JP2008270683A - 積層基板 - Google Patents

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Abstract

【課題】製品サイズの拡大をできる限り抑えつつ、電子部品から発せられる熱を効率的に放熱させることが可能な積層基板を提供する。
【解決手段】絶縁体板に導体層よりなる回路パターンを形成してなる基板を複数積層配置した積層基板1において、発熱性のあるドレイン端子を有するFETを実装する信号回路パターンが形成された信号基板11と、電源に接続される電源供給パターン121が形成された電源基板12と、グランドに接続されるグランドパターン130が形成されたグランド基板13と、を有し、電源基板には、前記発熱端子に接続されているとともに、前記電源供給パターンとは電気的に独立する放熱パターンが形成されている。
【選択図】図1

Description

本発明は、基板を複数積層配置した積層基板に関し、特に、その放熱性を向上させるものに関する。
一般に、例えばカードリーダなどの電子機器に搭載されるプリント基板には、集積回路(IC)などの各種電子部品が実装されている。近年のプリント基板においては、ICが高速化し、配線が高密度化するなどして、プリント基板から放出される熱量が増大しつつある。したがって、このような状況下では、温度上昇に起因したプリント基板への悪影響を無視できない場合がある(例えば、温度上昇に起因して電子部品が誤作動を起こす場合がある)。
電子部品が動作している際の主たる熱源は、その電子部品自身である。そのため、温度上昇に起因したプリント基板への悪影響を防ぐためには、電子部品から発せられる熱を効率的に放熱・分散させる技術が重要になる。例えば特許文献1に開示された放熱構造プリント基板では、プリント基板に放熱層を一体的に積層形成し、この放熱層の一部をプリント基板外部に延出させるようにしている。これにより、放熱層を筐体の壁部等に直接接触させて、放熱を確実かつ効率的に行うことができるようになっている。
また、金属製の放熱板(ヒートシンク)を電子部品本体に直接装着し、自然空冷によって放熱させることも可能である。さらに、自然空冷で放熱が追いつかない状況においては、空冷ファンなどを用いることも可能である。
特開平11−233904号公報
しかしながら、上述したような放熱層,放熱板(ヒートシンク)及び空冷ファンなどは、プリント基板が設置される条件や環境によっては、設けることができない場合がある。例えば、放熱層を延出させると(特許文献1参照)、製品サイズが大きくなってしまったり、金属製の放熱板を電子部品に装着すると、製品特性に悪影響を与えたり、空冷ファンを用いると製品サイズが大きくなるだけでなく製造コストが上昇したりする。
本発明は、以上の点に鑑みてなされたものであり、その目的は、製品サイズの拡大などをできる限り抑えつつ、電子部品から発せられる熱を効率的に放熱させることが可能な積層基板を提供することにある。
以上のような課題を解決するために、本発明は、以下のものを提供する。
(1) 絶縁体板に導体層よりなる回路パターンを形成してなる基板を複数積層配置した積層基板において、発熱性のある発熱端子を有する電子部品を実装する信号回路パターンが形成された信号基板と、電源に接続される電源供給パターンが形成された電源基板と、グランドに接続されるグランドパターンが形成されたグランド基板と、を有し、前記電源基板には、前記発熱端子に接続されているとともに、前記電源供給パターンとは電気的に独立する放熱パターンが形成されていることを特徴とする積層基板。
本発明によれば、信号基板と、電源に接続される電源供給パターンが形成された電源基板と、グランド基板と、を有する積層基板であって、このうち電源基板には、電子部品の発熱端子に電気的に接続されているとともに、上述の電源供給パターンとは電気的に独立する放熱パターンが形成されていることとしたので、電子部品から発せられる熱を効率的に放熱させることができる。
すなわち、電子部品の発熱端子から発せられる熱は、この発熱端子と電気的に接続された電源基板の放熱パターンへと逃げていく。したがって、上述したような対策、すなわち放熱層を延出させたり、金属製の放熱板を電子部品に装着させたり、冷却ファンを設けたりしなくてもよく、製品サイズの拡大や、金属板に起因した製品特性の悪化などを防ぎつつ、電子部品から発せられる熱を効率的に放熱することができる。
なお、従来、電源基板に形成された電源供給パターンは、電源安定化のために、その面積を可能な限り大きくすることが好ましい、とされていたため、例えば、電源基板全面を電源供給パターンにしていた。そのため、従来の積層基板では、例えば信号基板と電源基板との間に放熱基板(放熱層)を入れ込むなどして、放熱特性の向上を図るものもあった。しかし、信号基板と電源基板との間に放熱基板を挿入するとなると、製品サイズ(厚さ方向のサイズ)の拡大は避けられない。そこで、本発明は、電源基板に、電源供給パターンと電気的に独立した放熱パターン(面積の如何は問わない)を形成することによって、製品サイズ(厚さ方向のサイズ)の拡大や製品特性の変化などを防ぎつつ、放熱特性を向上させることができるようにしている。
ここで、本発明における「電子部品」については、発熱性のある発熱端子を有するものであれば、如何なる部品であってもよい。また、「発熱端子」については、面実装タイプのピンを用いているが、その形状・種類・大きさ等の如何は問わない。さらに、電源基板上の「放熱パターン」は、発熱端子と接続されているが、電気的に接続されていてもよいし、熱的に接続されていてもよい(例えば非導通であるが伝熱性のあるものを用いた接続態様であってもよい)。
(2) 前記放熱パターンには、前記電子部品に電源を供給する駆動回路が設けられていることを特徴とする積層基板。
本発明によれば、上述した放熱パターンには、電子部品に電源を供給する駆動回路が設けられていることとしたので、この放熱パターンは、電子部品の発熱端子から発せられる熱を逃がす(自然放熱させる)機能と、電子部品に電源を供給する電源供給機能を併せもつことになる。したがって、電源供給用のパターンを別途設ける必要がなくなるため、配置スペースの省略化に寄与しつつ、放熱特性を高めることができる。
(3) 前記発熱端子と前記放熱パターンは、複数のビアにより接続されており、前記グランドパターンは、絶縁体板を挟んで前記放熱パターンと対向配置され、前記放熱パターンの熱を放熱する放熱エリアにもなることを特徴とする積層基板。
本発明によれば、上述した発熱端子と放熱パターンは、複数のビアにより接続されており、上述したグランドパターンは、絶縁体板を挟んで放熱パターンと対向配置されるとともに、放熱パターンの熱を放熱する放熱エリアにもなることとしたので、より効果的な放熱効果を得ることができる。すなわち、一般的にグランドパターンの面積は大きく(ベタGNDパターンとなっており)、仮に放熱パターンの面積が大きくない場合であっても、放熱パターンの熱伝導特性により、放熱パターンに蓄積された熱がグランドパターンへと逃げやすくなる。その結果、より効果的な放熱効果を得ることができる。
(4) 前記複数のビアは、略同一の間隔で配置されていることを特徴とする積層基板。
本発明によれば、上述した複数のビアは、略同一の間隔で配置されていることとしたので、電子部品から発せられる熱を効率的に放熱パターン又はグランドパターンへと導くことができ、ひいては放熱特性を向上させることができる。
(5) 前記電子部品はトランジスタであって、前記発熱端子は、前記トランジスタのエミッタであることを特徴とする積層基板。
本発明によれば、上述した電子部品はトランジスタであって、上述した発熱端子はトランジスタのエミッタであることとしたので、一般的に発熱性の高いトランジスタを積層基板に配置した場合であっても、良好な放熱特性を得ることができる。
本発明に係る積層基板によれば、電源基板に、電子部品の発熱端子に接続された放熱パターンが形成されていることとしたので、製品サイズの拡大を可能な限り抑えつつ、電子部品から発せられる熱を効率的に放熱することができる。
以下、本発明を実施するための最良の形態について、図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の実施の形態に係る積層基板1の構造概要を説明するための説明図(概念図)である。なお、図1は、基板の片面側から他面側に向かって見た通し図である。
図1において、積層基板1は、絶縁体板に導体層よりなる回路パターンを形成してなる基板を複数積層配置した積層基板であって、信号基板11と、電源基板12と、グランド基板13と、配線基板14と、を有している(なお、より正確な配置関係は、図2参照)。
信号基板11には、FETが実装されるFET実装領域110、FETのソース端子が接続されるソース領域112、FETのゲート端子が接続されるゲート領域111、そして、FET実装領域110と導通し、FETのドレイン端子が接続されるドレイン領域113などが形成されている。これらを含め、信号基板11には、FETに対して電力提供や信号授受を行うための信号回路パターンが形成されている。なお、信号回路パターンに実装される電子部品として、本実施形態ではトランジスタのFETを採用しているが、他の電子部品であってもよい。
電源基板12には、電源に接続される電源供給パターン121と、この電源供給パターン121と電気的に独立した放熱パターン120と、が形成されている。また、グランド基板13には、グランドに接続されるグランドパターン130が形成されている。なお、配線基板14は、主に、信号基板11に実装された各種電子部品を、信号基板11の裏側で配線するためのものである。
ここで、本実施形態に係る積層基板1では、発熱性のある発熱端子として、信号回路パターン(FET実装領域110)に実装されたFETのドレイン端子が想定されており、ここから発熱が予測される。したがって、FETのドレイン端子が接続されるドレイン領域113には、複数のビアからなるビア群20aが設けられている。そして、このビア群20aを介して、FETのドレイン端子は、電源基板12の放熱パターン120と電気的・熱的に接続されている。
これにより、FET(のドレイン端子)から発せられる熱を、ある程度の面積を有する放熱パターン120において、効率良く放熱(自然放熱)させることができる。特に、特殊な放熱層を設けたり、金属製の放熱板をFETに装着させたり、冷却ファンを設けなくてもよいことから、製品サイズをできる限り抑えつつ、FET(のドレイン端子)から発せられる熱を効率的に放熱することができる。そして、放熱用部品を設けなくて済めば、製造コストが嵩むのを抑えることもできるし、(例えば金属製の放熱板を設けることで生じる)特性の変化を防ぐこともできる。
また、FET実装領域110の面積を大きくすれば、放熱特性は高められるものの、設計仕様の問題上、この面積を大きくできない場合がある。本発明は、このような場合、すなわちFET実装領域110の面積を大きくできない場合であっても、効率的に放熱することができる。
また、図1の概念図では、FET実装領域110の一部が面取りされている(面取部110a)。これは、ドレイン領域113に存在するビア群20aの一部がFETの真下に形成されると、FETが位置ずれを起こすことや、ドレイン領域113に塗布される半田が、ビア郡20aを介して信号基板11の裏側に流れ込む虞がある。一方で、設計の問題(配置スペースの問題)上、ドレイン領域113を図示するような形で形成しなければならない場合がある。したがって、FET実装領域110の一部を面取りし、面取り部110aを形成することによって、ドレイン領域113を図示するような形で形成しつつ、FETの位置ずれを防ぐことができ、さらに、ドレイン領域113に塗布される半田が、ビア郡20aを介して信号基板11の裏側に流れ込むことを防ぐことができる。
なお、この場合、FET実装領域110に実装されるFET本体も、面取り部110aの形状に沿って面取りされることになる。また、後述する図2では、この面取り部110aを省略している。
また、本実施形態において、放熱パターン120には、FETに電源を供給する駆動回路が設けられている。これにより、放熱パターン120は、放熱機能と電源供給機能を併せもつことになり、ひいては省スペース化に寄与しつつ、放熱特性を高めることができる。
また、グランド基板13のグランドパターン130は、絶縁体板を挟んで放熱パターン120と対向配置されており、放熱パターン120の熱を放熱する放熱エリアとしても機能する。すなわち、電源基板12と配線基板14との間にグランド基板13を介在させることで、FETから発せられる熱がビア群20aを介して放熱パターン120に流れ、さらに、グランドパターン130へ流れやすくなる。これにより、放熱特性をより高めることができる。
また、FETのソース端子が接続されるソース領域111は、その性質上、グランド基板13のグランドパターン130に接続されている。これにより、FETのソース端子から発せられる熱を、複数のビアからなるビア群20bを通じて、グランドパターン130に放熱することができる。
また、ビア群20a及びビア群20bは、それぞれ構成要素となるビアが略同一の間隔で配置されている。これにより、FETから発せられる熱を効率的に放熱パターン120又はグランドパターン130へ導くことができ、ひいては放熱特性を高めることができる。
[実施例]
図2は、積層基板1のうち信号基板11を示す図である。図3は、積層基板1のうち電源基板12を示す図である。図4は、積層基板1のうちグランド基板13を示す図である。図5は、積層基板1のうち配線基板14を示す図である。これら図2〜図5に示す基板は、図1に示す積層基板1の一実施例である。なお、図2〜図5において、本件発明に関する領域以外の領域(回路配置など)については、図示を省略している。
図2によれば、信号基板11の左上には、FETを実装するためのFET実装領域110が形成され、その右方に、ソース領域112及びゲート領域111が形成されているのが分かる。そして、ソース領域112には、複数のビアからなるビア群20bが設けられている。一方で、FET実装領域110の下方には、ドレイン領域113が形成され、このドレイン領域113には、複数のビアからなるビア群20aが設けられている。
ビア群20a、20bは、円柱状の内壁に銅メッキがなされており電気的に連結されている。より具体的には、上述したように、ビア群20aは、FETのドレイン端子と放熱パターン120とを電気的に連結しており、ビア群20bは、FETのソース端子とグランドパターン130(図4参照)とを電気的に連結している。
なお、ビア群20a又はビア群20b等を構成するビアには、半田が埋められていてもよい。これにより、電気伝導性や熱伝導性を向上させることができる。例えば、電気伝導性や熱伝導性を高めたい場合には、ビア中を半田で埋めればよい。また、ビアに充填する物質としては、半田以外でもよい。また、ビアの形状・大きさ・数などの如何は問わず、例えばビアの数を増やしたり、ビアの径を大きくしたりすれば、熱伝導性や電気伝導性が高まることになる。
図3によれば、電源基板12には、放熱パターン120と電源供給パターン121とが形成されており、これらは電気的に独立している。そして、放熱パターン120には、ビア群20aが接続されているのが分かる(図3において、ビア群20aの端部を示す二重丸は、黒く塗り潰されている)。一方で、ビア群20bについては、グランドパターン130に接続されており、放熱パターン120には電気的に接続されていない(図3において、ビア群20bの端部を示す二重丸は、白抜きになっている)。
図4によれば、グランド基板13は、グランドパターン130で構成され、ビア群20bが接続されているのが分かる(図4において、ビア群20bの端部を示す二重丸は、黒く塗り潰されている)。
図5によれば、配線基板14には、各種配線が施されており、そのうち左上の方には、ソース部パターン140が形成されている。このソース部パターン140は、レジスト無しの状態になっており、ここと外部のフレームグランド(図示せず)等を接続させることもできる。より具体的には、ソース部パターン140を、直接外部のフレームグランドに接触させてもよいし、ソース部パターン140に熱伝導性の良い材質で形成された部材を接触させ、これを介在させてフレームグランドに接触させてもよい。このような構成とすることで、ソース部パターン140から熱が逃げやすくなり、ひいては積層基板1の放熱特性を更に高めることができる。
[他の実施例]
例えば、グランドパターン130を、アナロググランドパターンとデジタルグランドパターンとに分け、互いに電気的に独立している構成とすることによって、アナロググランドパターンで発生したノイズが、デジタルグランドパターンへ影響を及ぼしにくくなる。その結果、グランドパターンで発生したノイズを、一般にデジタルグランドパターンの周縁に設けられるインターフェースへと導きやすくすることができる。
本発明に係る積層基板は、電子部品から発せられる熱を効率的に放熱することが可能なものとして有用である。
本発明の実施の形態に係る積層基板の構造概要を説明するための説明図である。 積層基板のうち信号基板を示す図である。 積層基板のうち電源基板を示す図である。 積層基板のうちグランド基板を示す図である。 積層基板のうち配線基板を示す図である。
符号の説明
1 積層基板
11 信号基板
110 FET実装領域
111 ソース領域
112 ゲート領域
113 ドレイン領域
12 電源基板
120 放熱パターン
121 電源供給パターン
13 グランド基板
130 グランドパターン
14 配線基板
140 ソース部パターン
20a,20b ビア群

Claims (5)

  1. 絶縁体板に導体層よりなる回路パターンを形成してなる基板を複数積層配置した積層基板において、
    発熱性のある発熱端子を有する電子部品を実装する信号回路パターンが形成された信号基板と、
    電源に接続される電源供給パターンが形成された電源基板と、
    グランドに接続されるグランドパターンが形成されたグランド基板と、を有し、
    前記電源基板には、前記発熱端子に接続されているとともに、前記電源供給パターンとは電気的に独立する放熱パターンが形成されていることを特徴とする積層基板。
  2. 前記放熱パターンには、前記電子部品に電源を供給する駆動回路が設けられていることを特徴とする請求項1記載の積層基板。
  3. 前記発熱端子と前記放熱パターンは、複数のビアにより接続されており、
    前記グランドパターンは、絶縁体板を挟んで前記放熱パターンと対向配置され、前記放熱パターンの熱を放熱する放熱エリアにもなることを特徴とする請求項1又は2記載の積層基板。
  4. 前記複数のビアは、略同一の間隔で配置されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか記載の積層基板。
  5. 前記電子部品はFETであって、前記発熱端子は、前記FETのドレイン端子であることを特徴とする請求項1から4のいずれか記載の積層基板。
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