JP2008281682A - 可変形状鏡システムおよび眼底観察装置 - Google Patents

Abstract

【課題】反射効率の良い可変形状鏡システムを提供する。
【解決手段】ミラー５０１は、支持体５２７の表面５２７ａに配置され、支持体５２７の変形に従って変形する。補強体５２２が、少なくとも、裏面５２７ｂのうちミラー５０１と対向する領域の一部に配置される。
【選択図】図１(b)

Description

本発明は、天体望遠鏡や眼底観察装置等に用いられる補償光学系を構成する可変形状鏡システムに関する。

現在、眼科用機器として、様々な光学機器が使用されている。中でも、眼を観察する光学機器として、前眼部撮影機、眼底カメラ、共焦点レーザー走査検眼鏡、光干渉断層撮像装置等、様々な機器が使用されている。なお、共焦点レーザー走査検眼鏡は、ＳＬＯ（Scanning Laser Ophthalmoscope）とも呼ばれ、光干渉断層撮像装置は、ＯＣＴ（Optical Coherence Tomography）とも呼ばれる。

観察の対象である眼球は、角膜・房水・水晶体・硝子体・網膜とからなり、４枚貼り合わせレンズと見ることもできる。しかし、角膜や水晶体の屈折率が一様でない等の理由から、元来、眼球は収差を有しており、また、その収差が眼球の観察の妨げになることがある。

眼科用光学機器において、補償光学技術が利用されている。補償光学技術は、例えば眼球の収差を補正するために、波面の乱れを補正する技術である。具体的には、補償光学技術では、波面センサが、シャック・ハルトマン法を用いて波面の傾きを検知する。その後、コントローラが、その傾きを打ち消すように、可変形状鏡システムの反射面を変形させて、その傾きを補正し、眼の収差の補正を行う。

補償光学技術を眼底観察に利用した眼底観察装置が、特許文献１に記載されている。この眼底観察装置は、被検眼の光学特性を測定し、そのデータに基づき、可変形状鏡システムの反射面の形状を調整している。また、可変形状鏡システムの反射面を駆動するための電圧変化テンプレートを用いることによって、反射面の応答速度が改善されている。
特開２００５−２２１５７９号公報（図１、図１３）

近年、可変形状鏡システムの反射効率の向上が望まれている。

本発明の目的は、反射効率の良い可変形状鏡システムを提供することである。

上記目的を達成するため、本発明による可変形状鏡システムは、第１の面と前記第１の面の裏面である第２の面とを有する支持体と、前記第１の面に配置された反射面と、前記第２の面のうち前記反射面と対向する領域の一部に配置された補強体と、前記第２の面側から前記支持体に駆動力を与えて前記支持体と共に前記反射面を変形させる駆動手段と、を有する。

本発明によれば、可変形状鏡システムの反射効率を向上することが可能になる。

以下、本発明の実施例を、図面を参照して説明する。

［第１の実施例］（静電）
＜可変形状鏡システムの構造＞
図１を参照して、第１の実施例の可変形状鏡システム５００について説明する。

図１(a)は、可変形状鏡システム５００の上面図であり、図１(b)は、図１(a)におけるＡ−Ａ’断面図である。図１(b)では、理解が容易になるように、図中の縦方向の寸法が誇張して記載されている。

可変形状鏡システム５００は、電極基板５２４と駆動電極基板５２３とが、スペーサ５２５を介して積層された構造を有する。電極基板５２４と駆動電極基板５２３との間は、電気的に絶縁されている。

電極基板５２４は、ミラー５０１を支持する支持体５２７を有している。

支持体５２７は、平面状であり、表面５２７ａと、表面５２７ａの裏面５２７ｂと、を有し、変形可能である。表面５２７ａは、第１の面の一例であり、裏面５２７ｂは、第２の面の一例である。ミラー５０１は、反射面の一例であり、表面５２７ａに配置され、支持体５２７の変形に従って変形する。

電極基板５２４、スペーサ５２５および駆動電極基板５２３の厚さはそれぞれ、２００μm、２０μm、２００μmである。スペーサ５２５の厚さは、ミラー５０１の駆動時の変形量を決定する重要な値である。ミラー５０１の大きさは直径１０mmである。なお、電極基板５２４、スペーサ５２５および駆動電極基板５２３の厚さ、ならびに、ミラー５０１の大きさは、上記に限らず適宜変更可能である。

支持体５２７は、補強体５２２と、中駆動電極５３２と、を有している。

補強体５２２は、少なくとも、裏面５２７ｂのうち、表面５２７ａにおいてミラー５０１が配置された領域の裏面となる領域の一部に配置され、図１(a)に破線で示したように、四角形状の部材であり、アレイ状に配列されている。補強体５２２は、平面状であることが望ましい。なお、補強体５２２は、四角形状に限らず、例えば、六角形状と八角形状とのいずれかの形状を有する平面状の部材であって、アレイ状に配列されていてもよい。

支持体５２７のうち補強体５２２が設置された部分の剛性が上がることで、その他の部分は、補強体５２２が設置された部分より剛性が小さくなり、力を受けた場合に曲がりやすくなる。

中駆動電極５３２は、裏面電極の一例であり、補強体５２２を覆うように、裏面５２７ｂに設置されている。

駆動電極基板５２３の上面は、絶縁膜５２６により電気的に絶縁されている。駆動電極基板５２３には、裏面駆動電極の一例である駆動電極５３３が、中駆動電極５３２と対向して配置されている。つまり、駆動電極５３３は、中駆動電極５３２において裏面５２７ｂと対向する側の反対側に配置されている。

中駆動電極５３２は、電気配線５０５ａによってアース５０４と電気的に接続され、接地されている。駆動電極５３３は、電気配線５０５ｂによって下電位印加部５０３に接続されている。

中駆動電極５３２および各駆動電極５３３は、電圧が印加された場合に駆動力を発生する駆動力発生部を構成する。なお、駆動力発生部は、駆動力発生手段の一例である。下電位印加部５０３は、電圧印加手段の一例であり、各駆動電極５３３に任意の電位を与えることにより、中駆動電極５３２と各駆動電極５３３との間すなわち駆動力発生部に電圧を印加する。

なお、中駆動電極５３２、各駆動電極５３３および下電位印加部５０３が、裏面５２７ｂ側から支持体５２７に駆動力を与えて支持体５２７と共にミラー５０１を変形させる駆動部を構成する。なお、駆動部は、駆動手段の一例である。

スペーサ５２５は、中駆動電極５３２と各駆動電極５３３が非接触になるように、中駆動電極５３２と各駆動電極５３３の距離を保ち、中駆動電極５３２と各駆動電極５３３とを絶縁する。

スペーサ５２５はガラス、電極基板５２４と駆動電極基板５２３はシリコン、絶縁膜５２６は二酸化シリコンからなる。

補強体５２２と支持体５２７との少なくとも一方は、シリコン、または、二酸化シリコンや窒化シリコン等のシリコンの化合物、または、ポリイミドやポリジメチルシロキサン等の有機材料からなることが望ましい。なお、補強体５２２と支持体５２７の材料は、ミラー５０１が必要とする剛性等に基づいて選択される。また、補強体５２２と支持体５２７とは、同一種類の材料で構成され、一体に形成されてもよい。

ミラー５０１は、例えば反射率の高い金属であるＡｌ等からなる。中駆動電極５３２、駆動電極５３３および電気配線５０５ａおよび５０５ｂは、金、アルミニウム、銅等の電気抵抗が小さい金属からなる。

次に、図１(b)および１(c)を参照して中駆動電極５３２について詳細に説明する。図１(c)は、図１(b)におけるＢ−Ｂ’断面を下側から見た図である。

中駆動電極５３２は、ミラー５０１の形状に対応して、円形状に形成され、補強体５２２を覆うように形成される。

次に、図１(b)および１(d)を参照して駆動電極５３３について詳細に説明する。図１(d)は、図１(b)におけるＢ−Ｂ’断面を上側から見た図である。

各駆動電極５３３は、中駆動電極５３２に対向し、補強体５２２の位置や形状に対応した四角形状の電極であり、アレイ状に配列されている。各駆動電極５３３は、電気的に独立しており、下電位印加部５０３が各駆動電極５３３に異なる電位を与えることが可能なように、個別に電気配線５０５ｂと接続されている。

なお、図１(b)では、電気配線５０５ｂは、駆動電極基板５２３内を通って、駆動電極５３３と下電位印加部５０３を接続するように記載されているが、駆動電極基板５２３上に形成されてもよい。また、駆動電極５３３の形状や大きさ等の設計値は、所望の仕様にあわせて設定され、補強体５２２の設計値と対応する。

また、駆動電極５３３は、四角形状の平面状の部材としたが、ミラー５０１に要求される形状やミラー５０１に要求される変形量にあわせて設計される必要がある。このため、駆動電極５３３は、四角形状に限定されず、六角形状と八角形状とのいずれかの形状を有する平面状の部材であって、アレイ状に配列されていてもよい。

また、本実施例では、補強体５２２と駆動電極５３３とは、同一または略同一の形状を有する平面状の部材であって、補強体５２２と駆動電極５３３とのそれぞれが、アレイ状に配列され、補強体５２２と駆動電極５３３とが互いに対向して配置される。

また、中駆動電極５３２は、電気配線５０５を通じてアース５０４と接続され、電気的に接地されている。

＜可変形状鏡システムの動作＞
次に、図２を参照して、可変形状鏡システム５００の動作について説明する。

可変形状鏡システム５００において、中駆動電極５３２の電位が０Ｖのときに、下電位印加部５０３が、駆動電極５３３に正または負の電位を与えると、中駆動電極５３２と駆動電極５３３との間に静電引力が働く。このため、中駆動電極５３２が駆動電極５３３に引き寄せられ、図２のように、ミラー５０１が変形する。

本実施例では、駆動電極５３３のそれぞれに与える電位、すなわち、中駆動電極５３２と各駆動電極５３３との間に印加される電圧を適宜調節することで、図２に示したミラー５０１の形状を実現することができる。

本実施例では、補強体５２２が、裏面５２７ｂのうちミラー５０１と対向する領域の一部に配置されていることで、補強体５２２が設置された部位以外が曲がりやすくなる。結果として図２のように、ミラー５０１の多くの部分を、駆動電極基板５２３に対して水平に保つことが容易になる。

また、図２には、可変形状鏡システム５００を実際に使用した場合に想定される平行光である入射角度θ１の入射光５５１と、その反射角度θ２の反射光５５２とが示されている。

ミラー５０１を駆動電極基板５２３に対して水平に保つことで、入射光５５１の多くを反射光５５２として反射させることが容易になる。ただし、入射光５５１の一部は、反射光５５２とはならず、他の方向に反射されることになる。

なお、駆動電極５３３に与える電位は、例えば、±２００Ｖ以内である。

本実施例の可変形状鏡システム５００は、ミラー５０１を補強する補強体５２２を有する。ミラー５０１内の変形箇所では、ミラー５０１の向きが所定の向き（例えば、駆動電極基板５２３に対して水平な向き）と異なってしまい、入射光は所定の方向に反射されない。このため、ミラー５０１内の変形箇所が増大すると、反射効率が低下していく。

本実施例では、ミラー５０１のうち補強体５２２と対向する部位は変形しにくくなり、それ以外の部分は変形しやすくなる。このため、駆動力が与えられた際に、ミラー５０１内の変形箇所を、補強体５２２と対向する部位以外の箇所に集中させることが可能になる。

したがって、ミラー５０１が変形した際に、ミラー５０１のうち補強体５２２と対向する部位は、光源から入射した光線を効率よく所望の方向に反射でき、その結果、補強体５２２が無い可変形状鏡システムより、反射効率を向上させることが可能になる。

また、本実施例では、下電位印加部５０３が、電圧が印加された場合に駆動力を発生する駆動力発生部５３３および５３２に電圧を印加する。この場合、電圧の印加に伴い発生する駆動力によって、ミラー５０１を変形させることが可能になる。なお、駆動力発生部は、上記に限らず適宜変更可能であり、例えば、圧電素子でもよい。

また、本実施例では、下電位印加部５０３が、駆動電極５３３と中駆動電極５３２との間に電圧を印加する。この場合、駆動力として、駆動電極５３３と中駆動電極５３２との間で発生する静電力を利用でき、簡単な構成で可変形状鏡システム５００を実現することができる。

また、補強体５２２は、四角形状と六角形状と八角形状とのいずれかの形状を有する平面状の部材であって、アレイ状に配列されていることが望ましい。この場合、補強体５２２を効率よく並べることができ、光源から入射した光線を効率よく所望の方向に反射することが容易になり、反射効率を向上させることが可能になる。

また、駆動電極５３３は、四角形状と六角形状と八角形状とのいずれかの形状を有する平面状の部材であって、アレイ状に配列されていることが望ましい。この場合、駆動電極５３３を効率よく並べることができ、ミラー５０１の変形を効率的に制御することが可能になる。

また、補強体５２２と駆動電極５３３とが、略同一の形状を有する平面状の部材であって、アレイ状に配列され、補強体５２２と駆動電極５３３とのそれぞれが互いに対向して配置されていることが望ましい。この場合、補強体５２２と対向する箇所のミラー５０１が、傾かずにミラー５０１の厚さ方向に変位することが容易になり、反射効率を向上させることが可能になる。

また、補強体５２２と支持体５２７とが一体に形成されていることが望ましい。この場合、補強体５２２と支持体５２４とが一体に形成することで、簡単な構成となり、低コスト化を図ることが可能になる。

また、本実施例では、スペーサ５２５が、中駆動電極５３２と駆動電極５３３とを絶縁する。この場合、中駆動電極５３２と駆動電極５３３の間の寸法を簡単な構成で一定に保つことができる。

また、スペーサ５２５が、ガラスからなることが望ましい。この場合、スペーサ５２５が、ガラスからなることで、高精度な加工を利用することが可能なため、中駆動電極５３２と駆動電極５３３の間の寸法を高精度に規定することができる。また、ガラスには陽極接合が利用可能なため、簡単な作製手段で可変形状鏡システム５００を実現することができる。

また、支持体５２７と補強体５２２との少なくとも一方が、ポリイミドやポリジメチルシロキサン等の有機材料からなることが望ましい。この場合、ヤング率が小さく、大変形が容易な支持体５２７または補強体５２２を作製することが可能になる。

また、支持体５２７と補強体５２２との少なくとも一方が、シリコンまたはシリコンの化合物からなることが望ましい。この場合、容易に支持体５２７または補強体５２２を加工して、薄膜化することが可能になり、設計の自由度を高くすることができる。

［第２の実施例］（圧電）
＜可変形状鏡システムの構造＞
図３を参照して、第２の実施例の可変形状鏡システム５００について説明する。

図３(a)は、第２の実施例の可変形状鏡システム５００の上面図であり、図３(b)は、図３(a)におけるＡ−Ａ’断面図である。図３(b)では、理解が容易になるように、図中の縦方向の寸法が誇張して記載されている。なお、図３において、図１に示したものと同一のものには同一符号を付してある。

第２の実施例の可変形状鏡システム５００は、第１の実施例の可変形状鏡システムに、圧電素子５４１と圧電電圧印加部５４２と電気配線５０５ｃが追加されたものである。以下、第２の実施例の可変形状鏡システム５００について、第１の実施例の可変形状鏡システムと異なる点を中心に説明する。

支持体５２７は、圧電素子５４１を有する。圧電素子５４１は、圧電体の一例であり、電気配線５０５ｃによって圧電電圧印加部５４２に接続されている。なお、圧電素子５４１は、ミラー５０１を周回して支持体５２７の表面５２７ａに配置されている。

圧電電圧印加部５４２は、圧電電圧印加手段の一例であり、圧電素子５４１に対して、任意の電圧を印加できる。圧電電圧印加部５４２が、圧電素子５４１に電圧を印加したり電圧の印加を停止したりすることにより、圧電素子５４１は、圧電素子５４１の半径方向に伸び縮みし、ミラー５０１が上下動可能になる。また、圧電素子５４１がたわみ易いように、圧電素子５４１の下側には補強体５２２が設けられていない。

なお、図３(b)では、電気配線５０５ｃは、支持体５２７と接触せずに圧電素子５４１と接続されているが、支持体５２７上に形成されてもよい。電気配線５０５ｃは、金、アルミニウム、銅等の電気抵抗が小さい金属からなる。

圧電素子５４１は、ＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）やＺｎＯ（酸化亜鉛）からなり、例えば、モノモルフ構造を形成している。また、圧電素子５４１の厚さ方向に電位差が発生するように、圧電素子５４１には、電気配線５０５ｃと圧電電圧印加部５４２が接続されている。圧電素子５４１の厚さ方向に電位差がある場合には、圧電素子５４１は、圧電素子５４１の半径方向に伸縮を行うように分極処理される。

なお、図３(c)は、図３(b)におけるＢ−Ｂ’断面を上側から見た図である。

＜可変形状鏡システムの動作＞
次に、図３(d)を参照して、第２の実施例の可変形状鏡システム５００の動作について説明する。なお、図３(b)には全ての構成要素を図示したが、図３(d)では、説明の簡略化のため、電気配線や電位印加部の記載を省いてある。

第２の実施例の可変形状鏡システム５００において、圧電電圧印加部５４２が、圧電素子５４１の表裏面に電位差（電圧）を与えると、圧電素子５４１が半径方向に縮んで、図３(d)に示したように、ミラー５０１全体が上方に移動する。

また、圧電素子５４１に与える電界の方向を変えると、圧電素子５４１が半径方向にのびて、ミラー５０１全体が下方に移動する。

さらに、駆動電極５３３のそれぞれに与える電位を適宜調節することで、図中のミラー５０１の形状を実現することができる。

本実施例によれば、圧電素子５４１を備えることにより、ミラー５０１の上方への移動、下方への移動および変形を独立に制御することが容易になり、入射光の波面を補正する自由度を高めることが可能になる。また、圧電素子５４１を用いることで、低電圧での駆動が可能になり、簡単な構成の可変形状鏡システムを実現することができる。

また、本実施例では、圧電素子５４１がミラー５０１を周回して配置されている。この場合、ミラー５０１の上下動を可能にすることができる。

なお、本実施例でも、補強体５２２が設置されていることで、補強体５２２が設置された部位以外が曲がりやすくなり、結果として図３(d)のように、ミラー５０１の多くの部分を駆動電極基板５２３に対して水平に保つことが容易になる。このため、光源から入射した光線を効率よく所望の方向に反射することが容易になり、反射効率を向上させることが可能になる。

なお、駆動電極５３３と圧電素子５４１に与える電位は、例えば、それぞれ±２００Ｖ以内、±１００Ｖ以内である。

［第３の実施例］（眼底観察装置）
図４を参照して、本実施例の眼底観察装置６０１を説明する。図４は、眼底観察装置６０１の概略構成図である。

眼底観察装置６０１は、補償光学系６１２を有し、さらに補償光学系６１２が第１、第２の実施例に記載した可変形状鏡システム５００を有する。眼底観察装置６０１は、眼底観察のための光学系として、種々の眼科用光学機器において一般的に共通に使用される。具体的には、眼底観察装置６０１は、前眼部撮影機、眼底カメラ、共焦点レーザー走査検眼鏡、光干渉断層撮像装置等に利用される。

図４において、眼底観察装置６０１では、光源６０２から出る入射光６１３（実線）がスプリットミラー６０７により反射され、その後、観察対象である眼球６０３に入射し、その反射光６１４（破線）が、可変形状鏡システム５００で反射される。可変形状鏡システム５００での反射光６１４は、光センサ６０６に入射し、観察像が得られる。図４において、入射光６１３と反射光６１４の矢印の向きは、それぞれの光の進む方向を示している。光センサ６０６としては、例えば、フォトダイオードやそのアレイが用いられる。

次に、眼底観察装置６０１における補償光学系６１２の構成について説明する。補償光学系６１２は、主に、波面の位相を補正する可変形状鏡システム５００と、波面の位相を測定する波面センサ６０５とを含む。補償光学系６１２は、さらに、波面センサ６０５に反射光６１４を導くためのスプリットミラー６０８と、波面センサ６０５で得られた位相に従って、可変形状鏡システム５００を制御するコントローラ６０４を含む。

次に、補償光学系６１２を含めた眼底観察装置６０１の動作について説明する。

光源６０２から出た入射光６１３は、スプリットミラー６０７にて反射され、眼球６０３に到達する。しかし、眼球６０３からの反射光６１４の波面６１０は、眼球６０３の屈折率のばらつき等の理由で、位相が揃っていない。

反射光６１４は、可変形状鏡システム５００にて反射され、その後、スプリットミラー６０８が、反射光６１４の一部を波面センサ６０５に向けて反射する。波面センサ６０５は、反射光６１４の波面の位相を測定し、測定結果をコントローラ６０４に提供する。

コントローラ６０４は、測定された位相に基づいて、反射光６１４の波面の位相が揃うように可変形鏡システム５００を制御する。

例えば、可変形状鏡システム５００として第１の実施例の可変形状鏡システムが用いられた場合、コントローラ６０４は、反射光６１４の波面の位相が揃うように、測定された位相に基づいて、下電位印加部５０３が出力する電位を制御する。

可変形状鏡システム５００として第２の実施例の可変形状鏡システムが用いられた場合、コントローラ６０４は、反射光６１４の波面の位相が揃うように、測定された位相に基づき、下電位印加部５０３からの電位と圧電電圧印加部５４２からの電圧を制御する。

その結果、補正された波面６１１を有する反射光６１４が、レンズあるいはレンズ群６０９を通して、光センサ６０６に入射することになり、解像度の高い観察像が得られる。また、可変形状鏡システム５００は、反射効率が高いため、明るい像を得ることが可能になる。

本実施例によれば、眼底観察装置６０１は、第１または第２の実施例の可変形状鏡システム５００を有する。この場合、眼内の屈折率のばらつき等による像の乱れを高精度に補正することが可能になり、解像度の高い眼底観察装置を実現することができる。また、可変形状鏡システムは反射効率が高いので、明るい像を得ることが可能になる。

以上説明した各実施例において、図示した構成は単なる一例であって、本発明はその構成に限定されるものではない。

本発明の第１の実施例の可変形状鏡システムの上面図である。 図１(a)におけるＡ−Ａ’断面図である。 図１(b)におけるＢ−Ｂ’断面を下側から見た図である。 図１(b)におけるＢ−Ｂ’断面を上側から見た図である。 本発明の第１の実施例の可変形状鏡システムの動作を説明する図である。 本発明の第２の実施例の可変形状鏡システムの上面図である。 図３(a)におけるＡ−Ａ’断面図である。 図３(b)におけるＢ−Ｂ’断面を上側から見た図である。 本発明の第２の実施例の可変形状鏡システムの動作を説明する図である。 本発明の第３の実施例の眼底観察装置を説明する図である。

符号の説明

５００ 可変形状鏡システム
５０１ ミラー（反射面に対応）
５０３、５３２、５３３ 駆動部（駆動手段に対応）
５２２ 補強体
５２７ 支持体

Claims (16)

1. 第１の面と前記第１の面の裏面である第２の面とを有する支持体と、
   前記第１の面に配置された反射面と、
   前記第２の面のうち、前記第１の面において前記反射面が配置された領域の裏面となる領域の一部に配置された補強体と、
   前記第２の面側から前記支持体に駆動力を与えて前記支持体と共に前記反射面を変形させる駆動手段と、を有することを特徴とする可変形状鏡システム。
2. 前記駆動手段が、
   電圧が印加された場合に前記駆動力を発生する発生手段と
   前記駆動力発生手段に前記電圧を印加する電圧印加手段と、を有することを特徴とする可変形状鏡システム。
3. 前記駆動力発生手段が、
   前記第２の面に配置された裏面電極と、
   前記裏面電極において前記第２の面と対向する側の反対側に、前記裏面電極と対向して配置された裏面駆動電極と、を含み、
   前記電圧印加手段が、前記裏面電極と前記裏面駆動電極との間に電圧を印加することを特徴とする請求項２に記載の可変形状鏡システム。
4. 前記補強体は、四角形状と六角形状と八角形状とのいずれかの形状を有する平面状の部材であって、アレイ状に配列されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の可変形状鏡システム。
5. 前記裏面駆動電極は、四角形状と六角形状と八角形状とのいずれかの形状を有する平面状の部材であって、アレイ状に配列されていることを特徴とする請求項３に記載の可変形状鏡システム。
6. 前記補強体と前記裏面駆動電極とが、略同一の形状を有する平面状の部材であって、アレイ状に配列され、
   前記補強体と前記裏面駆動電極とのそれぞれが、互いに対向して配置されていることを特徴とする請求項３または５に記載の可変形状鏡システム。
7. 前記補強体と前記支持体とが一体に形成されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の可変形状鏡システム。
8. 前記裏面電極と前記裏面駆動電極とを絶縁するスペーサを有することを特徴とする請求項３、５または６に記載の可変形状鏡システム。
9. 前記スペーサが、ガラスからなることを特徴とする請求項８に記載の可変形状鏡システム。
10. 前記第１の面に配置された圧電体と、
    前記圧電体に電圧を印加する圧電電圧印加手段と、を有することを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の可変形状鏡システム。
11. 前記圧電体が、前記反射面を周回して配置されていることを特徴とする請求項１０に記載の可変形状鏡システム。
12. 前記支持体と前記補強体との少なくとも一方が、有機材料からなることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の可変形状鏡システム。
13. 前記支持体と前記補強体との少なくとも一方が、ポリイミドからなることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の可変形状鏡システム。
14. 前記支持体と前記補強体との少なくとも一方が、ポリジメチルシロキサンからなることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の可変形状鏡システム。
15. 前記支持体と前記補強体との少なくとも一方が、シリコンまたはシリコンの化合物からなることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の可変形状鏡システム。
16. 請求項１〜１５のいずれか１項に記載の可変形状鏡システムを有することを特徴とする眼底観察装置。

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