JP2008530433A - 分子ドラッグ真空ポンプ用バッフル構造 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】分子ドラッグコンプレッサ22は、軸の周りに回転するように駆動シャフト34、106に連結されたロータディスク30、100と、ロータディスクの周囲に配置されて、接線流チャネル110、112と、接線流チャネルへの入口115と接線流チャネルからの出口120とを規定しているステータ32、102、104と、出口に近い接線流チャネル内に設けられた固定バッフル114とを含む。バッフル114とロータディスク30、100との間には空隙が形成されている。ロータディスクに面したバッフルの表面には、バッフル114とロータディスク30、100との間の空隙を通るガス乱流を生じさせ、それによって漏洩を低減するように構成されたキャビティ330が設けられている。
【選択図】図1
Description
本発明が組み込まれるのに適した一体型高真空ポンプが図1に示されている。ハウジング10は、吸気口14と排気口16とを有する内部チャンバ12を規定している。ハウジング10は、排気されるべき真空チャンバ(図示せず)への吸気口14を密閉する真空フランジ18を含む。排気口16は典型的には粗真空ポンプ(図示せず)に連結されている。真空ポンプが大気圧にまで排気できる場合には、粗ポンプは不要である。ハウジング10内には、典型的には数個の軸流ターボ分子ステージを含む軸流ターボ分子コンプレッサ20と、典型的には数個の分子ドラッグステージを含む分子ドラッグコンプレッサ22とが配置されている。一般に、軸流ターボ分子コンプレッサ20は1個以上の軸流ターボ分子ステージを含んでおり、分子ドラッグコンプレッサ22は1個以上の分子ドラッグステージを含んでいる。
キャビティ330の形は、空隙332の大きさ、すなわちロータディスク300とバッフル320の表面324との間の間隔によって決まる。空隙332は典型的には0.125〜0.250mmの範囲であるが、この範囲には限定されない。キャビティ330の全面積は、好ましくはロータディスク300に面する表面324の30〜70パーセントの範囲である。キャビティ330は、好ましくはバッフル320とロータディスク300との間の空隙の1〜10倍の大きさを有する。キャビティの横方向の大きさに対する典型的な深さの比は、好ましくは1に近いが、重大な影響がなければ1よりも大きくしてもよい。
Claims (17)
- 軸の周りに回転するように駆動シャフトに結合されたロータディスクと、
前記ロータディスクの周囲に配置されて、接線流チャネルと、前記接線流チャネルへの入口と、前記接線流チャネルからの出口とを規定しているステータと、
前記出口に近接した前記接線流チャネル内に設けられた固定バッフルであって、当該バッフルと前記ロータディスクとの間には空隙が形成されており、前記ロータディスクに面した当該バッフルの表面には、当該バッフルと前記ロータディスクとの間の前記空隙を通るガス乱流を生じさせ、それによって漏洩を低減するように構成されたキャビティが設けられている、固定バッフルとを含む、分子ドラッグコンプレッサ。 - 前記バッフルに設けられた前記キャビティは、断面が正方形、長方形、三角形、半円形または半楕円形である、請求項1に記載の分子ドラッグコンプレッサ。
- 前記バッフルに設けられた前記キャビティは、前記キャビティの横方向の大きさに等しいかそれよりも大きい深さを有している、請求項1に記載の分子ドラッグコンプレッサ。
- 前記バッフルに設けられた前記キャビティは、ディスクの回転方向に大略的に直角の2列以上のキャビティの列として構成されている、請求項1に記載の分子ドラッグコンプレッサ。
- 前記キャビティの列は、前記ディスクの回転方向に直角に互い違いに配置されている、請求項4に記載の分子ドラッグコンプレッサ。
- 前記キャビティは、前記ロータディスクに面している前記バッフルの前記表面の30〜70パーセントに及んでいる、請求項1に記載の分子ドラッグコンプレッサ。
- 前記バッフルに設けられた前記キャビティは、前記バッフルと前記ロータディスクとの間の空隙の1〜10倍の大きさを有する、請求項1に記載の分子ドラッグコンプレッサ。
- 軸を有するポンプハウジングと、
前記ハウジング内に配置され、かつモータ駆動シャフトに結合されている軸流ターボ分子コンプレッサと、
前記ハウジング内に配置され、かつ前記モータ駆動シャフトに結合されている分子ドラッグコンプレッサであって、少なくとも1つの分子ドラッグポンピングステージを含む分子ドラッグコンプレッサとを含み、
前記少なくとも1つの分子ドラッグポンピングステージが、
軸の周りに回転するように前記モータ駆動シャフトに結合されたロータデ ィスクと、
前記ロータディスクの周囲に配置されて、接線流チャネルと、前記接線流チャネルへの入口と、前記接線流チャネルからの出口とを規定しているステータと、
前記出口に近接した前記接線流チャネル内に設けられた固定バッフルであって、当該バッフルと前記ロータディスクとの間には空隙が形成されており、前記ロータディスクに面した当該バッフルの表面には、当該バッフルと前記ロータディスクとの間の前記空隙を通るガス乱流を生じさせ、それによって漏洩を低減するように構成されたキャビティが設けられている、固定バッフルとを含む、一体型高真空ポンプ。 - 前記バッフルに設けられた前記キャビティは、断面が正方形、長方形、三角形、半円形または半楕円形である、請求項8に記載の一体型高真空ポンプ。
- 前記バッフルに設けられた前記キャビティは、前記キャビティの横方向の大きさに等しいかそれよりも大きい深さを有している、請求項8に記載の一体型高真空ポンプ。
- 前記バッフルに設けられた前記キャビティは、ディスクの回転方向に大略的に直角の2列以上のキャビティの列として構成されている、請求項8に記載の一体型高真空ポンプ。
- 前記キャビティの列は、前記ディスクの回転方向に直角に互い違いに配置されている、請求項11に記載の一体型高真空ポンプ。
- 前記キャビティは、前記ロータディスクに面している前記バッフルの前記表面の30〜70パーセントに及んでいる、請求項8に記載の一体型高真空ポンプ。
- 前記バッフルに設けられた前記キャビティは、前記バッフルと前記ロータディスクとの間の空隙の1〜10倍の大きさを有する、請求項8に記載の一体型高真空ポンプ。
- 駆動シャフトに結合されたロータディスクと、前記ロータディスクの周囲に配置されて、接線流チャネルと、前記接線流チャネルへの入口と、前記接線流チャネルからの出口とを規定しているステータと、前記出口に近接した前記接線流チャネル内に設けられた固定バッフルであって、当該バッフルと前記ロータディスクとの間に空隙が形成されている固定バッフルとを含む、分子ドラッグコンプレッサの作動方法であって、
前記バッフルと前記ロータディスクとの間の前記空隙を通るガス乱流を生じさせ、それによって漏洩を低減するステップを含む、分子ドラッグコンプレッサの作動方法。 - ガス乱流を生じさせることは、前記ロータディスクに面した前記バッフルの表面にキャビティを形成することを含む、請求項15に記載の方法。
- キャビティの形成は、断面が正方形、長方形、半円形または半楕円形であるキャビティを前記バッフルに形成することを含む、請求項16に記載の方法。
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