JP2007072016A

JP2007072016A - Liquid crystal display device

Info

Publication number: JP2007072016A
Application number: JP2005257156A
Authority: JP
Inventors: Kazuhiro Takahashi; 一博高橋; Shinji Yamakawa; 伸二山川
Original assignee: Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd
Current assignee: Japan Display Central Inc
Priority date: 2005-09-05
Filing date: 2005-09-05
Publication date: 2007-03-22

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent display uneveness, such as grid-like stripe patterns while having a relatively large dimension of each pixel dot 51 constituting an image display screen, in a liquid crystal display device. <P>SOLUTION: The width D1 of each pixel dot 51 is set to 150 μm or larger; while a second light-shielding pattern 22 dividing each pixel dot 51 into a plurality of division pixel dot regions 52 is disposed, so that the width D2 of the division pixel dot region 52 becomes 100 μm or smaller. For example, the second light-shielding pattern 22 is made of the same material in the same patterning step as a first light-shielding pattern 21 (black matrix), which shields regions around a TFT 13 and along a signal line 11 and a scanning line 12 from light. The width of each linear portion 22a, constituting the second light-shielding pattern 22, is set, for example, to a nearly same width as that of a linear portion 21a of the corresponding first light-shielding pattern 21. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、マトリクス方式により画像表示を行う液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a liquid crystal display device that displays an image by a matrix method.

近年、液晶表示装置等の平面表示装置は、薄型、軽量、低消費電力の特徴を生かして、パーソナル・コンピュータ、ワードプロセッサあるいはＴＶ等の表示装置として、更に投射型の表示装置として各種分野で利用されている。 In recent years, flat display devices such as liquid crystal display devices have been used in various fields as display devices for personal computers, word processors, TVs, etc., and as projection display devices, taking advantage of their thin, lightweight, and low power consumption characteristics. ing.

中でも、各画素電極にスイッチ素子が電気的に接続されて成るアクティブマトリクス型表示装置は、隣接画素間でクロストークのない良好な表示画像を実現できることから、盛んに研究・開発が行われている。 In particular, active matrix display devices in which a switch element is electrically connected to each pixel electrode can achieve a good display image without crosstalk between adjacent pixels, and therefore are actively researched and developed. .

以下に、光透過型のアクティブマトリクス型液晶表示装置を例にとり、その構成について簡単に説明する。 Hereinafter, a light transmission type active matrix liquid crystal display device will be described as an example, and its configuration will be briefly described.

一般に、アクティブマトリクス型液晶表示装置は、マトリクスアレイ基板（以下アレイ基板と呼ぶ）と対向基板とが所定の間隔をなすよう近接配置され、この間隔中に、両基板の表層に設けられた配向膜を介して液晶層が保持されて成っている。 In general, in an active matrix liquid crystal display device, a matrix array substrate (hereinafter referred to as an array substrate) and a counter substrate are arranged close to each other at a predetermined interval, and an alignment film provided on the surface layer of both substrates in the interval. The liquid crystal layer is held through the gap.

アレイ基板においては、ガラス等の透明絶縁基板上に、上層の金属配線パターンとして例えば複数本の信号線と、下層の金属配線パターンとして例えば複数本の走査線とが絶縁膜を介して格子状に配置され、格子の各マス目に相当する領域にＩＴＯ(Indium-Tin-Oxide)等の透明導電材料からなる画素電極が配される。そして、格子の各交点部分には、各画素電極を制御するスイッチング素子が配されている。スイッチング素子が薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴと略称する。）である場合には、ＴＦＴのゲート電極は走査線に、ドレイン電極は信号線にそれぞれ電気的に接続され、さらにソース電極は画素電極に電気的に接続されている。 In an array substrate, on a transparent insulating substrate such as glass, for example, a plurality of signal lines as an upper layer metal wiring pattern and a plurality of scanning lines as a lower layer metal wiring pattern, for example, in a grid pattern via an insulating film A pixel electrode made of a transparent conductive material such as ITO (Indium-Tin-Oxide) is arranged in a region corresponding to each square of the lattice. A switching element for controlling each pixel electrode is disposed at each intersection of the lattice. When the switching element is a thin film transistor (hereinafter abbreviated as TFT), the gate electrode of the TFT is electrically connected to the scanning line, the drain electrode is electrically connected to the signal line, and the source electrode is electrically connected to the pixel electrode. It is connected to the.

対向基板は、ガラス等の透明絶縁基板上にＩＴＯ等から成る対向電極が配置され、またカラー表示を実現するのであればカラーフィルタ層が配置されて構成されている。 The counter substrate is configured such that a counter electrode made of ITO or the like is disposed on a transparent insulating substrate such as glass, and if a color display is realized, a color filter layer is disposed.

このような画像表示を行う液晶表示装置には、種々の原因により、点状、スジ状等の表示ムラが発生し、種々の対策がなされていた。配線の断線が原因である場合には、配線のリペア等が行われている。配向膜の形成工程に起因する表示ムラに対してはラビング工程の改良が試みられている（例えば特許文献１）。また、面光源装置の構成に起因して干渉縞が画像表示面に現れる場合には、導光板の表面構造等の改良が試みられている（例えば特許文献２〜３）。さらには、入力信号に画像処理を加えることや駆動方法の改良等も試みられている（例えば特許文献４）。
特開２００２−３５０８５７特開２００３−０７５８３３特開平０７−２４８７９３特開２００３−２０２８４２ In the liquid crystal display device that performs such image display, display irregularities such as dot-like and streaks occur due to various causes, and various countermeasures have been taken. When the cause is the disconnection of the wiring, the repair of the wiring is performed. An improvement in the rubbing process has been attempted for display unevenness caused by the alignment film forming process (for example, Patent Document 1). In addition, when interference fringes appear on the image display surface due to the configuration of the surface light source device, attempts have been made to improve the surface structure of the light guide plate (for example, Patent Documents 2 to 3). Furthermore, attempts have been made to add image processing to input signals, improve driving methods, and the like (for example, Patent Document 4).
JP 2002-350857 A JP2003-075833 JP 07-248793 A JP2003-202842

本件発明者らは、アクティブマトリクス型の液晶表示装置の製造設備を用いて、モノクロ表示の比較的安価な液晶表示装置を得ようという着想を、偶然に得た。そして、レッド、グリーン、ブルーの３つの画素ドットの組み（すなわち３つの画素電極の組み）が一つの略正方形状の画素部分をなしているのに代えて、各画素ドットが一辺２００〜４００μｍの略正方形状である液晶表示装置を試作した。 The inventors of the present invention have accidentally obtained the idea of using a manufacturing facility for an active matrix liquid crystal display device to obtain a relatively inexpensive liquid crystal display device for monochrome display. Then, instead of the combination of three pixel dots of red, green, and blue (that is, the combination of three pixel electrodes) forming one substantially square pixel portion, each pixel dot has a side of 200 to 400 μm. A liquid crystal display device having a substantially square shape was manufactured.

すると、全く予期しなかったことには、画像表示面に、格子状のスジからなる表示ムラが表れた。 Then, unexpectedly, display unevenness composed of grid-like streaks appeared on the image display surface.

本件発明者らは、上記従来技術による表示ムラの解決法を種々考えた末に、画素ドットを遮光パターンにより分割するという、従来の方法とは全く別種の解決方法により表示ムラを解消するに至った。 The present inventors have considered various solutions for the display unevenness according to the above-mentioned prior art, and have solved the display unevenness by a completely different solution from the conventional method in which the pixel dots are divided by a light shielding pattern. It was.

すなわち、本発明は、液晶表示装置において、画像表示面をなす各画素ドットの寸法を比較的大きくとりつつ、格子状のスジ模様等の表示ムラが防止されたものを提供しようとする。 That is, the present invention is intended to provide a liquid crystal display device in which display dots such as a grid-like streak pattern are prevented while the size of each pixel dot forming the image display surface is relatively large.

本発明の液晶表示装置は、四周のシール材とともに液晶材料の層を挟み込んで保持する一対の絶縁基板と、前記絶縁基板の前記液晶材料に接する面に略平行に配列される複数の走査線、及び、この走査線に略直交して配列される複数の信号線と、これら走査線及び信号線の交点ごとに、マトリクス状に配列され、それぞれが一つの画素ドットをなす画素電極と、前記各画素ドットを、隣接する画素ドットから隔てる第１遮光パターンとを備えた液晶表示装置において、前記各画素ドットの幅が１５０μｍ以上であり、前記各画素ドットを分割して幅が１００μｍ未満の分割画素ドット領域を生成する第２遮光パターンを備えることを特徴とする。 The liquid crystal display device of the present invention includes a pair of insulating substrates that sandwich and hold a liquid crystal material layer together with a four-round sealant, and a plurality of scanning lines arranged substantially parallel to a surface of the insulating substrate that contacts the liquid crystal material, And a plurality of signal lines arranged substantially orthogonal to the scanning lines, pixel electrodes arranged in a matrix at each intersection of the scanning lines and the signal lines, each forming one pixel dot, In a liquid crystal display device including a first light-shielding pattern that separates pixel dots from adjacent pixel dots, a divided pixel in which each pixel dot has a width of 150 μm or more, and the pixel dots are divided to have a width of less than 100 μm A second light-shielding pattern for generating a dot region is provided.

各画素ドットの幅が大きい液晶表示装置において、格子状のスジ等からなる表示ムラを解消することができる。 In a liquid crystal display device in which the width of each pixel dot is large, display unevenness composed of grid-like stripes or the like can be eliminated.

本発明の実施例１について図１〜２を用いて説明する。 A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

図１の平面図及び図２の積層断面図にはには、実施例１の液晶表示装置の要部、すなわち画素ドット部分を模式的に示す
図２に示すように、液晶表示装置の表示パネル１０は、アレイ基板１（ＴＦＴ基板）と対向基板２とがスペーサーにより所定の間隔に保たれ、この間に液晶層３が保持されてなる。液晶層３の四周にはシール材が配されて、液晶層３を封止するとともに、アレイ基板１と対向基板２とを接合している。 The plan view of FIG. 1 and the laminated sectional view of FIG. 2 schematically show the main part of the liquid crystal display device of Example 1, that is, the pixel dot portion. As shown in FIG. 2, the display panel of the liquid crystal display device Reference numeral 10 denotes an array substrate 1 (TFT substrate) and a counter substrate 2 which are kept at a predetermined interval by a spacer, and the liquid crystal layer 3 is held therebetween. A sealing material is disposed on the four circumferences of the liquid crystal layer 3 to seal the liquid crystal layer 3 and to join the array substrate 1 and the counter substrate 2 together.

液晶層３は、例えばツイストネマティック（ＴＮ）型の液晶材料からなり、アレイ基板１及び対向基板２の液晶層３に接する最表層には、ポリイミド系樹脂等からなる配向膜１５，２５がそれぞれ配置される。 The liquid crystal layer 3 is made of, for example, a twisted nematic (TN) type liquid crystal material, and alignment films 15 and 25 made of polyimide resin or the like are arranged on the outermost layer in contact with the liquid crystal layer 3 of the array substrate 1 and the counter substrate 2, respectively. Is done.

アレイ基板１においては、ガラス基板１６上に、信号線１１と走査線１２とがマトリクスをなすように配列され、信号線１１と走査線１２との交点ごとにＴＦＴ１３が配置される。これら信号線１１、走査線１２及びＴＦＴ１３により囲まれるマス目状の各領域は、ＩＴＯ等の導電材料からなる一つの画素電極１４により覆われる。この各画素電極１４が画素ドット５１に対応する。図示の例では、各画素ドット５１が、略正方形状である。 In the array substrate 1, the signal lines 11 and the scanning lines 12 are arranged on the glass substrate 16 so as to form a matrix, and a TFT 13 is disposed at each intersection of the signal lines 11 and the scanning lines 12. Each square-shaped region surrounded by the signal line 11, the scanning line 12, and the TFT 13 is covered with one pixel electrode 14 made of a conductive material such as ITO. Each pixel electrode 14 corresponds to a pixel dot 51. In the illustrated example, each pixel dot 51 has a substantially square shape.

対向基板２においては、ガラス基板２６上に、画素ドット５１を画する第１遮光パターン２１と、各画素ドット５１を、３つの分割画素ドット領域５２へとストライプ状に分割する第２遮光パターン２２とが設けられている。対向基板２には、さらに、これら第１及び第２遮光パターン２１，２２、及び、これらの間のガラス基板２６の露出面を覆うように、一つの連続した透明導電材料層からなる対向電極２３が設けられている。ここでの透明導電材料層は、典型的にはＩＴＯ等である。 In the counter substrate 2, on the glass substrate 26, a first light shielding pattern 21 that defines pixel dots 51 and a second light shielding pattern 22 that divides each pixel dot 51 into three divided pixel dot regions 52 in a stripe shape. And are provided. The counter substrate 2 further includes a counter electrode 23 made of one continuous transparent conductive material layer so as to cover the first and second light shielding patterns 21 and 22 and the exposed surface of the glass substrate 26 therebetween. Is provided. The transparent conductive material layer here is typically ITO or the like.

第１遮光パターン２１は、ＴＦＴ１３の個所を遮光するとともに、信号線１１及び走査線１２と画素電極１４との間の光漏れを防止するものである。そのため、信号線１１に重なる第１線状部分２１ａはそれぞれ信号線１１よりも一回り幅広に設けられ、走査線１２に重なる第２線状部分２１ｂは、走査線１２よりも一回り幅広に設けられている。 The first light-shielding pattern 21 shields a portion of the TFT 13 and prevents light leakage between the signal line 11 and the scanning line 12 and the pixel electrode 14. Therefore, the first linear portions 21 a that overlap the signal lines 11 are provided so as to be slightly wider than the signal lines 11, and the second linear portions 21 b that overlap the scanning lines 12 are provided so as to be slightly wider than the scanning lines 12. It has been.

一方、第２遮光パターン２２は、各画素ドット５１をストライプ状に３等分するための、画素ドット５１ごとの２本の線状部分２２ａのみから構成される。図示の例において、線状部分２２ａは、信号線１１に平行に２本延びており、この線状部分２２ａの幅が、第１遮光パターン２１の第１線状部分２１ａの幅にほぼ等しい。第１及び第２遮光パターン２１，２２は、同一の材料により同一のパターニング工程により設けられるものであり、一つの格子状パターンをなす。第１及び第２遮光パターン２１，２２は、クロム等の金属層、または黒色顔料等を含む樹脂材料層により形成される。 On the other hand, the second light shielding pattern 22 includes only two linear portions 22a for each pixel dot 51 for dividing each pixel dot 51 into three equal stripes. In the illustrated example, two linear portions 22 a extend in parallel to the signal line 11, and the width of the linear portions 22 a is substantially equal to the width of the first linear portion 21 a of the first light shielding pattern 21. The first and second light shielding patterns 21 and 22 are provided by the same patterning process using the same material, and form one lattice pattern. The first and second light shielding patterns 21 and 22 are formed of a metal layer such as chromium or a resin material layer including a black pigment or the like.

上記のアレイ基板１や対向基板２の作製は、例えば、特開平９−１６００７６号や特開２０００−２６７５９５号、または、特開2000-330484や特開2001-339070に記載されたと同様の方法によって行うことができる。 The array substrate 1 and the counter substrate 2 are manufactured by a method similar to that described in JP-A-9-160076, JP-A-2000-267595, JP-A-2000-330484, or JP-A-2001-339070, for example. It can be carried out.

対向基板２とアレイ基板１とからの、表示パネル１０の組み立ては、例えば次のように行う。まず、両基板１，２のパターン形成面上にポリイミド系樹脂膜を形成し、ラビング処理により液晶配向膜１５，２５を形成する。次いで、対向基板２上の縁に沿ってシール材を塗布してからアレイ基板１と貼り合わせ、シール材の硬化後、液晶材料を真空注入してから注入口を封止材にて封止する。 For example, the display panel 10 is assembled from the counter substrate 2 and the array substrate 1 as follows. First, a polyimide resin film is formed on the pattern forming surfaces of both substrates 1 and 2, and liquid crystal alignment films 15 and 25 are formed by rubbing treatment. Next, a sealing material is applied along the edge on the counter substrate 2 and then bonded to the array substrate 1. After the sealing material is cured, a liquid crystal material is vacuum-injected and then the injection port is sealed with the sealing material. .

このような表示パネル１０本体（液晶セル）の組立の後、表示パネル１０本体の表側の面及び裏面に、すなわち対向基板２の外面及びアレイ基板１の外面に、それぞれ、偏光板４１，４２を貼り付ける。そして、表示パネル１０本体の周縁接続部を通じて、テープキャリアパッケージ（ＴＣＰ）及び駆動回路基板（ＰＣＢ）、または駆動用フレキシブル配線（ＦＰＣ）といった駆動回路系統を実装・接続することにより、表示パネル１０を完成させる。 After the assembly of the display panel 10 main body (liquid crystal cell), polarizing plates 41 and 42 are respectively provided on the front surface and the back surface of the display panel 10 main body, that is, on the outer surface of the counter substrate 2 and the outer surface of the array substrate 1. paste. The display panel 10 is mounted and connected through a peripheral connection portion of the display panel 10 main body, such as a tape carrier package (TCP) and a drive circuit board (PCB), or a drive flexible wiring (FPC). Finalize.

本実施例の具体例において、表示パネル１０は、表示領域の対角寸法が７インチであるカーナビゲーション装置用であってモノクロ表示を行う。各画素ドット５１の信号線方向及び走査線方向のピッチＰは、約３００〜３５０μｍである。そして、第１遮光パターンの第１線状部分２１ａ、及び、第２遮光パターン２２をなす各線状部分２２ａの幅が、２０〜４０μｍ、例えば３０μｍである。したがって、画素ドット５１の幅Ｄ１は約２６０μｍ〜３３０μｍであり、各分割画素ドット領域５２の幅Ｄ２は、約６０〜９５μｍである。 In a specific example of the present embodiment, the display panel 10 is for a car navigation apparatus in which the diagonal dimension of the display area is 7 inches, and performs monochrome display. The pitch P in the signal line direction and the scanning line direction of each pixel dot 51 is about 300 to 350 μm. And the width | variety of each linear part 22a which makes the 1st linear part 21a of the 1st light shielding pattern and the 2nd light shielding pattern 22 is 20-40 micrometers, for example, 30 micrometers. Therefore, the width D1 of the pixel dot 51 is about 260 μm to 330 μm, and the width D2 of each divided pixel dot region 52 is about 60 to 95 μm.

このように、各分割画素ドット領域５１の幅Ｄ２を１００μｍ未満とすることにより、スジ状の表示ムラの発生を防止することができた。 Thus, by making the width D2 of each divided pixel dot region 51 less than 100 μm, the occurrence of streak-like display unevenness can be prevented.

本具体例における典型的な寸法構成によると、画素ドット５１の幅Ｄ１は、第１遮光パターンの第１線状部分２１ａの幅の５倍以上であり、各分割画素ドット領域５１の幅Ｄ２は、第１線状部分２１ａの幅の４倍未満である。 According to a typical size configuration in this specific example, the width D1 of the pixel dot 51 is not less than five times the width of the first linear portion 21a of the first light shielding pattern, and the width D2 of each divided pixel dot region 51 is The width of the first linear portion 21a is less than four times.

なお、本実施例の具体例において、表示パネル１０の裏面には、不図示の面光源装置が配されており、表示パネル１０とともに、フレーム構造体により収納保持される。ここでの面光源装置は、例えば、樹脂フレームと一体のバックライトユニットである。 In the specific example of this embodiment, a surface light source device (not shown) is disposed on the back surface of the display panel 10 and is stored and held together with the display panel 10 by a frame structure. The surface light source device here is, for example, a backlight unit integrated with a resin frame.

上記実施例において、第２遮光パターン２２をなす各線状部分２２ａの幅が、第１遮光パターン２１における第１線状部分２１ａの幅とほぼ等しいとして説明したが、例えば０．５〜２倍の範囲で適宜に変化させることができる。 In the above embodiment, it has been described that the width of each linear portion 22a forming the second light shielding pattern 22 is substantially equal to the width of the first linear portion 21a in the first light shielding pattern 21, but it is 0.5 to 2 times, for example. It can be changed appropriately within the range.

上記実施例の説明中、表示パネルが透過型であってバックライト機構が備えられるとして説明したが、場合によっては液晶表示パネルが半透過型、または反射型であっても同様である。 In the description of the above embodiment, it has been described that the display panel is a transmissive type and includes a backlight mechanism. However, the same applies to the case where the liquid crystal display panel is a transflective type or a reflective type.

以下に、本発明の実施例２〜４について、それぞれ図３〜５を用いて説明する。これら実施例においては、画素ドット５１を分割する第２遮光パターン５２が、アレイ基板１上の金属層パターンにより形成されている。 Examples 2 to 4 of the present invention will be described below with reference to FIGS. In these embodiments, the second light shielding pattern 52 that divides the pixel dots 51 is formed by the metal layer pattern on the array substrate 1.

図３に示す実施例２においては、信号線１１に平行に延びる信号線１１ごとに２本の信号線冗長配線１１Ａ，１１Ｂが、各画素ドット５１を走査線１２方向に３等分する第２遮光パターン５２をなす。信号線冗長配線１１Ａ，１１Ｂは、アレイ基板１上に、信号線１１と同一材料により同一工程で形成されるものであり、画素ドット５１中に位置する幅広の線状部分２２ａが、実施例１における第２遮光パターン５２と全く同様の遮光パターンとして機能する。すなわち、液晶表示装置の平面図における線状部分２２ａの位置及び寸法形状は、実施例１の場合と全く同様である。また、液晶表示装置のその他の構成においても、実施例１の場合と全く同様である。 In the second embodiment shown in FIG. 3, for each signal line 11 extending parallel to the signal line 11, two signal line redundant wirings 11A and 11B divide each pixel dot 51 into three equal parts in the scanning line 12 direction. A light shielding pattern 52 is formed. The signal line redundant wirings 11A and 11B are formed on the array substrate 1 by the same material and in the same process as the signal line 11, and the wide linear portion 22a located in the pixel dot 51 is formed in the first embodiment. Functions as the same light-shielding pattern as the second light-shielding pattern 52 in FIG. That is, the position and dimension of the linear portion 22a in the plan view of the liquid crystal display device are exactly the same as those in the first embodiment. The other configuration of the liquid crystal display device is exactly the same as that of the first embodiment.

各信号線冗長配線１１Ａ，１１Ｂは、このような線状部分２２ａと、細幅の連結部分２２ｂとからなる。連結部分２２ｂは、走査線１２に交差する個所にて線状部分２２ａ同士を連結する短い配線である。また、図示の例で、各信号線冗長配線１１Ａ，１１Ｂの一端は、基板端にて、信号線１１の根元部から延在される枝状配線２２ｃと連続している。しかし、場合によっては、各信号線冗長配線１１Ａ，１１Ｂをフロートパターンとし、信号線１１の断線発見時にレーザー等を用いて信号線１１との電気的な接続を行うのであっても良い。 Each signal line redundant wiring 11A, 11B is composed of such a linear portion 22a and a narrow connecting portion 22b. The connecting portion 22 b is a short wiring that connects the linear portions 22 a at a location that intersects the scanning line 12. Further, in the illustrated example, one end of each signal line redundant line 11A, 11B is continuous with a branch line 22c extending from the base of the signal line 11 at the substrate end. However, depending on the case, each signal line redundant wiring 11A, 11B may be a float pattern, and when the disconnection of the signal line 11 is detected, the signal line 11 may be electrically connected using a laser or the like.

実施例２によると、実施例１と同様、格子状の表示ムラを防止できる他、信号線に断線が生じた場合にも断線による線状不良の発生を防止することができる。 According to the second embodiment, in the same way as the first embodiment, it is possible to prevent the display unevenness in a lattice shape, and also to prevent the occurrence of a line defect due to the disconnection when the signal line is disconnected.

図４に示す実施例３においては、実施例２の信号線冗長配線１１Ａ，１１Ｂに代えて、走査線冗長配線１２Ａ，１２Ｂが設けられている。走査線冗長配線１２Ａ，１２Ｂは、走査線１２に平行に延び、走査線１２と同一材料で同一工程により形成される。この他の点においては、実施例２の信号線冗長配線１１Ａ，１１Ｂと全く同様である。すなわち、走査線冗長配線１２Ａ，１２Ｂは、各画素ドット５１と重なる領域で、画素ドット５１を信号線方向に３等分する線状部分２２ａをなし、この線状部分２２ａの寸法及び形状は、走査線方向に延びる点を除き、実施例１の場合とほぼ同様である。 In the third embodiment shown in FIG. 4, scanning line redundant wirings 12A and 12B are provided in place of the signal line redundant wirings 11A and 11B of the second embodiment. The scanning line redundant wirings 12A and 12B extend in parallel to the scanning line 12, and are formed of the same material and the same process as the scanning line 12. The other points are exactly the same as the signal line redundant wirings 11A and 11B of the second embodiment. That is, the scanning line redundant wirings 12A and 12B are regions that overlap each pixel dot 51, and form a linear portion 22a that equally divides the pixel dot 51 in the signal line direction, and the size and shape of the linear portion 22a are as follows. Except for the point extending in the scanning line direction, it is almost the same as in the first embodiment.

走査線冗長配線１２Ａ，１２Ｂは、信号線冗長配線１１Ａ，１１Ｂの場合と同様、線状部分２２ａ同士が、走査線１２と交差する個所で、細幅の連結部分２２ｂにより連結されたものである。図示の例で、各走査線冗長配線１２Ａ，１２Ｂの一端は、基板端にて、走査線１２の根元部から延在される枝状配線２２ｃと連続している。 As in the case of the signal line redundant wirings 11A and 11B, the scanning line redundant wirings 12A and 12B are formed by connecting the linear portions 22a with the narrow connecting portions 22b where the scanning lines 12 intersect. . In the illustrated example, one end of each of the scanning line redundant wirings 12A and 12B is continuous with a branch wiring 22c extending from the base of the scanning line 12 at the substrate end.

実施例３によると、走査線１２の断線による不良が防止される。また、走査線１２の配線抵抗を低下させることができる。 According to the third embodiment, the failure due to the disconnection of the scanning line 12 is prevented. In addition, the wiring resistance of the scanning line 12 can be reduced.

図５に示す実施例４においては、上記実施例３と同様の構成において、走査線冗長配線１２Ａ，１２Ｂと同様のパターンが、補助容量線（Ｃｓ線）１８Ａ，１８Ｂの部分により構成されている。すなわち、実施例３と全く同一の位置にあり全く同様の寸法形状を有する線状部分２２が、同様の細幅の連結部分２２ｂにより連結されて補助容量線（Ｃｓ線）１８Ａ，１８Ｂをなしている。そして、これら補助容量線１８Ａ，１８Ｂの一端が枝状配線２２ｃによりまとめられて、補助容量用の給電端子、または補助容量線用のまとめ配線に電気的に接続されている。 In the fourth embodiment shown in FIG. 5, in the same configuration as in the third embodiment, the same pattern as the scanning line redundant wirings 12A and 12B is constituted by the auxiliary capacitance lines (Cs lines) 18A and 18B. . That is, the linear portions 22 that are in exactly the same position as in the third embodiment and have exactly the same size and shape are connected by a similar narrow connecting portion 22b to form auxiliary capacitance lines (Cs lines) 18A and 18B. Yes. One end of each of the auxiliary capacitance lines 18A and 18B is collected by a branch-like wiring 22c and electrically connected to a power supply terminal for auxiliary capacitance or a summary wiring for auxiliary capacitance line.

実施例４によると、遮光パターンが走査線ごとに２本の補助容量線により設けられるので、１本のみ補助容量線を設ける場合に比べて、補助容量線の断線による不具合が防止されることとなる。 According to the fourth embodiment, since the light shielding pattern is provided by two auxiliary capacitance lines for each scanning line, it is possible to prevent problems caused by disconnection of the auxiliary capacitance lines as compared with the case where only one auxiliary capacitance line is provided. Become.

次に、実施例５について図６を用いて説明する。この実施例では、上記実施例１と全く同様の構成において、走査線１２と略等幅の補助容量線１８が、走査線１２ごとに１本、隣り合う走査線との中間の位置に設けられている。したがって、画素ドット５１は、第２遮光パターン２２を設けない状態でも、信号線方向に２つに分割されている。そのため、第２遮光パターン２２によって走査線方向に３等分されて３つの分割画素ドット領域５２が生じているとともに、各分割画素ドット領域５２が信号線方向に２分されることで、６つの小領域５３に分割されている。しかし、これら小領域５３の幅、すなわち走査線方向の寸法Ｄ２は、実施例１の場合と全く同様である。 Next, Example 5 will be described with reference to FIG. In this embodiment, in the same configuration as that of the first embodiment, an auxiliary capacitance line 18 having substantially the same width as that of the scanning line 12 is provided for each scanning line 12 at an intermediate position between adjacent scanning lines. ing. Therefore, the pixel dot 51 is divided into two in the signal line direction even when the second light shielding pattern 22 is not provided. Therefore, three divided pixel dot regions 52 are divided into three by the second light-shielding pattern 22 in the scanning line direction, and each divided pixel dot region 52 is divided into two in the signal line direction. It is divided into small areas 53. However, the width of these small regions 53, that is, the dimension D2 in the scanning line direction is exactly the same as in the first embodiment.

本実施例の具体例において、各小領域５３の幅は、実施例１における分割画素ドット領域５２の幅に同一であり、例えば、約６０〜９５μｍである。これに対して、小領域５３の信号線方向の寸法は、約１５０μｍである。すなわち、第２遮光パターン２２による分割のない状態では、補助容量線１８により分割されているにしても、幅が約１５０μｍであって、表示ムラの防止には必ずしも充分でない。 In the specific example of the present embodiment, the width of each small region 53 is the same as the width of the divided pixel dot region 52 in the first embodiment, and is, for example, about 60 to 95 μm. On the other hand, the size of the small region 53 in the signal line direction is about 150 μm. That is, in the state where the second light-shielding pattern 22 is not divided, the width is about 150 μm even if the auxiliary light-shielding line 18 is divided, which is not necessarily sufficient for preventing display unevenness.

図７には、比較例について示す。比較例の液晶表示装置は、上記実施例と同様の構成において、第２遮光パターン２２が設けられていない。具体的な寸法構成の例も、第２遮光パターン２２がない点を除き、実施例の具体例と同様である。比較例の液晶表示装置を、このような具体的な寸法構成例に基づき試作したところ、前述したと同様に、画像表示面に、格子状のスジムラが生じた。 FIG. 7 shows a comparative example. In the liquid crystal display device of the comparative example, the second light shielding pattern 22 is not provided in the same configuration as in the above embodiment. An example of a specific dimension configuration is the same as the specific example of the embodiment except that the second light shielding pattern 22 is not provided. When the liquid crystal display device of the comparative example was prototyped based on such a specific dimensional configuration example, a lattice-shaped unevenness was generated on the image display surface as described above.

実施例１の液晶表示装置における画素ドット部分を模式的に示す要部平面図である。3 is a plan view of a principal part schematically showing a pixel dot portion in the liquid crystal display device of Example 1. FIG. 図１と同様の画素ドット部分を模式的に示す積層断面図である。It is a lamination | stacking sectional drawing which shows the pixel dot part similar to FIG. 1 typically. 実施例２の液晶表示装置についての、図１に対応する要部平面図である。FIG. 6 is a plan view of a main part corresponding to FIG. 1 for a liquid crystal display device of Example 2. 実施例３の液晶表示装置についての、図１に対応する要部平面図である。FIG. 6 is a plan view of a main part corresponding to FIG. 1 for a liquid crystal display device of Example 3. 実施例４の液晶表示装置についての、図１に対応する要部平面図である。FIG. 6 is a plan view of a main part corresponding to FIG. 1 for a liquid crystal display device of Example 4; 実施例５の液晶表示装置についての、図１に対応する要部平面図である。FIG. 10 is a plan view of a main part corresponding to FIG. 1 for a liquid crystal display device of Example 5. 比較例の液晶表示装置についての、図１に対応する要部平面図である。It is a principal part top view corresponding to FIG. 1 about the liquid crystal display device of a comparative example.

符号の説明Explanation of symbols

１アレイ基板
１０表示パネル
１１信号線
１２走査線
１３ＴＦＴ
１４画素電極
２対向基板
２１第１遮光パターン
２２第２遮光パターン
５１画素ドット
５２分割画素ドット領域
Ｄ１画素ドット５１の幅
Ｄ２分割画素ドット領域５２の幅 1 array substrate 10 display panel 11 signal line 12 scanning line 13 TFT
14 pixel electrode 2 counter substrate 21 first light shielding pattern 22 second light shielding pattern 51 pixel dot 52 divided pixel dot area D1 width of pixel dot 51 D2 width of divided pixel dot area 52

Claims

四周のシール材とともに液晶材料の層を挟み込んで保持する一対の絶縁基板と、
前記絶縁基板の前記液晶材料に接する面に略平行に配列される複数の走査線、及び、この走査線に略直交して配列される複数の信号線と、
これら走査線及び信号線の交点ごとに、マトリクス状に配列され、それぞれが一つの画素ドットをなす画素電極と、
前記各画素ドットを、隣接する画素ドットから隔てる第１遮光パターンとを備えた液晶表示装置において、
前記各画素ドットの幅が１５０μｍ以上であり、
前記各画素ドットを分割して幅が１００μｍ未満の分割画素ドット領域を生成する第２遮光パターンを備えることを特徴とする液晶表示装置。 A pair of insulating substrates that sandwich and hold a layer of liquid crystal material together with a four-round sealing material;
A plurality of scanning lines arranged substantially parallel to a surface of the insulating substrate in contact with the liquid crystal material, and a plurality of signal lines arranged substantially orthogonal to the scanning lines;
Pixel electrodes arranged in a matrix at each intersection of these scanning lines and signal lines, each forming one pixel dot,
In a liquid crystal display device comprising a first light-shielding pattern separating each pixel dot from an adjacent pixel dot,
The width of each pixel dot is 150 μm or more,
A liquid crystal display device comprising: a second light-shielding pattern that divides each pixel dot to generate a divided pixel dot region having a width of less than 100 μm.

前記画素ドットの幅は、該幅方向における前記第１遮光パターンの線状部分の幅の５倍以上であり、前記分割画素ドット領域の幅は、該線状部分の幅の４倍未満であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。 The width of the pixel dot is not less than 5 times the width of the linear portion of the first light-shielding pattern in the width direction, and the width of the divided pixel dot region is less than 4 times the width of the linear portion. The liquid crystal display device according to claim 1.

前記分割が、前記各画素ドットの幅方向に行われ、それぞれ、該幅方向に並列する２〜５個の前記分割画素ドットを生成していることを特徴とする請求項１または２記載の液晶表示装置。 3. The liquid crystal according to claim 1, wherein the division is performed in a width direction of each pixel dot, and 2 to 5 divided pixel dots arranged in parallel in the width direction are respectively generated. Display device.

前記第２遮光パターンの幅が、前記第１遮光パターンの幅と、実質上等しいことを特徴とする請求項２記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 2, wherein a width of the second light shielding pattern is substantially equal to a width of the first light shielding pattern.

前記第１遮光パターンが、前記走査線及び前記信号線とは別個のパターニング工程により形成された遮光膜からなり、
前記第２遮光パターンが、前記第１遮光パターンと同一材料により同一のパターニング工程により形成されたことを特徴とする請求項１または２記載の液晶表示装置。 The first light-shielding pattern is made of a light-shielding film formed by a patterning process separate from the scanning lines and the signal lines,
3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the second light shielding pattern is formed by the same patterning process using the same material as the first light shielding pattern.

前記第２遮光パターンが、前記信号線と同一材料により同一のパターニング工程により形成されたことを特徴とする請求項１または２記載の液晶表示装置。 3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the second light shielding pattern is formed by the same patterning process using the same material as the signal line.

前記第２遮光パターンが、前記走査線と同一材料により同一のパターニング工程により形成され、前記走査線の冗長配線をなすことを特徴とする請求項１または２記載の液晶表示装置。 3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the second light shielding pattern is formed by the same patterning process using the same material as the scanning line, and forms a redundant wiring of the scanning line.

前記第２遮光パターンが、前記走査線と同一材料により同一のパターニング工程により形成され、前記走査線とは異なる電位に保持または駆動されることを特徴とする請求項１または２記載の液晶表示装置。
3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the second light-shielding pattern is formed by the same patterning process using the same material as the scanning line, and is held or driven at a different potential from the scanning line. .