JP2009027027A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 半導体基板1の表面に不純物拡散層を形成する工程を含む半導体装置の製造方法であって、前記不純物拡散層を形成する工程は、M1x M2y (y/x≦1.2、ここでxはM1の比率、yはM2の比率、M1は半導体基板1に対してアクセプタまたはドナーとなる物質、M2は前記半導体基板に対してアクセプタまたはドナーにならない物質(半導体基板1を構成する半導体は除く。))を有する物質3を半導体基板1に照射する工程と、半導体基板1を光により加熱する工程とを含むことを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
T. Ito et al., Paper No. S4-3, Ext. Abs. the 5th international Workshop on Junction Technology 2005.
図1−図2は、第1の実施形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための断面図である。
図6は、本発明の第2の実施形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための断面図である。なお、既出の図と対応する部分には既出の図と同一符号を付してあり、構成、効果、変形例等の詳細な説明は省略する(以下、同様)。
図7および図8は、本発明の第3の実施形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための断面図である。
図9−図14は、本発明の第3の実施形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための断面図である。図9−図14において、左側はnMOS形成領域(図では単にnMOSと表記)、右側はpMOS形成領域(図では単にpMOSと表記)を示している。
p型シリコン基板31のnMOS形成領域内にpウェル層32が形成され、pMOS形成領域内にnウェル層33が形成される。STIプロセスにより、素子分離領域34が形成される。素子分離領域34は、nおよびpMOS形成領域に形成されるnおよびpチャネルMOSトランジスタのアクティブエリアの周囲に形成される。p型シリコン基板31の表面にゲート絶縁膜35が形成される。ゲート絶縁膜35は、例えば、シリコン酸化膜である。
ゲート絶縁膜35上にゲート電極36となる多結晶シリコン膜を形成し、この多結晶シリコン膜をRIE(Reactive Ion Etching)プロセスにより加工することにより、ゲート電極36が形成される。
pMOS形成領域をフォトレジスト膜37でマスクして、かつ、nMOS形成領域のゲート電極36をマスクに用いて、第1の実施形態と同様に、不純物3(n型)を照射して不純物層を形成し、その後、不純物層に対してアニールを施すことにより、nMOS形成領域には素子分離領域34に接したn型エクステンション38が形成される。この後、フォトレジスト膜37が除去される。
nMOS形成領域をフォトレジスト膜39でマスクして、かつ、pMOS形成領域のゲート電極36をマスクに用いて、第1の実施形態と同様に、不純物3(p型)を照射して不純物層を形成し、その後、不純物層に対してアニールを施すことにより、pMOS形成領域には素子分離領域34に接したp型エクステンション40が形成される。
ゲート電極36の側壁に、第1の側壁スペーサ41、第2の側壁スペーサ42を含む多層構造の側壁スペーサが形成される。この側壁スペーサは以下のようにして形成される。まず、LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition)プロセスにより、第1の側壁スペーサ41となるシリコン酸化膜、第2の側壁スペーサ42となるシリコン窒化膜が全面に順次堆積される。その後、RIEプロセスにより、上記シリコン酸化膜および上記シリコン窒化膜をエッチングし、これらをゲート電極36の側壁に残置させることにより、第1および第2のスペーサ41,42が得られる。
pMOS形成領域を図示しないフォトレジスト膜でマスクして、ゲート電極36と側壁スペーサ41,42をマスクとして、イオン注入プロセスにより、nMOS形成領域にn型不純物(V族原子)、例えばPを注入し、その後、アニールによりイオン注入されたn型不純物を活性化することにより、ゲート電極36の端部から離間し、素子分離領域34およびn型エクステンション38に接したn型ソース/ドレイン領域43が形成される。n型不純物のイオン注入の条件は、例えば、加速エネルギー:10keV、ドーズ量:5×1015cm-2である。なお、上記n型不純物は、nMOS形成領域のゲート電極36中にも注入される。
Claims (6)
- 半導体基板の表面に不純物拡散層を形成する工程を含む半導体装置の製造方法であって、
前記不純物拡散層を形成する工程は、
M1x M2y (y/x≦1.2、ここでxはM1の比率、yはM2の比率、M1は前記半導体基板に対してアクセプタまたはドナーとなる物質、M2は前記半導体基板に対してアクセプタまたはドナーにならない物質(前記半導体基板を構成する半導体は除く。))を有する物質を前記半導体基板に照射する工程と、
前記半導体基板を光により加熱する工程と
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記M1x M2y を有する物質を前記半導体基板に照射する工程において、前記M1x M2y を有する物質は、前記半導体基板の上方に離間して配置されたステンシルマスクまたはシャッターの開口部分を介して、前記半導体基板の所定の領域に選択的に照射され、
前記半導体基板を光により加熱する工程において、前記半導体基板の全体が加熱されることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記M1x M2y を有する物質を前記半導体基板に照射する工程において、前記M1x M2y を有する物質は、前記半導体基板の前記不純物拡散層が形成される領域および前記半導体基板の前記不純物拡散層が形成されない領域に照射され、
前記半導体基板を光により加熱する工程において、前記半導体基板の前記不純物拡散層が形成される領域が選択的に加熱されることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記M1x M2y を有する物質を前記半導体基板に照射する工程において、前記M1x M2y を有する物質は200eV以下のエネルギーで前記半導体基板に照射され、かつ、前記半導体基板を光により加熱する工程において、前記半導体基板の加熱時間が100ミリ秒以下であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれ1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記M1はB、Ga、In、P、AsおよびSbの中から選択された1つであり、M2はHおよびFの少なくとも一方であることを特徴とする請求項1ないし4のいずれ1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記物質はさらにM3を有し、前記M3を有する前記物質はM1x M2y M3z (M3は前記物質中においてM2よりも構成量が少ない元素、zはM3の比率、y>z)で表され、かつ、M2およびM3はH、FおよびCから選ばれた二つであることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
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