JP2008294451A - 画像形成方法、及び画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
半導体検査において、設計データと撮影した半導体デバイスの画像を利用して、SEM画像に含まれたノイズとパターンを精度よく分離する方法及び装置を提供することにある。
【解決手段】
上記目的を達成するために、試料への電子ビームの照射に基づいて得られる画像から、前記試料上に形成されたパターンを細線化した画像を形成する際に、前記パターンを形成する線分の方向ごとに、予め登録された前記パターンのホワイトバンドの輝度分布情報を用いたピーク位置の検出を行い、当該検出によって、前記パターンの細線部分を抽出し、当該抽出に基づいて前記細線化されたパターンを表した画像を形成する方法、及び装置を提供する。
【選択図】図1
Description
。このため、検証を行う部位を示す設計データを利用して、前記設計データと形状が一致するパターンをSEMで撮影した画像内から探索する場合に、本発明のパターンマッチング装置を利用することが可能である。そして、このような場合は、マッチング結果(形状の一致度)を形状評価の一項目として利用することもできる。
310,311よりも暗く写し出されるようになる。
図6(a)(b)に示すマトリクスは画像上の数画素の範囲に連続的に存在している凸形状の輝度パターンを抽出するものであり、凸形状のホワイトバンドのピーク位置の画素の輝度値と凸形状のピーク位置の両側に存在する傾斜部の画素の輝度値との差が大きいホワイトバンドの輝度パターンを強調するものである。
(1)連結画素数の制御
ベクタライズの対象となる連結したパターンの最小連結画素数を設定することにより、例えば、3画素以下の連結エッジはノイズとみなしてベクタライズを行わないという制御を行うことで、ベクタライズ部102からのベクタデータ数の削減を行うことができる。後述するマッチング処理は、処理内容から、ベクタデータ数が多くなるに従い、処理時間が増加する傾向にある。このため、ベクタデータ数を削減することにより、マッチング時間を短縮することができる。
(2)始点,終点間の直線と始点,終点間に存在する画素間の距離の制御
パターンの始点,終点を結ぶ直線と始点,終点間に存在する画素との距離の許容範囲を設定することにより、許容範囲を小さくすることで、パターン形状の検出精度を高くすることができるし、許容範囲を大きくすることで、パターン形状の検出精度を低くしてベクタデータ数を削減し、マッチング時間を短縮することができる。
(3)始点,終点間を結ぶ直線の角度の制御
ベクタライズの対象となるパターンを、始点,終点を結ぶ直線の角度で設定することにより、例えば、生成した直線式の傾きが45度の場合は、ベクタライズしないという設定が可能となり、パターンの形状に応じたベクタライズを行うことができる。
Claims (18)
- 試料への電子ビームの照射に基づいて得られる画像から、前記試料上に形成されたパターンを細線化した画像を形成する画像形成方法であって、
前記パターンを形成する線分の方向ごとに、予め登録された前記パターンのホワイトバンドの輝度分布情報を用いたピーク位置の検出を行い、
当該検出によって、前記パターンの細線部分を抽出し、当該抽出に基づいて前記細線化されたパターンを表した画像を形成することを特徴とする画像形成方法。 - 請求項1において、
前記ピーク位置の検出は、前記ホワイトバンドの幅に関する情報に応じた異なる輝度分布情報を用いて行うことを特徴とする画像形成方法。 - 請求項1において、
前記輝度分布情報は、マトリクス状に配列された複数の画素の輝度情報であって、当該複数の画素の輝度情報は、異なる大きさのものが複数用意され、当該輝度情報の中で、前記大きさが前記ホワイトバンドの幅に近いものを用いて、ピーク位置の検出を行うことを特徴とする画像形成方法。 - 請求項1において、
前記細線化されたパターンを表した画像をベクタライズして、ベクタデータを生成することを特徴とする画像形成方法。 - 請求項1において、
前記ピーク位置の検出が行われた画像を2値化し、当該2値化された輝度情報の中心を前記細線とすることを特徴とする画像形成方法。 - 請求項1において、前記細線化されたパターンと、当該パターンの設計データとの間でパターンマッチングを行うことを特徴とする画像形成方法。
- 試料への電子ビームの照射に基づいて得られる画像から、前記試料上に形成されたパターンを細線化した画像を形成する画像形成方法であって、
前記パターンを形成する線分の方向ごとに、前記ホワイトバンドの輝度分布情報を有するフィルタを用意し、当該ホワイトバンドの幅に関する情報を用いて、当該フィルタの大きさを調整し、当該調整されたフィルタを用いて、前記ホワイトバンドのピーク位置の検出を行い、
当該検出によって、前記パターンの細線部分を抽出し、当該抽出に基づいて前記細線化されたパターンを表した画像を形成することを特徴とする画像形成方法。 - 請求項7において、
前記ピーク位置の検出は、前記ホワイトバンドの幅に関する情報に応じた異なる輝度分布情報を用いて行うことを特徴とする画像形成方法。 - 請求項7において、
前記輝度分布情報は、マトリクス状に配列された複数の画素の輝度情報であって、当該複数の画素の輝度情報は、異なる大きさのものが複数用意され、当該輝度情報の中で、前記大きさが前記ホワイトバンドの幅に近いものを用いて、ピーク位置の検出を行うことを特徴とする画像形成方法。 - 請求項7において、
前記細線化されたパターンを表した画像をベクタライズして、ベクタデータを生成することを特徴とする画像形成方法。 - 請求項7において、
前記ピーク位置の検出が行われた画像を2値化し、当該2値化された輝度情報の中心を前記細線とすることを特徴とする画像形成方法。 - 請求項7において、
前記細線化されたパターンと、当該パターンの設計データとの間でパターンマッチングを行うことを特徴とする画像形成方法。 - 試料への電子ビームの照射に基づいて得られる画像の処理を行う画像処理装置を備えた画像形成装置において、
当該画像処理装置は、前記試料への電子ビームの照射に基づいて得られる画像に表されたパターンを形成する線分ごとに、予め登録された前記パターンのホワイトバンドの輝度分布情報を用いたピーク検出を行い、当該検出によって、前記パターンを細線化した細線部分を抽出し、当該抽出に基づいて前記細線化されたパターンを表した画像を形成することを特徴とする画像形成装置。 - 請求項13において、
前記画像処理装置は、前記ピーク位置の検出を、前記ホワイトバンドの幅に関する情報に応じた異なる輝度分布情報を用いて行うことを特徴とする画像形成装置。 - 請求項13において、
前記輝度分布情報は、マトリクス状に配列された複数の画素の輝度情報であって、
前記画像処理装置は、当該輝度情報について、異なる大きさのものを複数用意し、当該輝度情報の中で、前記大きさが前記ホワイトバンドの幅に近いものを用いて、ピーク位置の検出を行うことを特徴とする画像形成装置。 - 請求項13において、
前記画像処理装置は、前記細線化されたパターンを表した画像をベクタライズして、ベクタデータを生成することを特徴とする画像形成装置。 - 請求項13において、
前記画像処理装置は、前記ピーク位置の検出が行われた画像を2値化し、当該2値化された輝度情報の中心を前記細線とすることを特徴とする画像形成装置。 - 請求項13において、
前記画像処理装置は、前記細線化されたパターンと、当該パターンの設計データとの間でパターンマッチングを行うことを特徴とする画像形成装置。
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