R and 11B of red and blue, the peripheral light-shielding film is compared with the case where the green color material layer 11G having high brightness is used. 53 can be brought closer to a dark color, and the light shielding property of the peripheral light shielding film 53 can be improved.
Further, since the light scattering layer 22 is provided on the lower layer side of the color filter C, the light emitted to the viewing side of the liquid crystal device is scattered by the light scattering layer 22 and the viewing angle of the liquid crystal device 100 is expanded. Can do.

＜第二実施形態＞
次に、本発明の第二実施形態について、図１〜図３を援用し、図５を用いて説明する。本実施形態では上述の第一実施形態で説明した液晶装置１００と、画素電極９のスイッチング素子としてＴＦＴ１４Ａが用いられ、画素電極９Ａが透明電極９ａと反射電極１２Ａとによって形成されている点で異なっている。その他の点は第一実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。 <Second embodiment>
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. This embodiment is different from the liquid crystal device 100 described in the first embodiment described above in that a TFT 14A is used as a switching element of the pixel electrode 9, and the pixel electrode 9A is formed by the transparent electrode 9a and the reflective electrode 12A. ing. Since the other points are the same as in the first embodiment, the same parts are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図５に示すように、本実施形態の液晶装置１００Ａは、画素電極９Ａのスイッチング素子として、ＴＦＤ１４の代わりにＴＦＴ１４Ａを用いたＴＦＴアレイ基板１０Ａを備えている。図示は省略するが、複数のデータ線と複数の走査線とが互いに交差して形成され、隣接する２本のデータ線と２本の走査線とに囲まれた領域が１つのサブ画素となり、領域毎にＴＦＴ１４Ａおよび画素電極９が形成されている。画像信号を供給するデータ線がＴＦＴ１４Ａのソース領域に電気的に接続され、画素電極９ＡがＴＦＴ１４Ａのドレイン領域に電気的に接続されている。   As shown in FIG. 5, the liquid crystal device 100A of the present embodiment includes a TFT array substrate 10A using a TFT 14A instead of the TFD 14 as a switching element of the pixel electrode 9A. Although not shown, a plurality of data lines and a plurality of scanning lines are formed so as to intersect with each other, and a region surrounded by two adjacent data lines and two scanning lines becomes one sub-pixel, A TFT 14A and a pixel electrode 9 are formed for each region. A data line for supplying an image signal is electrically connected to the source region of the TFT 14A, and the pixel electrode 9A is electrically connected to the drain region of the TFT 14A.

また、画素電極９Ａの反射表示領域Ｒには反射電極１２Ａが形成されている。反射電極１２Ａは、反射性に優れたＡｌ等の金属膜により形成され、表面が凹凸状に形成されている。反射電極１２Ａと透明電極９ａは電気的に接続されている。一方、対向基板２０Ａ上には光散乱層２２および反射膜１２は形成されていない。   A reflective electrode 12A is formed in the reflective display region R of the pixel electrode 9A. The reflective electrode 12A is formed of a metal film such as Al having excellent reflectivity, and the surface is formed in an uneven shape. The reflective electrode 12A and the transparent electrode 9a are electrically connected. On the other hand, the light scattering layer 22 and the reflective film 12 are not formed on the counter substrate 20A.

また、第一実施形態と同様に、カラーフィルタＣを覆うように第一オーバーコート層１６が形成され、周辺遮光膜５３の表面と第一オーバーコート層１６の表面が従来よりも段差なく平坦に形成されている。そして、第二オーバーコート層１８が表示領域Ａ１と非表示領域Ａ２に亘って平坦に形成されている。第二オーバーコート層上には、表示領域Ａ１の略全面に亘って共通電極２１Ａが形成され、共通電極２１Ａ上には配向膜２３が形成されている。また、液晶層厚調整層１９として形成された平坦な第二オーバーコート層１８上にスペーサ２４が配置されている。
したがって、本実施形態の液晶装置１００Ａによれば、第一実施形態と同様に、周辺遮光膜５３と表示領域Ａ１との境界における液晶層５０の層厚の変動が防止され、周辺遮光膜５３の内側の表示領域Ａ１に表示不良が発生することを防止できる。 In addition, as in the first embodiment, the first overcoat layer 16 is formed so as to cover the color filter C, and the surface of the peripheral light shielding film 53 and the surface of the first overcoat layer 16 are flattened with no step as compared with the conventional case. Is formed. The second overcoat layer 18 is formed flat over the display area A1 and the non-display area A2. On the second overcoat layer, a common electrode 21A is formed over substantially the entire display area A1, and an alignment film 23 is formed on the common electrode 21A. A spacer 24 is disposed on the flat second overcoat layer 18 formed as the liquid crystal layer thickness adjusting layer 19.
Therefore, according to the liquid crystal device 100A of the present embodiment, as in the first embodiment, fluctuations in the layer thickness of the liquid crystal layer 50 at the boundary between the peripheral light shielding film 53 and the display area A1 are prevented, and the peripheral light shielding film 53 It is possible to prevent display defects from occurring in the inner display area A1.

また、反射表示領域Ｒの液晶層５０に視認側（対向基板２０Ａ側）から入射して液晶層５０を透過した光は、反射電極１２Ａによって反射され、再び液晶層５０を透過して視認側に射出される。透過表示領域Ｔの液晶層５０に視認側とは逆側（ＴＦＴアレイ基板１０Ａ）から入射した光は、液晶層５０を透過して視認側に射出される。このとき、反射表示領域Ｒに入射した光が液晶層５０を透過する距離は、液晶層厚調整層１９の層厚によって調整される。これにより、第一実施形態と同様に、反射表示領域Ｒの反射電極１２Ａに反射されて視認側に射出される光と、透過表示領域Ｔを透過して視認側に射出される光との位相差を調整することができる。したがって、第一実施形態と同様に、第二オーバーコート層１８を液晶層厚調整層１９として形成することで、生産性を向上させることができる。   In addition, light that has entered the liquid crystal layer 50 in the reflective display region R from the viewing side (opposite substrate 20A side) and transmitted through the liquid crystal layer 50 is reflected by the reflective electrode 12A, and is again transmitted through the liquid crystal layer 50 to the viewing side. It is injected. Light incident on the liquid crystal layer 50 in the transmissive display area T from the opposite side (TFT array substrate 10A) is transmitted through the liquid crystal layer 50 and emitted to the viewing side. At this time, the distance that the light incident on the reflective display region R passes through the liquid crystal layer 50 is adjusted by the layer thickness of the liquid crystal layer thickness adjusting layer 19. As a result, as in the first embodiment, the light reflected by the reflective electrode 12A in the reflective display region R and emitted to the viewer side is compared with the light transmitted through the transmissive display region T and emitted to the viewer side. The phase difference can be adjusted. Therefore, the productivity can be improved by forming the second overcoat layer 18 as the liquid crystal layer thickness adjusting layer 19 as in the first embodiment.

＜第三実施形態＞
次に、本発明の第三実施形態について、図１〜図３を援用し、図６を用いて説明する。本実施形態では上述の第一実施形態で説明した反射半透過型の液晶装置１００と、反射膜１２、光散乱層２２および液晶層厚調整層１９が形成されていない透過型である点で異なっている。その他の点は第一実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。 <Third embodiment>
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. This embodiment is different from the reflective transflective liquid crystal device 100 described in the first embodiment in that the reflective film 12, the light scattering layer 22, and the liquid crystal layer thickness adjusting layer 19 are not formed. ing. Since the other points are the same as in the first embodiment, the same parts are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図６に示すように、液晶装置１００Ｂの対向基板２０Ｂ上の表示領域Ａ１には、ストライプ状にＲ，Ｇ，Ｂの各色材層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂが設けられ（図３参照）、カラーフィルタＣを構成している。カラーフィルタＣを覆うように第一オーバーコート層１６が形成されている。
非表示領域Ａ２においては、第一実施形態と同様に周辺遮光膜５３が設けられている。第一オーバーコート層１６は、その外縁１６ａが周辺遮光膜５３の内縁５３ａに接するように形成されている。対向基板２０Ｂ上の第一オーバーコート層１６の表面まで高さＨ１は、周辺遮光膜５３の表面までの高さＨ２と略等しくなるように形成されている。 As shown in FIG. 6, in the display area A1 on the counter substrate 20B of the liquid crystal device 100B, R, G, and B color material layers 11R, 11G, and 11B are provided in a stripe shape (see FIG. 3), and the color filter. C is constituted. A first overcoat layer 16 is formed so as to cover the color filter C.
In the non-display area A2, the peripheral light shielding film 53 is provided as in the first embodiment. The first overcoat layer 16 is formed so that the outer edge 16 a thereof is in contact with the inner edge 53 a of the peripheral light shielding film 53. The height H1 to the surface of the first overcoat layer 16 on the counter substrate 20B is formed to be substantially equal to the height H2 to the surface of the peripheral light shielding film 53.

周辺遮光膜５３は第二オーバーコート層１８によって覆われている。第一オーバーコート層１６上にも全面に第二オーバーコート層１８が形成されている。第二オーバーコート層１８の表面に沿って、走査線２１が形成されている。走査線２１上には、配向膜２３が形成されている。配向膜２３上には、第一実施形態と同様のスペーサ２４が形成されている。   The peripheral light shielding film 53 is covered with the second overcoat layer 18. A second overcoat layer 18 is also formed on the entire surface of the first overcoat layer 16. A scanning line 21 is formed along the surface of the second overcoat layer 18. An alignment film 23 is formed on the scanning line 21. On the alignment film 23, the same spacers 24 as in the first embodiment are formed.

このように、本実施形態の液晶装置１００Ｂでは、第一実施形態と同様に、カラーフィルタＣを覆うように第一オーバーコート層１６が形成され、周辺遮光膜５３の表面と第一オーバーコート層１６の表面が平坦に形成されている。そして、第二オーバーコート層１８が表示領域Ａ１と非表示領域Ａ２に亘って平坦に形成されている。また、平坦な第二オーバーコート層１８上にスペーサ２４が配置されている。
したがって、本実施形態の液晶装置１００Ｂによれば、第一実施形態と同様に、周辺遮光膜５３と表示領域Ａ１との境界における液晶層５０の層厚の変動が防止され、周辺遮光膜５３の内側の表示領域Ａ１に表示不良が発生することを防止できる。 As described above, in the liquid crystal device 100B of the present embodiment, the first overcoat layer 16 is formed so as to cover the color filter C as in the first embodiment, and the surface of the peripheral light shielding film 53 and the first overcoat layer are formed. The surface of 16 is formed flat. The second overcoat layer 18 is formed flat over the display area A1 and the non-display area A2. A spacer 24 is disposed on the flat second overcoat layer 18.
Therefore, according to the liquid crystal device 100B of the present embodiment, as in the first embodiment, the variation in the layer thickness of the liquid crystal layer 50 at the boundary between the peripheral light shielding film 53 and the display area A1 is prevented, and the peripheral light shielding film 53 It is possible to prevent display defects from occurring in the inner display area A1.

＜第四実施形態＞
次に、本発明の第四実施形態について、図１〜図３を援用し、図７を用いて説明する。本実施形態では、上述の第三実施形態で説明した液晶装置１００Ｂと、第二オーバーコート層１８がスペーサとして形成されている点で異なっている。その他の点は第三実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。 <Fourth embodiment>
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. This embodiment is different from the liquid crystal device 100B described in the third embodiment described above in that the second overcoat layer 18 is formed as a spacer. Since the other points are the same as in the third embodiment, the same parts are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted.

図７に示すように、液晶装置１００Ｃには、平坦に形成された周辺遮光膜５３の表面と第一オーバーコート層１６の表面に沿って走査線２１が形成されている。走査線２１上には、配向膜２３が形成されている。配向膜２３上には、第二オーバーコート層１８が表示領域Ａ１と非表示領域Ａ２に亘って平坦に形成されている。表示領域Ａ１の第二オーバーコート層１８には開口部１８ａが形成され、第二オーバーコート層１８がＴＦＤアレイ基板１０と対向基板２０Ｃとの間隔Ｄを規定するスペーサとして形成されている。   As shown in FIG. 7, in the liquid crystal device 100C, the scanning lines 21 are formed along the surface of the peripheral light shielding film 53 and the surface of the first overcoat layer 16 formed flat. An alignment film 23 is formed on the scanning line 21. On the alignment film 23, the second overcoat layer 18 is formed flat across the display area A1 and the non-display area A2. An opening 18a is formed in the second overcoat layer 18 in the display area A1, and the second overcoat layer 18 is formed as a spacer that defines a distance D between the TFD array substrate 10 and the counter substrate 20C.

このように表示領域Ａ１と非表示領域Ａ２に亘って平坦に形成された第二オーバーコート層１８をスペーサとして形成することで、ＴＦＤアレイ基板１０と対向基板２０Ｃとの間隔Ｄを、非表示領域Ａ２から表示領域Ａ１に亘って均一にすることができる。
したがって、本実施形態によれば、第三実施形態と同様に、周辺遮光膜５３と表示領域Ａ１との境界における液晶層５０の層厚の変動が防止され、周辺遮光膜５３の内側の表示領域Ａ１に表示不良が発生することを防止できる。 Thus, by forming the second overcoat layer 18 formed flat across the display area A1 and the non-display area A2 as a spacer, the distance D between the TFD array substrate 10 and the counter substrate 20C is set to the non-display area. It can be made uniform from A2 to the display area A1.
Therefore, according to the present embodiment, as in the third embodiment, the variation in the layer thickness of the liquid crystal layer 50 at the boundary between the peripheral light shielding film 53 and the display area A1 is prevented, and the display area inside the peripheral light shielding film 53 is prevented. It is possible to prevent display defects from occurring in A1.

（電子機器）
次に、上述の実施形態において説明した液晶装置１００〜１００Ｃを備えた電子機器の具体例について説明する。
図８は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図８において、２００は携帯電話本体を示し、２０１は上記実施形態の液晶装置１００〜１００Ｃのいずれかを備えた液晶表示部を示している。
図８に示す携帯電話本体２００は、表示領域に表示不良が発生することが防止された液晶装置１００〜１００Ｃが搭載されている。したがって、上述の携帯電話本体２００によれば、表示不良が防止され、表示品質が改善された電子機器を提供することができる。 (Electronics)
Next, a specific example of an electronic device including the liquid crystal devices 100 to 100C described in the above embodiment will be described.
FIG. 8 is a perspective view showing an example of a mobile phone. In FIG. 8, reference numeral 200 denotes a mobile phone body, and 201 denotes a liquid crystal display unit including any one of the liquid crystal devices 100 to 100 </ b> C of the above embodiment.
A mobile phone main body 200 shown in FIG. 8 includes liquid crystal devices 100 to 100C in which display defects are prevented from occurring in the display area. Therefore, according to the mobile phone body 200 described above, it is possible to provide an electronic device in which display defects are prevented and display quality is improved.

尚、この発明は上述した実施の形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。例えば、本実施形態では遮光層、周辺遮光膜を２層の色材層の重ね合わせで構成したが、Ｒ，Ｇ，Ｂの３層の色材層の重ね合わせで構成してもよい。また、周辺遮光膜は、上述の実施の形態で説明した赤色および青色以外の組み合わせであってもよい。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, in this embodiment, the light shielding layer and the peripheral light shielding film are configured by overlapping two color material layers, but may be configured by overlapping three color material layers of R, G, and B. Further, the peripheral light shielding film may be a combination other than red and blue described in the above embodiment.

また、第一オーバーコート層は、その外縁が周辺遮光膜の内縁に接することなく、内縁よりも内側に形成されていてもよい。
また、第二オーバーコート層は第一オーバーコート層と異なる材料により形成してもよい。
また、上述の実施形態では、電気光学装置として液晶装置を例に挙げて説明したが、電気光学装置は液晶装置に限られない。 Moreover, the 1st overcoat layer may be formed inside the inner edge, without the outer edge contacting the inner edge of a surrounding light shielding film.
The second overcoat layer may be formed of a material different from that of the first overcoat layer.
In the above-described embodiment, the liquid crystal device is described as an example of the electro-optical device, but the electro-optical device is not limited to the liquid crystal device.

本発明の第一実施形態における液晶装置の平面図である。It is a top view of the liquid crystal device in a first embodiment of the present invention. 図１のＡ−Ａ’線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the A-A 'line of FIG. 本発明の第一実施形態における液晶装置の部分拡大平面図である。It is a partial enlarged plan view of the liquid crystal device in a first embodiment of the present invention. 図３のＢ−Ｂ’線に沿う断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along line B-B ′ in FIG. 3. 本発明の第二実施形態における液晶装置の図４に相当する断面図である。It is sectional drawing equivalent to FIG. 4 of the liquid crystal device in 2nd embodiment of this invention. 本発明の第三実施形態における液晶装置の図４に相当する断面図である。It is sectional drawing equivalent to FIG. 4 of the liquid crystal device in 3rd embodiment of this invention. 本発明の第四実施形態における液晶装置の図４に相当する断面図である。It is sectional drawing equivalent to FIG. 4 of the liquid crystal device in 4th embodiment of this invention. 本発明の実施形態における電子機器の概略構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows schematic structure of the electronic device in embodiment of this invention. 従来の液晶装置の図４に相当する断面図である。It is sectional drawing equivalent to FIG. 4 of the conventional liquid crystal device.

符号の説明Explanation of symbols

１０ ＴＦＤアレイ基板（第二基板）、１０Ａ ＴＦＴアレイ基板（第二基板）、１１Ｂ，１１Ｇ，１１Ｒ 色材層、１２ 反射膜、１２Ａ 反射電極（反射膜）、１６ 第一オーバーコート層、１６ａ 外縁、１８ 第二オーバーコート層、１８ａ 開口部、１９ 液晶層厚調整層、２０，２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃ 対向基板（第一基板）、２２ 光散乱層、２４ スペーサ、５０ 液晶層（電気光学材料）５３ 周辺遮光膜、５３ａ 内縁、１００，１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ 液晶装置（電気光学装置）、２００ 携帯電話本体（電子機器）、Ａ１ 表示領域、Ｃ カラーフィルタ、Ｄ 間隔、Ｈ１，Ｈ２ 高さ、Ｒ 反射表示領域、Ｓ 間隙、Ｔ 透過表示領域 10 TFD array substrate (second substrate), 10A TFT array substrate (second substrate), 11B, 11G, 11R Color material layer, 12 reflective film, 12A reflective electrode (reflective film), 16 first overcoat layer, 16a outer edge , 18 second overcoat layer, 18a opening, 19 liquid crystal layer thickness adjusting layer, 20, 20A, 20B, 20C counter substrate (first substrate), 22 light scattering layer, 24 spacer, 50 liquid crystal layer (electro-optic material) 53 peripheral light shielding film, 53a inner edge, 100, 100A, 100B, 100C liquid crystal device (electro-optical device), 200 mobile phone body (electronic device), A1 display area, C color filter, D interval, H1, H2 height, R Reflective display area, S gap, T transmissive display area

Claims (7)

第一基板と第二基板との間に電気光学材料が封止された電気光学装置において、
前記第一基板上に、前記電気光学装置の表示領域の周囲に設けられた周辺遮光膜が形成され、
前記表示領域には異なる色の複数の色材層を有するカラーフィルタが形成され、
前記表示領域には、前記カラーフィルタを覆う第一オーバーコート層が形成され、
前記第一オーバーコート層の外縁が、前記周辺遮光膜の内縁に接するかまたは前記内縁よりも内側に形成されていることを特徴とする電気光学装置。 In an electro-optical device in which an electro-optical material is sealed between a first substrate and a second substrate,
On the first substrate, a peripheral light shielding film provided around the display area of the electro-optical device is formed,
A color filter having a plurality of color material layers of different colors is formed in the display area,
A first overcoat layer covering the color filter is formed in the display area,
An electro-optical device, wherein an outer edge of the first overcoat layer is in contact with an inner edge of the peripheral light-shielding film or inside the inner edge. 前記周辺遮光膜の少なくとも一部は、前記色材層により形成されていることを特徴とする請求項１記載の電気光学装置。   2. The electro-optical device according to claim 1, wherein at least a part of the peripheral light shielding film is formed by the color material layer. 前記第一基板の表面から前記周辺遮光膜の表面までの高さと前記第一オーバーコート層の表面までの高さが略等しいことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の電気光学装置。   3. The electro-optical device according to claim 1, wherein a height from a surface of the first substrate to a surface of the peripheral light shielding film is substantially equal to a height from the surface of the first overcoat layer. . 前記周辺遮光膜は第二オーバーコート層によって覆われると共に、前記第一オーバーコート層上の少なくとも一部には前記第二オーバーコート層が形成されていることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の電気光学装置。   The peripheral light shielding film is covered with a second overcoat layer, and the second overcoat layer is formed on at least a part of the first overcoat layer. 4. The electro-optical device according to claim 3. 前記電気光学材料は液晶であり、
前記表示領域には透過表示領域と、反射表示領域と、が形成され、
前記透過表示領域の前記第二オーバーコート層には開口部が形成され、
前記反射表示領域の前記第二オーバーコート層が液晶層厚調整層として形成されていることを特徴とする請求項４記載の電気光学装置。 The electro-optic material is a liquid crystal;
A transmissive display area and a reflective display area are formed in the display area,
An opening is formed in the second overcoat layer of the transmissive display area,
5. The electro-optical device according to claim 4, wherein the second overcoat layer in the reflective display region is formed as a liquid crystal layer thickness adjusting layer. 前記表示領域の前記第二オーバーコート層上には、前記第一基板と前記第二基板との間隔を規定するスペーサが形成されていることを特徴とする請求項４または請求項５記載の電気光学装置。   6. The electricity according to claim 4, wherein a spacer for defining an interval between the first substrate and the second substrate is formed on the second overcoat layer in the display region. Optical device. 請求項１ないし請求項６のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to any one of claims 1 to 6.

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