JP2009043577A - カラー有機elディスプレイ及び電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】ホールブロック層を導入し、ホールを滞留させることで電流強度に対する発光強度を向上させる技術が知られている。この技術を積層発光素子に用いた場合、キャリアブロックにより特定の発光層からの発光強度が増し、発光色のバランスが崩れる恐れがある。
【解決手段】正孔トラップ性ドーパント及び/又は電子トラップ性ドーパントを印加電界と平行な方向に濃度分布を有するように配置する。この場合、キャリア調整層215内でドーパント濃度の最大値を与える領域が、キャリア調整層215中で正孔h+や電子を滞留させる実効的なブロック層として機能する。この実効的なブロック層の位置を制御することで、キャリア調整層215を挟持する有機発光層へのキャリア注入効率を制御でき、発光色のバランスが良いカラー有機ELディスプレイを提供できる。
【選択図】図5
【解決手段】正孔トラップ性ドーパント及び/又は電子トラップ性ドーパントを印加電界と平行な方向に濃度分布を有するように配置する。この場合、キャリア調整層215内でドーパント濃度の最大値を与える領域が、キャリア調整層215中で正孔h+や電子を滞留させる実効的なブロック層として機能する。この実効的なブロック層の位置を制御することで、キャリア調整層215を挟持する有機発光層へのキャリア注入効率を制御でき、発光色のバランスが良いカラー有機ELディスプレイを提供できる。
【選択図】図5
Description
本発明は、カラー有機ELディスプレイ及び電子機器に関する。
カラー有機ELディスプレイとして、R,G,B(R(赤),G(緑),B(青))三原色を含む白色光を発光させ、R,G,B三原色のカラーフィルタを用いてフルカラー表示を行う構造が知られている。ここで、白色光を発光させるための技術として、R,G,B三原色に対応した複数の発光層を積層し、それぞれの発光層からの光を重ね合わせることで白色光を得る構造が知られている。
これら複数の発光層をバランス良く発光させることで色バランスの良いディスプレイを得ることができる。そのため、カラー有機ELディスプレイを構成する有機EL素子の各色の発光強度のバランスを最適化し、かつ素子の電流効率を最大化させるべく技術開発が行われている。例えば特許文献1に示されるように、ホールブロック層を導入し、ホールを滞留させることで電流強度に対する発光強度を向上させる技術が知られている。
また、特許文献2に示されるように、発光層中に正孔トラップ性ドーパントと電子トラップ性ドーパントを混入し、再結合効率を上げる技術が知られている。
これら複数の発光層をバランス良く発光させることで色バランスの良いディスプレイを得ることができる。そのため、カラー有機ELディスプレイを構成する有機EL素子の各色の発光強度のバランスを最適化し、かつ素子の電流効率を最大化させるべく技術開発が行われている。例えば特許文献1に示されるように、ホールブロック層を導入し、ホールを滞留させることで電流強度に対する発光強度を向上させる技術が知られている。
また、特許文献2に示されるように、発光層中に正孔トラップ性ドーパントと電子トラップ性ドーパントを混入し、再結合効率を上げる技術が知られている。
特許文献1に示される技術を用いた場合、ホールブロック層よりも陽極側に位置する発光層の発光効率は向上するが、ホールブロック層よりも陰極側に位置する発光層の発光効率は低下する。そのため、発光効率が色毎に変わるおそれが生じる。発光効率が低い層(色)が生じた場合、他の層に流す駆動電流を増やして、他の層(色)を発光させる場合に生じる、主たる発光成分に付随して生じる、すそ引き分の発光で発光効率が低い層の発光分を補う必要が生じる。そのため、カラー有機ELディスプレイの寿命は低下する。
一方、特許文献2に示される技術を用いた場合、発光層中でのキャリア移動度は発光層に配置されたトラップ密度に対応して低下するため、より大きな駆動電圧が必要となり、電力効率が低下するおそれがある。また、発光層中に正孔トラップ性ドーパントと電子トラップ性ドーパントを混入することで発光に寄与しない無効再結合量が増加し、発光効率を落とすおそれがある。
また、トラップにキャリアが捕捉されることにより、トラップしたキャリアの数に比例して、発光層内のポテンシャル分布が変動する。すなわち、注入電流の大きさ(キャリア数)により発光状態が変動する。この現象により、発光効率は注入された電流に対して色毎に非線形を持って変動するおそれがある。このような発光層を用いてカラー有機ELディスプレイを構成した場合、輝度に対し色調が変動し、表示される画質が低下するという課題が発生する。
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
[適用例1]本適用例にかかるカラー有機ELディスプレイは、陽極及び陰極と、前記陽極及び前記陰極に狭持される複数の有機発光層と、複数の前記有機発光層に挟持される単一又は複数の領域に対し、少なくともその一領域に配置されるキャリア調整層と、前記キャリア調整層に配分される正孔トラップ性ドーパント及び/又は電子トラップ性ドーパントと、を含むことを特徴とする。
これによれば、正孔トラップ性ドーパント及び/又は電子トラップ性ドーパントの濃度を変更することで、キャリア調整層のポテンシャルを制御し、キャリア調整層を正孔や電子を滞留させるブロック層として適用することが可能となる。また、この場合、正孔、電子ブロック層のポテンシャル差を任意の値に制御することが可能となる。そのため、駆動電圧の上昇と、正孔、電子の滞留状態と、を最適化して制御することが可能となる。
[適用例2]上記適用例にかかるカラー有機ELディスプレイにおいて、前記正孔トラップ性ドーパント及び/又は前記電子トラップ性ドーパントは印加電界と平行な方向に濃度分布を有することを特徴とする。
これによれば、キャリア調整層でのドーパント濃度は分布を有するので、その端部又は、内部で濃度の最大値が発生する。この場合、濃度の最大値を与える領域が、キャリア調整層を正孔や電子を滞留させる実効的なブロック層として機能する。この実効的なブロック層の位置を制御することで、キャリア調整層を挟持する有機発光層へのキャリア注入効率を制御することが可能となり、色毎の発光効率を制御可能なカラー有機ELディスプレイを提供することが可能となる。
[適用例3]本適用例にかかる電子機器は、上記したカラー有機ELディスプレイを含むことを特徴とする。
この構成によれば、従来技術と比べ輝度に対する色再現性が高い電子機器を得ることができる。
(カラー有機ELディスプレイの構成)
以下、本実施形態にかかるカラー有機ELディスプレイについて、図面を参照して説明する。図1は、本実施形態のカラー有機ELディスプレイの配線構造を示す模式図である。カラー有機ELディスプレイ1は、スイッチング素子として薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下TFTと称する。)を用いている。例えばTFT122、TFT123を用いたアクティブマトリクス方式のものでは、複数の走査線101と、各走査線101に対して交差する方向に延びる複数の信号線102と、各信号線102に並列に延びる複数の電源線103とからなる配線構成を有すると共に、走査線101及び信号線102の各交点付近に、サブ画素40が設けられている。なお、サブ画素40は、後述する図3に示すカラーフィルタ200(R,G,B)(R(赤),G(緑),B(青))を含んでいる。
以下、本実施形態にかかるカラー有機ELディスプレイについて、図面を参照して説明する。図1は、本実施形態のカラー有機ELディスプレイの配線構造を示す模式図である。カラー有機ELディスプレイ1は、スイッチング素子として薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下TFTと称する。)を用いている。例えばTFT122、TFT123を用いたアクティブマトリクス方式のものでは、複数の走査線101と、各走査線101に対して交差する方向に延びる複数の信号線102と、各信号線102に並列に延びる複数の電源線103とからなる配線構成を有すると共に、走査線101及び信号線102の各交点付近に、サブ画素40が設けられている。なお、サブ画素40は、後述する図3に示すカラーフィルタ200(R,G,B)(R(赤),G(緑),B(青))を含んでいる。
信号線102には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを備えるデータ線駆動回路100が接続されている。また、走査線101には、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査線駆動回路80が接続されている。
サブ画素40の各々には、走査線101を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用のTFT122と、このスイッチング用のTFT122を介して信号線102と共有される画素信号を保持する保持容量113と、が含まれる。そして、保持容量113によって保持される画素信号がゲート電極に供給される駆動用のTFT123と、TFT123を介して電源線103に電気的に接続したときに当該電源線103から駆動電流が与えられる画素電極23と、この画素電極23と対向電極50との間に挟み込まれた有機EL素子17(R,G,B)とが設けられている。
次に、本実施形態のカラー有機ELディスプレイ1の具体的な態様を、図2を参照して説明する。ここで、図2はカラー有機ELディスプレイ1の構成を模式的に示す平面図である。
図2に示すように、基板20A上の実表示領域4には、R,G,Bに対応して設けられたサブ画素40がマトリクス状に規則的に配置される。
ここで、基板20Aは、基板本体20、及び基板本体20上に設けられた、例えば層間絶縁層等が配置されるカバー層21(後述する図4参照)を含む。
また、R,G,B各色のサブ画素40(R,G,B)は一つの基本単位となって表示単位画素41を構成している。また、サブ画素40(R,G,B)の各々は、TFT122,TFT123(共に図1参照)の動作に伴って、R,G,B各色の発光に対応する有機EL素子17(R,G,B)(図1参照)を備える構成を有している。
ここで、基板20Aは、基板本体20、及び基板本体20上に設けられた、例えば層間絶縁層等が配置されるカバー層21(後述する図4参照)を含む。
また、R,G,B各色のサブ画素40(R,G,B)は一つの基本単位となって表示単位画素41を構成している。また、サブ画素40(R,G,B)の各々は、TFT122,TFT123(共に図1参照)の動作に伴って、R,G,B各色の発光に対応する有機EL素子17(R,G,B)(図1参照)を備える構成を有している。
詳細については後述するが、本実施形態では有機EL素子17(R,G,B)(図1参照)の光を、各有機EL素子17(R,G,B)に対応するカラーフィルタ200(R,G,B)(後述する図3参照)を透過させることで、各サブ画素40(R,G,B)からR,G,Bの発光をそれぞれ得ることが可能となる。これによって表示単位画素41は、R,G,Bの発光を混色させてフルカラー表示を行う。
なお、本実施形態において画素部3(図中一点鎖線枠内)は、中央部分の実表示領域4(図中二点鎖線枠内)と、実表示領域4の周囲に配置されたダミー領域5(一点鎖線及び二点鎖線の間の領域)とに区画されている。そして、実表示領域4を挟むように、走査線駆動回路80が配置される。
また、実表示領域4上方には検査回路90が配置されている。検査回路90は、カラー有機ELディスプレイ1の作動状況を検査するための回路であって、例えば検査結果を外部に出力する検査情報出力手段(図示せず)を備え、製造途中や出荷時におけるカラー有機ELディスプレイの品質、欠陥の検査を行うことができるように構成されている。
(有機EL素子)
次に、図3、図4を参照して、カラー有機ELディスプレイ1の断面構造を説明する。図3はカラー有機ELディスプレイ1(図1参照)を構成する有機EL素子17(R,G,B)の模式断面図である。有機EL素子17(R,G,B)には各々対応するカラーフィルタ200(R,G,B)が与えられている。なお、説明の便宜上、図面上側を「上」と定義して以下の説明を行う。
次に、図3、図4を参照して、カラー有機ELディスプレイ1の断面構造を説明する。図3はカラー有機ELディスプレイ1(図1参照)を構成する有機EL素子17(R,G,B)の模式断面図である。有機EL素子17(R,G,B)には各々対応するカラーフィルタ200(R,G,B)が与えられている。なお、説明の便宜上、図面上側を「上」と定義して以下の説明を行う。
図4は、1つの色に対応する有機EL素子17を構成する積層構造を示す模式断面図である。以下に説明する有機EL素子17は、例えばカラーフィルタ200(R,G,B)を含めて構成されるカバー層21と、光透過可能な基板本体20を含む基板20A上に形成され、基板20A側に光を出射するいわゆるボトムエミッション構成を有している。
基板20A上には、ITOを用いてなる光学的に透明な陽極220が配置される。陽極220の層厚は、例えば100nm程度の値が用いられる。そして、陽極220上には、銅フタロシアニン(CuPc)を用いてなる正孔注入層219が配置される。正孔注入層219の層厚は、例えば10nm程度である。そして、正孔注入層219上には、例えば4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)]−N−フェニルアミノ]ビフェニル(α−NPD)を用いてなる正孔輸送層218が配置される。正孔輸送層218の層厚は、例えば40nm程度である。そして、正孔輸送層218上には、アルミキノリノール錯体(Alq3)+ルブレン(5,6,11,12−テトラフェニルテトラセン)+ジシアノメチレンピラン誘導体(DCM2)を用いてなる赤色発光層217が配置される。赤色発光層217の層厚は、例えば5nm程度である。そして、赤色発光層217上には、BH215+BD102(共に出光興産製)を用いた青色発光層216が配置される。青色発光層216の層厚は、例えば10nm程度である。
そして、青色発光層216上には、例えばHT320(出光興産製)をホストとして、正孔トラップ性ドーパント及び/又は電子トラップ性ドーパントが添加されるキャリア調整層215が配置される。
正孔トラップ性ドーパントとしては、イオン化ポテンシャルが比較的小さな化合物であることから、縮合環を有する芳香族アミン誘導体又はスチリルアミン誘導体が好ましく、例えば、図8に記載される化合物が好ましい。なお、図8中、Ar2〜Ar4は置換もしくは無置換の核炭素数6〜50の芳香族環、又は、置換もしくは無置換の核原子数5〜50の複素芳香族環であり、lは1〜4の整数である。lが2以上の場合、Ar3及びAr4はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。Ar2〜Ar4のうち少なくとも一つは、置換もしくは無置換の核炭素数10〜50の縮合芳香族環又はスチリル基を有する。
また、電子トラップ性ドーパントとしては、電子に対して安定であることから、置換もしくは無置換の核炭素数14〜50の縮合芳香族環化合物、又は核原子数5〜50の複素芳香族環化合物が好ましく、例えば、図9に記載される化合物が好ましい。なお、図9中、Ar5は核炭素数14〜50の芳香族環、もしくは核原子数5〜50の複素芳香族環であり、R2は置換基である。pは1〜6の整数、qは0〜30の整数である。pが2以上の場合、Ar5はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。qが2以上の場合、R2はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。キャリア調整層215の層厚は、例えば5nm程度である。
そして、キャリア調整層215の上には、BH215+GD206(共に出光興産製)が緑色発光層214として配置される。緑色発光層214の層厚は、例えば10nm程度である。そして、緑色発光層214上には、Alq3を用いてなる電子輸送層213が配置される。電子輸送層213の層厚は例えば20nm程度である。そして、電子輸送層213上には、フッ化リチウム(LiF)を用いてなる電子注入層212が配置される。電子注入層212の層厚は、例えば1nm程度である。そして、電子注入層212上にはアルミニウム(Al)を用いてなる陰極211が形成されており、層厚は、例えば100nm程度の厚さを有している。
(有機EL素子:正孔トラップ性ドーパントを用いる実施形態)
以下、キャリア調整層215が正孔トラップ性ドーパントを含む場合について説明を続ける。
図5は、赤色発光層217、青色発光層216、キャリア調整層215、緑色発光層214のエネルギーダイヤグラムである。ここで、キャリア調整層215は、正孔トラップ性ドーパントを含んでいる。そして、青色発光層216と緑色発光層214に挟まれる領域に位置し、かつ青色発光層216と接する端部に正孔トラップ性ドーパント濃度が最大値を取るよう配置されている。
以下、キャリア調整層215が正孔トラップ性ドーパントを含む場合について説明を続ける。
図5は、赤色発光層217、青色発光層216、キャリア調整層215、緑色発光層214のエネルギーダイヤグラムである。ここで、キャリア調整層215は、正孔トラップ性ドーパントを含んでいる。そして、青色発光層216と緑色発光層214に挟まれる領域に位置し、かつ青色発光層216と接する端部に正孔トラップ性ドーパント濃度が最大値を取るよう配置されている。
そのため、図5に示すように、青色発光層216とキャリア調整層215との界面には正孔h+に対する正孔バリア230が形成される。また、赤色発光層217と青色発光層216との界面にも正孔h+に対するバリアが形成され、さらにキャリア調整層215と緑色発光層214との界面にも正孔h+に対するバリアが形成される。そのため、赤色発光層217、青色発光層216、緑色発光層214がそれぞれ正孔h+に対するバリアを有し、正孔h+をせき止める構造が得られる。そのため、赤色発光、青色発光、そして緑色発光とを強度バランス良く発光させることができる。即ち、R,G,B全色をバランス良く発光させることができる。
R,G,Bのバランスが悪く、例えばGの発光強度が弱い場合には、RとBを強く発光させてRとBの発光成分に含まれるG成分をカラーフィルタにより抽出させて補正させることが必要となる。そのため、RとBとを構成する青色発光層216と赤色発光層217の寿命が縮まり、早期劣化を引き起こす。
本実施形態によれば、R,G,B全色をバランス良く発光させることができる。そのため、赤色発光層217、青色発光層216、緑色発光層214のいずれかの発光強度を無理に上げ、各波長の裾での発光を用いて色バランスをとる必要がなくなり、各発光層の寿命を長く保つことができる。
また、正孔h+が蓄積されている発光部では電子eの注入量により発光強度が支配される。そのため、発光強度は駆動電流強度に対して高い相関性を持ち、駆動電流強度の上昇に対して光強度は線形性を持って上昇するため、光強度の制御を容易に行うことができる。
また、発光部の位置変動が抑えられる(界面に限定される)。そのため、輝度を変動させる場合においても、色純度や色相の変動を抑えることが可能となる。従って、色再現性に優れた有機EL素子17を提供することが可能となる。
また、正孔トラップ性ドーパントの濃度は、キャリア調整層215の端部以外の場所で最大値を取っても良い。例えばキャリア調整層215の青色発光層216と接する端部から離れた場所で濃度の最大値を与えることで、青色発光層216と比べ緑色発光層214により多くの正孔を供給することが可能となり、正孔トラップ性ドーパントの濃度分布を調整することで色バランスを制御することができる。
また、キャリア調整層215中での正孔トラップ性ドーパント密度を略均一にしても良い。この場合には、正孔トラップ性ドーパント密度によりキャリア調整層215が有するポテンシャル高さを制御することができ、ポテンシャル高さにより発生するホールバリア特性と、有機EL素子17の駆動電圧とを制御することができ、発光効率の最適化が容易となる。
(有機EL素子:電子トラップ性ドーパントを用いる実施形態)
以下、キャリア調整層215が電子トラップ性ドーパントを含む場合について説明する。積層構造等は上記したものと同一であり、重複を避けるため記載を省略する。
図6は、赤色発光層217、青色発光層216、キャリア調整層215、緑色発光層214のエネルギーダイヤグラムである。ここで、キャリア調整層215は、電子トラップ性ドーパントを含んでいる。そして、青色発光層216と緑色発光層214に挟まれる領域に位置し、かつ青色発光層216と接する端部に電子トラップ性ドーパント濃度が最大値を取るよう配置されている。そのため、図6に示すように、青色発光層216とキャリア調整層215との界面には電子e-に対する電子バリア240が形成される。
以下、キャリア調整層215が電子トラップ性ドーパントを含む場合について説明する。積層構造等は上記したものと同一であり、重複を避けるため記載を省略する。
図6は、赤色発光層217、青色発光層216、キャリア調整層215、緑色発光層214のエネルギーダイヤグラムである。ここで、キャリア調整層215は、電子トラップ性ドーパントを含んでいる。そして、青色発光層216と緑色発光層214に挟まれる領域に位置し、かつ青色発光層216と接する端部に電子トラップ性ドーパント濃度が最大値を取るよう配置されている。そのため、図6に示すように、青色発光層216とキャリア調整層215との界面には電子e-に対する電子バリア240が形成される。
この場合、青色発光層216側に電子が蓄積されるため、青色発光層216の発光効率を向上させることができる。また、キャリア調整層215中での電子トラップ性ドーパントの濃度は、キャリア調整層215の端部以外の場所で最大値を取っても良い。例えばキャリア調整層215の青色発光層216と接する端部から離れた場所で濃度の最大値を与えることで、青色発光層216と比べ緑色発光層214により多くの電子を供給することが可能となり、電子トラップ性ドーパントの濃度分布を調整することで色バランスを制御することができる。
また、キャリア調整層215中での電子トラップ性ドーパント密度を略均一にしても良い。この場合には、電子トラップ性ドーパント密度によりキャリア調整層215が有するポテンシャル高さを制御することができ、ポテンシャル高さにより発生する電子バリア特性と、有機EL素子17の駆動電圧とを制御することができ、発光効率の最適化が容易となる。
(変形例)
上記した実施形態では、キャリア調整層215を青色発光層216と緑色発光層214により挟持される位置に配置したが、これは赤色発光層217と青色発光層216との間に配置しても良い。また、赤色発光層217、青色発光層216、緑色発光層214はこの順に配置される必要はなく、発光層の順序はランダムに設定しても良い。また、キャリア調整層215は1層のみ配置されているが、これは各発光層に挟まれる位置に配置することができ、三原色の発光層中に2層設けても良い。
また、本実施形態では、陽極220としてITOを用いる例について説明したが、陽極220は導電性がある透明な素材を用いることが可能であり例えば、SnO2、Sb含有SnO2、Al含有ZnOなどの酸化物や、Au、Pt、Ag、Cu又はこれらを含む合金などや、ポリチオフェン、ポリピロールなどの導電性樹脂材料を用いることが可能である。
上記した実施形態では、キャリア調整層215を青色発光層216と緑色発光層214により挟持される位置に配置したが、これは赤色発光層217と青色発光層216との間に配置しても良い。また、赤色発光層217、青色発光層216、緑色発光層214はこの順に配置される必要はなく、発光層の順序はランダムに設定しても良い。また、キャリア調整層215は1層のみ配置されているが、これは各発光層に挟まれる位置に配置することができ、三原色の発光層中に2層設けても良い。
また、本実施形態では、陽極220としてITOを用いる例について説明したが、陽極220は導電性がある透明な素材を用いることが可能であり例えば、SnO2、Sb含有SnO2、Al含有ZnOなどの酸化物や、Au、Pt、Ag、Cu又はこれらを含む合金などや、ポリチオフェン、ポリピロールなどの導電性樹脂材料を用いることが可能である。
また、正孔注入層219としてCuPcを用いる例について説明したが、これは、CuPcに代えて、4,4’,4’’−トリス(N,N−フェニル−3−メチルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(m−MTDATA)等を用いることが可能である。
また、正孔輸送層218としてα−NPDを用いる例について説明したが、これは低分子の正孔輸送材料としては、例えば、1,1−ビス(4−ジ−パラ−トリアミノフェニル)シクロへキサン、1,1’−ビス(4−ジ−パラ−トリルアミノフェニル)−4−フェニル−シクロヘキサンのようなアリールシクロアルカン系化合物、4,4’,4’’−トリメチルトリフェニルアミン、N,N,N’,N’−テトラフェニル−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン(TPD1)、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メトキシフェニル)−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン(TPD2)、N,N,N’,N’−テトラキス(4−メトキシフェニル)−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン(TPD3)、TPTE、4,4’,4’’−トリス(1−ナフチルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(1−TNATA)のようなアリールアミン系化合物、N,N,N’,N’−テトラフェニル−パラ−フェニレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラ(パラ−トリル)−パラ−フェニレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラ(メタ−トリル)−メタ−フェニレンジアミン(PDA)のようなフェニレンジアミン系化合物、カルバゾール、N−イソプロピルカルバゾール、N−フェニルカルバゾールのようなカルバゾール系化合物、スチルベン、4−ジ−パラ−トリルアミノスチルベンのようなスチルベン系化合物、OxZのようなオキサゾール系化合物、トリフェニルメタン、m−MTDATAのようなトリフェニルメタン系化合物、1−フェニル−3−(パラ−ジメチルアミノフェニル)ピラゾリンのようなピラゾリン系化合物、ベンジン(シクロヘキサジエン)系化合物、トリアゾールのようなトリアゾール系化合物、イミダゾールのようなイミダゾール系化合物、1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ジ(4−ジメチルアミノフェニル)−1,3,4,−オキサジアゾールのようなオキサジアゾール系化合物、アントラセン、9−(4−ジエチルアミノスチリル)アントラセンのようなアントラセン系化合物、フルオレノン、2,4,7,−トリニトロ−9−フルオレノン、2,7−ビス(2−ヒドロキシ−3−(2−クロロフェニルカルバモイル)−1−ナフチルアゾ)フルオレノンのようなフルオレノン系化合物、ポリアニリンのようなアニリン系化合物、シラン系化合物、1,4−ジチオケト−3,6−ジフェニル−ピロロ−(3,4−c)ピロロピロールのようなピロール系化合物、フローレンのようなフローレン系化合物、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリンのようなポルフィリン系化合物、キナクリドンのようなキナクリドン系化合物、フタロシアニン、銅フタロシアニン、テトラ(t−ブチル)銅フタロシアニン、鉄フタロシアニンのような金属又は無金属のフタロシアニン系化合物、銅ナフタロシアニン、バナジルナフタロシアニン、モノクロロガリウムナフタロシアニンのような金属又は無金属のナフタロシアニン系化合物、N,N’−ジ(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ジフェニル−ベンジジン、N,N,N’,N’−テトラフェニルベンジジンのようなベンジジン系化合物等を用いることができる。低分子系の材料を用いる場合、例えば蒸着法を用いて正孔輸送層218を形成することが可能となる。
一方、高分子系の正孔輸送材料としては、例えば、ポリアリールアミンのようなアリールアミン骨格を有するもの、フルオレン−ビチオフェン共重合体のようなフルオレン骨格を有するもの、フルオレン−アリールアミン共重合体のようなアリールアミン骨格及びフルオレン骨格の双方を有するもの、ポリ(N−ビニルカルバゾール)、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリチオフェン、ポリアルキルチオフェン、ポリヘキシルチオフェン、ポリ(p−フェニレンビニレン)、ポリチニレンビニレン、ピレンホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂又はその誘導体等を用いることができる。高分子系の正孔輸送材料を用いる場合には、スピンコート法やインクジェット法により正孔輸送層218を形成することが可能となる。
また、赤色発光層217、青色発光層216、緑色発光層214としてAlq3+ルブレン+DCM2、BH215(出光興産製)+BD102(出光興産製)、BH215(出光興産製)+GD206(出光興産製)を用いる例について説明している。この場合、これらの発光材料に代えて、例えば低分子の発光材料として、ジスチリルベンゼン(DSB)、ジアミノジスチリルベンゼン(DADSB)のようなベンゼン系化合物、ナフタレン、ナイルレッドのようなナフタレン系化合物、フェナントレンのようなフェナントレン系化合物、クリセン、6−ニトロクリセンのようなクリセン系化合物、ペリレン、N,N’−ビス(2,5−ジ−t−ブチルフェニル)−3,4,9,10−ペリレン−ジ−カルボキシイミド(BPPC)のようなペリレン系化合物、コロネンのようなコロネン系化合物、アントラセン、ビススチリルアントラセンのようなアントラセン系化合物、ピレンのようなピレン系化合物、4−(ジ−シアノメチレン)−2−メチル−6−(パラ−ジメチルアミノスチリル)−4H−ピラン(DCM)のようなピラン系化合物、アクリジンのようなアクリジン系化合物、スチルベンのようなスチルベン系化合物、2,5−ジベンゾオキサゾールチオフェンのようなチオフェン系化合物、ベンゾオキサゾールのようなベンゾオキサゾール系化合物、ベンゾイミダゾールのようなベンゾイミダゾール系化合物、2,2’−(パラ−フェニレンジビニレン)−ビスベンゾチアゾールのようなベンゾチアゾール系化合物、ビスチリル(1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン)、テトラフェニルブタジエンのようなブタジエン系化合物、ナフタルイミドのようなナフタルイミド系化合物、クマリンのようなクマリン系化合物、ペリノンのようなペリノン系化合物、オキサジアゾールのようなオキサジアゾール系化合物、アルダジン系化合物、1,2,3,4,5−ペンタフェニル−1,3−シクロペンタジエン(PPCP)のようなシクロペンタジエン系化合物、キナクリドン、キナクリドンレッドのようなキナクリドン系化合物、ピロロピリジン、チアジアゾロピリジンのようなピリジン系化合物、2,2’,7,7’−テトラフェニル−9,9’−スピロビフルオレンのようなスピロ化合物、フタロシアニン(H2Pc)、銅フタロシアニンのような金属又は無金属のフタロシアニン系化合物、フローレンのようなフローレン系化合物、トリス(4−メチル−8キノリノレート)アルミニウム(III)(Almq3)、8−ヒドロキシキノリン亜鉛(Znq2)、(1,10−フェナントロリン)−トリス−(4,4,4−トリフルオロ−1−(2−チエニル)−ブタン−1,3−ジオネート)ユーロピウム(III)(Eu(TTA)3(phen))、ファクトリス(2−フェニルピリジン)イリジウム(Ir(ppy)3)、2,3,7,8,12,13,17,18−オクタエチル−21H,23H−ポルフィンプラチナム(II)のような各種金属錯体等を用いることが可能である。
また、高分子の発光材料としては、例えば、トランス型ポリアセチレン、シス型ポリアセチレン、ポリ(ジ−フェニルアセチレン)(PDPA)、ポリ(アルキル,フェニルアセチレン)(PAPA)のようなポリアセチレン系化合物、ポリ(パラ−フェンビニレン)(PPV)、ポリ(2,5−ジアルコキシ−パラ−フェニレンビニレン)(RO−PPV)、シアノ−置換−ポリ(パラ−フェンビニレン)(CN−PPV)、ポリ(2−ジメチルオクチルシリル−パラ−フェニレンビニレン)(DMOS−PPV)、ポリ(2−メトキシ,5−(2’−エチルヘキソキシ)−パラ−フェニレンビニレン)(MEH−PPV)のようなポリパラフェニレンビニレン系化合物、ポリ(3−アルキルチオフェン)(PAT)、ポリ(オキシプロピレン)トリオール(POPT)のようなポリチオフェン系化合物、ポリ(9,9−ジアルキルフルオレン)(PDAF)、α,ω−ビス[N,N’−ジ(メチルフェニル)アミノフェニル]−ポリ[9,9−ビス(2−エチルヘキシル)フルオレン−2,7−ジル](PF2/6am4)、ポリ(9,9−ジオクチル−2,7−ジビニレンフルオレニル−オルト−コ(アントラセン−9,10−ジイル)のようなポリフルオレン系化合物、ポリ(パラ−フェニレン)(PPP)、ポリ(1,5−ジアルコキシ−パラ−フェニレン)(RO−PPP)のようなポリパラフェニレン系化合物、ポリ(N−ビニルカルバゾール)(PVK)のようなポリカルバゾール系化合物、ポリ(メチルフェニルシラン)(PMPS)、ポリ(ナフチルフェニルシラン)(PNPS)、ポリ(ビフェニリルフェニルシラン)(PBPS)のようなポリシラン系化合物等を用いることが可能である。
また、電子輸送層213としてAlq3を用いる例について説明したが、これは1,3,5−トリス[(3−フェニル−6−トリ−フルオロメチル)キノキサリン−2−イル]ベンゼン(TPQ1)、1,3,5−トリス[{3−(4−t−ブチルフェニル)−6−トリスフルオロメチル}キノキサリン−2−イル]ベンゼン(TPQ2)のようなベンゼン系化合物(スターバースト系化合物)、ナフタレンのようなナフタレン系化合物、フェナントレンのようなフェナントレン系化合物、クリセンのようなクリセン系化合物、ペリレンのようなペリレン系化合物、アントラセンのようなアントラセン系化合物、ピレンのようなピレン系化合物、アクリジンのようなアクリジン系化合物、スチルベンのようなスチルベン系化合物、BBOTのようなチオフェン系化合物、ブタジエンのようなブタジエン系化合物、クマリンのようなクマリン系化合物、キノリンのようなキノリン系化合物、ビスチリルのようなビスチリル系化合物、ピラジン、ジスチリルピラジンのようなピラジン系化合物、キノキサリンのようなキノキサリン系化合物、ベンゾキノン、2,5−ジフェニル−パラ−ベンゾキノンのようなベンゾキノン系化合物、ナフトキノンのようなナフトキノン系化合物、アントラキノンのようなアントラキノン系化合物、オキサジアゾール、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(PBD)、BMD、BND、BDD、BAPDのようなオキサジアゾール系化合物、トリアゾール、3,4,5−トリフェニル−1,2,4−トリアゾールのようなトリアゾール系化合物、オキサゾール系化合物、アントロンのようなアントロン系化合物、フルオレノン、1,3,8−トリニトロ−フルオレノン(TNF)のようなフルオレノン系化合物、ジフェノキノン、MBDQのようなジフェノキノン系化合物、スチルベンキノン、MBSQのようなスチルベンキノン系化合物、アントラキノジメタン系化合物、チオピランジオキシド系化合物、フルオレニリデンメタン系化合物、ジフェニルジシアノエチレン系化合物、フローレンのようなフローレン系化合物、フタロシアニン、銅フタロシアニン、鉄フタロシアニンのような金属又は無金属のフタロシアニン系化合物、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする錯体のような各種金属錯体等を用いることが可能である。また、オキサジアゾール系高分子(ポリオキサジアゾール)、トリアゾール系高分子(ポリトリアゾール)等の高分子系の材料を用いても良い。
また、電子注入層212としてLiFを用いる例について説明したが、これは無機絶縁材料としては、例えば、アルカリ金属カルコゲナイド(酸化物、硫化物、セレン化物、テルル化物)、アルカリ土類金属カルコゲナイド、アルカリ金属のハロゲン化物及びアルカリ土類金属のハロゲン化物等が挙げられ、これらのうちの1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。これらを主材料として電子注入層を構成することにより、電子注入性をより向上させることができる。アルカリ金属カルコゲナイドとしては、例えば、Li2O、LiO、Na2S、Na2Se、NaO等が挙げられる。アルカリ土類金属カルコゲナイドとしては、例えば、CaO、BaO、SrO、BeO、BaS、MgO、CaSe等が挙げられる。アルカリ金属のハロゲン化物としては、例えば、CsF、NaF、KF、LiCl、KCl、NaCl等が挙げられる。アルカリ土類金属のハロゲン化物としては、例えば、CaF2、BaF2、SrF2、MgF2、BeF2等が挙げられる。
また、無機半導体材料としては、例えば、Ba、Ca、Sr、Yb、Al、Ga、In、Li、Na、Cd、Mg、Si、Ta、Sb及びZnのうちの少なくとも1つの元素を含む酸化物、窒化物又は酸化窒化物等が挙げられ、これらのうちの1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
また、有機材料としては、例えば、8−ヒドロキシキノリン、オキサジアゾール、又は、これらの誘導体(例えば、8−ヒドロキシキノリンを含む金属キレートオキシノイド化合物)等が挙げられ、これらのうちの1種又は2種以上組み合わせて(例えば、複数層の積層体等として)用いることが可能である。
また、陰極211としてアルミニウム(Al)を用いる例について説明したが、これは、Li、Mg、Ca、Sr、La、Ce、Er、Eu、Sc、Y、Yb、Ag、Cu、Cs、Rb又は、これら及びAlを含む合金等が挙げられ、これらのうちの少なくとも1種を用いることができる。
(電子機器への搭載例)
以下、図7を参照して、上述したカラー有機ELディスプレイ1を含む電子機器について説明する。図7(a)に、カラー有機ELディスプレイ1を備えたモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す。パーソナルコンピュータ2000は、カラー有機ELディスプレイ1と本体部2010を備える。本体部2010には、電源スイッチ2001及びキーボード2002が設けられている。
以下、図7を参照して、上述したカラー有機ELディスプレイ1を含む電子機器について説明する。図7(a)に、カラー有機ELディスプレイ1を備えたモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す。パーソナルコンピュータ2000は、カラー有機ELディスプレイ1と本体部2010を備える。本体部2010には、電源スイッチ2001及びキーボード2002が設けられている。
図7(b)に、カラー有機ELディスプレイ1を備えた携帯電話機の構成を示す。携帯電話機3000は、複数の操作ボタン3001及びスクロールボタン3002、並びに表示ユニットとしてのカラー有機ELディスプレイ1を備える。スクロールボタン3002を操作することによって、カラー有機ELディスプレイ1に表示される画面がスクロールされる。
図7(c)に、カラー有機ELディスプレイ1を適用した情報携帯端末(PDA)の構成を示す。情報携帯端末4000は、複数の操作ボタン4001及び電源スイッチ4002、並びに表示ユニットとしてのカラー有機ELディスプレイ1を備える。電源スイッチ4002を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報がカラー有機ELディスプレイ1に表示される。
なお、カラー有機ELディスプレイ1が搭載される電子機器としては、図7に示すものの他、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、前述したカラー有機ELディスプレイ1が適用可能である。
1…カラー有機ELディスプレイ、3…画素部、4…実表示領域、5…ダミー領域、17…有機EL素子、20…基板本体、20A…基板、21…カバー層、23…画素電極、40…サブ画素、41…表示単位画素、80…走査線駆動回路、90…検査回路、100…データ線駆動回路、101…走査線、102…信号線、103…電源線、113…保持容量、122…TFT、123…TFT、200…カラーフィルタ、211…陰極、212…電子注入層、213…電子輸送層、214…緑色発光層、215…キャリア調整層、216…青色発光層、217…赤色発光層、218…正孔輸送層、219…正孔注入層、220…陽極、230…正孔バリア、240…電子バリア、2000…パーソナルコンピュータ、2001…電源スイッチ、2002…キーボード、2010…本体部、3000…携帯電話機、3001…操作ボタン、3002…スクロールボタン、4000…情報携帯端末、4001…操作ボタン、4002…電源スイッチ、h+…正孔、e-…電子。
Claims (3)
- 陽極及び陰極と、
前記陽極及び前記陰極に狭持される複数の有機発光層と、
複数の前記有機発光層に挟持される単一又は複数の領域に対し、少なくともその一領域に配置されるキャリア調整層と、
前記キャリア調整層に配分される正孔トラップ性ドーパント及び/又は電子トラップ性ドーパントと、を含むことを特徴とするカラー有機ELディスプレイ。 - 請求項1に記載のカラー有機ELディスプレイであって、前記正孔トラップ性ドーパント及び/又は前記電子トラップ性ドーパントは印加電界と平行な方向に濃度分布を有することを特徴とするカラー有機ELディスプレイ。
- 請求項1又は2に記載のカラー有機ELディスプレイを含むことを特徴とする電子機器。
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JP2007207509A JP2009043577A (ja) | 2007-08-09 | 2007-08-09 | カラー有機elディスプレイ及び電子機器 |
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---|---|---|---|---|
JP2005135600A (ja) * | 2003-10-28 | 2005-05-26 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス発光素子 |
JP2006172762A (ja) * | 2004-12-13 | 2006-06-29 | Toyota Industries Corp | 有機el素子 |
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2007
- 2007-08-09 JP JP2007207509A patent/JP2009043577A/ja not_active Withdrawn
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