JP2009043951A - 背面電子衝撃加熱装置 - Google Patents
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- Discharge Heating (AREA)
Abstract
【解決手段】背面電子衝撃加熱装置は、加熱容器1の天板となっている加熱プレート2の背後からフィラメント9で発生した電子を加速して衝突させて同加熱プレート2を加熱するものである。そして前記加熱プレート2の背後であって、フィラメント9に囲まれた位置に、前記加熱プレート2に向けて飛翔する電子を遮蔽する電子遮蔽体4を設けている。この電子遮蔽体4はフィラメント9と同電位とする。
【選択図】図1
Description
加熱容器1は、図示していない真空チャンバの中に設置され、この真空チャンバ内が真空とされることにより、前記加熱容器1の全体が真空空間の中に置かれる。
一般に熱が伝わる態様には、熱輻射、熱伝導、熱対流の3形態がある。しかし、真空中における電熱は熱輻射のみであり、大気中であっても、発熱体と加熱物とが至近にあると、実質的に熱輻射と熱伝導のみよる加熱が行われる。また、発熱体の温度が500℃以下の場合は、輻射熱による加熱は効果が無い等、加熱温度、加熱方式、温度分布等の条件により伝熱形態は様々である。
以下、本発明を実施するための最良の形態について、実施例をあげて詳細に説明する。
ステンレス鋼等の金属からなる下部フレーム6の上に加熱容器1が設置されている。この加熱容器1は、下面が開いた容器状のものであって、シリコンウエハ等の薄形板状の加熱物7を載せる天板が平坦な加熱プレート2となったものである。換言すると、加熱容器1は、加熱プレート2が天板となってその上面側が閉じられ、加熱プレート2の周囲の下方には、下面側が開口した円筒形状の周壁13が設けられている。加熱容器1の周壁13の下端部はフランジ状になっている。この加熱容器1は、図示してない真空チャンバの中に設置され、真空チャンバ内が減圧されることにより、加熱容器1の全体が真空空間となる。
このようにして、電子遮蔽体4の電位を可変することで、加熱プレート2の温度分布を任意に制御することが出来る。
2 加熱プレート
3 遮蔽板
4 電子遮蔽体
9 フィラメント
Claims (4)
- 加熱容器(1)の天板となっている加熱プレート(2)の背後からフィラメント(9)で発生した電子を加速して衝突させて同加熱プレート(2)を加熱する背面電子衝撃加熱装置において、前記加熱プレート(2)の背後であって、フィラメント(9)に囲まれた位置に、前記加熱プレート(2)の中央部に向けて飛翔する電子を遮蔽する電子遮蔽体(4)を設けたことを特徴とする背面電子衝撃加熱装置。
- 電子遮蔽体(4)はフィラメント(9)から加熱プレート(2)に向けて飛翔する電子を透過する細かい電子通過孔を分散して設けていることを特徴とする請求項1に記載の背面電子衝撃加熱装置。
- 加熱プレート(2)に対する電子遮蔽体(4)の電位を負電位から0電位若しくは正電位の間で可変し、加熱プレート(2)に向けて飛翔する電子量を制御して同加熱プレート(2)の温度分布を制御する請求項2に記載の背面電子衝撃加熱装置。
- 電子遮蔽体(4)は加熱プレート(2)に対する距離を可変調整出来るように設けられていることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の背面電子衝撃加熱装置。
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