JP2009069436A - 表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】クロストークを低減し、表示パターンに依存しない画像を表示可能な表示装置を提供する。
【解決手段】第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に挟持され、透過光を変化させる光切り替え層と、を備え、前記第１及び第２の基板と前記光切り替え層の少なくともいずれは、光学特性が互いに異なる第１の部位と、第２の部位と、を有し、前記第１の部位と第２の部位との界面は、前記基板の主面に対して略垂直であることを特徴とする表示装置を提供する。
【選択図】図１

Description

本発明は、表示装置に関し、例えば一対の基板の間に液晶が挟持された表示装置に関する。

マン・マシン・インタフェースとして用いられる表示装置は、情報化社会の発展に必要欠くべからざるものとして、開発が続けられている。中でも、液晶表示装置は、消費電力が低いことから、時計、電卓、小型携帯機器等に広く利用されている。このような液晶表示装置に使用される表示モードには、ツイステッド・ネマティック（TN：Twisted Nematic）型、スーパー・ツイステッド・ネマティック（STN：Super Twisted Nematic）型、電界制御複屈折（ECB：Electrically Controlled Birefringence）型等がある。これらの液晶表示装置においては、光切り替え層である液晶層に与えられる電気信号によって、液晶層の旋光性や複屈折率が変化し、この液晶層と偏光板と組み合わせることにより透過光を変化させることができる。これらのタイプの光切り替え層を用いた場合、入射光の５０％以上がこの偏光板によって吸収されてしまうため、明るい表示装置を実現することが難しい。

一方、偏光板を使用しない光切り替え層の例として、高分子ネットワーク型液晶Polymer Network Liquid Crystal（以下、ＰＮＬＣと略記する）、あるいは高分子分散型液晶Polymer Dispersed Liquid Crystal（以下、ＰＤＬＣと略記する）がある（例えば、特許文献１）。ＰＤＬＣ型の光切り替え層は、高分子マトリクス中に例えば正の誘電異方性を有する液晶のドロップレットが形成されている。これを２枚の透明電極付基板に挟むことによりＰＤＬＣ表示セルが構成され、偏光板を用いる必要がない。電圧の無印加時は液晶の配向はランダムであり、液晶の屈折率と高分子の屈折率に差があるように設計しておくことにより、入射光は散乱する。この時、ＰＤＬＣ層における後方散乱光により明表示と認識される。一方、電圧印加時は液晶が配向し、入射光はＰＤＬＣ層によって散乱されることなく、ＰＤＬＣ層を透過する。ＰＤＬＣ表示セルの観察者とは反対側に、例えば黒い紙のような光吸収層を設置しておくと、電圧印加時は入射光は光吸収層で吸収され、暗表示が得られる。この際、配向時の液晶の屈折率と高分子の屈折率が近い値となるように設計しておくと、液晶と高分子の界面での反射や屈折が低減でき有利である。
特許第２９９８２３１号公報

本発明者は、ＰＤＬＣ層を有する表示装置において、周囲のＰＤＬＣ層が散乱状態にある場合と、透過状態にある場合と、で、それに隣接したＰＤＬＣ層の反射光強度が変化するという光学的なクロストークが存在することを見出した。

本発明は、この新規な課題の認識に基づいてなされたものでありその目的は、クロストークを低減し、表示パターンに依存しない画像を表示可能な表示装置を提供することにある。

本発明の一態様によれば、第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に挟持され、透過光を変化させる光切り替え層と、を備え、前記第１及び第２の基板と前記光切り替え層の少なくともいずれは、光学特性が互いに異なる第１の部位と、第２の部位と、を有し、前記第１の部位と第２の部位との界面は、前記基板の主面に対して略垂直であることを特徴とする表示装置が提供される。

本発明によれば、クロストークを低減し、表示パターンに依存しない画像を表示可能な表示装置が提供される。

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施形態に係る表示装置１の断面図であり、図２は、その平面図である。
図１に表したように、第１の透明基板（下側基板）１１０と第２の透明基板（上側基板）１２０にそれぞれ第１の電極１１１と第２の電極１２１とが設けられ、それらの間に、光切り替え層１３０が挟まれている。この実施形態の場合は、光切り替え層１３０としては、高分子中に液晶を分散させたＰＤＬＣ層である。第１の透明基板１１０と第２の透明基板１２０の周辺部の間には、枠状のシール層１９０が配設され、その枠内にＰＤＬＣ層１３０が形成されている。シール層１９０には、図示しないスペーサボールが混入されＰＤＬＣ層１３０の層厚を規定する。第２の透明電極１２１は、第２の透明基板１２０上においてＸ方向にライン状に形成されている。第１の透明基板１１０上には、Ｘ方向と直交するＹ方向にライン状の第１の透明電極１１１が形成されている。第１の透明電極１１１および第２の透明電極１２１には、例えばＩＴＯ（indium tin oxide）膜を使用することができる。第１の透明基板１１０および第２の透明基板１２０には、例えば透明ガラス基板や透明プラスチック基板等を使用することができる。

ＰＤＬＣ層１３０としては、液晶材料及び、モノマー、オリゴマーなどの重合性材料と重合開始剤の混合物からなる材料を用いることができる。このＰＤＬＣ材料を第１の透明基板１１０の上に滴下またはインクジェット印刷法やスクリーン印刷法により塗布し、第２の透明基板１２０をその上に載せた後、ＰＤＬＣ層に紫外線を照射することによりＰＤＬＣ層が形成される。あるいは、第１の透明基板１１０と第２の透明基板１２０を第１の電極１１１と第２の電極１２１を互いに対向させ、シール層１９０により、一部の開口部を設けて接着し、この２枚の基板の間にＰＤＬＣ材料を注入し、その後紫外線を照射することによりＰＤＬＣ層が形成できる。紫外線光源には、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ若しくはキセノンランプ等を使用することができる。

また、本実施形態においては、第１の透明基板１１０の下側に、低屈折率層１５０として空気層が設けられており、さらにその下に光吸収層１６０が設けられている。低屈折率層１５０は、第１の透明基板１１０中の第１の部位の屈折率または、第２の部位の屈折率より小さい屈折率を持たせることにより、第１の透明基板１１０の背面での光反射を制御でき表示品位を高めることができる。低屈折率層１５０には、空気などの気体の他、液体、プラスチックなどの固体を使用することができる。また、光吸収層１６０には、例えば、黒色のプラスチックフィルムを使用することができる。

そして、図１に表した具体例においては、第１の透明基板１１０は、第１の部位１４１としてガラスからなる部位、及び、第２の部位１４２として空気からなる部位を有する。第１の部位１４１の屈折率は例えば１．５３であり、第２の部位の屈折率は１である。またこれら第１の部位１４１と第２の部位１４２の界面１４５は、基板表面に対して垂直な面内にある。なお、第１の部位１４１は、表示電極がある画素部２０１に相当する部分に設けられ、第２の部位１４２は非画素部２０２に相当する部分に設けられている。第２の部位１４２は非画素部２０２のすべてに設ける必要はなく、解像度や製造コスト等を考慮して適宜調整してもかまわない。

このように、本実施形態においては、第２の部位１４２と第１の部位１４１の光学定数、すなわち光学特性が異なる。本実施形態において、この光学定数は、例えば屈折率や吸収率とすることができる。あるいは、第２の部位１４２に反射率または拡散反射率の高い材料を用いることができる。第１の部位１４１と第２の部位１４２とで光学定数を変えることは、第１の部位１４１と第２の部位１４２に用いる材料を変えることで実現できる。

例えば、第１の部位１４１にガラスを用いた場合、第１の部位１４１より第２の部位１４２の屈折率を小さくする例として、第２の部位１４２に、空気、または低屈折率の酸化物などの材料を用いることができる。逆に、第１の部位１４１よりも第２の部位１４２を高屈折率とするには、第２の部位１４２に高屈折率酸化物などを用いることができる。また、第２の部位１４２の吸収率と第１の部位１４１の吸収率とを異ならせる場合は、第２の部位１４２としてカーボンや顔料を含む樹脂などを使用することができる。また、第２の部位１４２に光を反射する金属（例えばアルミニウム）を用いることもできる。さらには、第２の部位１４２の拡散反射率を高めるために第２の部位１４２に、例えばＴｉＯ_２微体を含む材料を用いることができる。

本実施形態によれば、第１の透明基板１１０に第１の部位１４１と第２の部位１４２とを設けることにより、第１の透明基板１１０の中を横方向に光が拡散することを防止できる。その結果として、後に詳述するように、光学的なクロストークを抑制し、高い表示品質を得ることができる。

本実施形態によれば、光を選択的に散乱、透過させて表示を行う表示装置の反射光強度が周囲の状態（散乱／透過）によって変化するといったクロストークを軽減し、多様なコンテンツパターンを安定した明るさで表示することができる表示装置を提供することができる。

以下、本実施形態に係る具体的な実施例について説明する。
（第１の実施例）
まず以下の方法により、ＰＤＬＣセルを作製した。厚さ０．７ｍｍ、屈折率約１.５３のガラス基板上に幅１.２ｍｍ、間隔０.０５ｍｍでライン状のＩＴＯ電極を８本形成した。５０μｍのスペーサボールが混入されたシール層を介し、ライン状のＩＴＯ電極が直交するように２枚のガラス基板を貼り合わせて空セルを作製した。シール層の開口部からＰＤＬＣ材料を注入した後、開口部を封止した。ＰＤＬＣ材料としては、液晶材料として、Ｅ７（商品名、メルク株式会社製）７９.２ｗｔ％、オリゴマーとしてカヤラッドＨＸ−６２０（商品名、日本化薬株式会社製）４.０ｗｔ％、モノマーとしてメタクリル酸２−エチルヘキシル１５.８ｗｔ％ 、重合開始剤として、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン １.０ｗｔ％を混合したものを用いた。

その後、メタルハライドランプを用い、照度３５ｍＷ／ｃｍ^２で紫外線を２分間照射した。照度計にはオーク製作所ＵＶ−Ｍ０２（センサＵＶ−３５）を用いた。

なお、液晶材料Ｅ７の異常光屈折率は１．７７３０、常光屈折率は１．５３０９である。

その後、ダイサーを用い、ＰＤＬＣセルの第１の透明基板１１０（下側ガラス基板）にスリットを形成した。スリットは、幅０．０４ｍｍ、深さ０.６ｍｍとし、位置をＩＴＯ電極間に合わせて７本形成した。このようにして、実施例１では、第１の透明基板中に、第１の部位１４１としてガラスからなる部位、及び第２の部位１４２として空気からなる部位を設けた。光学定数である屈折率は、第１の部位１４１では１．５３であり、第２の部位１４２では１である。またこれら第１の部位１４１と第２の部位１４２の界面１４５は基板表面と垂直な面内にある。

その後、黒色プラスチックフィルムに直径０.０６ｍｍのスペーサボールを散布し、スリットを形成した側の下側ガラス基板に貼り付けて表示装置を作製した。

このようにして作製した実施例１の表示装置の表示性能を評価した。この時、表示装置の周囲に照明を配置し、一定の明るさの光が表示素子に入射するようにし、表示装置に与える信号を変えながら、表示装置の測定部位をＣＣＤ顕微鏡で観察し、その測定部位の反射光強度Ｉを明るさの指標とした。

図３は、本実施例の表示装置の模式平面図である。
第２の透明基板１２０上の第２の透明電極１２１ａ〜１２１ｈはすべてアースに接続し 、もう一方の第１の透明基板１１０上の電極１１１ａ〜１１１ｈに対し、電圧を印加しない電極はアースに接続し、印加する電極は電源に接続することで駆動を行った。駆動信号は、周波数１００Ｈｚ、電圧５０Ｖの交流矩形波とした。測定部位５１０は、電極１１１ｄと電極１２１ｄが対向する部分とした。そして、その測定部位の周囲で、電圧を印加する電極数Ｎを、２本、４本、６本と変えた。２本の場合、電極１１１ａと電極１１１ｇに電圧を印加し、４本の場合は電極１１１ａ、１１１ｂ、１１１ｆ、１１１ｇに電圧印加し、６本の場合は電極１１１ａ、１１１ｂ、１１１ｃ、１１１ｅ、１１１ｆ、１１１ｇに電圧を印加した。
また、比較例として、基板にスリットを設けない従来技術の表示装置の特性も測定した。なお、測定部位５１０のＰＤＬＣ層には電圧は印加されない。

図４は、本実施例の測定結果を表すグラフ図である。横軸は、電圧を印加した測定部位の周辺の電極数Ｎを表し、縦軸は、測定部位の反射光強度Ｉ（任意目盛）を表す。またここで、本実施例の表示装置の特性は実線により表し、比較例は破線により表した。

図４から分かるように、比較例の表示素子の場合、電圧印加電極数Ｎが０の場合には反射光強度Ｉが大きく、電圧印加電極数Ｎが多くなるに従って測定部位５１０の反射光強度Ｉが大幅に減少している。すなわち、比較例の表示装置においては、測定部位５１０の反射光強度Ｉは、周辺の表示部に電圧が印加されているかどうかで大きく変動している。

図５は、比較例及び本実施例の表示装置における光の伝搬を表す模式図である。すなわち、図５（ａ）は、比較例の表示装置における基板中および光切り替え層中の光伝搬を模式的に表した断面図である。表示装置１への入射光１６３は、光切り替え層１３０によって散乱され、基板中を基板面内に伝搬する光１６４を生じる。また、光切り替え層１３０の中をその層に平行な面内に伝搬する光１６５が発生する。このようにして、測定部分５１０から出射される光は、測定部分５１０に入射した光の反射成分以外に、基板中を伝搬する光１６４と光切り替え層１３０中を伝搬する光１６５の一部が取り出された成分の合計であらわされる。表示装置１の測定部分５１０の周囲の部分に電圧を印加して透明状態となると、周囲から測定部分５１０に向かって基板中を伝搬する光１６４及び光切り替え層１３０中を伝搬する光１６５は減少し、結果として、測定部分５１０の反射光強度Ｉが減少する。このようにして、比較例の表示装置の場合は、測定部位５１０の反射光強度Ｉは、周辺の表示部に電圧が印加されているかどうかで大きく変動する。

一方、図４に関して前述したように、本発明の実施例１の表示装置においては、電圧印加電極本数Ｎが増大しても、反射光強度Ｉにあまり大きな低下はない。この効果は、図５（ｂ）によって説明される。すなわち、図５（ｂ）は本発明に係わる実施例１の表示装置における基板中および光切り替え層中の光伝搬を模式的に示した断面図である。

実施例１においては、第１の透明基板１１０にはスリットが設けられており、第１の部位１４１としてのガラスと第２の部位１４２としての空気とがある。表示装置１への入射光１６３が光切り替え層１３０部分で散乱されて、第１の透明基板１１０中に各種の角度で入射されるが、第１の部位１４１と第２の部位１４２との屈折率が異なるため、その界面でその光が反射され、その界面を超えて基板中を伝搬することが実質上無い。よって測定部位５１０の反射光強度Ｉはその周囲の領域の影響を受けにくくなる。

以上説明したように、第１の実施例では、表示装置を構成している基板中を光が伝搬することによって生じる光クロストークを低減し、表示パターンに依存せず均一で高コントラストを有する高品位な表示を実現できる。
（第２の実施例）
以下、本発明の第１の実施形態の第２の実施例について説明する。
図６は、本発明の第１の実施形態の第２の実施例の表示装置の断面図である。

本実施例の表示装置では、第１の透明基板１１０に設けたスリットに低屈折率材料が充填されている。低屈折材料としては、例えば多孔性シリカ材料を用いることができる。アルコキシシラン、溶剤、水、及び非イオン性触媒の混合液に対して多孔性シリカを更に混合したものを基板上に塗布し、焼成することにより、低屈折率薄膜を第２の部位１４２に充填した。このようにして得られた低屈折率材料の屈折率は１．３であった。このようにして得られた基板１１０を用いて、第１実施例と同様の方法により表示装置を作製したところ、第１の透明基板中を基板面内に伝搬する光を低減でき、光クロストークを低減した表示装置が得られた。

また、第２の部位１４２を充填する高屈折率材料として、例えば酸化チタン系の膜を形成することもできる。この場合、屈折率として１．８以上の膜が得られる。

また、第１の部位１４１と第２の部位１４２とで光吸収率を変えるために、カーボンや各種の着色顔料を混合してなる光吸収率の高い樹脂を、第２の部位１４２に埋設することもできる。この場合も、散乱光は、この光吸収率の高い材料によって吸収されるので、基板中を基板面内方向に伝搬することを低減できる。

また、第２の部位１４２の反射率を上げるために、第２の部位１４２にアルミニウムなどの金属を埋設することもできる。あるいは、各種の真空薄膜形成法によりその界面部分に反射率が高い膜を形成することもできる。この場合も、散乱光の基板面内方向の伝搬を低減し、さらに、反射効果によって基板の厚み方向に集光することができより明るい表示を得ることができる。

また、第２の部位１４２の拡散反射率を上げるために、第２の部位１４２に酸化チタンの微粉を含有した樹脂を埋設することができる。これにより、光切り替え層１３０で散乱された光が基板中に入射しても第１の部位１４１と第２の部位１４２の界面または、第２の部位自身によって拡散反射され、第２の部位１４２の若干の前方散乱による影響を除けば、基板中を基板面内に伝搬する光を低減できる。
また、予め基板の表面の所定部分をレジストなどで覆った後、スリット部をエッチング処理することにより、第２の部位１４２の側壁の表面部に細かな凹凸を形成した後にレジストを剥離することによって、第２の部位１４２と第１の部位１４１との界面に拡散反射層を形成しても良い。

次に本発明の第１の実施形態に係わる第３の実施例を説明する。
（第３の実施例）
図７は、本発明の第１の実施形態に係わる第３の実施例の表示装置の断面図である。図７に表したように、第３実施例では、第１の透明基板１１０の第１の透明電極１１１が形成された面に近い基板内に、第２の部位１４２が形成されている。第２の部位１４２は、第１の透明電極１１１と第２の透明電極１２１とが対向して形成される画素部２０１及び、画素部２０１以外の部分である非画素部２０２の領域に設けられている。第２の部位１４２は非画素部２０２においては、幅４０μｍ、深さ１８０μｍの帯状の層として設けられている。さらに、画素部２０１には、縦横がそれぞれ４０μｍで高さが１８０μｍの矩形の断面形状を有する柱体として第２の部位１４２が形成されている。この柱状の第２の部位１４２は、各画素に対して例えば５個ずつ設けることができる。

第２の部位１４２は、以下の方法によって形成することができる。
厚さ０．５ｍｍのガラス基板１１０の表面に、ネガ型の感光性樹脂を塗布し、所定のマスクを介して露光、現像し、幅４０μｍ、高さ１８０μｍの帯状の突起物１４６、及び縦横それぞれ４０μｍ高さ１８０μｍの矩形柱状の突起物１４７を形成する。この際、帯状の突起物１４６は、非画素部２０２に相当する部位に設け、矩形の突起物１４７は画素部２０１に相当する部分にそれぞれ５つずつ形成する。この後、基板上にレジストを塗布し、適当なマスクを介して露光・現像することにより、これら突起物１４６、１４７が形成されていない面及びこれら突起物１４６、１４７の上面をレジストで被覆し、帯状突起物１４６と柱状突起物１４７の壁面部を露出する。この状態で、基板上にアルミニウムをスパッタリングする。この後、レジストを除去することにより、これら帯状の突起物１４６と矩形の突起物１４７の壁面のみにアルミニウムからなる反射膜を形成する。この後、ガラス基板１１０と同等の屈折率を有する水ガラス１１３を厚さ２００μｍとなるように塗布・焼成し、平坦化することで、第１の透明基板１１０中に第１の部位１４１として水ガラス層１１３、第２の部位１４２としてアルミニウム薄膜層を有し、第１の部位１４１と第２の部位１４２の界面が基板面と垂直な構造の基板を得ることができる。この時の第１の透明基板１１０の厚さは、第１実施例と同じ０．７ｍｍとすることができる。この第１の透明基板を用いて第１実施例と同じ方法により表示装置を作製することにより、第１の透明基板１１０の中を基板面内方向に伝搬する光を低減した、高品位の表示素子を得ることができる。

なお、第３実施例においては、第２の部位１４２は、第１の透明基板１１０の第１の透明電極１１１を有する面に近い部位に形成されている。また、第２の部位１４２の基板面内に垂直な面内の長さ（高さ）は０．１８ｍｍであり、第１の透明基板１１０の全体の厚さ０．７ｍｍの約２５％であった。このように、第２の部位１４２は、基板の厚さ方向の一部であってもよく、第２の部位１４２の高さは、画素部の幅、光切り替え層の厚さ、光切り替え層の散乱性、第２の部位１４２の幅、第１の部位１４１と第２の部位１４２の光学定数の差などを基に、所望の表示性能が実現できるように適切に設計される。

また、帯状及び柱状の第２の部位１４２は、以下の手法によって形成することもできる。０．７ｍｍ厚のガラス基板の表面に、レジストを塗布し、フォトリソグラフィー技術によって所定の形状にレジストマスクを形成した後、ガラス表面を１８０μｍの深さにエッチングすることで、帯状及び柱状に相当する溝及び穴が得られる。この後、Ａｌ薄膜をスパッタリング形成し、その後、レジストを剥離することによって、上記と同様の基板が得られる。

また、帯状及び柱状の突起物を、カーボンなどを含有した樹脂により形成することで、アルミニウムの薄膜による反射膜を付与しなくても、第２の部位１４２に光吸収性を与えることができ、より簡便に高性能の表示装置を得ることができる。また、帯状及び矩形の穴をカーボンなどを含有した樹脂で埋めることでも、同様の効果がある表示装置を得ることができる。
（第４の実施例）
次に第４の実施例について説明する。
図８は、本発明の第１の実施形態に係わる第４の実施例の表示装置の断面図である。
本実施例では、第１の透明基板１１０の第１の透明電極１１１を有する面の近傍で画素部２０１の領域に、柱状の第２の部位１４２ａが設けられている。さらに、第１の透明基板の裏面で、非画素部２０２の領域に帯状の第２の部位１４２ｂが設けられている。柱状の第２の部位１４２ａは、縦横４０μｍの矩形で高さが１８０μｍの柱形状を画素ごとに例えば５つずつ設けられている。その形成方法は、第３の実施例と同様の方法を用いることができる。さらに、帯状の第２の部位１４２ｂは、第１の透明基板の裏面側に近い領域に設けられている。帯状の第２の部位１４２は、幅４０μｍ、深さ０．５ｍｍのスリットからなっており、第１実施例と同様の方法を用いて形成することができる。

このようにして、第１の部位１４１と第２の部位１４２とを有する基板１１０を用いることにより得られた表示装置は、基板中を面内に伝搬する光をより低減でき、高品位の表示が得られる。

この実施例から分かるように、第１実施例と第３実施例とを組み合わせることにより、より性能の高い表示装置を得ることができる。これは、以下に説明する各種の実施例を適宜組み合わせることが有効であることの一例である。
（第５の実施例）
次に第５の実施例について説明する。
図９は、本発明の第１の実施形態に係わる第５の実施例の表示装置の断面図である。本実施例では、第１の透明基板１１０の厚み方向の中間部に、第２の部材１４２が設けられている。この第２の部位１４２は、以下の方法によって形成することができる。

ガラスなどからなる第１の透明基板１１０に対して、基板中の中間部でレーザ光の焦点が形成される光学系を用い、レーザ光を基板に照射する。こうすることで、レーザによる熱でガラスの中間部の微小領域が熱せられ、部分的にガラスが溶解し、その後冷却されることによって、基板中の一部で光学特性の異なる部位が形成される。このレーザが照射された部位は他の部位とは光学特性が異なるため、その周囲に光学的に異方性のある界面が形成される。この現象を利用して、レーザ光を基板中を走査させることによって、基板の中間部に、光学定数が異なる第２の部位１４２をその界面が基板面と垂直となるように形成した。

このようにして得られた、第１の部位１４１と第２の部位１４２とを有する基板１１０を用いることにより得られた表示装置は、基板中を面内に伝搬する光を低減でき、高品位の表示が得られる。

なお、別の方法としては、特定の波長を吸収し、発色または着色する材料を基板中に含有させ、レーザ光の焦点が基板中の所定の部位に形成されるような光学系を用いてレーザ照射することによって、基板中に第２の部位１４２を形成することもできる。この手法は、樹脂材料を用いた透明基板の表示装置に特に適用しやすい。

また、第１の透明基板１１０の厚み方向の中間部に第２の部材１４２を有する構造を形成する方法としては、これらの他にも、第３の実施例に関して説明したように、基板の上に突起物または溝を設けた後に平坦化する方法も挙げることができる。

（第６の実施例）
次に第６の実施例について説明する。
図１０は、本発明の第１の実施形態に係わる第６の実施例の表示装置の断面図である。

本実施例では、第１の透明基板１１０の第１の透明電極１１１が形成された面に近い基板内で、非画素部２０２に対応した部分に第２の部位１４２が形成されている。

本実施例の第２の部位１４２は、以下の手法により形成することができる。
すなわち、第１の透明基板１１０であるガラス基板上に、ＩＴＯ膜をスパッタ法により形成し、その上に、レジスト膜を形成する。そして、第１の透明電極１１１の形状に相当する形状のマスクを介して露光現像することによりレジストマスクをパターニングする。その後、そのマスクから露出したＩＴＯをエッチング除去する。引き続き、フッ酸によりガラスをエッチングし、幅４０μｍ、深さ１８０μｍの溝を形成する。この後、アルミニウムをスパッタし、溝の壁面を含む表面に反射膜を形成する。この後、レジストを除去し、これと同時に透明電極１１１上のアルミニウムも除去する。このようにして、壁面に反射面を有する溝が形成された基板１１０が形成される。この基板１１０を用いて表示装置を作製すればよい。

本実施例においては、基板１１０上に溝が形成されており、その部分にはＰＤＬＣ材料が埋め込まれる。第１の透明基板１１０の第１の部位１４１はガラスからなり、第２の部分１４２は、溝部表面に形成されたアルミニウム薄膜からなる反射層を有する。このようにして作製された表示素子は、基板中に基板面内を伝搬する光を低減でき、均一で高性能の表示が得られる。

なお、本具体例において、ガラスをエッチングして溝を形成した後に反射膜としてのアルミニウム薄膜を形成しているが、例えば溝部分に光吸収性を有する樹脂を埋設しても良い。さらには、この後の工程でこの溝にＰＤＬＣが埋め込まれるため、ＰＤＬＣを構成する材料と第１の透明基板１１０を構成する材料の屈折率を適正に異ならせる設計とすることにより、溝の界面において屈折率差による反射が得られるため、反射膜や吸収層を設けず、溝を形成するだけでもよい。

なお、すでに述べたように、第２の部位１４２を感光性樹脂を用いて形成したり、エッチング手法を用いて形成した場合、第１の部位１４１と第２の部位１４２の界面は、かならずしも基板表面と完全に垂直ではなく、多少のテーパー角を有した、基板面に対して斜め方向の斜面を持つ界面となることが有る。このような構成の表示装置においても、本発明の目的である、基板中あるいは光切り替え層中を横方向に伝搬する光を低減させる効果がある。このように、本実施形態において、第１の部位１４１と第２の部位１４２の界面は基板の表面に対して垂直でもよいが、それ以外にも横方向に伝搬する光を低減させる機能を有する限りにおいて各種の角度をとり得る。

なお、第６実施例の表示装置の製造プロセスで説明した手法によって表示装置を作製した場合、溝の側面だけでなく溝の底面にもアルミニウム膜が形成される。これによる光の反射を防止するためには、底部に光吸収層を形成することが有効である。さらに、第２の部位１４２として光反射層を設けた場合は、表示装置を視認した時に、外部の像が写り込む現象が発生することが、結果として表示品位を劣化させることがあり得る。また、第２の部位１４２に光吸収層を設けた場合には、表示装置を視認した場合に表示が暗く見えてしまい、問題となり得る。これらの対策としては、図１０に表したように、非画素部２０２に対応した領域の第２の透明基板１２０の光切り替え層１３０に接する側に、例えば酸化チタン粒子を含有する樹脂膜からなるホワイトマトリクス層１２７を形成し、不要な反射光を遮光し、あるいは実質的な反射光を高める手法が有効である。また、この場合、ホワイトマトリクス層１２７により、特に光切り替え層中の層面内を伝搬する光を増長する場合があり、この時は、ホワイトマトリクス１２７の下面に光吸収層からなるブラックマトリクス層１２８を設けることで解消される。これら、ホワイトマトリクス層１２７とブラックマトリクス１２８層は、本発明の各種の実施形態と、それぞれ単独で、または組み合わせて応用することによって、より性能の高い表示装置子を得ることができる。

（第７の実施例）
次に第７の実施例について説明する。
図１１は、本発明の第１の実施形態に係わる第７の実施例の表示装置の断面図である。

本実施例では、第１の透明基板１１０の非画素部２０２に相当する部分に、界面がほぼ基板面と垂直である第２の部分１４２が形成されている。この基板１１０は以下のようにして形成される。
例えば、アクリルモノマーとオリゴマー及び光開始剤を混合した透明材料を透明な保持用に基板間に挟み、第１の温度である８０℃で保持する。この透明材料にマスクを介して紫外線を照射すると、紫外線が照射された部分の透明材料の光重合が開始し、第２の部位１４２となるアクリルポリマーが形成される。さらに、透明樹脂を第２の温度である２０℃に保持してマスクを外して透明材料全面に紫外線を照射し、第１の部位１４１となるアクリルポリマーを形成する。この後、保持用の基板からアクリルポリマーを取り出して透明基板が得られる。このように２種の温度に保持して紫外線を照射することにより、２種の重合状態を有するアクリル樹脂基板を得ることができる。この２種の重合状態では、結晶性が異なり、その界面は光学的に不連続で、光はその界面で反射、吸収される。そして、この界面は、基板面に対してほぼ垂直である。このようにして、基板１１０中に第１の部位１４１と第２の部位１４２とを形成することができる。このようにして得られた基板１１０を用いて作製された表示素子は、基板中を基板面内に伝搬する光を低減でき、高品位の表示を実現できる。

この手法において、透明材料を重合させる温度を２種としたが、温度を１種とし、紫外線の波長や照射量を変えても良く、またこれらを組み合わせた手法を用いても良い。また、光重合過程と熱重合過程を使い分けることにより、基板中に第１の部位１４１と第２の部位１４２をその界面が基板面に対して垂直になるように形成することができる。また、複数の材料を混合し、その相溶性の温度依存性を利用して、不均一な樹脂層を設けることによって、基板中に第１の部位１４１と第２の部位１４２を形成することもできる。

（第８の実施例）
次に、第８の実施例について説明する。
第８実施例では、用いる基板として、基板面に垂直方向と水平方向とで光透過性の異なる光異方性基板、いわゆるルーバーを用いる。
図１２は、ルーバーの微視的な構造を表す模式図である。
図１２（ａ）に表したように、円柱状の複数の第１の部位１４１と、これらの側壁に設けられた第２の部位１４２と、が界面１４５を形成している。この柱構造は、ＰＥＴ等の透明フィルムで挟まれている。第１の部位１４１と第２の部位１４２のうち断面積が大きいほうの部位と、透明フィルムとの界面は光学的に連続であることが望ましい。第２の部位１４２は、例えば光吸収材料からなる。ルーバーのフィルム面に対して垂直な光は透過するが、斜め方向から入射する光は吸収される。また、ルーバーの構造としては、円柱状だけではなく、図１２（ｂ）に表したように、四角柱状のもの、あるいは六角柱形状のいわゆるハニカム構造のものなどでもよい。第２の部位１４２は光吸収層だけではなく、第１の部位１４１とは屈折率が異なる材料で構成しても、それらの界面１４５において光を反射・散乱することができる。具体例としては、「ライトコントロールフィルムＬＣＦ」（商品名、住友スリーエム株式社製）や「ルミスティ」（商品名、住友化学株式会社製）等を用いることができる。このようにして作製された表示素子は、基板中を基板面内に伝搬する光を低減でき、高品位の表示を実現できる。

（第９の実施例）
次に、本発明の第１の形態に係わる第９の実施例について説明する。
図１３は、本発明の第１の実施形態に係わる第９の実施例の表示装置の断面図である。

本実施例では、第１の透明基板１１０だけでなく、第２の透明基板１２０にもスリット状の第２の部位１４２を設けた構成とされている。第２の透明基板１２０のスリットは、例えば第１実施例に関して前述した方法により形成することができる。本実施例では、第１の透明基板１１０と、第２の透明基板１２０と、の両方に、第２の部位１４２を設けることで、第１の透明基板１１０中だけでなく、第２の透明基板１２０中を基板面内に伝搬する光を低減でき、より高品位な表示を得ることができる。

このように、本実施形態においては、第１の透明基板１１０と第２の透明基板１２０のいずれか一方または両方に、第１の部位１４１と第２の部位１４２とを設けることができる。これら第１及び第２の部位の形成方法については、すでに述べた各種の方法を用いることができる。

次に、本発明の第２の実施形態について説明する。
（第２の実施形態）
図１４は、本発明の第２の実施形態に係わる表示装置の模式断面図である。
第２の実施形態の表示装置１は、第１の透明基板１１０の第１の透明電極１１１と第２の透明基板１２０の第２の透明電極１２１に挟まれたＰＤＬＣ層からなる光切り替え層１３０を有する。そして、光切り替え層１３０は、第３の部位１３３及び第４の部位１３４を有する。第３の部位１３３と第４の部位１３４の界面は、基板に対して実質的に垂直方向となっている。なお、図示していないが、第１の透明基板１１０の背面には、低屈折率層１５０を介して光吸収層１６０（図１参照）が設けられている。

このような構成の表示装置において、第３の部位１３３はＰＤＬＣ層からなり、第４の部位１３４はＰＤＬＣ層とは異なる光学定数を有する材料で形成されている。以下、このような構成を有する本発明の第２の実施形態にかかる第１０の実施例について説明する。
（第１０の実施例）
第１０の実施例の表示装置１において、第３の部位１３３はＰＤＬＣ層からなり、第４の部位１３４は、絶縁性の有機顔料を含有した黒色樹脂からなる。第４の部位１３４は、高さ２０μｍ、幅４０μｍの帯状突起物を非画素部２０２に形成することにより、設けることができる。具体的には、ガラス基板上に、ネガ型アクリル樹脂にカーボンを１．０重量％混合したものをスクリーン印刷し、その後焼成することにより、このような突起物を有する基板を形成できる。このような基板を用いて得られた表示装置１は、光切り替え層１３０中の面内を伝搬する光を低減することができ、高品位な表示を得ることができる。

なお、本実施例のように光切り替え層１３０中に第３の部位１３３と第４の部位１３４を設けることと、第１〜第９実施例に関して前述したように第１の透明基板や第２の透明基板中に第１の部位１４１と第２の部位１４２とを設けることと、を同時に実施することで、より高品位な表示素子が得られる。

（第１１の実施例）
次に、本発明の第２の実施形態に係わる第１１の実施例について説明する。
図１５は、本発明の第２の実施形態に係わる第１１の実施例の表示装置の断面図である。
第１の透明基板１１０の上だけでなく、第２の透明基板１２０の表面上の非画素部に、高さ２０μｍ、幅４０μｍの帯状突起が形成されている。この帯状突起は、以下の方法により作製できる。すなわち、第１の透明基板１１０及び第２の透明基板１２０にＩＴＯ膜をスパッタ法により形成し、その上に感光性レジスト膜を塗布し、所定形状のマスクを介して露光現像することにより、非画素部２０２を露出させ、ＩＴＯをエッチングする。この後、絶縁性の有機顔料を含有した樹脂を塗布、焼成し、厚さ２０μｍの黒色樹脂層を形成する。その後、レジストを剥離すると同時に、レジスト部の黒色樹脂層を剥離することにより、非画素部２０２に帯状の突起物を形成することができる。

このような基板を用いて表示素子を作製する。このようにして得られた表示装置は、光切り替え層１３０中の面内を伝搬する光を低減することができ、高品位な表示を得ることができる。
なお、上述したような帯状の突起を片方の基板上の非画素部に枠状に形成し、その基板上の枠内にＰＤＬＣ材料を滴下、または印刷する手法を用いて表示装置を作製する方法も採用できる。

（第１２の実施例）
次に、本発明の第２の実施形態に係わる第１２の実施例について説明する。
図１６は、本発明の第２の実施形態に係わる実施例１２の表示装置の断面図である。
光切り替え層１３０は、第３の部位１３３と第４の部位１３４を有し、第３の部位１３３と第４の部位１３４の界面１３５は、基板面に対してほぼ垂直とされている。第４の部位１３４は、以下のようにして形成することができる。
すなわち、２枚の基板の間に、オリゴマー、モノマー、液晶、光開始剤を混合したＰＤＬＣ材料を注入した後、非画素部を露出するメタルマスクを基板の外に配置した状態で、第１の温度として６０℃で紫外線を照射する。この後、メタルマスクをはずして、第２の温度として２０℃で紫外線を照射する。このようにして、非画素部２０２に相当する第４の部位１３４では、ＰＤＬＣ中の粒径が大きい層を形成することができる。一方、画素部に相当する第３の部位１３３では、液晶の粒径が第４の部位１３４に比べて小さい層が得られる。これら第３の部位１３３と第４の部位１３４の界面は、基板に対してほぼ垂直とすることができる。第３の部位１３３及び、第４の部位１３４では、粒径が異なるため、実効的な屈折率および散乱反射率が異なっている。このようにして得られた表示装置は、光切り替え層１３０中の面内を伝搬する光を低減することができ、高品位な表示を得ることができる。

（第１３の実施例）
次に、本発明の第２の実施形態に係わる第１３の実施例について説明する。
図１７は、本発明の第２の実施形態に係わる第１３の実施例の表示装置の断面図である。
光切り替え層１３０は、第３の部位１３３と第４の部位１３４を有し、第３の部位１３３と第４の部位１３４の界面１３５は、基板面に対してほぼ垂直とされている。第４の部位１３４は、以下のようにして形成することができる。
すなわち、第１の透明基板の表面上の非画素部２０２に相当する部分の表面張力を下げる処理を行う。具体的には、デシルトリメトキシシランカップリング剤の水溶液を基板１上の非画素部のみに印刷した後、焼成し、非画素部２０２部のみを撥水性のある表面とする。この後、ＰＤＬＣ材料を注入し、紫外線を照射し、本実施例の表示素子を作製する。

本実施例では、非画素部２０２の基板表面の表面張力が画素部２０１より小さくされている。このため、画素部２０１と非画素部２０２とで、ＰＤＬＣ材料の構成材料であるオリゴマー、モノマー、液晶、それぞれが持っている表面張力の違いによって、これら構成材料の密度に分布が生じる。この状態で紫外線を照射することによりＰＤＬＣ層が重合されると、画素部２０１と非画素部２０１に対応して材料の組成の異なる第３の部位１３３と第４の部位１３４とが形成される。これら第３の部位１３３と第４の部位１３４は、結果として光学定数の異なる界面１３５を生じ、この界面１３５は基板面に対してほぼ垂直とすることができる。このようにして得られた表示装置は、光切り替え層１３０中の面内を伝搬する光を低減することができ、高品位な表示を得ることができる。

なお、上述した手法の他にも、例えば、基板間にＰＤＬＣ材料を注入した後、第１の電極と第２の電極とに電圧を印加した状態で紫外線照射することにより、画素部２０１と非画素部２０２のＰＤＬＣ層の光学的特性を異ならせることができる。このようにして、第３の部位１３３と第４の部位１３４及びそれらの界面１３５を形成することもできる。

（第１４の実施例）
次に、本発明の第２の実施形態に係わる第１４の実施例について説明する。
図１８は、本発明の第２の実施形態に係わる第１４の実施例の表示装置１の断面図である。
第１の透明基板１１０は、第１の透明電極１１１である画素電極とそれに接続されたＴＦＴ素子１１５とを有する。また、第２の透明基板１２０は、第２の透明電極１２１とカラーフィルタ１２２とを有する。そして、これらの基板の間には、ＰＤＬＣ層からなる光切り替え層１３０が設けられている。光切り替え層１３０は、画素部２０１領域に第３の部位１３３を有し、また、非画素部２０２領域に第４の部位１３４を有しており、それらの界面１３５は基板に対して垂直となっている。この第３の部位１３３と第４の部位１３４、及び界面１３５は、以下のようにして形成することができる。

第１のガラス基板１１０の上に、画素電極１１１とＴＦＴ素子１１５及び走査電極配線、信号電極配線を形成する。一方、第２のガラス基板１２０には所定形状の有機顔料を含有したカラーフィルタ及びＩＴＯ透明電極を形成する。これら２枚の基板を平行に組み合わせ、第１実施例と同じようにＰＤＬＣ材料を２枚の基板間に注入する。この後、ＴＦＴ１１５を駆動することにより、画素部２０１のみに電圧を印加しながら、また、照射時の温度を制御した状態で紫外線を照射し、画素部２０１と非画素部２０２とで異なる光学特性を有するＰＤＬＣ光切り替え層が得られる。すなわち、電圧が印加された状態で紫外線が照射され樹脂が高分子化されドロップレットが形成された部位と、電圧がない状態で紫外線が照射され樹脂が高分子化されドロップレットが形成された部位とでは、液晶と樹脂との界面に差が生じ、それが画素部２０１と非画素部２０２とで形成されることにより、その界面は光学的に不連続となる。

このようにして得られた第３の部位１３３と第４の部位１３４を有する表示装置１は、光切り替え層１３０中の面内を伝搬する光を低減することができ、高品位な表示を得ることができる。

（第１５の実施例）
次に、本発明の第２の実施形態に係わる第１５の実施例について説明する。
図１９は、本発明の第２の実施形態に係わる第１５の実施例の表示装置１の断面図である。
第１の透明基板１１０は、第１の透明電極１１１である画素電極と、それに接続されたＴＦＴ素子１１５、カラーフィルタ、及びカラーフィルタ材料と樹脂材料が積層されて形成された基板間の間隙を決めるスペーサ１１６と、を有する。第１の透明基板１１０と第２の透明基板１２０との間には、ＰＤＬＣ層からなる光切り替え層１３０が設けられている。スペーサ１１６は、非画素部２０２に設けられており、各画素の周囲を一部の間隙を空けた枠状に形成されている。そしてスペーサ１１６に用いられる材料は、カラーフィルタを構成する３色の材料が積層され、さらに酸化チタン微粒子を含有する白色の感光性樹脂からなっている。本実施例においては、スペーサ１１６が第４の部位１３４となっており、また、画素部のＰＤＬＣ層が第３の部位１３３となっている。

第４の部位１３４は、ガラス基板上にＴＦＴを形成した後、カラーフィルタと基板間の間隙を決めるスペーサを形成する工程を利用して、光切り替え層１３０中に、各画素ごとに厚さ方向の光障壁を作ることができ、また、スペーサ材料に白い材料を使用することで、表示装置を視認した場合に明るい表示を簡便に作製できる。

また、第４の部位１３４は、非画素部２０２だけでなく、画素部２０１にも必要に応じて、その工程のほとんどを変えることなく形成することができる。
なお、本発明の表示装置に用いる基板として、例えば薄い透明基板に第１の部位１４１と第２の部位１４２を有したフィルム等の層を貼合した構成の基板、あるいは、薄い透明な２枚の基板間に第１の部位１４１と第２の部位１４２を有したフィルム等の層を挟んだ構成の基板を用いても良い。

以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、基板、電極、光切り替え層、低屈折率層、光吸収層を構成する各要素の具体的な寸法関係や材料に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。
また、各具体例のいずれか２つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。

例えば、本発明においては、基板表面に垂直な平面とは厳密なものではない。通常の表示素子における各種の膜・層が、基板表面に平行な面内に膜を形成するのに対して、本発明の具体例では、基板の厚み方向に層を形成することにより、基板中または光切り替え層を基板面内に伝搬する光を低減させる。この目的が発揮できる状態であるなら、第１の部位と第２の部位の界面、及び第３の部位と第４の部位の界面は基板表面に対して完全な垂直でなくても良く、斜めでも良く、各種の角度とすることができる。

また、散乱透過切り替え層としては、ＰＤＬＣ、ＰＮＬＣのように液晶とポリマーとの複合構造を持つ表示素子、液晶中に微粒子を混合させ電圧印加による液晶の配列状態の変化により散乱透過を切り替える表示素子、コレステリック−ネマティック相転移型の液晶表示素子、または、例えば櫛形電極を用い液晶の配列変化による周期的な屈折率変化を利用した回折効果型の散乱透過切り替え素子、例えばスメクチックＡ液晶などを用いた熱（レーザ）と電気信号を組み合わせた表示素子、など各種のものを用いることができる。
さらに、例えばロイコ染料を用いサーマルプリンタヘッドによって散乱透明状態を切り替える表示素子に応用しても良い。

また、上述した具体例においては、散乱状態と透過状態を切り替える表示素子について本発明を応用した例を参照したが、光の透過状態を切り替える素子の全般に応用できる。すなわち、例えば偏光板とねじれ配列ネマティック液晶を組み合わせたＴＮ型液晶表示素子においても、電圧オン状態と電圧オフ状態の画素電極とでは、画素電極の周辺部の液晶配列の乱れによる漏れ光に違いがあり、これが光クロストークとして発現し、表示の不均一性となり問題となることがある。この場合においても本発明の構成を適用することによってこの問題が解消することは明らかである。また、２色性染料混合液晶表示素子のように透明と吸収を切り替える素子の場合においても、透明状態と吸収状態の画素電極の周囲は漏れ光が異なり、この場合の不均一性を解消するために本発明を応用しても良い。さらに、マイクロカプセル電気泳動型、ツイストボール型、トナーディスプレイ型など、液晶を用いない表示素子に応用しても良い。

さらには、本発明は、散乱効果を用いない表示装置においても適用できる。すなわち、基板中や光切り替え層中の光伝搬により生じる表示ムラは、散乱状態と透過状態を切り替えるタイプの光切り替え層を有する表示装置の場合に、特に問題となる。しかし、散乱と透過を切り替える表示モード以外の他の表示モードであっても、複数の光学特性を同じ基板内で切り替えるためその界面で光散乱が生じて、問題となる場合があり、これに対しても本発明は有効であり、同様に適用できる。

その他、本発明の実施の形態として上述した表示装置を基にして、当業者が適宜設計変更して実施しうる全ての表示装置も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。

その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。

本発明の第１の実施の形態に係わる表示装置の断面構造を表す模式図である。 本発明の第１の実施形態の表示装置の模式平面図である。 本発明の第１の実施形態の表示装置の電極構成を示す平面図である。 本発明の第１の実施形態の表示装置及び比較例の表示装置の光学特性を示すグラフ図である。 （ａ）は、比較例の表示装置における散乱光の状態を表す模式断面である。 （ｂ）は、本発明の第１の実施形態の表示装置における散乱光の状態を示す模式断面図である。 本発明の第１の実施形態に係わる第２の実施例の表示装置の断面図である。 本発明の第１の実施形態に係わる第３の実施例の表示装置の断面図である。 本発明の第１の実施形態に係わる第４の実施例の表示装置の断面図である。 本発明の第１の実施形態に係わる第５の実施例の表示装置の断面図である。 本発明の第１の実施形態に係わる第６の実施例の表示装置の断面図である。 本発明の第１の実施形態に係わる第７の実施例の表示装置の断面図である。 本発明の第１の実施形態に係わる第８の実施例の表示装置に用いられる光学異方層の構成を示す模式斜視図である。 本発明の第１の実施形態に係わる第９の実施例の表示装置の断面図である。 本発明の第２の実施形態に係わる第１０の実施例の表示装置の断面図である。 本発明の第２の実施形態に係わる第１１の実施例の表示装置の断面図である。 本発明の第２の実施形態に係わる第１２の実施例の表示装置の断面図である。 本発明の第２の実施形態に係わる第１３の実施例の表示装置の断面図である。 本発明の第２の実施形態に係わる第１４の実施例の表示装置の断面図である。 本発明の第２の実施形態に係わる第１５の実施例の表示装置の断面図である。

符号の説明

１ 液晶表示装置
１１０ 第１の透明基板
１１１ 第１の透明電極
１２０ 第２の透明基板
１２１ 第２の透明電極
１３０ 光切り替え層
１３３ 第３の部位
１３４ 第４の部位
１３５ 界面
１４１ 第１の部位
１４２ 第２の部位
１４５ 界面
１５０ 低屈折率層
１６０ 光吸収層
１９０ シール剤
２０１ 画素部
２０２ 非画素部

Claims (6)

1. 第１の基板と、
   第２の基板と、
   前記第１の基板と前記第２の基板との間に挟持され、透過光を変化させる光切り替え層と、
   を備え、
   前記第１及び第２の基板と前記光切り替え層の少なくともいずれは、光学特性が互いに異なる第１の部位と、第２の部位と、を有し、
   前記第１の部位と第２の部位との界面は、前記基板の主面に対して略垂直であることを特徴とする表示装置。
2. 前記光学特性は、屈折率であることを特徴とする請求項１記載の表示装置。
3. 前記光学特性は、吸収率であることを特徴とする請求項１記載の表示装置。
4. 前記第１の部位と前記第２の部位との間に、光反射面が形成されてなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の表示装置。
5. 前記第１及び第２の部位は、前記第１の基板に設けられ、
   前記第１の部位は、ガラスであり、
   前記第２の部位は、空気であることを特徴とする請求項１記載の表示装置。
6. 前記光切り替え層は、高分子分散型液晶を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の表示装置。

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