JP2009037745A - 有機elパネル - Google Patents
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Abstract
【課題】表面を押圧しても非発光領域の生ずることのない信頼性の高いトップエミッション型の有機ELパネルを提供する。
【解決手段】少なくとも基板の上に形成された駆動回路及び画素部と、前記画素部において第一の電極、有機EL層、第二の電極をこの順に積層してなる有機EL素子と、前記有機EL素子を保護するために離間して設けられた封止ガラスとを有するトップエミッション型の有機ELパネルにおいて、前記封止ガラスの少なくとも前記画素部に対向する面の全域に凹凸が形成されていることを特徴とする。
【選択図】図1
【解決手段】少なくとも基板の上に形成された駆動回路及び画素部と、前記画素部において第一の電極、有機EL層、第二の電極をこの順に積層してなる有機EL素子と、前記有機EL素子を保護するために離間して設けられた封止ガラスとを有するトップエミッション型の有機ELパネルにおいて、前記封止ガラスの少なくとも前記画素部に対向する面の全域に凹凸が形成されていることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
本発明は有機エレクトロルミネッセンス素子(有機EL素子)を有する有機ELパネルに関するものであり、特に、保護カバーとして封止ガラスを用いたトップエミッション型の有機ELパネルに係わるものである。
有機EL素子及びそれを有する有機ELパネルの開発が盛んである。
有機EL素子は少なくとも一対の電極とその間に配置される有機EL層とから構成された素子である。
有機EL層は1層からなっている場合もあるし、またその機能が分離され、多層構成になっている場合もある。その有機EL層が、あるいはその少なくとも一層が発光する。
具体的には、ガラス基板上に有機発光層が二つの電極の間に挟まれており、前記有機発光層の光を外に取り出せるようにするために、電極の片方は透明のものが使われている。一般的にはITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)などの透明電極が使われている。更に前記有機発光層は封止部材によりカバーされ、外部駆動回路により電圧を印加することにより発光する。
以上の原理により発光する有機ELパネルは、視認性に優れ且つ発色性が多様であることから、車載用コンポや携帯電話等のディスプレイや表示素子に利用されている。
ところで、有機発光層の光をガラス基板側とは逆方向に取り出す、いわゆるトップエミッション方式の有機ELパネルは、ガラス基板側に光を取り出すボトムエミッション方式に比べ、光取り出し効率が高く、低消費電力で高輝度の発光が得られる。そのため、今後有望な形態である。
トップエミッション方式の有機EL素子を封止部材でカバーする場合は光取り出し側に封止部材が配される。そのため、封止部材は光の取り出しを妨げないようにするために透明である必要があり、一般的にはガラスが用いられる。
これらの特性を有する有機ELパネルではあるが、有機EL素子は一般に水分に対して極めて弱いという問題がよく知られている。一例としては、有機発光層を形成するガラス基板に封止部材を接着する際の環境雰囲気中に含まれる水分や、封止部材を接着する接着剤の欠陥部を透過してくる水分が有機EL素子中に浸入する。それにより、ダークスポットと称する非発光領域が発生し、発光が維持できなくなるといった課題がある。
この水分の影響による有機ELパネルの寿命低下に関する課題を解決するための方策として、ガラス基板と封止部材との間に吸湿剤を入れて封止する方法が知られている。図4は、このような有機ELパネルの代表的な模式的断面図である。この図に示すように有機ELパネルは、ガラス基板1、第一の電極2、有機EL層3、第二の電極4からなる有機EL素子を、吸湿剤7を設けた封止ガラス5と接着剤6とにより封止することで構成されている(特許文献1、2)。
しかしながら、前記のような構造を有する有機ELパネル表面の中心部付近を押圧すると封止ガラスが撓んで有機EL素子表面に接触し、その部分の素子が発光しなくなる場合があることが分かった。原因を解析した結果、封止ガラスと第二の電極とが密着した後、封止ガラスの撓みが元に戻る際に、第二の電極が有機EL層から剥がれることが原因であることが判明した。
本発明は、以上のような事情に鑑み、表面を押圧しても非発光領域の生ずることのない信頼性の高いトップエミッション型の有機ELパネルを提供することを目的とする。
上記目的を達成すべく本発明者は鋭意研究開発を重ねた結果、次のような手段が最良であることを見出した。すなわち上記課題を解決するための請求項1に記載の有機ELパネルは、
少なくとも基板の上に形成された駆動回路及び画素部と、前記画素部において第一の電極、有機EL層、第二の電極をこの順に積層してなる有機EL素子と、前記有機EL素子を保護するために離間して設けられた封止ガラスとを有するトップエミッション型の有機ELパネルにおいて、
前記封止ガラスの少なくとも前記画素部に対向する面の全域に凹凸が形成されていることを特徴とする。
少なくとも基板の上に形成された駆動回路及び画素部と、前記画素部において第一の電極、有機EL層、第二の電極をこの順に積層してなる有機EL素子と、前記有機EL素子を保護するために離間して設けられた封止ガラスとを有するトップエミッション型の有機ELパネルにおいて、
前記封止ガラスの少なくとも前記画素部に対向する面の全域に凹凸が形成されていることを特徴とする。
本発明によれば、封止ガラスの表面が押圧されて、封止ガラスと第二の電極とが接触しても、相互の接触面積が少ないので、第二の電極が封止ガラスに密着して有機EL層から剥がれることがない。よって、非発光領域の生ずることのない信頼性の高いトップエミッション型の有機ELパネルを提供することが可能となる。
本発明におけるトップエミッション型の有機ELパネルの模式的断面図を図1に示す。図1において、1はガラス基板、2は第一の電極、3は有機EL層、4は第二の電極、5は封止ガラス、6は接着剤、7は吸湿剤である。
まず、本発明における有機ELパネルを構成する各部材のうち、封止ガラス5について説明する。
封止ガラス5は有機EL素子基板8に接着剤6によって接着され、有機EL素子が直接外の雰囲気に晒されない構造になっている。
封止ガラス5の材料としては、例えば無アルカリガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラスなどを用いる。
封止ガラス5の少なくとも、有機EL素子基板8の画素部に対向する面の全域に凹凸が形成されている。そのため、封止ガラス5の表面が押圧されて、封止ガラス5と第二の電極4とが接触しても、相互の接触面積が少ないので、第二の電極4が封止ガラス5に密着して有機EL層3から剥がれることがない。よって、非発光領域の生ずることのない信頼性の高いトップエミッション型の有機ELパネルを提供することが可能となる。
凹凸の形成方法としては、ケミカルエッチング法やサンドブラスト法などがあるが、透過率の低下を抑制できる微細な凹凸を形成するためには、ケミカルエッチング法が好適である。
凹凸の最大高低差は100nm以上1000nm以下であることが望ましく、200nm以上600nm以下であることがより望ましい。凹凸が100nm未満であると、封止ガラス5の有機EL素子表面への密着を効果的に防ぐことができない。一方、1000nmを超えると透過光の散乱が大きくなり、封止ガラス5を通して発光を取り出すトップエミッション型の有機ELパネルでは十分な光取り出し効率を得られなくなる。
透過率として具体的には、凹凸が形成された面の空気をリファレンスとする平行光線透過率が、400nm以上800nm以下の全波長領域にわたって70%以上となるように凹凸を形成するのが望ましい。平行光線透過率が70%未満であると、光取り出し効率が低下するだけでなく、透過光の拡散によって発光画像のぼやけ・にじみが大きくなり、画質の低下が明らかとなる。
図2のように掘り込み部を設けた封止ガラス5を用いることも無論可能である。その場合はケミカルエッチングによる掘り込み部の形成後、続けて凹凸形成のためのケミカルエッチングを行えば容易に掘り込み部に凹凸のある封止ガラスを作製することができる。
次に、本発明の有機ELパネルの作製方法を図1を用いて説明する。
ガラス基板1上に配線やパネル駆動用トランジスタなどの駆動回路を形成した後、蒸着装置やスピンコーターなどの成膜装置により、第一の電極2、有機EL層3、第二の電極4をこの順に積層してなる画素部を形成し、有機EL素子基板8を作製する。
次いで、上述した方法で凹凸を形成した封止ガラス5上に吸湿剤7を配する。
その後、封止ガラス5又は有機EL素子基板8の少なくとも一方に接着剤6を供し、有機EL素子を保護するために離間して封止ガラス5を有機EL素子基板8の外周部に封着する。前記接着剤6としては、例えば、熱硬化性樹脂、紫外線硬化型樹脂、熱可塑性樹脂などが使用される。より具体的には、熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂を用いる。紫外線硬化型樹脂としては、アクリル樹脂、エポキシ樹脂を用いる。熱可塑性樹脂としては、ポリイソブチレン樹脂、イソブテン−イソプレン共重合体樹脂を用いるが、これらに限定されるものではない。
封着は、水分・酸素を除去した窒素雰囲気中で行われ、必要に応じて封着部を加熱しながら行われる。接着剤6が熱硬化性樹脂や紫外線硬化型樹脂の場合は、この後、熱処理や紫外線照射が実施される。
以下、本発明の有機ELパネルを具体的実施例に基づき詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変更することができる。
(第一の実施例)
本発明の第一の実施例を図3を用いて説明する。図3において、9はTFT回路が形成されたガラス基板、10は陽極(第一の電極)、11は有機EL層、12は陰極(第二の電極)、13は封止ガラス、14は接着剤、15は吸湿剤、16は素子分離膜、17は平坦化膜である。以下に、有機ELパネルの詳細な作製方法について述べる。
本発明の第一の実施例を図3を用いて説明する。図3において、9はTFT回路が形成されたガラス基板、10は陽極(第一の電極)、11は有機EL層、12は陰極(第二の電極)、13は封止ガラス、14は接着剤、15は吸湿剤、16は素子分離膜、17は平坦化膜である。以下に、有機ELパネルの詳細な作製方法について述べる。
[平坦化膜]
TFT回路が形成されたガラス基板9上にアクリル樹脂よりなる平坦化膜17をフォトリソグラフィー法にて形成し、前記TFT回路による凹凸を平坦にした。
TFT回路が形成されたガラス基板9上にアクリル樹脂よりなる平坦化膜17をフォトリソグラフィー法にて形成し、前記TFT回路による凹凸を平坦にした。
[Cr電極(画素電極)]
平坦化膜17が形成されたガラス基板9上にCrターゲットをDCスパッタし、陽極10として100nmの厚さにCr膜を成膜した。この際、成膜マスクを用いて、20μm×100μmの画素電極とした。スパッタはArガスを用いて、0.2Paの圧力、300Wの投入電力条件で行った。
平坦化膜17が形成されたガラス基板9上にCrターゲットをDCスパッタし、陽極10として100nmの厚さにCr膜を成膜した。この際、成膜マスクを用いて、20μm×100μmの画素電極とした。スパッタはArガスを用いて、0.2Paの圧力、300Wの投入電力条件で行った。
[大気開放]
基板をスパッタ装置より取り出してアセトン、イソプロピルアルコール(IPA)で順次超音波洗浄し、次いでIPAで煮沸洗浄後乾燥した。さらに、UV/オゾン洗浄した。
基板をスパッタ装置より取り出してアセトン、イソプロピルアルコール(IPA)で順次超音波洗浄し、次いでIPAで煮沸洗浄後乾燥した。さらに、UV/オゾン洗浄した。
[素子分離膜]
各画素を分離するために、ポリイミド樹脂よりなる素子分離膜16をフォトリソグラフィー法にて形成した。
各画素を分離するために、ポリイミド樹脂よりなる素子分離膜16をフォトリソグラフィー法にて形成した。
[前処理]
有機EL蒸着装置へ移し、真空排気し、前処理室で基板付近に設けたリング状電極に50WのRF電力を投入し酸素プラズマ洗浄処理を行った。酸素圧力は0.6Pa、処理時間は40秒であった。
有機EL蒸着装置へ移し、真空排気し、前処理室で基板付近に設けたリング状電極に50WのRF電力を投入し酸素プラズマ洗浄処理を行った。酸素圧力は0.6Pa、処理時間は40秒であった。
[正孔輸送層]
基板を前処理室より成膜室へ移動し、成膜室を、1×10E(−4)Paまで排気した後、正孔輸送性を有するαNPDを抵抗加熱蒸着法により成膜速度0.2〜0.3nm/secの条件で成膜し、膜厚35nmの正孔輸送層を形成した。なお、正孔輸送層、発光層、および電子注入層は、同一の蒸着マスクを用いることにより所定の部分に蒸着した。所定の部分とは基板上で、画素電極であるCrが露出している部分である。
基板を前処理室より成膜室へ移動し、成膜室を、1×10E(−4)Paまで排気した後、正孔輸送性を有するαNPDを抵抗加熱蒸着法により成膜速度0.2〜0.3nm/secの条件で成膜し、膜厚35nmの正孔輸送層を形成した。なお、正孔輸送層、発光層、および電子注入層は、同一の蒸着マスクを用いることにより所定の部分に蒸着した。所定の部分とは基板上で、画素電極であるCrが露出している部分である。
[発光層]
正孔輸送層上にアルキレート錯体であるAlq3を抵抗加熱蒸着法により正孔輸送層と同様の成膜条件で成膜し、膜厚15nmの発光層を形成した。
正孔輸送層上にアルキレート錯体であるAlq3を抵抗加熱蒸着法により正孔輸送層と同様の成膜条件で成膜し、膜厚15nmの発光層を形成した。
[電子注入層]
発光層上に抵抗加熱共蒸着法によりAlq3と炭酸セシウム(Cs2CO3)とを膜厚比9:1の割合で混合されるように、各々の蒸着速度を調整して成膜し、膜厚35nmの電子注入層を形成した。詳しくは、それぞれの蒸着ボートに入れた材料を抵抗加熱方式で蒸発させ、それぞれのボート電流値を調整することで、あわせて0.5nm/secの蒸着速度で膜形成を行った。
発光層上に抵抗加熱共蒸着法によりAlq3と炭酸セシウム(Cs2CO3)とを膜厚比9:1の割合で混合されるように、各々の蒸着速度を調整して成膜し、膜厚35nmの電子注入層を形成した。詳しくは、それぞれの蒸着ボートに入れた材料を抵抗加熱方式で蒸発させ、それぞれのボート電流値を調整することで、あわせて0.5nm/secの蒸着速度で膜形成を行った。
こうして、正孔輸送層、発光層、電子注入層よりなる有機EL層11を形成した。
[陰極(透明導電膜)]
別の成膜室に基板を移し、電子注入層及び素子分離膜の上にITOターゲットを用いてDCマグネトロンスパッタリング法により、膜厚が130nmになるように成膜し、ITOよりなる陰極12を形成した。
別の成膜室に基板を移し、電子注入層及び素子分離膜の上にITOターゲットを用いてDCマグネトロンスパッタリング法により、膜厚が130nmになるように成膜し、ITOよりなる陰極12を形成した。
[封止ガラス]
厚さ0.7mmの無アルカリガラスをレジストによってマスクした後、フッ酸によるケミカルエッチングによって深さ0.3mmの掘り込み部を形成した。続けて溶液組成などの処理条件を変えて同様にフッ酸でケミカルエッチングすることにより、掘り込み部に凹凸を形成した封止ガラス13を作製した。この凹凸の最大高低差は約400nmであり、凹凸部の空気をリファレンスとする平行光線透過率は400nm以上800nm以下の全波長領域にわたって80%以上であった。
厚さ0.7mmの無アルカリガラスをレジストによってマスクした後、フッ酸によるケミカルエッチングによって深さ0.3mmの掘り込み部を形成した。続けて溶液組成などの処理条件を変えて同様にフッ酸でケミカルエッチングすることにより、掘り込み部に凹凸を形成した封止ガラス13を作製した。この凹凸の最大高低差は約400nmであり、凹凸部の空気をリファレンスとする平行光線透過率は400nm以上800nm以下の全波長領域にわたって80%以上であった。
また、溶液組成、処理時間などの条件を変えて凹凸の最大高低差が約100nm、約1000nmの封止ガラスも作製した。これら封止ガラスの凹凸部の空気をリファレンスとする平行光線透過率は400nm以上800nm以下の全波長領域にわたってそれぞれ86%以上、70%以上であった。
[吸湿剤]
封止ガラス13の掘り込み部外周に酸化ストロンチウム粒子を分散させたシート状の吸湿剤15を粘着剤で貼り付けた。
封止ガラス13の掘り込み部外周に酸化ストロンチウム粒子を分散させたシート状の吸湿剤15を粘着剤で貼り付けた。
[封止]
作製した有機EL素子基板と封止ガラスとを封着する封止工程に移る。
作製した有機EL素子基板と封止ガラスとを封着する封止工程に移る。
封止ガラス13の外周部の土手にディスペンサーにて紫外線硬化型エポキシ接着剤14を塗布し、封止ガラス13を有機EL素子基板に貼り付けた。次いで、紫外線を照射してエポキシ接着剤の一次硬化過程を実施し、さらに80℃で30分の加熱処理による二次硬化過程を実施して有機EL素子を封止ガラス13で封止した。
なお、上記吸湿剤形成工程、封止工程は、水分濃度、酸素濃度を共に1ppm以下に制御したグローブボックス内で行い、工程中の水分、酸素による有機ELパネルへの影響を最小限にするように配慮した。
[実装工程]
最後に有機EL素子を駆動させるための駆動回路に電力を供給するフレキシブルプリント配線板(FPC)の実装を行った。すなわち、有機EL素子の電気信号入出力電極にFPCを異方性導電性フィルム(ACF)で熱圧着を行い、有機ELパネルを完成させた。
最後に有機EL素子を駆動させるための駆動回路に電力を供給するフレキシブルプリント配線板(FPC)の実装を行った。すなわち、有機EL素子の電気信号入出力電極にFPCを異方性導電性フィルム(ACF)で熱圧着を行い、有機ELパネルを完成させた。
以上のような工程によって作製した有機ELパネルに対して面押強度試験を行った。すなわち、凹凸の最大高低差約100nm、約400nm、約1000nmの封止ガラスで封止したそれぞれのパネルを平らで硬い板の上に戴置し、Φ12.7mmの円柱の鉄棒を49Nの荷重でパネル表面の中央に押しつけた。試験後、外観を光学顕微鏡で観察した。その結果、いずれのパネルも変化は認められず、また、面押強度試験前後でパネルを発光させたところ、試験後も試験前同様に発光した。
(比較例)
封止ガラスの掘り込み部に凹凸を形成しないこと以外は全く同様にして有機ELパネルを作製した。
封止ガラスの掘り込み部に凹凸を形成しないこと以外は全く同様にして有機ELパネルを作製した。
このパネルに対して実施例と同様に面押強度試験を行ったところ、試験後にパネルの押圧された部分の画素の一部で非点灯が発生した。試験後のパネルを光学顕微鏡で観察したところ、非点灯の画素において陰極の剥離が認められた。
1 ガラス基板
2 第一の電極
3、11 有機EL層
4 第二の電極
5 、13 封止ガラス
6、14 接着剤
7、15 吸湿剤
8 有機EL素子基板
9 TFT回路を形成したガラス基板
10 陽極
12 陰極
16 素子分離膜
17 平坦化膜
2 第一の電極
3、11 有機EL層
4 第二の電極
5 、13 封止ガラス
6、14 接着剤
7、15 吸湿剤
8 有機EL素子基板
9 TFT回路を形成したガラス基板
10 陽極
12 陰極
16 素子分離膜
17 平坦化膜
Claims (2)
- 少なくとも基板の上に形成された駆動回路及び画素部と、前記画素部において第一の電極、有機EL層、第二の電極をこの順に積層してなる有機EL素子と、前記有機EL素子を保護するために離間して設けられた封止ガラスとを有するトップエミッション型の有機ELパネルにおいて、
前記封止ガラスの少なくとも前記画素部に対向する面の全域に凹凸が形成されていることを特徴とする有機ELパネル。 - 前記凹凸はガラスのケミカルエッチング法によって形成されていることを特徴とする請求項1に記載の有機ELパネル。
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JP2013201023A (ja) * | 2012-03-24 | 2013-10-03 | Toshiba Corp | 有機電界発光素子、照明装置及び有機電界発光素子の製造方法 |
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-
2007
- 2007-07-31 JP JP2007198527A patent/JP2009037745A/ja active Pending
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US9125279B2 (en) | 2012-03-24 | 2015-09-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Organic electroluminescent device, luminaire device, and method for manufacturing organic electroluminescent device |
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