JP2009013251A - 蛍光体積層膜の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】少なくとも、硫化亜鉛化合物を母体材料とする膜と、酸素欠損を有する金属酸化物膜と、を積層して、積層膜を形成する第1工程と、前記積層膜を大気圧の下で熱処理して、蛍光体積層膜を形成する第2工程と、を少なくとも有することを特徴とする蛍光体積層膜の製造方法。
【選択図】図1
Description
本実施例は、硫化亜鉛化合物を母体材料とする膜と、酸素欠損を有する金属酸化物膜と、を積層して、積層膜を形成する第1工程と、前記積層膜を大気圧の下で熱処理して蛍光体積層膜を形成する第2工程を有する、蛍光体積層膜の製造方法の第1の例である。
本比較例においては、実施例1における金属酸化物膜の作製条件を変えることで、%Trの値の異なる金属酸化物膜を作製した。すなわち、酸素欠損の度合いが異なっている金属酸化物膜を作製した。
本実施例は、硫化亜鉛化合物を母体材料とする膜と、酸素欠損を有する金属酸化物膜と、を積層して、積層膜を形成する第1工程と、前記積層膜を大気圧の下で熱処理して蛍光体積層膜を形成する第2工程を有する、蛍光体積層膜の製造方法の第2の例である。
本実施例は、本発明の蛍光体積層膜を用いてなる電圧駆動型の発光素子に関する。
本実施例は、本発明の蛍光体積層膜を用いてなる電流注入型の発光素子に関する。
本実施例は、本発明の蛍光体積層膜を用いてなる電流注入型の発光素子の別様態に関する。
2 基板ヒータ
3 基板
4 基板回転
5 材料供給
6 材料供給源
7 赤外線ランプ
8 石英ガラス管
9 気体流量計
10 真空排気系へ
11 ガスバルブ
40 交流電源
41 基板
42 下部電極
43 金属酸化物膜
44 硫化亜鉛化合物を母体材料とする膜
45 透明電極
46 上部の金属酸化物膜
47 熱処理後の硫化亜鉛化合物を母体材料とする膜
50 直流電源
51 陽極
52 p型基板
53 p型金属酸化物膜
60 陰極
61 n型基板
62 n型金属酸化物膜
Claims (9)
- 少なくとも、硫化亜鉛化合物を母体材料とする膜と、酸素欠損を有する金属酸化物膜と、を積層して、積層膜を形成する第1工程と、
前記積層膜を大気圧の下で熱処理して、蛍光体積層膜を形成する第2工程と、
を少なくとも有することを特徴とする蛍光体積層膜の製造方法。 - 前記第1工程における金属酸化物膜の形成は、真空蒸着法により、100℃以上400℃以下の基板温度、1×10−2Pa以下の圧力、5nm/分以上60nm/分以下の成膜速度で行われることを特徴とする請求項1に記載の蛍光体積層膜の製造方法。
- 前記第2工程における熱処理は、温度が500℃以上800℃以下、時間が10秒以上30分以下で行われることを特徴とする請求項1または2に記載の蛍光体積層膜の製造方法。
- 前記硫化亜鉛化合物を母体材料とする膜は、硫化亜鉛化合物中に添加元素として、Ag、Cu、Auから選ばれる少なくとも一つの元素を含むことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の蛍光体積層膜の製造方法。
- 前記金属酸化物膜は、Al、Zn、Cuから選ばれる少なくとも一つの金属を含む酸化物であることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の蛍光体積層膜の製造方法。
- 前記金属酸化物膜は、Alの酸化物であることを特徴とする請求項5に記載の蛍光体積層膜の製造方法。
- 少なくとも、硫化亜鉛化合物を母体材料とする膜と、酸素欠損を有する金属酸化物膜と、が積層してなる蛍光体積層膜であって、
請求項1から6のいずれか1項に記載の方法で製造されたことを特徴とする蛍光体積層膜。 - 前記酸素欠損を有する金属酸化物膜の光透過率((300nmにおける光透過率)/(600nmにおける光透過率))は、38.2%以上82.5%以下であることを特徴とする請求項7に記載の蛍光体積層膜。
- 請求項7または8に記載の蛍光体積層膜を用いてなることを特徴とする発光素子。
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